JPH07277762A - 液晶ディスプレイ基板用ガラス - Google Patents
液晶ディスプレイ基板用ガラスInfo
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- JPH07277762A JPH07277762A JP3827995A JP3827995A JPH07277762A JP H07277762 A JPH07277762 A JP H07277762A JP 3827995 A JP3827995 A JP 3827995A JP 3827995 A JP3827995 A JP 3827995A JP H07277762 A JPH07277762 A JP H07277762A
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- crystal display
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
Abstract
(57)【要約】
【目的】 α−ＳｉＴＦＴ形だけでなくＰ−ＳｉＴＦＴ
形の汎用液晶ディスプレイの基板としても好適な液晶デ
ィスプレイ基板用ガラスを提供する。 【構成】 ＳｉＯ2 、Ｂ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＭｇＯ、
ＣａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯを合量で９５モル％以上
含有し、モル％表示による各成分の含有量が ＳｉＯ2 ６２％以上６８％以下 Ｂ2 Ｏ3 ８％以上１２％未満 Ａｌ2 Ｏ3 ９％以上１３％以下 ＭｇＯ １％以上５％以下 ＣａＯ ３％以上７％以下 ＳｒＯ＋ＢａＯ ２％以上５％以下 であることを特徴とする液晶ディスプレイ基板用ガラ
ス。
形の汎用液晶ディスプレイの基板としても好適な液晶デ
ィスプレイ基板用ガラスを提供する。 【構成】 ＳｉＯ2 、Ｂ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＭｇＯ、
ＣａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯを合量で９５モル％以上
含有し、モル％表示による各成分の含有量が ＳｉＯ2 ６２％以上６８％以下 Ｂ2 Ｏ3 ８％以上１２％未満 Ａｌ2 Ｏ3 ９％以上１３％以下 ＭｇＯ １％以上５％以下 ＣａＯ ３％以上７％以下 ＳｒＯ＋ＢａＯ ２％以上５％以下 であることを特徴とする液晶ディスプレイ基板用ガラ
ス。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ基板用
ガラスに係り、アクティブマトリクス駆動方式の汎用液
晶ディスプレイに用いる基板用ガラスとして好適な、液
晶ディスプレイ基板用ガラスに関する。
ガラスに係り、アクティブマトリクス駆動方式の汎用液
晶ディスプレイに用いる基板用ガラスとして好適な、液
晶ディスプレイ基板用ガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶ディスプレイは、ＣＲＴ（カソード
レイチューブ、ブラウン管）に比べて消費電力が低く、
低電圧で駆動させることができ、軽量化や薄型化が容易
である等の利点を有している。中でも、ＴＦＴ（薄膜ト
ランジスタ）形の電界効果トランジスタを用いたアクテ
ィブマトリクス駆動方式の液晶ディスプレイは、非常に
多くの走査電極を設けることができるために画素の高密
度化や高精細化が容易であり、デューティー比が高く、
かつ透過表示が可能なため、ＣＲＴに代わるフルカラー
ディスプレーとして注目されている。
レイチューブ、ブラウン管）に比べて消費電力が低く、
低電圧で駆動させることができ、軽量化や薄型化が容易
である等の利点を有している。中でも、ＴＦＴ（薄膜ト
ランジスタ）形の電界効果トランジスタを用いたアクテ
ィブマトリクス駆動方式の液晶ディスプレイは、非常に
多くの走査電極を設けることができるために画素の高密
度化や高精細化が容易であり、デューティー比が高く、
かつ透過表示が可能なため、ＣＲＴに代わるフルカラー
ディスプレーとして注目されている。
【０００３】このＴＦＴ形の電界効果トランジスタを用
いたアクティブマトリクス駆動方式の液晶ディスプレイ
は、ガラスや石英等の透明基板上に形成する半導体トラ
ンジスタの材質により、アモルファスシリコン（α−Ｓ
