JPH07272206A - Production of magnetic head - Google Patents
Production of magnetic headInfo
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- JPH07272206A JPH07272206A JP6422694A JP6422694A JPH07272206A JP H07272206 A JPH07272206 A JP H07272206A JP 6422694 A JP6422694 A JP 6422694A JP 6422694 A JP6422694 A JP 6422694A JP H07272206 A JPH07272206 A JP H07272206A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
等に用いられる磁気ヘッドの製造方法に係るものであ
り、特に金属磁性膜を一対の基板で挟持した一対の磁気
コア半体を接合一体化させてなる、いわゆる、ラミネー
トタイプの磁気ヘッドの製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic head used in a video tape recorder or the like, and in particular, a pair of magnetic core halves each having a metallic magnetic film sandwiched between a pair of substrates are joined and integrated. The present invention relates to a so-called laminated type magnetic head manufacturing method.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、ビデオテープレコーダー(以下、
VTRと称する。)等に用いられ、高密度記録再生を行
うことを可能とする磁気ヘッドとして、厚さ1〜5μm
程度の磁性金属薄膜を厚さ100〜200nm程度の絶
縁膜と交互に積層した金属磁性膜を用いた磁気ヘッドが
実用に供せられている。上記磁気ヘッドとしては、セラ
ミクス,結晶化ガラス等の非磁性基板や磁性フェライト
等の磁性基板によって前述の積層磁性膜である金属磁性
膜を挟み込んだ一対の磁気コア半体を、金属磁性膜同士
を突き合わせるようにして接合一体化した、いわゆるラ
ミネートタイプの磁気ヘッドが知られている。2. Description of the Related Art In recent years, video tape recorders (hereinafter referred to as
Called VTR. 1) to 5 μm in thickness as a magnetic head that can be used for high density recording and reproduction.
A magnetic head using a magnetic metal film, in which a magnetic metal thin film having a thickness of about 100 to 200 nm and an insulating film having a thickness of 100 to 200 nm are alternately laminated, is put to practical use. As the magnetic head, a pair of magnetic core halves in which a metal magnetic film which is the above-mentioned laminated magnetic film is sandwiched between a non-magnetic substrate such as ceramics and crystallized glass or a magnetic substrate such as magnetic ferrite is used. There is known a so-called laminate type magnetic head that is joined and integrated by abutting.
【0003】そして、上記のようなラミネートタイプの
磁気ヘッドにおいては、特開平4−225281号公
報、特開平5−203135号公報或いは特開平5−2
56899号公報に示されるように、基板構成材料と金
属磁性膜構成材料の耐摩耗性の差から生じる金属磁性膜
の磁気記録媒体摺動面における偏摩耗を防ぎ、磁気ヘッ
ドの出力低下を防ぐ、或いは磁気ヘッドの耐摩耗性を向
上させる目的で、金属磁性膜を磁気記録媒体摺動方向に
対して斜交して連なるように設けた磁気ヘッドが提案さ
れている。In the laminate type magnetic head as described above, JP-A-4-225281, JP-A-5-203135, or JP-A-5-22 is used.
As disclosed in Japanese Patent No. 56899, uneven wear on a sliding surface of a magnetic recording medium of a metal magnetic film caused by a difference in wear resistance between a substrate constituent material and a metal magnetic film constituent material is prevented, and a reduction in output of a magnetic head is prevented. Alternatively, for the purpose of improving the wear resistance of the magnetic head, there has been proposed a magnetic head in which a metal magnetic film is provided so as to be obliquely continuous in the sliding direction of the magnetic recording medium.
