JPH07278104A - ５−アセトキシメチルピロール−２−カルボン酸誘導体の製造方法 - Google Patents
５−アセトキシメチルピロール−２−カルボン酸誘導体の製造方法Info
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- JPH07278104A JPH07278104A JP6862094A JP6862094A JPH07278104A JP H07278104 A JPH07278104 A JP H07278104A JP 6862094 A JP6862094 A JP 6862094A JP 6862094 A JP6862094 A JP 6862094A JP H07278104 A JPH07278104 A JP H07278104A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ポリフィリン類の合成中間体として有用な５
−アセトキシメチルピロール−２−カルボン酸誘導体の
安定かつ容易な製造方法の提供。 【構成】 下記一般式（Ｉ） 【化１】 （式中で、Ｒ1はＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｈ等；Ｒ2、Ｒ
3はＣ1〜Ｃ5のアルキル基、Ｈ等を表す。）で表される
５−メチルピロール−２−カルボン酸誘導体に酢酸塩の
存在下、ハロゲン化試薬を反応させることにより下記一
般式（II） 【化２】 （式中で、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は既に定義したとおりであ
る。）で表される５−アセトキシメチルピロール−２−
カルボン酸誘導体を製造する。
−アセトキシメチルピロール−２−カルボン酸誘導体の
安定かつ容易な製造方法の提供。 【構成】 下記一般式（Ｉ） 【化１】 （式中で、Ｒ1はＣ1〜Ｃ4のアルキル基、Ｈ等；Ｒ2、Ｒ
3はＣ1〜Ｃ5のアルキル基、Ｈ等を表す。）で表される
５−メチルピロール−２−カルボン酸誘導体に酢酸塩の
存在下、ハロゲン化試薬を反応させることにより下記一
般式（II） 【化２】 （式中で、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は既に定義したとおりであ
る。）で表される５−アセトキシメチルピロール−２−
カルボン酸誘導体を製造する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、医療分野をはじめ多方
面において重要な化合物であるポルフィリン類の製造に
有用な合成中間体である５−アセトキシメチルピロール
−２−カルボン酸誘導体を製造する方法に関する。
面において重要な化合物であるポルフィリン類の製造に
有用な合成中間体である５−アセトキシメチルピロール
−２−カルボン酸誘導体を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決使用とする課題】５−ア
セトキシメチルピロール−２−カルボン酸誘導体類は種
々のポルフィリン類を製造するための重要な合成中間体
であることが知られている（Ｔｈｅ Ｔｏｔａｌ Ｓｙ
ｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ Ｎａｔｕｒａｌ Ｐｒｏｄｕｃ
ｔｓ，１，１４３〜２７８（１９７３）およびＴｈｅ
Ｔｏｔａｌ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓｏｆ Ｎａｔｕｒａｌ
Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，６，２３７〜２８０（１９８
４））。従来、これらの化合物の合成には種々の方法に
より得られた５−メチルピロール−２−カルボン酸誘導
体に四酢酸鉛を反応させる方法が用いられてきた（Ａ．
Ｗ．Ｊｏｈｎｓｏｎ，ｅｔｃ．，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，３４１６（１９５９））。しかし、この反応に用
いられる四酢酸鉛は毒性が極めて高いため、取り扱いに
注意を要し、また反応後の鉛廃液の処理に大きな問題が
あった。
セトキシメチルピロール−２−カルボン酸誘導体類は種
々のポルフィリン類を製造するための重要な合成中間体
であることが知られている（Ｔｈｅ Ｔｏｔａｌ Ｓｙ
ｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ Ｎａｔｕｒａｌ Ｐｒｏｄｕｃ
ｔｓ，１，１４３〜２７８（１９７３）およびＴｈｅ
Ｔｏｔａｌ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓｏｆ Ｎａｔｕｒａｌ
Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，６，２３７〜２８０（１９８
４））。従来、これらの化合物の合成には種々の方法に
より得られた５−メチルピロール−２−カルボン酸誘導
体に四酢酸鉛を反応させる方法が用いられてきた（Ａ．
Ｗ．Ｊｏｈｎｓｏｎ，ｅｔｃ．，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，３４１６（１９５９））。しかし、この反応に用
いられる四酢酸鉛は毒性が極めて高いため、取り扱いに
注意を要し、また反応後の鉛廃液の処理に大きな問題が
あった。
【０００３】一方、５−メチルピロール−２−カルボン
酸誘導体にハロゲン化剤を１モル当量反応させて生成す
る５−ハロゲン化メチル−２−カルボン酸誘導体は、５
−アセトキシメチルピロール−２−カルボン酸誘導体類