ｉ）ＴＦＴ形やポリシリコン（Ｐ−Ｓｉ）ＴＦＴ形等に
分けることがでる。
いたアクティブマトリクス駆動方式の液晶ディスプレイ
は、ガラスや石英等の透明基板上に形成する半導体トラ
ンジスタの材質により、アモルファスシリコン（α−Ｓ
ｉ）ＴＦＴ形やポリシリコン（Ｐ−Ｓｉ）ＴＦＴ形等に
分けることがでる。
【０００４】α−ＳｉＴＦＴおよびＰ−ＳｉＴＦＴは、
いずれも、透明基板上にα−Ｓｉ膜またはＰ−Ｓｉ膜を
成膜した後、フォトリソグラフィーに基づくパターニン
グ工程を繰返し行うことにより成形される。このため、
ＴＦＴが形成される透明基板には、ＴＦＴの材料の線膨
張係数に近似する線膨張係数を有することの他に、耐熱
性に優れること、化学的耐久性に優れること等が要求さ
れる。
いずれも、透明基板上にα−Ｓｉ膜またはＰ−Ｓｉ膜を
成膜した後、フォトリソグラフィーに基づくパターニン
グ工程を繰返し行うことにより成形される。このため、
ＴＦＴが形成される透明基板には、ＴＦＴの材料の線膨
張係数に近似する線膨張係数を有することの他に、耐熱
性に優れること、化学的耐久性に優れること等が要求さ
れる。
【０００５】このような要求を満たす透明基板として
は、シリカガラスがあるが、高価であるため、汎用の液
晶ディスプレイ用基板としては不適である。このため、
α−ＳｉＴＦＴ形の汎用液晶ディスプレイにおいては、
シリカガラスに代わるものとして、バリウム硼珪酸無ア
ルカリガラスが多用されている。
は、シリカガラスがあるが、高価であるため、汎用の液
晶ディスプレイ用基板としては不適である。このため、
α−ＳｉＴＦＴ形の汎用液晶ディスプレイにおいては、
シリカガラスに代わるものとして、バリウム硼珪酸無ア
ルカリガラスが多用されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、バリウ
ム硼珪酸無アルカリガラスをＰ−ＳｉＴＦＴ形の液晶デ
ィスプレイの基板として使用した場合、Ｐ−ＳｉＴＦＴ
はα−ＳｉＴＦＴより高温下で形成されるために、耐熱
性の面で難点が生じる。
ム硼珪酸無アルカリガラスをＰ−ＳｉＴＦＴ形の液晶デ
ィスプレイの基板として使用した場合、Ｐ−ＳｉＴＦＴ
はα−ＳｉＴＦＴより高温下で形成されるために、耐熱
性の面で難点が生じる。
【０００７】したがって本発明の目的は、上記バリウム
硼珪酸無アルカリガラスの欠点を解消し、α−ＳｉＴＦ
Ｔ形だけでなく、Ｐ−ＳｉＴＦＴ形の汎用液晶ディスプ
レイの基板としても好適な液晶ディスプレイ基板用ガラ
スを提供することにある。
硼珪酸無アルカリガラスの欠点を解消し、α−ＳｉＴＦ
Ｔ形だけでなく、Ｐ−ＳｉＴＦＴ形の汎用液晶ディスプ
レイの基板としても好適な液晶ディスプレイ基板用ガラ
スを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するためになされたものであり、本発明の液晶ディスプ
レイ基板用ガラスは、ＳｉＯ2 、Ｂ2 Ｏ3 、Ａｌ
2 Ｏ3 、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯを合量
で９５モル％以上含有し、モル％表示による各成分の含
有量が ＳｉＯ2 ６２％以上６８％以下 Ｂ2 Ｏ3 ８％以上１２％未満 Ａｌ2 Ｏ3 ９％以上１３％以下 ＭｇＯ １％以上５％以下 ＣａＯ ３％以上７％以下 ＳｒＯ＋ＢａＯ ２％以上５％以下 であることを特徴とするものである。
するためになされたものであり、本発明の液晶ディスプ
レイ基板用ガラスは、ＳｉＯ2 、Ｂ2 Ｏ3 、Ａｌ
2 Ｏ3 、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯを合量
で９５モル％以上含有し、モル％表示による各成分の含
有量が ＳｉＯ2 ６２％以上６８％以下 Ｂ2 Ｏ3 ８％以上１２％未満 Ａｌ2 Ｏ3 ９％以上１３％以下 ＭｇＯ １％以上５％以下 ＣａＯ ３％以上７％以下 ＳｒＯ＋ＢａＯ ２％以上５％以下 であることを特徴とするものである。
【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。
【００１０】本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラス
は、上述のように、ＳｉＯ2 、Ｂ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯを合量で９５モ