【0004】上記のような磁気ヘッドは、以下のように
して製造される。先ず、金属磁性膜の形成される基板
を、基板と金属磁性膜が交互に配されるように複数積層
して一対の磁気コア半体ブロックを形成する。そして、
上記一対の磁気コア半体ブロックをそれぞれの金属磁性
膜の端面同士を突き合わせるようにして接合一体化す
る。次に、上記接合一体化された磁気コア半体ブロック
を金属磁性膜延在方向に対して所定の角度で交差するよ
うな位置で切断して磁気ヘッド毎に分割し、磁気ヘッド
を完成する。すなわち、形成される磁気ヘッドは、切断
面に金属磁性膜が露呈しているものとなる。The magnetic head as described above is manufactured as follows. First, a plurality of substrates on which a metal magnetic film is formed are laminated so that the substrates and the metal magnetic films are alternately arranged to form a pair of magnetic core half blocks. And
The pair of magnetic core half blocks are joined and integrated so that the end faces of the metal magnetic films are butted against each other. Next, the magnetic core half block integrated and joined is cut at a position intersecting the extending direction of the metal magnetic film at a predetermined angle and divided into magnetic heads to complete a magnetic head. That is, the formed magnetic head has the metal magnetic film exposed on the cut surface.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
にして製造される磁気ヘッドにおいては、ヘッド出力が
あまり良好ではないという不都合が生じている。However, the magnetic head manufactured as described above has a disadvantage that the head output is not very good.
【0006】上記のような磁気ヘッドの製造方法におい
ては、上述のように接合一体化された磁気コア半体ブロ
ックを金属磁性膜延在方向に対して所定の角度で交差す
るような位置で切断し、切断面に金属磁性膜が露呈して
いる磁気ヘッド毎に分割する。すなわち、金属磁性膜の
一部も切断することとなる。このとき、上記切断は、平
均粒径20〜30μmのダイヤモンド砥粒を使用したダ
イヤモンド砥石を用いて行われるのが一般的である。し
かしながら、このような砥石で切断を行うと、切断面が
非常に粗いものとなるため、金属磁性膜中に該金属磁性
膜の透磁率を向上させる目的で磁性金属薄膜間に配され
ている絶縁膜が切断面において破損してしまう。その結
果、金属磁性膜の磁気的な絶縁が破壊され、上記金属磁
性膜内の渦電流損失が増加し、該金属磁性膜内の透磁率
が大幅に低下し、製造される磁気ヘッドのヘッド出力が
あまり良好ではなくなってしまう。In the method of manufacturing a magnetic head as described above, the magnetic core half blocks joined and integrated as described above are cut at a position intersecting the metal magnetic film extending direction at a predetermined angle. Then, it is divided for each magnetic head whose metal magnetic film is exposed on the cut surface. That is, a part of the metal magnetic film is also cut. At this time, the cutting is generally performed using a diamond grindstone using diamond abrasive grains having an average particle diameter of 20 to 30 μm. However, when cutting with such a grindstone, the cut surface becomes very rough. Therefore, in order to improve the magnetic permeability of the metal magnetic film, the insulation provided between the magnetic metal thin films is improved. The membrane breaks at the cut surface. As a result, the magnetic insulation of the metal magnetic film is destroyed, the eddy current loss in the metal magnetic film is increased, the magnetic permeability in the metal magnetic film is significantly reduced, and the head output of the manufactured magnetic head is increased. Is not very good.
【0007】そこで、上記切断面をポリッシング等の手
法により研磨し、該切断面上の破損した絶縁膜を除去し
て製造される磁気ヘッドのヘッド出力を確保する方法が
提案されている。しかしながら、このように切断後に研
磨を行うと、製造工程が増加する上、研磨加工が煩雑な
作業であるため、生産性が低下してしまう。Therefore, a method has been proposed in which the cut surface is polished by a method such as polishing to remove the damaged insulating film on the cut surface to secure the head output of the magnetic head manufactured. However, when polishing is performed after cutting in this manner, the number of manufacturing steps is increased, and the polishing process is a complicated operation, so that productivity is reduced.
【0008】また、上記のようにポリッシング等の手法
により研磨加工する場合、ポリッシング治具へ磁気ヘッ
ドを貼り付ける際の貼り付け高さのばらつきや、研磨深
さの制御が困難であることから、製造される磁気ヘッド
の研磨加工面からギャップエッジまでの距離にばらつき
が生じ、製造歩留りが低下し、生産性が低下する。さら
には、研磨加工装置への取り付けや取り外しの際に磁気
ヘッドが破損することもあり、製造歩留りが低下し、生
産性が低下する。Further, when polishing is performed by a method such as polishing as described above, it is difficult to control the polishing depth and the variation of the attachment height when attaching the magnetic head to the polishing jig. The distance from the polished surface of the manufactured magnetic head to the gap edge varies, which reduces the manufacturing yield and lowers the productivity. Furthermore, the magnetic head may be damaged when it is attached to or removed from the polishing apparatus, which reduces the manufacturing yield and the productivity.
