JPH0729631Y2 - ドライエッチング装置 - Google Patents
ドライエッチング装置Info
- Publication number
- JPH0729631Y2 JPH0729631Y2 JP1986045623U JP4562386U JPH0729631Y2 JP H0729631 Y2 JPH0729631 Y2 JP H0729631Y2 JP 1986045623 U JP1986045623 U JP 1986045623U JP 4562386 U JP4562386 U JP 4562386U JP H0729631 Y2 JPH0729631 Y2 JP H0729631Y2
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- JP
- Japan
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- sample
- dry etching
- reaction gas
- sample mounting
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- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986045623U JPH0729631Y2 (ja) | 1986-03-27 | 1986-03-27 | ドライエッチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986045623U JPH0729631Y2 (ja) | 1986-03-27 | 1986-03-27 | ドライエッチング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62157138U JPS62157138U (enrdf_load_html_response) | 1987-10-06 |
| JPH0729631Y2 true JPH0729631Y2 (ja) | 1995-07-05 |
Family
ID=30864528
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986045623U Expired - Lifetime JPH0729631Y2 (ja) | 1986-03-27 | 1986-03-27 | ドライエッチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0729631Y2 (enrdf_load_html_response) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60206027A (ja) * | 1984-03-30 | 1985-10-17 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
| JPS6127334U (ja) * | 1984-07-24 | 1986-02-18 | 日本電気株式会社 | ドライエツチング装置 |
-
1986
- 1986-03-27 JP JP1986045623U patent/JPH0729631Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62157138U (enrdf_load_html_response) | 1987-10-06 |
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