JPH0727785A - 加速度センサー - Google Patents
加速度センサーInfo
- Publication number
- JPH0727785A JPH0727785A JP5168796A JP16879693A JPH0727785A JP H0727785 A JPH0727785 A JP H0727785A JP 5168796 A JP5168796 A JP 5168796A JP 16879693 A JP16879693 A JP 16879693A JP H0727785 A JPH0727785 A JP H0727785A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- detection element
- mounting plate
- single crystal
- substrate
- crystal substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01P—MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
- G01P15/00—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
- G01P15/02—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
- G01P15/08—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
- G01P2015/0805—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration
- G01P2015/0822—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass
- G01P2015/084—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass the mass being suspended at more than one of its sides, e.g. membrane-type suspension, so as to permit multi-axis movement of the mass
Landscapes
- Pressure Sensors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 三軸方向の加速度が検出でき且つ低コストで
製造できる加速度センサーを提供すること。 【構成】 機械的変形により電気抵抗が変化する検出素
子Rを直線X上及びこれと直交する直線Y上に備えると
共に前記検出素子Rが直線X・Yの交点Cを中心として
同数個づつ振り分けて配置してある単結晶基板1と、こ
の単結晶基板1の熱膨張率に近い熱膨張率を有し、その
一方面側が単結晶基板1の固着面となる金属板で構成さ
れた基板取付板2と、前記交点Cと対応する基板取付板
2の他方面部分に細い軸部を介して固着された重り3
と、上記検出素子Rの抵抗変化を電圧変化に変換せしめ
る電子装置とを具備し、基板取付板2に対して重り3が
移動したときには基板取付板2と単結晶基板1とが一体
的に変形して各検出素子Rの電気抵抗が変化するように
してある。
製造できる加速度センサーを提供すること。 【構成】 機械的変形により電気抵抗が変化する検出素
子Rを直線X上及びこれと直交する直線Y上に備えると
共に前記検出素子Rが直線X・Yの交点Cを中心として
同数個づつ振り分けて配置してある単結晶基板1と、こ
の単結晶基板1の熱膨張率に近い熱膨張率を有し、その
一方面側が単結晶基板1の固着面となる金属板で構成さ
れた基板取付板2と、前記交点Cと対応する基板取付板
2の他方面部分に細い軸部を介して固着された重り3
と、上記検出素子Rの抵抗変化を電圧変化に変換せしめ
る電子装置とを具備し、基板取付板2に対して重り3が
移動したときには基板取付板2と単結晶基板1とが一体
的に変形して各検出素子Rの電気抵抗が変化するように
してある。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、加速度センサーに関
するものである。
するものである。
【0002】
【従来の技術】加速度センサーとしては図16や図17
に示すようなものがある。このセンサーでは、同図に示
すように、シリコン基板をエッチング処理(エッチング
処理部を符号Eで示す)して二つの薄膜部を構成させ、
この薄膜部分を変形部90と、前記薄膜部相互間部分を
重り部91と、銅板の両端部分をフレーム部92とし、
前記重り部91や変形部90をシリコンキャップ93,
93で包囲するようにしている。
に示すようなものがある。このセンサーでは、同図に示