【0009】ところで、上記のようにして製造される磁
気ヘッドをVTRに搭載する場合、互いに磁気ギャップ
のアジマス角の傾きの異なる磁気ヘッドをドラム上に1
80゜相対向して取り付ける。このとき、同一ドラムに
取り付けられた一対の磁気ヘッドにおける、ドラムの磁
気ヘッド搭載面から磁気ヘッドの磁気ギャップのエッジ
までのトラック幅方向の距離、いわゆるトラック高さの
差は、一般に2〜3μm以内が好ましいとされている。
そして、上記のように同一ドラム上に搭載した場合に、
トラック高さの差が2〜3μm以下となるような一対の
磁気ヘッドを得る確率をペア収率と称している。By the way, when the magnetic head manufactured as described above is mounted on a VTR, one magnetic head having different azimuth angles of the magnetic gaps is mounted on the drum.
Install facing each other at 80 °. At this time, in a pair of magnetic heads attached to the same drum, the distance in the track width direction from the magnetic head mounting surface of the drum to the edge of the magnetic gap of the magnetic head, so-called track height difference is generally within 2 to 3 μm. Is said to be preferable.
And when mounted on the same drum as described above,
The probability of obtaining a pair of magnetic heads having a track height difference of 2 to 3 μm or less is called a pair yield.
【0010】ところが、上記のようにして製造される磁
気ヘッドにおいては研磨加工面からギャップエッジまで
の距離にばらつきが生じており、このような磁気ヘッド
をドラムに搭載した場合、トラック高さ精度は磁気ヘッ
ド自体のトラック高さのばらつき(研磨加工面からギャ
ップエッジまでの距離)と、180゜相対向したドラム
の磁気ヘッド搭載面の高さのばらつきの2つの要因に左
右されることとなり、上記のようなペア収率は低いもの
となる。However, in the magnetic head manufactured as described above, the distance from the polished surface to the gap edge varies, and when such a magnetic head is mounted on the drum, the track height accuracy is It depends on two factors, that is, the variation of the track height of the magnetic head itself (the distance from the polished surface to the gap edge) and the variation of the height of the magnetic head mounting surface of the drum facing each other by 180 °. The pair yield is low.
【0011】そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、金属磁性層の透磁率を低下させるこ
となく、接合一体化された磁気コア半体ブロックを切断
して磁気ヘッド毎に分割する、或いは接合一体化された
磁気コア半体を切断して磁気ヘッドを形成し、ヘッド出
力が良好で、寸法精度も安定している磁気ヘッドの製造
を可能とし、上記磁気ヘッドの製造歩留りを良好とし、
生産性も良好とすることのできる磁気ヘッドの製造方法
を提供することを目的とする。Therefore, the present invention has been proposed in view of the conventional circumstances, and the magnetic core half blocks integrally joined together are cut by cutting each magnetic head without lowering the magnetic permeability of the metal magnetic layer. It is possible to manufacture a magnetic head having good head output and stable dimensional accuracy by cutting a magnetic core half body that is divided into or integrated with each other to form a magnetic head. Yield is good,
It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a magnetic head which can improve productivity.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明者等が鋭意検討した結果、接合一体化された
磁気コア半体ブロック或いは磁気コア半体を切断する
際、砥石に使用される砥粒の粒径を規定することによ
り、切断面の金属磁性膜内の絶縁膜の破損を防止できる
ことを見い出した。また、上記砥石の回転速度や被切断
物である磁気コア半体ブロック或いは磁気コア半体の送
り速度を規定することにより、上記のような絶縁膜の破
損を更に防止できることも見い出した。なお、砥石に使
用される砥粒の粒径や砥石の回転速度、被切断物の磁気
コア半体ブロック或いは磁気コア半体の送り速度は、基
板として一般的に用いられるフェライトの脆性破壊が実
質的に伴わない塑性流動を応用した延性モードとなる範
囲とすることが好ましいことも見い出した。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies made by the present inventors in order to achieve the above object, as a result of use in a grindstone when cutting a magnetic core half block or a magnetic core half body integrated and joined. It was found that the damage of the insulating film in the metal magnetic film on the cut surface can be prevented by defining the grain size of the abrasive grains to be formed. It has also been found that the damage to the insulating film as described above can be further prevented by defining the rotational speed of the grindstone and the feed speed of the magnetic core half block or the magnetic core half that is the object to be cut. The grain size of the abrasive grains used in the grindstone, the rotation speed of the grindstone, and the feed speed of the magnetic core half block or magnetic core half of the object to be cut are such that the brittle fracture of ferrite generally used as a substrate is substantially It has also been found that it is preferable to set the range to be a ductile mode in which plastic flow that does not accompany is applied.