ル％以上含有し、各成分の含有量は、モル％表示でそれ
ぞれ上記の値に限定される。これらの限定理由は、以下
の通りである。
は、上述のように、ＳｉＯ2 、Ｂ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯを合量で９５モ
ル％以上含有し、各成分の含有量は、モル％表示でそれ
ぞれ上記の値に限定される。これらの限定理由は、以下
の通りである。
【００１１】ＳｉＯ2 の含有量が６８モル％を超えると
粘性が高くなって熔融性が低下し、６２モル％未満では
得られるガラスの歪点が低下し過ぎる。
粘性が高くなって熔融性が低下し、６２モル％未満では
得られるガラスの歪点が低下し過ぎる。
【００１２】また、Ｂ2 Ｏ3 の含有量が１２モル％以上
では得られるガラスの歪点が低下し過ぎると共に耐硝酸
性が低下し、８モル％未満では粘性が高くなって熔融性
が低下すると共に、得られるガラスの耐弗酸性が低下す
る。
では得られるガラスの歪点が低下し過ぎると共に耐硝酸
性が低下し、８モル％未満では粘性が高くなって熔融性
が低下すると共に、得られるガラスの耐弗酸性が低下す
る。
【００１３】Ａｌ2 Ｏ3 の含有量が１３モル％を超える
と得られるガラスの耐失透性が低下すると共に、このガ
ラスに弗酸を接触させたときに、弗酸によりガラス表面
が白濁し易くなる。一方、Ａｌ2 Ｏ3 の含有量が９モル
％未満では得られるガラスの歪点が低下し過ぎる。
と得られるガラスの耐失透性が低下すると共に、このガ
ラスに弗酸を接触させたときに、弗酸によりガラス表面
が白濁し易くなる。一方、Ａｌ2 Ｏ3 の含有量が９モル
％未満では得られるガラスの歪点が低下し過ぎる。
【００１４】ＭｇＯは、得られるガラスの膨張係数と粘
性とを低下させる成分としてアルカリ土類酸化物中で最
も効果的な成分であるため、１モル％以上含有させる必
要があるが、５モル％を超えて含有させると得られるガ
ラスの耐失透性が低下する。
性とを低下させる成分としてアルカリ土類酸化物中で最
も効果的な成分であるため、１モル％以上含有させる必
要があるが、５モル％を超えて含有させると得られるガ
ラスの耐失透性が低下する。
【００１５】また、ＣａＯはＭｇＯとほぼ類似した作用
を有するため３モル％以上必要であるが、７モル％を超
えて含有させると得られるガラスの耐失透性が低下す
る。
を有するため３モル％以上必要であるが、７モル％を超
えて含有させると得られるガラスの耐失透性が低下す
る。
【００１６】ＳｒＯおよびＢａＯは共に、得られるガラ
スの耐失透性を向上させる成分として効果的な成分であ
り、かつ粘性を高めて熔融性を低下させると共に得られ
ガラスの歪点を低下させ、かつ膨張係数を大きくさせる
成分でもあり、このため、ＳｒＯとＢａＯの合量は２モ
ル％以上５モル％以下である。ＳｒＯおよびＢａＯの含
有量はそれぞれ１モル％以上３モル％未満であるのが好
ましいが、これに限定されるものではなく、ＳｒＯとＢ
ａＯの合量（２モル％以上５モル％以下）の範囲で適宜
変動させることができるのはもちろんである。
スの耐失透性を向上させる成分として効果的な成分であ
り、かつ粘性を高めて熔融性を低下させると共に得られ
ガラスの歪点を低下させ、かつ膨張係数を大きくさせる
成分でもあり、このため、ＳｒＯとＢａＯの合量は２モ
ル％以上５モル％以下である。ＳｒＯおよびＢａＯの含
有量はそれぞれ１モル％以上３モル％未満であるのが好
ましいが、これに限定されるものではなく、ＳｒＯとＢ
ａＯの合量（２モル％以上５モル％以下）の範囲で適宜
変動させることができるのはもちろんである。
【００１７】そして、これらの成分の合量は、前述した
ように、９５モル％以上に限定される。各成分の含有量
が上述の範囲内にあっても、これらの成分の合量が９５
モル％未満では所望の特性が得られなくなるため、好ま
しくない。
ように、９５モル％以上に限定される。各成分の含有量
が上述の範囲内にあっても、これらの成分の合量が９５
モル％未満では所望の特性が得られなくなるため、好ま
しくない。
【００１８】ガラスの成分およびその含有量、ならびに
各成分の合量を上述のように規定することにより、Ｐ−
Ｓｉの線膨張係数と近似する線膨張係数を有し、かつＰ
−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレイの基板としても使用
可能な歪点を有するガラス、すなわち、１００〜３００
℃における平均線膨張係数が３４×１０-7〜３９×１０
-7 deg-1・cm-1で、歪点が６３０℃以上であるガラスを