すように、シリコン基板をエッチング処理(エッチング
処理部を符号Eで示す)して二つの薄膜部を構成させ、
この薄膜部分を変形部90と、前記薄膜部相互間部分を
重り部91と、銅板の両端部分をフレーム部92とし、
前記重り部91や変形部90をシリコンキャップ93,
93で包囲するようにしている。
【0003】前記変形部90におけるフレーム部92と
の接続部分には、それぞれ機械的変形により電気抵抗が
変化する検出素子(通常、ピエゾ抵抗素子と呼ばれる)
を設けてあり、フレーム部92と重り部91との相対位
置関係の変化に伴って変形部92が弾性変形し、前記検
出素子の抵抗が変化するようにしてある。尚、この加速
度センサーでは、検出素子の抵抗変化を電圧変化に変換
する電子回路を具備させてある。
の接続部分には、それぞれ機械的変形により電気抵抗が
変化する検出素子(通常、ピエゾ抵抗素子と呼ばれる)
を設けてあり、フレーム部92と重り部91との相対位
置関係の変化に伴って変形部92が弾性変形し、前記検
出素子の抵抗が変化するようにしてある。尚、この加速
度センサーでは、検出素子の抵抗変化を電圧変化に変換
する電子回路を具備させてある。
【0004】したがって、被測定物にこの加速度センサ
ーを取付けて加速度運動をさせた場合、慣性により重り
部91とフレーム部92との相対位置関係が変化して検
出素子の抵抗値が変化し、その結果、被測定物の加速度
を電圧値で読み取れることとなる。しかしながら、上記
加速度センサーでは、その構成上一軸方向(例えば、X
−Y−Z方向のうちのX方向)しか測定できないという
問題がある。
ーを取付けて加速度運動をさせた場合、慣性により重り
部91とフレーム部92との相対位置関係が変化して検
出素子の抵抗値が変化し、その結果、被測定物の加速度
を電圧値で読み取れることとなる。しかしながら、上記
加速度センサーでは、その構成上一軸方向(例えば、X
−Y−Z方向のうちのX方向)しか測定できないという
問題がある。
【0005】又、このセンサーでは、変形部90を形成
する工程において、深く且つ正確なエッチング技術を必
要とするから、コスト高となってしまうという問題も有
している。
する工程において、深く且つ正確なエッチング技術を必
要とするから、コスト高となってしまうという問題も有
している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】そこで、この発明で
は、三軸方向の加速度が検出でき且つ低コストで製造で
きる加速度センサーを提供することを課題とする。
は、三軸方向の加速度が検出でき且つ低コストで製造で
きる加速度センサーを提供することを課題とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この加速度センサーは、
機械的変形により電気抵抗が変化する検出素子Rを直線
X上及びこれと直交する直線Y上に備えると共に前記検
出素子Rが直線X・Yの交点Cを中心として同数個づつ
振り分けて配置してある単結晶基板1と、この単結晶基
板1の熱膨張率に近い熱膨張率を有し、その一方面側が
単結晶基板1の固着面となる金属板で構成された基板取
付板2と、前記交点Cと対応する基板取付板2の他方面
部分に細い軸部を介して固着された重り3と、上記検出
素子Rの抵抗変化を電圧変化に変換せしめる電子装置と
を具備し、基板取付板2に対して重り3が移動したとき
には基板取付板2と単結晶基板1とが一体的に変形して
各検出素子Rの電気抵抗が変化するようにしてある。
機械的変形により電気抵抗が変化する検出素子Rを直線
X上及びこれと直交する直線Y上に備えると共に前記検
出素子Rが直線X・Yの交点Cを中心として同数個づつ
振り分けて配置してある単結晶基板1と、この単結晶基
板1の熱膨張率に近い熱膨張率を有し、その一方面側が
単結晶基板1の固着面となる金属板で構成された基板取
付板2と、前記交点Cと対応する基板取付板2の他方面
部分に細い軸部を介して固着された重り3と、上記検出
素子Rの抵抗変化を電圧変化に変換せしめる電子装置と
を具備し、基板取付板2に対して重り3が移動したとき
には基板取付板2と単結晶基板1とが一体的に変形して
各検出素子Rの電気抵抗が変化するようにしてある。
【0008】また、この加速度センサーは、機械的変形
により電気抵抗が変化する検出素子Rを直線X上及びこ
れと直交する直線Y上に備えると共に前記検出素子Rが
直線X・Yの交点Cを中心として同数個づつ振り分けて
配置してある単結晶基板1と、この単結晶基板1の熱膨
張率に近い熱膨張率を有し、その一方面側が単結晶基板
1の固着面となる金属板で構成された基板取付板2と、
前記基板取付板2の他方面側に固着されている、中央薄
板状部50を有した基台5と、前記交点Cと対応する中
央薄板状部50に細い軸を介して設けられている重り3
と、上記検出素子Rの抵抗変化を電圧変化に変換せしめ
る電子装置とを具備し、中央薄板状部50に対して重り