【0013】すなわち、本発明は、一対の基板により金
属磁性膜が膜厚方向より挟み込まれてなる一対の磁気コ
ア半体を、それぞれの金属磁性膜の端面同士を突き合わ
せるようにして接合一体化した後、上記接合一体化され
た磁気コア半体を金属磁性膜延在方向に対して所定の角
度で交差するような位置で切断し、切断面に金属磁性膜
が露呈している磁気ヘッドを形成する磁気ヘッドの製造
方法において、接合一体化された磁気コア半体の切断
が、平均粒径が2μm以上,6μ以下の砥粒を使用した
砥石を用いて行われることを特徴とするものである。That is, according to the present invention, a pair of magnetic core halves, in which a metal magnetic film is sandwiched between a pair of substrates in the film thickness direction, are joined and integrated so that the end faces of the respective metal magnetic films are butted against each other. After that, the magnetic core halves that have been joined and integrated are cut at a position that intersects with the extending direction of the metal magnetic film at a predetermined angle, and a magnetic head in which the metal magnetic film is exposed on the cut surface is formed. In the method of manufacturing a magnetic head to be formed, cutting of the magnetic core halves integrally joined and bonded is performed by using a grindstone using abrasive grains having an average grain size of 2 μm or more and 6 μm or less. is there.
【0014】本発明の磁気ヘッドの製造方法において、
砥石に使用される砥粒の平均粒径が2μm未満である
と、切断速度が遅くなりすぎる上、砥石が目詰まりし易
くなる。一方、砥粒の平均粒径が6μmよりも大である
と、フェライトの延性モードから外れ、金属磁性膜の絶
縁層の破損が生じてしまう。なお、砥石として粒径が6
μmよりも大であるものが存在すると、フェライトの延
性モードでの切断が困難となるため、砥石としては最大
粒径が6μm以下のものを用いることが好ましい。さら
には、切断面の表面粗さを均一なものとするために、砥
石として上記範囲の平均粒径を有し、なるべく均一な粒
径を有するものを用いることが好ましい。In the method of manufacturing the magnetic head of the present invention,
If the average grain size of the abrasive grains used in the grindstone is less than 2 μm, the cutting speed becomes too slow and the grindstone is likely to be clogged. On the other hand, if the average grain size of the abrasive grains is larger than 6 μm, the ferrite is out of the ductility mode, and the insulating layer of the metal magnetic film is damaged. The grain size of the grindstone is 6
The presence of particles larger than μm makes it difficult to cut the ferrite in the ductile mode. Therefore, it is preferable to use a grindstone having a maximum particle size of 6 μm or less. Further, in order to make the surface roughness of the cut surface uniform, it is preferable to use a grindstone having an average particle diameter in the above range and having a particle diameter as uniform as possible.
【0015】また、上記砥石は、上記のような砥粒を、
メタル焼結、メタルレジン或いは電鋳などの金属系ボン
ドにより結合させることにより得ることができる。上記
メタルボンドとしては、被切断物の性質等により異なる
が、一般に砥石表示硬度でN硬度の金属系ボンドを使用
することが好ましい。また、砥粒の集中度は、被切断物
の性質等により異なるが、一般には100程度が好まし
い。ただし、メタルボンドの硬度或いは砥粒の集中度は
上記範囲に限られるものではない。Further, the above-mentioned grindstone contains the above-mentioned abrasive grains.