得ることができる。そしてこのガラスは、熔融性および
成形性にも優れたガラスであるので、α−ＳｉＴＦＴ型
だけでなくＰ−ＳｉＴＦＴ型の液晶ディスプレイの基板
として好適に用いられる。
各成分の合量を上述のように規定することにより、Ｐ−
Ｓｉの線膨張係数と近似する線膨張係数を有し、かつＰ
−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレイの基板としても使用
可能な歪点を有するガラス、すなわち、１００〜３００
℃における平均線膨張係数が３４×１０-7〜３９×１０
-7 deg-1・cm-1で、歪点が６３０℃以上であるガラスを
得ることができる。そしてこのガラスは、熔融性および
成形性にも優れたガラスであるので、α−ＳｉＴＦＴ型
だけでなくＰ−ＳｉＴＦＴ型の液晶ディスプレイの基板
として好適に用いられる。
【００１９】また、本発明の液晶ディスプレイ基板用ガ
ラスは、前述したＳｉＯ2 、Ｂ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｍ
ｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯ以外の成分（以
下、副成分という）を、総量で５モル％以下含有するこ
とができる。
ラスは、前述したＳｉＯ2 、Ｂ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｍ
ｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯ以外の成分（以
下、副成分という）を、総量で５モル％以下含有するこ
とができる。
【００２０】副成分としては、ＺｎＯ、ＰｂＯ、Ｌａ2
Ｏ3 、ＺｒＯ2 、Ａｓ2 Ｏ3 、およびＳｂ2 Ｏ3 からな
る群より選択される少なくとも１種を含有させることが
好ましい。そして、モル％表示による各副成分の含有量
は ＺｎＯ ２％以下 ＰｂＯ １％以下 Ｌａ2 Ｏ3 １％以下 ＺｒＯ2 １％以下 Ａｓ2 Ｏ3 ２％以下 Ｓｂ2 Ｏ3 ２％以下 であることが特に好ましい。なお、これら各副生分の含
有量の範囲は、いずれも０％を含む。
Ｏ3 、ＺｒＯ2 、Ａｓ2 Ｏ3 、およびＳｂ2 Ｏ3 からな
る群より選択される少なくとも１種を含有させることが
好ましい。そして、モル％表示による各副成分の含有量
は ＺｎＯ ２％以下 ＰｂＯ １％以下 Ｌａ2 Ｏ3 １％以下 ＺｒＯ2 １％以下 Ａｓ2 Ｏ3 ２％以下 Ｓｂ2 Ｏ3 ２％以下 であることが特に好ましい。なお、これら各副生分の含
有量の範囲は、いずれも０％を含む。
【００２１】ＺｎＯは得られるガラスの膨張係数を上げ
ずに粘性を低下させ、かつ耐失透性を向上させる成分と
して効果的であるが、得られるガラスの歪点を低下させ
ると共に耐硝酸性を低下させる成分でもあるため、含有
させる場合は２モル％以下が特に好ましい。
ずに粘性を低下させ、かつ耐失透性を向上させる成分と
して効果的であるが、得られるガラスの歪点を低下させ
ると共に耐硝酸性を低下させる成分でもあるため、含有
させる場合は２モル％以下が特に好ましい。
【００２２】ＰｂＯは得られるガラスの耐失透性を向上
させる成分として効果的であるが、得られるガラスの歪
点を低下させると共に熔解時の粘性を上げる成分でもあ
るため、含有させる場合は１モル％以下が特に好まし
い。
させる成分として効果的であるが、得られるガラスの歪
点を低下させると共に熔解時の粘性を上げる成分でもあ
るため、含有させる場合は１モル％以下が特に好まし
い。
【００２３】Ｌａ2 Ｏ3 は得られるガラスの歪点を低下
させずに耐失透性を向上させる成分として効果的である
が、高価であると共に得られるガラスの耐硝酸性を低下
させる成分でもあるため、含有させる場合は１モル％以
下が特に好ましい。
させずに耐失透性を向上させる成分として効果的である
が、高価であると共に得られるガラスの耐硝酸性を低下
させる成分でもあるため、含有させる場合は１モル％以
下が特に好ましい。
【００２４】ＺｒＯ2 は得られるガラスの歪点を上げ、
耐弗酸性および耐硝酸性を向上させる成分として効果的
であるが、得られるガラスの耐失透性を低下させる成分
でもあるため、含有させる場合は１モル％以下が特に好
ましい。
耐弗酸性および耐硝酸性を向上させる成分として効果的
であるが、得られるガラスの耐失透性を低下させる成分
でもあるため、含有させる場合は１モル％以下が特に好