3が移動したときには基板取付板2と単結晶基板1が前
記中央薄板状部50と一体的に変形して各検出素子Rの
電気抵抗が変化するようにしてある。
により電気抵抗が変化する検出素子Rを直線X上及びこ
れと直交する直線Y上に備えると共に前記検出素子Rが
直線X・Yの交点Cを中心として同数個づつ振り分けて
配置してある単結晶基板1と、この単結晶基板1の熱膨
張率に近い熱膨張率を有し、その一方面側が単結晶基板
1の固着面となる金属板で構成された基板取付板2と、
前記基板取付板2の他方面側に固着されている、中央薄
板状部50を有した基台5と、前記交点Cと対応する中
央薄板状部50に細い軸を介して設けられている重り3
と、上記検出素子Rの抵抗変化を電圧変化に変換せしめ
る電子装置とを具備し、中央薄板状部50に対して重り
3が移動したときには基板取付板2と単結晶基板1が前
記中央薄板状部50と一体的に変形して各検出素子Rの
電気抵抗が変化するようにしてある。
【0009】
【作用】この発明は次のように作用する。被測定物にこ
の発明の加速度センサーを取付けて加速度運動をさせた
場合、慣性により重り3が基板取付板2に対して移動
し、これに伴って基板取付板2と単結晶基板1とが一体
的に変形して検出素子Rの抵抗値が変化する。この検出
素子Rの抵抗変化は電子装置により電圧に変換され、被
測定物の加速度が電圧値として読み取れることとなる。
の発明の加速度センサーを取付けて加速度運動をさせた
場合、慣性により重り3が基板取付板2に対して移動
し、これに伴って基板取付板2と単結晶基板1とが一体
的に変形して検出素子Rの抵抗値が変化する。この検出
素子Rの抵抗変化は電子装置により電圧に変換され、被
測定物の加速度が電圧値として読み取れることとなる。
【0010】ここで、上記単結晶基板1には、機械的変
形により電気抵抗が変化する検出素子Rを直線X上及び
これと直交する直線Y上に備えてあり、前記検出素子R
は直線X・Yの交点Cを中心として同数個づつ振り分け
て配置してあることから、X−Y−Zの三軸方向の加速
度が検出し得る。また、このセンサーでは、従来の技術
の欄に記載したような高度なエッチング技術は不要とな
るから低コストで製造できる。
形により電気抵抗が変化する検出素子Rを直線X上及び
これと直交する直線Y上に備えてあり、前記検出素子R
は直線X・Yの交点Cを中心として同数個づつ振り分け
て配置してあることから、X−Y−Zの三軸方向の加速
度が検出し得る。また、このセンサーでは、従来の技術
の欄に記載したような高度なエッチング技術は不要とな
るから低コストで製造できる。
【0011】尚、上記基板取付板2の熱膨張率は単結晶
基板1に近い熱膨張率としてあるから、変形部が二つの
構成物から成るものであるにもかかわらず、従来の技術
の欄に記載したセンサーと同様に雰囲気温度の変化によ
る検出素子Rの大きな抵抗変化は起こらない。また、基
板取付板2に添着された基台5の中央薄板状部50に重
り3を有するものの場合、中央薄板状部50に対して重
り3が移動したときには基板取付板2及び単結晶基板1
が中央薄板状部50と一体的に変形する。
基板1に近い熱膨張率としてあるから、変形部が二つの
構成物から成るものであるにもかかわらず、従来の技術
の欄に記載したセンサーと同様に雰囲気温度の変化によ
る検出素子Rの大きな抵抗変化は起こらない。また、基
板取付板2に添着された基台5の中央薄板状部50に重
り3を有するものの場合、中央薄板状部50に対して重
り3が移動したときには基板取付板2及び単結晶基板1
が中央薄板状部50と一体的に変形する。
【0012】
【実施例】以下、この発明の構成を実施例として示した
図面に従って説明する。この実施例の加速度センサー
は、図1に示すように、基台5とキャップ7によりセン
サー部を包囲するものであり、基本的には、図2や図6
に示すように、中央薄板状部50を有した基台5と、こ
の基台5の中央薄板状部50の上面に固着された基板取
付板2と、前記基板取付板2の周囲に配設された多数の
リード6と、前記基板取付板2上に固着された単結晶基
板1と、前記単結晶基板1及び基台5上のリード6部分
を覆うキャップ7とから構成されている。
図面に従って説明する。この実施例の加速度センサー
は、図1に示すように、基台5とキャップ7によりセン
サー部を包囲するものであり、基本的には、図2や図6
に示すように、中央薄板状部50を有した基台5と、こ
の基台5の中央薄板状部50の上面に固着された基板取
付板2と、前記基板取付板2の周囲に配設された多数の
リード6と、前記基板取付板2上に固着された単結晶基
板1と、前記単結晶基板1及び基台5上のリード6部分
を覆うキャップ7とから構成されている。
【0013】単結晶基板1は、図3や図4に示すよう
に、正方形状のシリコンチップにより構成してあり、機
械的変形により電気抵抗が変化する検出素子Rを直線X
上及びこれと直交する直線Y上に備えている。尚、前記
検出素子Rは、同図や図6に示す如く直線X・Yの交点