It can be obtained by bonding with a metal-based bond such as metal sintering, metal resin or electroforming. As the above-mentioned metal bond, it is generally preferable to use a metal-based bond having N-hardness as indicated by a grindstone, though it varies depending on the property of the material to be cut. The degree of concentration of abrasive grains varies depending on the nature of the material to be cut, etc., but is generally preferably about 100. However, the hardness of the metal bond or the degree of concentration of the abrasive grains is not limited to the above range.
【0016】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法にお
いては、接合一体化された磁気コア半体の切断の際の砥
石の回転速度を2000m/min以上,5000m/
min以下とし、接合一体化された磁気コア半体の送り
速度を20mm/min以上,80mm/min以下と
することが好ましい。Further, in the method of manufacturing a magnetic head of the present invention, the rotational speed of the grindstone at the time of cutting the magnetic core half body integrated and joined is 2000 m / min or more and 5000 m / min or more.
It is preferable that the feed rate of the magnetic core halves joined and integrated is 20 mm / min or more and 80 mm / min or less.
【0017】上記砥石の回転速度を上記範囲外とする、
或いは接合一体化された磁気コア半体の送り速度を上記
範囲外とすると、フェライトの延性モードから外れ、金
属磁性膜の絶縁層の破損が生じやすくなるため、好まし
くない。The rotational speed of the grindstone is out of the above range,
Alternatively, if the feeding speed of the magnetic core halves integrally joined is out of the above range, the ferrite core is out of the ductility mode, and the insulating layer of the metal magnetic film is easily damaged, which is not preferable.
【0018】さらに、本発明の磁気ヘッドの製造方法に
おいては、砥石に使用される砥粒として、ダイヤモンド
砥粒或いはキュービックボロンナイトライド砥粒を使用
することが好ましい。Further, in the method of manufacturing a magnetic head of the present invention, it is preferable to use diamond abrasive grains or cubic boron nitride abrasive grains as the abrasive grains used for the grindstone.
【0019】[0019]
【作用】本発明の磁気ヘッドの製造方法においては、金
属磁性膜の端面同士を突き合わせるように接合一体化し
た磁気コア半体を金属磁性膜延在方向に対して所定の角
度で交差するような位置で切断する際、平均粒径が2μ
m以上,6μm以下の砥粒を使用した砥石を用いるた
め、切断面の金属磁性膜内の絶縁層が破損し難い。な
お、このとき、上記砥石の回転速度を2000m/mi
n以上,5000m/min以下とし、上記接合一体化
された磁気コア半体の送り速度を20mm/min以
上,80mm/min以下とすれば、上記絶縁層の破損
が更に発生し難くなる。また、本発明の磁気ヘッドの製
造方法においては、磁気ヘッドの切断面に研磨加工等を
施さないことから、磁気ヘッドの切断面からギャップエ
ッジまでの距離にばらつきが生じ難く、寸法精度の安定
した磁気ヘッドが形成される。In the method of manufacturing a magnetic head of the present invention, the magnetic core halves integrally joined so that the end faces of the metal magnetic film are butted against each other are intersected at a predetermined angle with respect to the extending direction of the metal magnetic film. When cutting at any position, the average particle size is 2μ
Since the grindstone using the abrasive grains of m or more and 6 μm or less is used, the insulating layer in the metal magnetic film on the cut surface is unlikely to be damaged. At this time, the rotation speed of the grindstone was set to 2000 m / mi.
If the feeding speed of the magnetic core halves joined and integrated is 20 mm / min or more and 80 mm / min or less, the insulating layer is less likely to be damaged. Further, in the method of manufacturing a magnetic head of the present invention, since the cut surface of the magnetic head is not subjected to polishing or the like, the distance from the cut surface of the magnetic head to the gap edge is less likely to vary, and the dimensional accuracy is stable. A magnetic head is formed.
【0020】[0020]
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments to which the present invention is applied will be described in detail below with reference to the drawings.