と同様の目的に使用できることが知られているが、これ
らの化合物は極めて不安定であり、取り扱いに注意を要
し、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの通常の精
製方法により純度を上げることが困難であるという問題
があった。
酸誘導体にハロゲン化剤を１モル当量反応させて生成す
る５−ハロゲン化メチル−２−カルボン酸誘導体は、５
−アセトキシメチルピロール−２−カルボン酸誘導体類
と同様の目的に使用できることが知られているが、これ
らの化合物は極めて不安定であり、取り扱いに注意を要
し、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの通常の精
製方法により純度を上げることが困難であるという問題
があった。
【０００４】これらの問題点より、５−アセトキシメチ
ルピロール−２−カルボン酸誘導体の合成方法は未だ不
十分であり、より工業的な製造方法が強く求められてき
た。
ルピロール−２−カルボン酸誘導体の合成方法は未だ不
十分であり、より工業的な製造方法が強く求められてき
た。
【０００５】
【問題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、５−メチル
ピロール−２−カルボン酸誘導体を酢酸塩の存在下、ハ
ロゲン化剤と反応させることにより容易に５−アセトキ
シメチルピロール−２−カルボン酸誘導体が得られるこ
とを見い出し、本発明に到達した。
題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、５−メチル
ピロール−２−カルボン酸誘導体を酢酸塩の存在下、ハ
ロゲン化剤と反応させることにより容易に５−アセトキ
シメチルピロール−２−カルボン酸誘導体が得られるこ
とを見い出し、本発明に到達した。
【０００６】即ち、本発明の要旨は、下記一般式（Ｉ）
【０００７】
【化３】
【０００８】［上記式中で、Ｒ1は水素原子、Ｃ1〜Ｃ4
のアルキル基または（Ｃ1〜Ｃ4のアルキレン）−フェニ
ル基を表し、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立して水素原
子、Ｃ1〜Ｃ5のアルキル基または−（ＣＨ2）mＲ4で表
される基（Ｒ4はハロゲン原子、水酸基、Ｃ1〜Ｃ4のア
ルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4のアシル基、Ｃ1〜Ｃ4のアシルオ
キシ基、Ｃ2〜Ｃ5のアルコキシカルボニル基、またはカ
ルボキシル基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。）を表
す。］で表される５−メチルピロール−２−カルボン酸
誘導体に酢酸塩の存在下、ハロゲン化試薬を反応させる
ことを特徴とする下記一般式（II）
のアルキル基または（Ｃ1〜Ｃ4のアルキレン）−フェニ
ル基を表し、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立して水素原
子、Ｃ1〜Ｃ5のアルキル基または−（ＣＨ2）mＲ4で表
される基（Ｒ4はハロゲン原子、水酸基、Ｃ1〜Ｃ4のア
ルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4のアシル基、Ｃ1〜Ｃ4のアシルオ
キシ基、Ｃ2〜Ｃ5のアルコキシカルボニル基、またはカ
ルボキシル基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。）を表
す。］で表される５−メチルピロール−２−カルボン酸
誘導体に酢酸塩の存在下、ハロゲン化試薬を反応させる
ことを特徴とする下記一般式（II）
【０００９】
【化４】
【００１０】（上記式中で、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は既に
定義したとおりである。）で表される５−アセトキシメ
チルピロール−２−カルボン酸誘導体の製造方法に存す
る。以下、本発明につき詳細に説明する。本発明は、一
般式（Ｉ）で表される化合物である５−メチルピロール
−２−カルボン酸誘導体に酢酸塩の存在下、ハロゲン化
試薬を反応させて、一般式（II）で表される化合物であ
る５−アセトキシメチルピロール−２−カルボン酸誘導
体を製造する。
定義したとおりである。）で表される５−アセトキシメ
チルピロール−２−カルボン酸誘導体の製造方法に存す
る。以下、本発明につき詳細に説明する。本発明は、一
般式（Ｉ）で表される化合物である５−メチルピロール
−２−カルボン酸誘導体に酢酸塩の存在下、ハロゲン化
試薬を反応させて、一般式（II）で表される化合物であ
る５−アセトキシメチルピロール−２−カルボン酸誘導
体を製造する。
【００１１】一般式（Ｉ）および一般式（II）で表され
る化合物において、Ｒ1は水素原子、Ｃ1〜Ｃ4のアルキ
ル基または（Ｃ1〜Ｃ4のアルキレン）−フェニル基を表
し、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ1〜
Ｃ5のアルキル基または−（ＣＨ2）mＲ4で表される（Ｒ
4はハロゲン原子、水酸基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、
Ｃ1〜Ｃ4のアシル基、Ｃ1〜Ｃ4のアシルオキシ基、Ｃ2
〜Ｃ5のアルコキシカルボニル基、またはカルボキシル
基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。）を表している。
る化合物において、Ｒ1は水素原子、Ｃ1〜Ｃ4のアルキ
ル基または（Ｃ1〜Ｃ4のアルキレン）−フェニル基を表