Cを中心として二個づつ振り分けて配置させてあると共
に、これらとリード6とをワイヤーWで電気的接続(ワ
イヤーボンディング)してある。
に、正方形状のシリコンチップにより構成してあり、機
械的変形により電気抵抗が変化する検出素子Rを直線X
上及びこれと直交する直線Y上に備えている。尚、前記
検出素子Rは、同図や図6に示す如く直線X・Yの交点
Cを中心として二個づつ振り分けて配置させてあると共
に、これらとリード6とをワイヤーWで電気的接続(ワ
イヤーボンディング)してある。
【0014】基板取付板2は、コバールや42アロイ等
から構成されており、図6に示すように単結晶基板1よ
りも少し大きい正方形状に形成されている。基台5は、
図1や図2に示すように平面視長方形状に形成されてお
り、上記した中央薄板状部50を有すると共にこの中央
薄板状部50における交点Cと対応する部分に軸部30
を介して重り3を配設している。尚、この実施例では、
重り3を含む基台5全体を所謂IC用モールド樹脂で構
成している。
から構成されており、図6に示すように単結晶基板1よ
りも少し大きい正方形状に形成されている。基台5は、
図1や図2に示すように平面視長方形状に形成されてお
り、上記した中央薄板状部50を有すると共にこの中央
薄板状部50における交点Cと対応する部分に軸部30
を介して重り3を配設している。尚、この実施例では、
重り3を含む基台5全体を所謂IC用モールド樹脂で構
成している。
【0015】リード6は、図1や図6に示すように、内
端側を基板取付板2から一定距離だけ離して配置し、外
端側を折り曲げてある。キャップ7は、平面視長方形状
に形成されており基台5と同質の合成樹脂により構成さ
れている。また、電子装置は、上記検出素子Rを図5に
示す如く接続して成るブリッジ回路4を有するもので、
各検出素子Rの抵抗値を電圧値に変換すると共に前記検
出素子Rの抵抗変化からこのセンサーに作用する加速度
を電気信号として読み取れるようにしてある。
端側を基板取付板2から一定距離だけ離して配置し、外
端側を折り曲げてある。キャップ7は、平面視長方形状
に形成されており基台5と同質の合成樹脂により構成さ
れている。また、電子装置は、上記検出素子Rを図5に
示す如く接続して成るブリッジ回路4を有するもので、
各検出素子Rの抵抗値を電圧値に変換すると共に前記検
出素子Rの抵抗変化からこのセンサーに作用する加速度
を電気信号として読み取れるようにしてある。
【0016】このセンサーは上記構成としてあるから以
下に示す如く加速度の測定ができる。X成分の加速度 被測定物にこの加速度センサーを取付けてX方向の左側
に加速度運動をさせた場合、図7に示すように慣性によ
り重り3が基台5に対して右側に移動し、これに伴って
基板取付板2及び単結晶基板1が基台5の中央薄板状部
50と一体的に変形する。そして、これに伴い検出素子
Rの電気抵抗が変化(引張り方向の歪みが作用する検出
素子Rx1,Rx3は抵抗値が増加し、圧縮方向の歪みが作
用する検出素子Rx2, Rx4は抵抗値が減少する)する。
下に示す如く加速度の測定ができる。X成分の加速度 被測定物にこの加速度センサーを取付けてX方向の左側
に加速度運動をさせた場合、図7に示すように慣性によ
り重り3が基台5に対して右側に移動し、これに伴って
基板取付板2及び単結晶基板1が基台5の中央薄板状部
50と一体的に変形する。そして、これに伴い検出素子
Rの電気抵抗が変化(引張り方向の歪みが作用する検出
素子Rx1,Rx3は抵抗値が増加し、圧縮方向の歪みが作
用する検出素子Rx2, Rx4は抵抗値が減少する)する。
【0017】尚、被測定物をX方向の右側に加速度運動
させた場合、検出素子Rx2,Rx4の抵抗値が増加し、検
出素子Rx1, Rx3の抵抗値が減少する。Y成分の加速度 被測定物のY成分の加速度は上記と同様の態様で検出
素子Rの抵抗値が変化する。Z成分の加速度 被測定物にこの加速度センサーを取付けてZ方向の下側
に加速度運動をさせた場合、図8に示すように慣性によ
り重り3が基台5に対して上側に移動し、これに伴って
基板取付板2及び単結晶基板1が基台5の中央薄板状部
50と一体的に凸状に変形する。したがって検出素子R
x1,Rx3 ,Rx2,Rx4の抵抗値は増加する。尚、被測
定物をZ方向の上側に加速度運動させた場合、検出素子
Rx1,R x3 ,Rx2,Rx4の抵抗値は減少する。
させた場合、検出素子Rx2,Rx4の抵抗値が増加し、検
出素子Rx1, Rx3の抵抗値が減少する。Y成分の加速度 被測定物のY成分の加速度は上記と同様の態様で検出
素子Rの抵抗値が変化する。Z成分の加速度 被測定物にこの加速度センサーを取付けてZ方向の下側
に加速度運動をさせた場合、図8に示すように慣性によ
り重り3が基台5に対して上側に移動し、これに伴って
基板取付板2及び単結晶基板1が基台5の中央薄板状部
50と一体的に凸状に変形する。したがって検出素子R