【0021】実験例 1 先ず、切断方法と金属磁性膜の透磁率の関係について調
査した。すなわち、図1に示すような一対の基板1,2
により金属磁性膜3が挟み込まれてなるダミー基板4を
作製し、このダミー基板4の金属磁性膜3の露呈する相
対向する側面4a,4bに各種切断加工を施し、加工後
の側面4a,4bの表面状態を目視により観察し、また
金属磁性膜3の透磁率を測定した。なお、基板1,2と
しては結晶化ガラスを使用し、金属磁性膜3としては3
μmの膜厚のセンダストよりなる磁性金属薄膜を0.2
μmの膜厚のSiO2 よりなる絶縁膜を介して5層重ね
たものを使用した。 Experimental Example 1 First, the relationship between the cutting method and the magnetic permeability of the metal magnetic film was investigated. That is, the pair of substrates 1 and 2 as shown in FIG.
A dummy substrate 4 in which the metal magnetic film 3 is sandwiched by is produced, various side faces 4a and 4b of the dummy substrate 4 which are exposed to each other are subjected to various cutting processes, and the side faces 4a and 4b after the process are performed. The surface condition of the above was visually observed, and the magnetic permeability of the metal magnetic film 3 was measured. It should be noted that crystallized glass is used for the substrates 1 and 2 and 3 for the metal magnetic film 3.
A magnetic metal thin film made of sendust with a thickness of μm is 0.2
Five layers were used with an insulating film made of SiO 2 having a thickness of μm interposed therebetween.
【0022】そして、切断加工を、平均粒径が2〜6μ
mのダイヤモンド砥粒を使用したダイヤモンド砥石を使
用し、上記砥石を2000m/min以上,5000m
/min以下の速度で回転させ、被切断物であるダミー
基板を20mm/min以上,80mm/min以下の
送り速度で送り出して行ったダミー基板をサンプル1と
した。Then, the cutting process is performed so that the average particle size is 2 to 6 μm.
Using a diamond grindstone using m diamond abrasive grains, the above grindstone is 2000 m / min or more, 5000 m
Sample 1 was a dummy substrate that was rotated at a speed of / min or less and sent out a dummy substrate that is an object to be cut at a feed rate of 20 mm / min or more and 80 mm / min or less.
【0023】また、平均粒径が20〜30μmのダイヤ
モンド砥粒を使用したダイヤモンド砥石を使用し、該砥
石の回転速度,ダミー基板の送り速度をサンプル1と同
様にして切断加工した後、切断面をポリッシングしたダ
ミー基板をサンプル2とした。Further, a diamond grindstone containing diamond abrasive grains having an average particle size of 20 to 30 μm was used, and the cutting speed was changed in the same manner as in Sample 1, and the cutting speed was changed. A dummy substrate obtained by polishing was used as Sample 2.
【0024】なお、上記ポリッシングは、図2に示すよ
うな装置により行われる。すなわち、先ず、ポッリシン
グ治具5に被加工物である図示しないダミー基板をポリ
ッシング治具5の加工面5aにダミー基板の加工面が臨
むようにワックス等の接着剤により取り付ける。さら
に、上記ポリッシング治具5の加工面5aが研磨定盤7
の研磨面7aに接するように、該ポリッシング治具5を
図中M1 方向に回動可能な保持装置6に取り付ける。な
お、研磨定盤7の研磨面7aは錫により構成され、平均
粒径1μmのダイヤモンド砥粒を配合したポリッシング
液が研磨面7aに供給されている。そして、研磨定盤7
を図中矢印M2 方向に回転させるとともに、保持装置6
を図中M1 方向に回動させる。その結果、ポリッシング
治具5は図中矢印M3 方向に回動し、ポリッシング治具
5に取り付けられた被加工物であるダミー基板の加工面
がポリッシング液中のダイヤモンド砥粒により研磨され
る。The polishing is performed by a device as shown in FIG. That is, first, a dummy substrate (not shown), which is a workpiece, is attached to the polishing jig 5 with an adhesive such as wax so that the processed surface of the dummy substrate faces the processed surface 5a of the polishing jig 5. Further, the processing surface 5a of the polishing jig 5 is the polishing surface plate 7
The polishing jig 5 is attached to the holding device 6 which is rotatable in the M 1 direction in the figure so as to come into contact with the polishing surface 7 a. The polishing surface 7a of the polishing platen 7 is made of tin, and a polishing liquid containing diamond abrasive grains having an average particle diameter of 1 μm is supplied to the polishing surface 7a. And polishing surface plate 7
Is rotated in the direction of the arrow M 2 in the drawing, and the holding device 6
Is rotated in the direction M 1 in the figure. As a result, the polishing jig 5 rotates in the direction of the arrow M 3 in the figure, and the processed surface of the dummy substrate, which is the workpiece attached to the polishing jig 5, is polished by the diamond abrasive grains in the polishing liquid.