し、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ1〜
Ｃ5のアルキル基または−（ＣＨ2）mＲ4で表される（Ｒ
4はハロゲン原子、水酸基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、
Ｃ1〜Ｃ4のアシル基、Ｃ1〜Ｃ4のアシルオキシ基、Ｃ2
〜Ｃ5のアルコキシカルボニル基、またはカルボキシル
基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。）を表している。
【００１２】Ｒ1において、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基とし
てはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ
−ブチル基等が挙げられる。（Ｃ1〜Ｃ4のアルキレン）
−フェニル基としてはベンジル基、２−フェニルエチル
基、３−フェニルプロピル基、４−フェニルブチル基等
が挙げられる。
てはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ
−ブチル基等が挙げられる。（Ｃ1〜Ｃ4のアルキレン）
−フェニル基としてはベンジル基、２−フェニルエチル
基、３−フェニルプロピル基、４−フェニルブチル基等
が挙げられる。
【００１３】Ｒ2およびＲ3において、Ｃ1〜Ｃ5のアルキ
ル基としてメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、
ネオペンチル基等が挙げられる。Ｒ4において、ハロゲ
ン原子としてフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子等が挙げられる。Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基としてメ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポ
キシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキ
シ基、ｔ−ブトキシ基等が挙げられる。Ｃ1〜Ｃ4のアシ
ル基としてはホルミル基、アセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基等が挙げ
られる。Ｃ1〜Ｃ4のアシルオキシ基としてはホルミルオ
キシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリ
ルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基
等が挙げられる。Ｃ2〜Ｃ5のアルキルオキシカルボニル
基としてはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカル
ボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基等が挙げられ
る。
ル基としてメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、
ネオペンチル基等が挙げられる。Ｒ4において、ハロゲ
ン原子としてフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子等が挙げられる。Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基としてメ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポ
キシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキ
シ基、ｔ−ブトキシ基等が挙げられる。Ｃ1〜Ｃ4のアシ
ル基としてはホルミル基、アセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基等が挙げ
られる。Ｃ1〜Ｃ4のアシルオキシ基としてはホルミルオ
キシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリ
ルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基
等が挙げられる。Ｃ2〜Ｃ5のアルキルオキシカルボニル
基としてはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカル
ボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基等が挙げられ
る。
【００１４】一般式（II）の５−アセトキシメチルピロ
ール−２−カルボン酸誘導体は、一般式（Ｉ）の５−メ
チルピロール−２−カルボン酸誘導体、および当該化合
物に対して０．５〜１０モル当量、好ましくは１〜５モ
ル当量の酢酸塩を溶媒中にて溶解させ、次いで一般式
（Ｉ）の５−メチルピロール−２−カルボン酸誘導体に
対して０．５〜１．５モル当量、好ましくは０．８〜
１．２モル当量のハロゲン試薬を添加し、−２０℃から
溶媒の沸点の温度範囲、好ましくは０℃〜７０℃の温度
範囲で反応させて得られる。得られた生成物は、反応液
に水などを添加し析出する結晶を濾取するか、または適
当な溶媒で抽出することにより単離される。更に通常の
再結晶、カラムクロマログラフィー、蒸留等の精製方法
により、より高純度にできる。
ール−２−カルボン酸誘導体は、一般式（Ｉ）の５−メ
チルピロール−２−カルボン酸誘導体、および当該化合
物に対して０．５〜１０モル当量、好ましくは１〜５モ
ル当量の酢酸塩を溶媒中にて溶解させ、次いで一般式