x1,Rx3 ,Rx2,Rx4の抵抗値は増加する。尚、被測
定物をZ方向の上側に加速度運動させた場合、検出素子
Rx1,R x3 ,Rx2,Rx4の抵抗値は減少する。
【0018】このように、検出素子Rの抵抗値はセンサ
ーの移動方向によりそれぞれ異なる変化するが、この抵
抗変化は上記したブリッジ回路4を含む電子装置により
電圧変化として検出され、各X−Y−Z方向の加速度と
して視覚表示される。ここで、以下に、この実施例のセ
ンサーの製造方法について説明する。第1工程 先ず、単結晶基板1の熱膨張率に近い金属板(コバー
ル,42アロイ等)から、図9に示すような、単結晶基
板1が張設される複数の基板取付板2と、これらをそれ
ぞれ取り囲むべく配列された多数のリード6と、前記基
板取付板2とリード6相互を繋ぐ接続部Sから成るリー
ドフレームLFを製作する。第2工程 次に、検出素子Rを上記の如く配列させた単結晶基板1
を、図10や図11に示すように、各基板取付板2に張
設し、検出素子とリード6相互間を適正にワイヤーWで
電気的に接続する。第3工程 続いて、図12に示すように、表面保護材70を塗布
し、この表面保護材70等を包皮すべくIC用モールド
樹脂でキャップ7を成型(モールディング)する。第4工程 そして、図13に示すように、IC用モールド樹脂で基
台5を成型(モールディング)する。
ーの移動方向によりそれぞれ異なる変化するが、この抵
抗変化は上記したブリッジ回路4を含む電子装置により
電圧変化として検出され、各X−Y−Z方向の加速度と
して視覚表示される。ここで、以下に、この実施例のセ
ンサーの製造方法について説明する。第1工程 先ず、単結晶基板1の熱膨張率に近い金属板(コバー
ル,42アロイ等)から、図9に示すような、単結晶基
板1が張設される複数の基板取付板2と、これらをそれ
ぞれ取り囲むべく配列された多数のリード6と、前記基
板取付板2とリード6相互を繋ぐ接続部Sから成るリー
ドフレームLFを製作する。第2工程 次に、検出素子Rを上記の如く配列させた単結晶基板1
を、図10や図11に示すように、各基板取付板2に張
設し、検出素子とリード6相互間を適正にワイヤーWで
電気的に接続する。第3工程 続いて、図12に示すように、表面保護材70を塗布
し、この表面保護材70等を包皮すべくIC用モールド
樹脂でキャップ7を成型(モールディング)する。第4工程 そして、図13に示すように、IC用モールド樹脂で基
台5を成型(モールディング)する。
【0019】尚、この工程におけるモールディングは第
3工程のそれと同時に行うようにしてもよい。第5工程 その後、図14に示すように、リードフレームLFから
接続部Sを分離(二点鎖線nを切断)し、リード6の外
端部分を折曲げる(フォーミングする)と、加速度セン
サーは完成する。
3工程のそれと同時に行うようにしてもよい。第5工程 その後、図14に示すように、リードフレームLFから
接続部Sを分離(二点鎖線nを切断)し、リード6の外
端部分を折曲げる(フォーミングする)と、加速度セン
サーは完成する。
【0020】尚、上記実施例にかえて、図15に示すよ
うに、中央薄板状部50が無い筒状の基台5を構成さ
せ、直線X・Yの交点Cと対応する基板取付板2の下面
部分に金属製の重り3を軸30を介して溶接し、これに
よりセンサーを構成させてもよい。又、上記実施例にか
えて、図15に示すように基台5をキャップ状に形成す
るようにしてもよい。
うに、中央薄板状部50が無い筒状の基台5を構成さ
せ、直線X・Yの交点Cと対応する基板取付板2の下面
部分に金属製の重り3を軸30を介して溶接し、これに
よりセンサーを構成させてもよい。又、上記実施例にか
えて、図15に示すように基台5をキャップ状に形成す
るようにしてもよい。
【0021】
【発明の効果】この発明は上記の様な構成であるから次
の効果を有する。作用の欄から記載した内容から、三軸
方向の加速度が検出でき且つ低コストで製造できる加速
度センサーを提供できた。
の効果を有する。作用の欄から記載した内容から、三軸
方向の加速度が検出でき且つ低コストで製造できる加速
度センサーを提供できた。
【図1】この発明の実施例の加速度センサーの外観斜視
図。
図。
【図2】前記加速度センサーの断面図。
【図3】前記加速度センサーの単結晶基板に具備させた
検出素子の配置を示す平面図。
検出素子の配置を示す平面図。
【図4】前記加速度センサーの要部の断面図。
【図5】前記加速度センサーに具備させた検出素子の抵
抗値を電圧値に変換するブリッジ回路の図。
抗値を電圧値に変換するブリッジ回路の図。
【図6】前記加速度センサーに具備させた基板取付板
と、単結晶基板と、リードと、ワイヤー等の関係を示す
平面図。
と、単結晶基板と、リードと、ワイヤー等の関係を示す
平面図。
【図7】前記加速度センサーにX方向の加速度が作用し
た場合における、単結晶基板等の変形状態を示す断面
図。
た場合における、単結晶基板等の変形状態を示す断面
図。
【図8】前記加速度センサーにZ方向の加速度が作用し