ましい。
【００２５】Ａｓ2 Ｏ3 およびＳｂ2 Ｏ3 は、それぞれ
脱泡剤として必要な成分であるが、白金るつぼや通電装
置等の熔融装置を損傷させるため、含有させる場合は、
それぞれ２モル％以下が特に好ましい。
脱泡剤として必要な成分であるが、白金るつぼや通電装
置等の熔融装置を損傷させるため、含有させる場合は、
それぞれ２モル％以下が特に好ましい。
【００２６】本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラス
は、各成分の原料として、ガラスの原料として一般に使
用される酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等を用い、
これらの原料を所定の酸化物換算組成となるように秤
量、混合した後、通常のガラス熔融装置を用いて１５０
０〜１６００℃で熔融し、脱泡、均質化を行ってから所
定の形状に成形、徐冷することにより得られる。
は、各成分の原料として、ガラスの原料として一般に使
用される酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等を用い、
これらの原料を所定の酸化物換算組成となるように秤
量、混合した後、通常のガラス熔融装置を用いて１５０
０〜１６００℃で熔融し、脱泡、均質化を行ってから所
定の形状に成形、徐冷することにより得られる。
【００２７】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【００２８】実施例１ 原料として珪石粉、硼酸、アルミナ、炭酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、炭酸バリウ
ムおよび亜砒酸を用い、これらを酸化物換算量で表−１
に示す組成となるように秤量、混合した後、１６００℃
で熔融し、脱泡、均質化を行ってから板状に成形、徐冷
して、１２０×１５０×５０mmの板状を呈する本発明の
液晶ディスプレイ基板用ガラスを得た。
ム、炭酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、炭酸バリウ
ムおよび亜砒酸を用い、これらを酸化物換算量で表−１
に示す組成となるように秤量、混合した後、１６００℃
で熔融し、脱泡、均質化を行ってから板状に成形、徐冷
して、１２０×１５０×５０mmの板状を呈する本発明の
液晶ディスプレイ基板用ガラスを得た。
【００２９】得られたガラスの１００〜３００℃におけ
る平均線膨張係数（以下、α100 〜 300 という）、歪
点、および１５００℃における粘度を表１に示す。
る平均線膨張係数（以下、α100 〜 300 という）、歪
点、および１５００℃における粘度を表１に示す。
【００３０】また、得られたガラスの耐弗酸性および耐
硝酸性を以下の要領で評価した。
硝酸性を以下の要領で評価した。
【００３１】・耐弗酸性 得られたガラスを研摩して得た試料を２５℃の５％ＨＦ
水溶液に３時間浸漬し、乾燥後、試料の重量減を単位面
積、単位時間当りの量に換算して、その耐弗酸性を評価
した。
水溶液に３時間浸漬し、乾燥後、試料の重量減を単位面
積、単位時間当りの量に換算して、その耐弗酸性を評価
した。
【００３２】・耐硝酸性 耐弗酸性の評価の場合と同様にして得た試料を８０℃の
３０％ＨＮＯ3 水溶液に３時間浸漬し、乾燥後、試料の
重量減を単位面積、単位時間当りの量に換算して、その
耐硝酸性を評価した。
３０％ＨＮＯ3 水溶液に３時間浸漬し、乾燥後、試料の
重量減を単位面積、単位時間当りの量に換算して、その
耐硝酸性を評価した。
【００３３】これらの各換算値も表１に示す。
【００３４】さらに、得られたガラス約１００ｇを容量
１００ccの白金坩堝に入れ、この白金坩堝に白金製の蓋
をして１１００℃で２４時間放置し、放置後のガラス内
部における結晶（失透）発生の有無を顕微鏡観察して、
その耐失透性を評価した。この顕微鏡観察結果も表１に
示す。
１００ccの白金坩堝に入れ、この白金坩堝に白金製の蓋
をして１１００℃で２４時間放置し、放置後のガラス内
部における結晶（失透）発生の有無を顕微鏡観察して、
その耐失透性を評価した。この顕微鏡観察結果も表１に
示す。
【００３５】実施例２〜５ 原料として珪石粉、硼酸、アルミナ、炭酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、炭酸バリウ
ム、亜鉛華、硝酸鉛、酸化ランタン、酸化ジルコニウ