【0025】さらに、平均粒径が20〜30μmのダイ
ヤモンド砥粒を使用したダイヤモンド砥石を使用し、該
砥石の回転速度,ダミー基板の送り速度をサンプル1と
同様にして切断加工したダミー基板をサンプル3とし
た。Further, using a diamond grindstone containing diamond abrasive grains having an average particle size of 20 to 30 μm, a dummy substrate cut and processed in the same manner as in Sample 1 at the rotational speed of the grindstone and the feeding speed of the dummy substrate is used as a sample. It was set to 3.
【0026】これらサンプル1〜3の切断加工を施され
た側面4a,4bの表面状態を観察したところ、サンプ
ル1及びサンプル2においては、平滑な面となされてい
た。一方、サンプル3においては、表面粗さの粗い面と
なされていた。Observation of the surface state of the side surfaces 4a, 4b of the cut samples 1 to 3 revealed that the samples 1 and 2 were smooth. On the other hand, in Sample 3, the surface was rough.
【0027】また、サンプル1〜3の金属磁性膜の透磁
率を測定した結果を図3に示す。図中横軸は周波数を示
し、縦軸は透磁率を示す。また、図中実線はサンプル1
及びサンプル2の結果を示し、図中一点鎖線はサンプル
3の結果を示す。The results of measuring the magnetic permeability of the metal magnetic films of Samples 1 to 3 are shown in FIG. In the figure, the horizontal axis represents frequency and the vertical axis represents magnetic permeability. The solid line in the figure is sample 1.
And the results of Sample 2 are shown, and the alternate long and short dash line in the figure shows the result of Sample 3.
【0028】図3を見てわかるように、サンプル1は、
切断加工の後に切断面の金属磁性膜内の絶縁層の破損部
分をポリッシングにより除去して磁気的な絶縁を確保し
たサンプル2と同等の透磁率を示した。一方、サンプル
3においては、砥石に使用される砥粒の粒径が大きく、
切断面が表面粗さの粗い面となってしまうため、切断面
の金属磁性膜内の絶縁層に破損が生じ、金属磁性膜の透
磁率も大幅に低下していることが確認された。As can be seen from FIG. 3, the sample 1 is
After the cutting process, the damaged portion of the insulating layer in the metal magnetic film on the cut surface was removed by polishing to show magnetic permeability equivalent to that of Sample 2 in which magnetic insulation was secured. On the other hand, in Sample 3, the grain size of the abrasive grains used for the grindstone is large,
It was confirmed that the cut surface becomes a surface having a rough surface, so that the insulating layer in the metal magnetic film on the cut surface was damaged, and the magnetic permeability of the metal magnetic film was significantly reduced.
【0029】すなわち、サンプル1のように切断加工を
平均粒径が2〜6μmのダイヤモンド砥粒を使用したダ
イヤモンド砥石を使用して行うと、切断面の金属磁性膜
内の絶縁層が破損し難く、磁気的な絶縁が確保されるた
め、金属磁性膜の透磁率が良好なものとなることが確認
された。That is, when the cutting process as in Sample 1 is performed using a diamond grindstone using diamond abrasive grains having an average particle size of 2 to 6 μm, the insulating layer in the metal magnetic film on the cut surface is less likely to be damaged. It was confirmed that the magnetic permeability of the metal magnetic film was good because magnetic insulation was ensured.