た場合における、単結晶基板等の変形状態を示す断面
図。
た場合における、単結晶基板等の変形状態を示す断面
図。
【図9】前記加速度センサーの製作に使用されるリード
フレームの平面図。
フレームの平面図。
【図10】前記リードフレームの基板取付板の上面に単
結晶基板を固着すると共に単結晶基板とリード相互間を
ワイヤーボンディングした状態を示す平面図。
結晶基板を固着すると共に単結晶基板とリード相互間を
ワイヤーボンディングした状態を示す平面図。
【図11】前記リードフレームの基板取付板の上面に単
結晶基板を固着した状態を示す側面図。
結晶基板を固着した状態を示す側面図。
【図12】前記単結晶基板等に表面保護材を塗布し、こ
れらを包皮するキャップをリードフレームに設けた状態
を示す断面図。
れらを包皮するキャップをリードフレームに設けた状態
を示す断面図。
【図13】前記リードフレームに基台を設けた状態を示
す断面図。
す断面図。
【図14】前記リードフレームにおける接続部の切離し
位置を示した平面図。
位置を示した平面図。
【図15】この発明の他の実施例の加速度センサーの断
面図。
面図。
【図16】従来の加速度センサーの断面図。
【図17】従来の加速度センサーの要部斜視図。
R 検出素子 X 直線 Y 直線 C 交点 1 単結晶基板 2 基板取付板 3 重り 4 ブリッジ回路 5 基台 50 中央薄板状部
Claims (3)
- 【請求項1】 機械的変形により電気抵抗が変化する検
出素子(R)を直線(X)上及びこれと直交する直線
(Y)上に備えると共に前記検出素子(R)が直線
(X)(Y)の交点Cを中心として同数個づつ振り分け
て配置してある単結晶基板(1)と、この単結晶基板
(1)の熱膨張率に近い熱膨張率を有し、その一方面側
が単結晶基板(1)の固着面となる金属板で構成された
基板取付板(2)と、前記交点(C)と対応する基板取
付板(2)の他方面部分に細い軸部を介して固着された
重り(3)と、上記検出素子(R)の抵抗変化を電圧変
化に変換せしめる電子装置とを具備し、基板取付板
(2)に対して重り(3)が移動したときには基板取付
板(2)と単結晶基板(1)とが一体的に変形して各検
出素子(R)の電気抵抗が変化するようにしてあること
を特徴とする加速度センサー。 - 【請求項2】 機械的変形により電気抵抗が変化する検
出素子(R)を直線(X)上及びこれと直交する直線
(Y)上に備えると共に前記検出素子(R)が直線
(X)(Y)の交点Cを中心として同数個づつ振り分け
て配置してある単結晶基板(1)と、この単結晶基板
(1)の熱膨張率に近い熱膨張率を有し、その一方面側
が単結晶基板(1)の固着面となる金属板で構成された
基板取付板(2)と、前記基板取付板(2)の他方面側
に固着されている、中央薄板状部(50)を有した基台
(5)と、前記交点(C)と対応する中央薄板状部(5
0)に細い軸を介して設けられている重り(3)と、上
記検出素子(R)の抵抗変化を電圧変化に変換せしめる
電子装置とを具備し、中央薄板状部(50)に対して重
り(3)が移動したときには基板取付板(2)と単結晶
基板(1)が前記中央薄板状部(50)と一体的に変形
して各検出素子(R)の電気抵抗が変化するようにして
あることを特徴とする加速度センサー。 - 【請求項3】 直線(X)(Y)にそれぞれ四個の検出
素子(R)を備えていることを特徴とする請求項1又は
2記載の加速度センサー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5168796A JPH0727785A (ja) | 1993-07-08 | 1993-07-08 | 加速度センサー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5168796A JPH0727785A (ja) | 1993-07-08 | 1993-07-08 | 加速度センサー |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0727785A true JPH0727785A (ja) | 1995-01-31 |
Family
ID=15874639
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5168796A Pending JPH0727785A (ja) | 1993-07-08 | 1993-07-08 | 加速度センサー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0727785A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003087719A1 (fr) * | 2002-04-02 | 2003-10-23 | Asahi Kasei Emd Corporation | Capteur d'inclinaison, procede de fabrication de ce capteur d'inclinaison et procede permettant de mesurer l'inclinaison |