ム、亜砒酸および酸化アンチモンを用い、これらを酸化
物換算量で表１に示す組成となるように秤量、混合した
後、１５００〜１６００℃で熔融し、脱泡、均質化を行
ってから板状に成形、徐冷して、実施例１と同一形状の
液晶ディスプレイ基板用ガラスをそれぞれ得た。
ム、炭酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、炭酸バリウ
ム、亜鉛華、硝酸鉛、酸化ランタン、酸化ジルコニウ
ム、亜砒酸および酸化アンチモンを用い、これらを酸化
物換算量で表１に示す組成となるように秤量、混合した
後、１５００〜１６００℃で熔融し、脱泡、均質化を行
ってから板状に成形、徐冷して、実施例１と同一形状の
液晶ディスプレイ基板用ガラスをそれぞれ得た。
【００３６】得られた各ガラスのα100 〜300 、歪点、
および１５００℃における粘度を表１に示す。
および１５００℃における粘度を表１に示す。
【００３７】また、得られた各ガラスの耐弗酸性および
耐硝酸性を実施例１と同様にして評価した。このときの
各換算値も表１に示す。
耐硝酸性を実施例１と同様にして評価した。このときの
各換算値も表１に示す。
【００３８】さらに、得られた各ガラスの耐失透性を実
施例１と同様にして評価した。このときの各顕微鏡観察
結果も表１に示す。
施例１と同様にして評価した。このときの各顕微鏡観察
結果も表１に示す。
【００３９】比較例１ 表１に示すように、従来よりα−ＳｉＴＦＴ形の液晶デ
ィスプレイの基板として多用されているバリウム硼珪酸
無アルカリガラスに類似する組成のガラスを得た。
ィスプレイの基板として多用されているバリウム硼珪酸
無アルカリガラスに類似する組成のガラスを得た。
【００４０】得られたガラスのα100 〜300 、歪点、お
よび１５００℃における粘度を表１に示す。
よび１５００℃における粘度を表１に示す。
【００４１】また、得られたガラスの耐弗酸性および耐
硝酸性を実施例１と同様にして評価した。このときの各
換算値も表１に示す。
硝酸性を実施例１と同様にして評価した。このときの各
換算値も表１に示す。
【００４２】さらに、得られたガラスの耐失透性を実施
例１と同様にして評価した。このときの顕微鏡観察結果
も表１に示す。
例１と同様にして評価した。このときの顕微鏡観察結果
も表１に示す。
【００４３】
【表１】
【００４４】表１から明らかなように、実施例１〜５で
得られた本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスのα
100 〜300 は３６×１０-7〜３９×１０-7 deg-1・cm-1
であり、Ｐ−Ｓｉの線膨張係数と近似している。また、
各ガラスの歪点はいずれも６３０℃以上であり、α−Ｓ
ｉＴＦＴ形だけでなくＰ−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプ
レイの基板としても使用可能なものである。
得られた本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスのα
100 〜300 は３６×１０-7〜３９×１０-7 deg-1・cm-1
であり、Ｐ−Ｓｉの線膨張係数と近似している。また、
各ガラスの歪点はいずれも６３０℃以上であり、α−Ｓ
ｉＴＦＴ形だけでなくＰ−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプ
レイの基板としても使用可能なものである。
【００４５】また、１５００℃における粘度はいずれの
ガラスでも１０3 ポイズ未満であり、実用的な熔融性を
有していることがわかる。
ガラスでも１０3 ポイズ未満であり、実用的な熔融性を
有していることがわかる。
【００４６】さらに、５％ＨＦ水溶液に浸漬した場合の
重量減が７〜９mg／cm2 ・hr、３０％ＨＮＯ3 水溶液に
浸漬した場合の重量減が４×１０-2〜１２×１０-2mg／
cm2・hrであり、それぞれ、耐弗酸性および耐硝酸性に
優れていることがわかる。なお、５％ＨＦ水溶液による
処理中および３０％ＨＮＯ3 水溶液による処理中のいず
れにおいても、ガラス表面が白濁する現象は見られなか
った。
重量減が７〜９mg／cm2 ・hr、３０％ＨＮＯ3 水溶液に
浸漬した場合の重量減が４×１０-2〜１２×１０-2mg／
cm2・hrであり、それぞれ、耐弗酸性および耐硝酸性に
優れていることがわかる。なお、５％ＨＦ水溶液による
