JPH0727260B2 - 可視像形成方法 - Google Patents

可視像形成方法

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JPH0727260B2
JPH0727260B2 JP61000472A JP47286A JPH0727260B2 JP H0727260 B2 JPH0727260 B2 JP H0727260B2 JP 61000472 A JP61000472 A JP 61000472A JP 47286 A JP47286 A JP 47286A JP H0727260 B2 JPH0727260 B2 JP H0727260B2
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JP61000472A
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ヘラルドス・ヘオルヒウス・ドライズマ
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オセ−ネーデルランド・ベー・ヴエー
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、単一の光導電層としてのアモルファス水素化
シリコン層を有する電子写真用部材に電荷像を形成し、
当該電荷像を現像粉末で現像する可視像形成方法に係
る。
上記のような方法は、米国特許第4,225,222号明細書に
よって公知である。前述の明細書は、ドラム上の10〜10
0μmの厚さのアモルファス水素化シリコン層に設けら
れた電荷像の現像を開示している。この公知方法の利点
は用いられるアモルファス水素化シリコン層が耐摩耗性
に優れる点であるが、該方法は使用されるアモルファス
水素化シリコン層の暗減衰(dark−decay)が実用上余
りに甚しいという欠点も有する。暗減衰を減少させるた
めに、アモルファス水素化シリコン層上にシリコン窒化
物あるいはシリコン炭化物の薄層を設けることが既に提
案されている。そのような薄層は確かにある程度の効果
を有するが、甚しい暗減衰の問題を除去するには不十分
である。
本発明は、光導電層の暗減衰を低減させ得、優れたコピ
ーの形成を可能にすると共に、電子写真工程で可撓性の
電子写真用ベルトの使用を可能にし得る可視像形成方法
を提供することにある。
本発明によれば、前述の目的は、単一の光導電層として
のシリコン層を有する電子写真用部材に電荷像を形成
し、当該電荷像を現像粉末で現像する可視像形成方法で
あって、電子写真用部材のシリコン層の厚さが0.5〜3
μmであり、現像は105オーム・メートルを下回る抵抗
率を有する一成分現像粉末により実施され、前述のシリ
コン層はa−Si:Hから実質的に造られていることを特徴
とする可視像形成方法により達成される。
本発明の可視像形成方法においては、実質的にa−Si:H
から造られたシリコン層の単一層からなる光導電層を有
する電子写真用部材に電荷像を形成するが故に、暗放電
率を減少させて、前述のシリコン層の暗減衰を低減させ
得、現像する際に105オーム・メートルを下回る抵抗率
を有する一成分現像粉末を用いた場合には優れたコピー
を得ることができ、また、電子写真用部材のシリコン層
が薄いため電子写真工程で可撓性の電子写真用ベルトの
使用を可能にし得る。即ち本発明の可視像形成方法は、
光導電層の暗減衰を低減させ得、優れたコピーの形成を
可能にすると共に、電子写真工程で可撓性の電子写真用
ベルトの使用を可能にし得る。
アモルファス水素化シリコン層は、ラジオ周波数電界の
影響下でシランからシリコンを支持体上に堆積させるこ
とによって形成され得る。シランに例えばジボランなど
の1種以上の他の水素化物を混合することによって、シ
ランに比較的少量の他の元素を含有させることも可能で
ある。
本発明は、3μmを下回る厚さのアモルファス水素化シ
リコン層(a−Si:H)層の暗減衰により厚いアモルファ
ス水素化シリコン層の場合よりはるかに軽微であるとい
う発見に基くものである。
最大荷電の比率で表わせば、厚さ2.5μmのアモルファ
ス水素化シリコン層の暗減衰は、同一組成を有する厚さ
20μmの層の約1/5であることが判明した。また、3μ
mを下回る厚みのアモルファス水素化シリコン層の厚さ
1μm当りのボルトで表わされる最大荷電レベルがより
厚い層の最大荷電レベルをはるかに上回ることも判明し
た。
本発明方法においては、電子写真用部材のアモルファス
水素化シリコン層の厚さを減じることによって、厚み1
