JPH072762A - シクロヘキセン誘導体の製造法 - Google Patents

シクロヘキセン誘導体の製造法

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JPH072762A
JPH072762A JP6049221A JP4922194A JPH072762A JP H072762 A JPH072762 A JP H072762A JP 6049221 A JP6049221 A JP 6049221A JP 4922194 A JP4922194 A JP 4922194A JP H072762 A JPH072762 A JP H072762A
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JP
Japan
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reacting
lewis acid
compound
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azetidinone
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JP6049221A
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English (en)
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Stefano Biondi
ステファノ、ビオンディ
Tino Rossi
ティノ、ロッシ
Stefania Anna Contini
ステファニア、アンナ、コンティーニ
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GlaxoSmithKline SpA
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Glaxo SpA
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D205/00Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D205/02Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 抗菌作用のある化合物の製造における中間体
として有用な、式(I)の化合物の製造法を提供する。 【構成】 アゼチジノン(II)と、ボラン誘導体(I
II)とを、ルイス酸の存在下、非プロトン性溶媒中で
反応させることからなる。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】[発明の背景]産業上の利用分野 本発明は、抗菌作用を有する化合物の製造に有用な、シ
クロヘキセン誘導体の製造方法に関する。
【0002】従来の技術 ヨーロッパ特許出願(EPA)第0416953A号に
は、新規な種類の三環系抗菌性物質、およびそれらの製
造方法が記載されている。この明細書にはさらに、好ま
しい抗菌性化合物の製造に有用な中間体として、式
(I)で表されるシクロヘキセン誘導体が明細書中に具
体的に記載されまた特許請求の範囲に記載されている。
【0003】
【化4】 (ここで、R1 はヒドロキシル保護基である)
【0004】式(I)の化合物は、EPA第04665
09A2号にも記載され、また特許請求の範囲に記載さ
れている。本発明は、式(I)のシクロヘキセン誘導体
の新規な、改良された製造方法に関するものである。
【0005】[発明の概要]本発明によれば、式(1)
の化合物の製造法として、アゼチジノン(II):
【0006】
【化5】 (ここで、R2 はC1-4 アルキル、または置換されてい
てもよいフェニル基でああり、R1 はヒドロキシル保護
基である)と、ボラン誘導体(III):
【0007】
【化6】 (ここで、R3 はイソピノカンフェニル、または2−メ
チルシクロヘキシルである)とを、適当なルイス酸の存
在下で反応させることを含んでなる方法が提供される。
【0008】[発明の具体的説明]適当なルイス酸の例
としては、ジエチル亜鉛のようなジアルキル亜鉛、トリ
エチルアルミニウムのようなトリアルキルアルミニウ
ム、アルミニウムトリイソプロポキシドやチタンテトラ
イソプロポキシドのようなイソプロポキシド、およびト
リエチルボランのようなアルキルボランが挙げられる。
反応は、エーテル(例えばテトラヒドロフラン)、炭化
水素(例えばヘキセン)、ハロゲン化炭化水素(例えば
クロロベンゼン)、またはそれらの混合物のような非プ
ロトン性溶媒中で、好ましくは−30℃から+30℃の
範囲の温度でおこなう。
【0009】ボラン誘導体(III)は、対応するボラ