処理中および３０％ＨＮＯ3 水溶液による処理中のいず
れにおいても、ガラス表面が白濁する現象は見られなか
った。
【００４７】また、いずれのガラスにおいても、１１０
０℃で２４時間放置した後に結晶の発生は認められなか
った。このことから各ガラスの失透温度は１１００℃以
下であり、実用的な成形性を有していることがわかる。
０℃で２４時間放置した後に結晶の発生は認められなか
った。このことから各ガラスの失透温度は１１００℃以
下であり、実用的な成形性を有していることがわかる。
【００４８】一方、比較例１のバリウム硼珪酸無アルカ
リガラスは、耐弗酸性、耐硝酸性、熔融性および成形性
は問題ないが、実施例１〜５で得られた本発明の液晶デ
ィスプレイ基板用ガラスに比べると歪点が低く、α
100 〜300 も大きい。
リガラスは、耐弗酸性、耐硝酸性、熔融性および成形性
は問題ないが、実施例１〜５で得られた本発明の液晶デ
ィスプレイ基板用ガラスに比べると歪点が低く、α
100 〜300 も大きい。
【００４９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶ディ
スプレイ基板用ガラスは、Ｐ−Ｓｉの線膨張係数と近似
する線膨張係数を有し、かつ、Ｐ−ＳｉＴＦＴ形の液晶
ディスプレイの基板としても使用可能な歪点、Ｐ−Ｓｉ
ＴＦＴの成形過程で多用される弗酸および硝酸に対する
良好な耐性、実用的な熔融性、および実用的な成形性を
有している。
スプレイ基板用ガラスは、Ｐ−Ｓｉの線膨張係数と近似
する線膨張係数を有し、かつ、Ｐ−ＳｉＴＦＴ形の液晶
ディスプレイの基板としても使用可能な歪点、Ｐ−Ｓｉ
ＴＦＴの成形過程で多用される弗酸および硝酸に対する
良好な耐性、実用的な熔融性、および実用的な成形性を
有している。
【００５０】したがって本発明を実施することにより、
α−ＳｉＴＦＴ形だけでなくＰ−ＳｉＴＦＴ形の汎用液
晶ディスプレイの基板として好適な、液晶ディスプレイ
基板用ガラスを提供することが可能となる。
α−ＳｉＴＦＴ形だけでなくＰ−ＳｉＴＦＴ形の汎用液
晶ディスプレイの基板として好適な、液晶ディスプレイ
基板用ガラスを提供することが可能となる。
Claims (3)
- 【請求項１】 ＳｉＯ2 、Ｂ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｍｇ
Ｏ、ＣａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯを合量で９５モル％
以上含有し、モル％表示による各成分の含有量が ＳｉＯ2 ６２％以上６８％以下 Ｂ2 Ｏ3 ８％以上１２％未満 Ａｌ2 Ｏ3 ９％以上１３％以下 ＭｇＯ １％以上５％以下 ＣａＯ ３％以上７％以下 ＳｒＯ＋ＢａＯ ２％以上５％以下 であることを特徴とする液晶ディスプレイ基板用ガラ
ス。 - 【請求項２】 ＳｉＯ2 、Ｂ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｍｇ
Ｏ、ＣａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯの他に、ＺｎＯ、Ｐ
ｂＯ、Ｌａ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、Ａｓ2 Ｏ3 、およびＳｂ
2 Ｏ3 からなる群より選択される少なくとも１種を総量
で５モル％以下含有することを特徴とする請求項１記載
の液晶ディスプレイ基板用ガラス。 - 【請求項３】 ＺｎＯ、ＰｂＯ、Ｌａ2 Ｏ3 、Ｚｒ
Ｏ2 、Ａｓ2 Ｏ3 、およびＳｂ2 Ｏ3 からなる群より選
択される少なくとも１種を総量で５モル％以下含有し、
モル％表示による各成分の含有量が ＺｎＯ ２％以下 ＰｂＯ １％以下 Ｌａ2 Ｏ3 １％以下 ＺｒＯ2 １％以下 Ａｓ2 Ｏ3 ２％以下 Ｓｂ2 Ｏ3 ２％以下 であることを特徴とする請求項２記載の液晶ディスプレ
イ基板用ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3827995A JPH07277762A (ja) | 1995-02-27 | 1995-02-27 | 液晶ディスプレイ基板用ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3827995A JPH07277762A (ja) | 1995-02-27 | 1995-02-27 | 液晶ディスプレイ基板用ガラス |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28689590A Division JP2644622B2 (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 液晶ディスプレイ基板用ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07277762A true JPH07277762A (ja) | 1995-10-24 |