μm当りのボルトで表わされる最大荷電レベルが上昇す
るにもかかわらず、アモルファス水素化シリコン層の絶
対荷電レベルは比較的低いという結果が得られる。比較
的低い荷電レベルの電荷像を適当な速度で現像し得るた
めには、先に示したような一成分現像粉末としての導電
性の現像粉末を用いなければならない。考えられる用途
におけるこのような制約に対して、本発明による方法は
必要に応じて可撓性の電子写真用ベルトが用いられ得る
という利点を有する。この利点は薄いアモルファス水素
化シリコン層を使用することによって電子写真工程にお
ける前述のベルトの屈伸が問題無く許容されることによ
るものである。
本発明を、以下の実施例によって詳述する。
実施例1 アルミニウムから成る支持体を、酸化アルミニウム層、
容量比1:10-4である水素化ケイ素及び水素化ホウ素から
なる蒸気の気相反応によりシリコンを蒸着させることに
よって得られる厚さ2.5μmのアモルファス水素化シリ
コン層、並びにシリコン窒化物から成る厚さ0.2μmの
最上層で順次被覆し、100ボルトまで荷電させた。5秒
後、電位は90ボルトに降下した。画像露光し、抵抗率10
3オーム・メートルの一成分現像粉末としての導電性の
現像粉末で現像することによって、黒色の画像部分と白
色の背景とから成る優れたコピーが得られた。
上記と同一の構成を有するが、アモルファス水素化シリ
コン層の厚さが20μmである電子写真用部材は、最大充
電後5秒以内にその電荷の57%を失った。
実施例2 実施例1の場合と同一の構成を有するがアモルファス水
素化シリコン層の厚みが1.1μmである電子写真用部材
を60ボルトにまで充電したところ、5秒後において暗所
での上記部材の電荷はその93%がなお残留することが判
明した。
この部材においても、画像露光し、抵抗率103オーム・
メートルの導電性の現像粉末で現像すると、黒色の画像
部分と白色の背景とから成る優れたコピーが得られた。
導電性の現像粉末の抵抗率は、次のようにして決定し
た。黄銅から成る底と絶縁プラスチックから成る側壁と
を有する四角形のトレイに、縁まで現像粉末を満した。
上述のトレイの底の内側面積は9.6cm2であり、内側高さ
は2cmであった。トレイの開口を、該開口に正確に適合
する130gの導電性の蓋で塞いだ。トレイの底並びに蓋を
10ボルトの電源と接続し、得られた回路中の電流を測定
した。底の内側面積と電圧との積をトレイの内側高さと
電流との積で割ることによって、現像粉末の抵抗率を算
出した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−24356(JP,A) 特開 昭59−12448(JP,A) 特開 昭57−115554(JP,A) 特開 昭59−67546(JP,A) 特開 昭59−67540(JP,A) 特開 昭59−84256(JP,A) 特開 昭57−67936(JP,A) 特開 昭55−74567(JP,A) 特開 昭55−118059(JP,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】単一の光導電層としてのシリコン層を有す
    る電子写真用部材に電荷像を形成し、当該電荷像を現像
    粉末で現像する可視像形成方法であって、電子写真用部
    材のシリコン層の厚さが0.5〜3μmであり、現像は105
    オーム・メートルを下回る抵抗率を有する一成分現像粉
    末により実施され、前記シリコン層はa−Si:Hから実質
    的に造られていることを特徴とする可視像形成方法。
JP61000472A 1985-01-08 1986-01-06 可視像形成方法 Expired - Lifetime JPH0727260B2 (ja)

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NL8500039A NL8500039A (nl) 1985-01-08 1985-01-08 Electrofotografische werkwijze voor het vormen van een zichtbaar beeld.
NL8500039 1985-01-08

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JPS61163350A JPS61163350A (ja) 1986-07-24
JPH0727260B2 true JPH0727260B2 (ja) 1995-03-29

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