ン(R3 2 BH(IV)とシクロヘキサジエンとを、
炭化水素、例えばヘキサン、またはクロロベンゼン、ま
たはエーテル、例えばテトラヒドロフランのような溶剤
中で、−30℃から+30℃の範囲の温度で反応させる
ことにより製造できる。
【0010】ボラン(IV)は、ボランジメチルスルフ
ィド錯体と、1−S−(−)−α−ピネンまたは1−メ
チルシクロヘキセンとを反応させることにより製造でき
る。この反応は、エーテル、例えばテトラヒドロフラン
またはジエチルエーテルのような溶剤中でおこなうのが
好ましい。
【0011】式(II)のアゼチジノンは公知の化合物
であるか、または公知の化合物の製造方法に類似した方
法により製造してもよい。上記の反応に使用するのに好
ましいアゼチジノンには、R1 がトリアルキルシリル
基、例えば、トリメチルシリルやt−ブチルジメチルシ
リルのようなトリC1-4 アルキルシリル基であり、R2
がC1-4 アルキル、例えばメチル、またはフェニル基、
特にメチルである式(II)の化合物が含まれる。上記
の反応に使用するのに特に有用なアゼチジノンは、R1
がt−ブチルジメチルシリルであり、R2 がメチルであ
るものである。
【0012】本発明の方法によれば、必要とされる立体
異性体が高収率で、しかも少ない工程数で生成されるの
で、本発明の方法は、式(I)の化合物の公知の製造方
法に比べて有利である。
【0013】本発明のさらに充分な理解のために、以下
に、説明のためにのみ実施例を示す。
【0014】[実施例]なお下記でeeはエナンチオマ
ー過剰率をいう。
【0015】実施例1 (3S,4R)−4−〔(3’S)−シクロヘキセン−
3−イル〕−3−〔(1R)−1−t−ブチルジメチル
シリルオキシエチル〕アゼチジン−2−オン 窒素雰囲気
中の0℃のボランジメチルスルフィド錯体(800ミリ
モル)の乾燥テトラヒドロフラン(400ml)溶液
に、(1)−(S)−α−ピネン(82%ee、300
ml)を、ゆるやかな窒素気流下で、1時間かけて滴下
した。この混合物を0℃で4時間攪拌した後、0℃で2
時間放置した。カニュールを用いて上澄み液を除去し、
白色の沈殿物に無水テトラヒドロフラン(200ml)
を添加し、10分間攪拌した。この後固体を分離させ、
カニュールを用いて再び液体相を除去した。沈殿物を乾
燥テトラヒドロフラン(800ml)に懸濁させ、攪拌
しながら−25℃に冷却した。30分かけて1,3−シ
クロヘキサジエン(95ml)を添加し、−25℃でさ
らに12時間攪拌した。この溶液の温度を10℃に上
げ、(3R,4R)−4−アセトキシ−3〔(R)−
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕−2−ア
ゼチジノン(46g)の乾燥テトラヒドロフラン(10
0ml)溶液を添加した。ジエチル亜鉛の1Mヘキサン
溶液(200ml)を20分かけて添加し、さらに3.
5時間攪拌した。これを、クエン酸とクエン酸ナトリウ
ムとから調製したpH=3の緩衝水溶液(200ml)
に添加して、1時間攪拌した。水性相を酢酸エチルで抽
出した(1x1L、1x500ml)。酢酸エチル抽出
物を合わせ、pH=3の緩衝水溶液(200ml)、重
炭酸ナトリウム飽和溶液(2x400ml)、水(20
0ml)、および食塩水(2x200ml)で洗浄し
た。この溶液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥させ、溶剤
を減圧下で除去した。得られたオイルをアセトニトリル
で抽出し(1x200ml、4x100ml)、アセト
ニトリル抽出物を合わせて元の体積の2/3まで濃縮
し、n−ヘキサンで洗浄した(3x50ml)。アセト
ニトリル溶液を減圧下で濃縮し、得られたオイルを室温
で、3倍の体積のメタノールに溶解した。このメタノー
ル溶液を激しく攪拌しながら、1.3倍の体積の水を3
0分かけて添加して、標題の化合物を白色の固体(22
g)として得た。n−ヘキサン洗浄液を合わせて、アセ
トニトリル(200ml)で抽出し、アセトニトリル溶
液を濃縮した。得られたオイルを3倍の体積のメタノー
ルに溶解した。この溶液を攪拌しながら、1.3倍の体
積の水を30分かけて添加して、標題の化合物を別に7
g得た。
【0016】1 H−NMR(CDCl3 ,ppmSiM
4 ):6.24(s,ブロード)、5.80(m)、
5.60(m)、4.13(m)、3.44(dd)、
2.84(m)、2.20(m)、1.79(m)、
1.52(m)、1.25(m)、1.22(d)、
0.87(s)、0.07(s)、0.06(s) IR(CDCl3 ):3416(NH,str)、17
57(C=O b−ラクタム,str)、1601(C
=C,str) HPLC:カラム spherisorb S5-CN 、20x0.46
cm;流量2ml/分;波長220mn;溶離液ヘキサ
ン/アセトニトリル/エタノール=99/0.5/0.