（Ｉ）の５−メチルピロール−２−カルボン酸誘導体に
対して０．５〜１．５モル当量、好ましくは０．８〜
１．２モル当量のハロゲン試薬を添加し、−２０℃から
溶媒の沸点の温度範囲、好ましくは０℃〜７０℃の温度
範囲で反応させて得られる。得られた生成物は、反応液
に水などを添加し析出する結晶を濾取するか、または適
当な溶媒で抽出することにより単離される。更に通常の
再結晶、カラムクロマログラフィー、蒸留等の精製方法
により、より高純度にできる。
【００１５】溶媒としては、反応に悪影響を与えなけれ
ば特に制限はないが、酢酸、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロロホルム、塩化エチレン、テトラヒドロフ
ラン等が使用できる。酢酸塩としては、酢酸リチウム、
酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸マグネシウム、酢
酸カルシウム、酢酸アンモニウム等が使用できる。
ば特に制限はないが、酢酸、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロロホルム、塩化エチレン、テトラヒドロフ
ラン等が使用できる。酢酸塩としては、酢酸リチウム、
酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸マグネシウム、酢
酸カルシウム、酢酸アンモニウム等が使用できる。
【００１６】ハロゲン化試薬としては、塩化スルフリ
ル、塩素、臭素、ヨウ素、Ｎ−ブロモコハク酸イミド、
Ｎ−クロロコハク酸イミド等が使用できる。また、本反
応において原料となる５−メチルピロール−２−カルボ
ン酸誘導体は、その由来について特に限定されないが、
例えば既知の方法（Ｔｈｅ Ｔｏｔａｌ Ｓｙｎｔｈｅ
ｓｉｓ ｏｆ Ｎａｔｕｒａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，
１，１４３〜２７８（１９７３）、およびＴｈｅ Ｔｏ
ｔａｌ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓｏｆ Ｎａｔｕｒａｌ Ｐ
ｒｏｄｕｃｔｓ，６，２３７〜２８０（１９８４））に
より容易に製造できる。
ル、塩素、臭素、ヨウ素、Ｎ−ブロモコハク酸イミド、
Ｎ−クロロコハク酸イミド等が使用できる。また、本反
応において原料となる５−メチルピロール−２−カルボ
ン酸誘導体は、その由来について特に限定されないが、
例えば既知の方法（Ｔｈｅ Ｔｏｔａｌ Ｓｙｎｔｈｅ
ｓｉｓ ｏｆ Ｎａｔｕｒａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，
１，１４３〜２７８（１９７３）、およびＴｈｅ Ｔｏ
ｔａｌ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓｏｆ Ｎａｔｕｒａｌ Ｐ
ｒｏｄｕｃｔｓ，６，２３７〜２８０（１９８４））に
より容易に製造できる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例
により限定されるものではない。
するが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例
により限定されるものではない。
【００１８】実施例１ ３，５−ジメチル−４−（２−メトキシカルボニルエチ
ル）ピロール−２−カルボン酸ベンジルエステル１．５
８ｇと無水酢酸ナトリウム１．６４ｇを酢酸２０ｍｌに
溶解し、これに塩化スルフリル０．４２ｍｌおよび酢酸
２ｍｌを混合した溶液を１２〜１８℃で滴下した。室温
にて１時間撹拌後、水３０ｍｌを添加し３０分間撹拌
し、析出した結晶を濾取し、水洗した。これを含水メタ
ノールより再結晶し、白色結晶の５−アセトキシメチル
−４−（２−メトキシカルボニルエチル）−３−メチル
ピロール−２−カルボン酸ベンジルエステル１．１５ｇ
（収率６２％）を得た。 ｍ．ｐ．：１１１〜１１２℃1 Ｈ−ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ：１．７３
−１．８２（ｍ，２Ｈ），２．０６（ｓ，６Ｈ），２．
２８（ｓ，３Ｈ），２．５４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２
Ｈ），４．０２（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２Ｈ），４．９
９（ｓ，２Ｈ），５．３１（Ｓ，２Ｈ），７．３２−
７．４５（Ｍ，５Ｈ），９．０２（ＢＲ Ｓ，１Ｈ）
ル）ピロール−２−カルボン酸ベンジルエステル１．５
８ｇと無水酢酸ナトリウム１．６４ｇを酢酸２０ｍｌに
溶解し、これに塩化スルフリル０．４２ｍｌおよび酢酸
２ｍｌを混合した溶液を１２〜１８℃で滴下した。室温
にて１時間撹拌後、水３０ｍｌを添加し３０分間撹拌
し、析出した結晶を濾取し、水洗した。これを含水メタ
ノールより再結晶し、白色結晶の５−アセトキシメチル
−４−（２−メトキシカルボニルエチル）−３−メチル
ピロール−２−カルボン酸ベンジルエステル１．１５ｇ
（収率６２％）を得た。 ｍ．ｐ．：１１１〜１１２℃1 Ｈ−ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ：１．７３
−１．８２（ｍ，２Ｈ），２．０６（ｓ，６Ｈ），２．
２８（ｓ，３Ｈ），２．５４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２
Ｈ），４．０２（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２Ｈ），４．９