JP2008051628A (ja) * | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Epson Toyocom Corp | 多軸ジャイロセンサ |
JP2014010131A (ja) * | 2012-07-03 | 2014-01-20 | Sony Corp | センサデバイス |
-
1993
- 1993-07-08 JP JP5168796A patent/JPH0727785A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003087719A1 (fr) * | 2002-04-02 | 2003-10-23 | Asahi Kasei Emd Corporation | Capteur d'inclinaison, procede de fabrication de ce capteur d'inclinaison et procede permettant de mesurer l'inclinaison |
JP2008051628A (ja) * | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Epson Toyocom Corp | 多軸ジャイロセンサ |
JP2014010131A (ja) * | 2012-07-03 | 2014-01-20 | Sony Corp | センサデバイス |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5081867A (en) | Semiconductor sensor | |
US8418558B2 (en) | Acceleration sensor element and acceleration sensor having same | |
US8474318B2 (en) | Acceleration sensor | |
US6035712A (en) | Sensor device and method of producing the same using lead frame | |
US6272929B1 (en) | High pressure piezoresistive transducer suitable for use in hostile environments | |
US7012324B2 (en) | Lead frame with flag support structure | |
US20090293618A1 (en) | Acceleration Sensor Device | |
US20030057447A1 (en) | Acceleration sensor | |
JP2004333133A (ja) | 慣性力センサ | |
JP5051039B2 (ja) | 圧力センサ | |
KR20040097929A (ko) | 가속도 센서 장치 | |
US8257119B2 (en) | Systems and methods for affixing a silicon device to a support structure | |
JP2005127750A (ja) | 半導体センサおよびその製造方法 | |
JPH0727785A (ja) | 加速度センサー | |
US20070277607A1 (en) | Semiconductor acceleration sensor | |
US5379640A (en) | Semiconductor acceleration detecting apparatus | |
JP2010085143A (ja) | 加速度センサー | |
EP3660476B1 (en) | Cost overmolded leadframe force sensor with multiple mounting positions | |
JP2008070312A (ja) | マルチレンジ加速度センサー | |
US5157472A (en) | Semiconductor acceleration sensor | |
JP2765610B2 (ja) | 半導体振動・加速度検出装置 | |
JPS6394690A (ja) | 力検出装置 | |
JP3596199B2 (ja) | 半導体式圧力センサ | |
JPH08160071A (ja) | シリコン加速度計 | |
US20090095076A1 (en) | Acceleration Sensor Device and Sensor Apparatus |