5 溶離時間=8.6分 HPLC:カラム hypersil BDS C18 、20x0.46
cm;流量1.5ml/分;波長205mn;溶離液メ
タノール/アセトニトリル/水=50/30/20 溶離時間=33分
【0017】実施例2 (3S,4R)−4−〔(3’S)−シクロヘキセン−
3−イル〕−3−〔(1R)−1−t−ブチルジメチル
シリルオキシエチル〕アゼチジン−2−オン 窒素雰囲気下で、ボランジメチルスルフィド錯体(4m
l)を無水テトラヒドロフラン(40ml)に溶解し
た。これに1−メチルシクロヘキセン(11ml)をゆ
っくり添加して、4時間攪拌した。攪拌を止め、生成し
た白色の固体を沈殿させた。カニュールを用いて上澄み
液を除去した後、無水テトラヒドロフラン(20ml)
を添加して、5分間攪拌した。固体を沈殿させ、カニュ
ールを用いて上澄み液を除去した。無水テトラヒドロフ
ラン(40ml)と1,3−シクロヘキサジエン(10
ml)とを添加して、20時間攪拌した。(3S,4
R)−4−アセトキシ−3〔(1R)−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−アゼチジン−2−オン
(2.87g)を添加して5分間攪拌した後、ジエチル
亜鉛(1Mヘキサン溶液、10ml)を添加した。30
分後、この反応混合物を酒石酸ナトリウムカリウム飽和
溶液(200ml)で急冷した。この水溶液をジエチル
エーテルで抽出した(2x200ml)。有機相を無水
硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濃縮して得た粗混合物を
クロマトグラフィーにかけた。ジエチルエーテルとシク
ロヘキサンの1:1混合液で溶離したところ、生成物が
3g得られた。NMRによると、この生成物は実質的に
標題の化合物(87%、2.61g)からなることが分
かった。
【0018】1 H−NMR(400MHz;CDC
3 ):5.87(ma,1H)、5.81(m,1
H)、5.61(m,1H)、4.15(m,1H)、
3.46(dd,1H)、2.85(m,1H)、2.
25(m,1H)、2.00(m,2H)、1.85−
1.52(m,4H)、1.27(m,3H)、0.8
6(s,9H)、0.069(s,3H)、0.058
(s,3H)
【0019】実施例2の生成物は、EPA第41895
3A号に記載されている抗菌性のある立体規則性化合物
の製造に、更に精製することなしに直接使用することが
できる。上記の反応生成物(3g)中に含まれるNMR
で同定されたその他の化合物は、対応する(3S,4
S)−〔(3’R)−シクロヘキセン−3−イル〕−3
−〔(1R)−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−
エチル〕−アゼチジン−2−オン(4.6%)、(3
S,4R)−3−〔(1R)−(t−ブチルジメチルシ
リルオキシ)−エチル〕−アゼチジン−2−オン(2
%)、および2−メトキシシクロヘキサノール(6.3
%)であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ティノ、ロッシ イタリア国ヴェローナ、ヴィア、ア、フレ ミング、2、グラクソ、ソシエタ、ペル、 アツィオーニ内 (72)発明者 ステファニア、アンナ、コンティーニ イタリア国ヴェローナ、ヴィア、ア、フレ ミング、2、グラクソ、ソシエタ、ペル、 アツィオーニ内

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(I)の化合物の製造法であって: 【化1】 (ここで、R1 はヒドロキシル保護基である) アゼチジノン(II): 【化2】 (ここで、R1 はヒドロキシル保護基であり、R2 はC
    1-4 アルキル、または置換されていてもよいフェニル基
    である)と、ボラン誘導体(III): 【化3】 (ここで、R3 はイソピノカンフェニル、または2−メ
    チルシクロヘキシルである)とを、ルイス酸の存在下、
    非プロトン性溶媒中で反応させることを含んでなる、方
    法。
  2. 【請求項2】反応を−30℃から+30℃の範囲の温度
    でおこなう、請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】該ルイス酸がジアルキル亜鉛、トリアルキ
    ルアルミニウム、アルミニウムイソプロポキシド、チタ
    ンテトライソプロポキシドおよびアルキルボランから選
    択されるものである、請求項1または2に記載の方法。
  4. 【請求項4】ルイス酸がジエチル亜鉛である、請求項1
    から3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 【請求項5】R2 がメチル基である、請求項1から4の
    いずれか一項に記載の方法。
  6. 【請求項6】R3 がイソピノカンフェニルである、請求
    項1から5のいずれか一項に記載の方法。
  7. 【請求項7】請求項1から6のいずれか一項に記載の方
    法により製造される、一般式(I)の化合物。
  8. 【請求項8】R1 がトリアルキルシリル保護基である、
    請求項7に記載の化合物。
  9. 【請求項9】R1 がt−ブチルジメチルシリル基であ
    る、請求項8に記載の化合物。
JP6049221A 1993-03-20 1994-03-18 シクロヘキセン誘導体の製造法 Pending JPH072762A (ja)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000229243A (ja) * 1999-02-09 2000-08-22 Tosoh Corp クロスカップリング反応用触媒、並びにそれを用いた置換スチレン誘導体又は置換ビアリール誘導体の製造方法

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