９（ｓ，２Ｈ），５．３１（Ｓ，２Ｈ），７．３２−
７．４５（Ｍ，５Ｈ），９．０２（ＢＲ Ｓ，１Ｈ）
【００１９】実施例２ ４−（３−アセトキシプロピル）−３，５−ジメチルピ
ロール−２−カルボン酸ベンジルエステル１１．５３ｇ
を原料とし、実施例１と同様な操作で反応を行い、５−
アセトキシメチル−４−（３−アセトキシプロピル）−
３−メチルピロール−２−カルボン酸ベンジルエステル
８．２７ｇ（収率６１％）を得た。 ｍ．ｐ．：１０３〜１０４℃1 Ｈ−ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ：１．７３
−１．８２（ｍ，２Ｈ），２．０６（ｓ，６Ｈ），２．
２８（ｓ，３Ｈ），２．５４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２
Ｈ），４．０２（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２Ｈ），４．９
９（ｓ，２Ｈ），５．３１（Ｓ，２Ｈ），７．３２−
７．４５（Ｍ，５Ｈ），９．０２（ｂｒ ｓ，１Ｈ） 実施例３ 実施例１と同様の方法によりつぎの化合物を得た。これ
らを表１に示す。
ロール−２−カルボン酸ベンジルエステル１１．５３ｇ
を原料とし、実施例１と同様な操作で反応を行い、５−
アセトキシメチル−４−（３−アセトキシプロピル）−
３−メチルピロール−２−カルボン酸ベンジルエステル
８．２７ｇ（収率６１％）を得た。 ｍ．ｐ．：１０３〜１０４℃1 Ｈ−ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ：１．７３
−１．８２（ｍ，２Ｈ），２．０６（ｓ，６Ｈ），２．
２８（ｓ，３Ｈ），２．５４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２
Ｈ），４．０２（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２Ｈ），４．９
９（ｓ，２Ｈ），５．３１（Ｓ，２Ｈ），７．３２−
７．４５（Ｍ，５Ｈ），９．０２（ｂｒ ｓ，１Ｈ） 実施例３ 実施例１と同様の方法によりつぎの化合物を得た。これ
らを表１に示す。
【００２０】
【表１】
【００２１】
【発明の効果】本発明の方法によれば、医療分野等で重
要な化合物であるポリフィリン類の合成中間体として有
用な５−アセトキシメチルピロール−２−カルボン酸誘
導体を、毒性の高い反応試薬を使用する従来の製造方法
と異なり、安定かつ容易な製造方法にて高純度に製造で
きる。
要な化合物であるポリフィリン類の合成中間体として有
用な５−アセトキシメチルピロール−２−カルボン酸誘
導体を、毒性の高い反応試薬を使用する従来の製造方法
と異なり、安定かつ容易な製造方法にて高純度に製造で
きる。
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ） 【化１】 ［上記式中で、Ｒ1は水素原子、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基
または（Ｃ1〜Ｃ4のアルキレン）−フェニル基を表し、
Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ1〜Ｃ5の
アルキル基または−（ＣＨ2）mＲ4で表される基（Ｒ4は
ハロゲン原子、水酸基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、Ｃ1
〜Ｃ4のアシル基、Ｃ1〜Ｃ4のアシルオキシ基、Ｃ2〜Ｃ
5のアルコキシカルボニル基、またはカルボキシル基を
表し、ｍは０〜５の整数を表す。）を表す。］で表され
る５−メチルピロール−２−カルボン酸誘導体に酢酸塩
の存在下、ハロゲン化試薬を反応させることを特徴とす
る下記一般式（II） 【化２】 （上記式中で、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は既に定義したとお
りである。）で表される５−アセトキシメチルピロール
−２−カルボン酸誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6862094A JPH07278104A (ja) | 1994-04-06 | 1994-04-06 | ５−アセトキシメチルピロール−２−カルボン酸誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6862094A JPH07278104A (ja) | 1994-04-06 | 1994-04-06 | ５−アセトキシメチルピロール−２−カルボン酸誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07278104A true JPH07278104A (ja) | 1995-10-24 |
Family
ID=13378991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6862094A Pending JPH07278104A (ja) | 1994-04-06 | 1994-04-06 | ５−アセトキシメチルピロール−２−カルボン酸誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07278104A (ja) |
-
1994
- 1994-04-06 JP JP6862094A patent/JPH07278104A/ja active Pending
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