Family
ID=12520884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3827995A Pending JPH07277762A (ja) | 1995-02-27 | 1995-02-27 | 液晶ディスプレイ基板用ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07277762A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0787693A1 (de) * | 1996-02-02 | 1997-08-06 | Schott Glaswerke | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung |
| EP0805125A1 (de) * | 1996-04-30 | 1997-11-05 | Schott Glaswerke | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und seine Verwendung |
| KR19990012860A (ko) * | 1997-07-31 | 1999-02-25 | 암라인/립퍼 | 알칼리가 없는 알루미노 붕규산 유리 및 그 이용/1 |
| KR19990012861A (ko) * | 1997-07-31 | 1999-02-25 | 암라인/립퍼 | 알칼리가 없는 알루미노 붕규산 유리 및 그 이용/2 |
| JP2002234752A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-08-23 | Carl Zeiss:Fa | 無アルカリアルミノホウケイ酸ガラスおよびその使用 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04160030A (ja) * | 1990-10-24 | 1992-06-03 | Hoya Corp | 液晶ディスプレイ基板用ガラス |
-
1995
- 1995-02-27 JP JP3827995A patent/JPH07277762A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04160030A (ja) * | 1990-10-24 | 1992-06-03 | Hoya Corp | 液晶ディスプレイ基板用ガラス |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0787693A1 (de) * | 1996-02-02 | 1997-08-06 | Schott Glaswerke | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung |
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| KR19990012860A (ko) * | 1997-07-31 | 1999-02-25 | 암라인/립퍼 | 알칼리가 없는 알루미노 붕규산 유리 및 그 이용/1 |
| KR19990012861A (ko) * | 1997-07-31 | 1999-02-25 | 암라인/립퍼 | 알칼리가 없는 알루미노 붕규산 유리 및 그 이용/2 |
| JP2002234752A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-08-23 | Carl Zeiss:Fa | 無アルカリアルミノホウケイ酸ガラスおよびその使用 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19970422 |