【0030】さらに、サンプル1の切断加工に使用した
ダイヤモンド砥石を用い、砥石の回転速度,被切断物で
あるダミー基板の送り速度を変化させて切断加工を行っ
てみたところ、砥石の回転速度が2000m/min以
上,5000m/min以下の範囲を外れる、或いはダ
ミー基板の送り速度が20mm/min以上,80mm
/min以下の範囲を外れると、粗い研磨粉により切断
面の金属磁性膜内の絶縁層に破損が生じ、金属磁性膜の
透磁率も大幅に低下することが確認された。Further, when the diamond grindstone used for cutting the sample 1 was used to perform cutting by changing the rotation speed of the grindstone and the feed speed of the dummy substrate which is the object to be cut, the rotation speed of the grindstone was found to be Out of the range of 2000 m / min or more and 5000 m / min or less, or the feed rate of the dummy substrate is 20 mm / min or more, 80 mm
It has been confirmed that when the ratio is out of the range of / min or less, the coarse polishing powder causes damage to the insulating layer in the metal magnetic film on the cut surface, and the magnetic permeability of the metal magnetic film is significantly reduced.
【0031】すなわち、サンプル1においては、切断加
工を砥石の回転速度を2000m/min以上,500
0m/min以下とし、被切断物であるダミー基板の送
り速度を20mm/min以上,80mm/min以下
として行っていることから、絶縁層の破損が更に発生し
難くなり、金属磁性膜の透磁率が良好なものとなってい
る。That is, in Sample 1, the cutting process was performed at a rotational speed of the grindstone of 2000 m / min or more and 500
Since the cutting speed is set to 0 m / min or less and the feed rate of the dummy substrate, which is the object to be cut, is set to 20 mm / min or more and 80 mm / min or less, the insulating layer is less likely to be damaged, and the magnetic permeability of the metal magnetic film is reduced. Is good.
【0032】実験例2 次に、実験例1で述べた各種切断方法により、接合一体
化された磁気コア半体を切断して磁気ヘッドを製造し、
これら磁気ヘッドのヘッド出力を測定した。なお、本実
験例においては、磁気コア半体ブロックを接合一体化し
た後に切断し、磁気ヘッド毎に分割して製造するものと
した。 Experimental Example 2 Next, according to the various cutting methods described in Experimental Example 1, the magnetic core half body joined and integrated was cut to manufacture a magnetic head.
The head output of these magnetic heads was measured. In this experimental example, the magnetic core half blocks were joined and integrated, then cut, and divided into magnetic heads for manufacture.
【0033】本実験例で作製した磁気ヘッドは、図4及
び図5に示すように、金属磁性膜11,12がその膜厚
方向より第1の基板13,14と第2の基板15,16
によって挟み込まれてなる一対の磁気コア半体17,1
8からなり、これら磁気コア半体17,18が上記金属
磁性膜11,12同士を突合わせるようにして融着ガラ
ス19により接合一体化されて構成されている。このと
き、上記金属磁性膜11,12は、図中矢印Mで示す媒
体摺動方向に対して角度θ1 で斜交して略一直線状に連
なるようになされている。そして、上記金属磁性膜1
1,12の突き合わせ面間には、所定のアジマス角θ
2 ,トラック幅Tw(本実験例においては13μm)を
有する磁気ギャップgが形成されている。In the magnetic head manufactured in this experimental example, as shown in FIGS. 4 and 5, the metal magnetic films 11 and 12 are arranged in the first substrate 13, 14 and the second substrate 15, 16 in the film thickness direction.
A pair of magnetic core halves 17, 1 sandwiched by
The magnetic core halves 17 and 18 are joined and integrated by a fused glass 19 so that the metal magnetic films 11 and 12 are abutted against each other. At this time, the metal magnetic films 11 and 12 are arranged so as to be continuous in a substantially straight line obliquely intersecting with the medium sliding direction indicated by an arrow M at an angle θ 1 . Then, the metal magnetic film 1
Between the abutting surfaces of 1 and 12, a predetermined azimuth angle θ
2 , a magnetic gap g having a track width Tw (13 μm in this experimental example) is formed.
【0034】上記のように磁気コア半体17,18は、
主コアとなる金属磁性膜11,12とこれを膜厚方向よ
り挾み込む第1の基板13,14と第2の基板15,1
6とから構成され、該第2の基板15,16の一主面に
被着形成される金属磁性膜11,12を挾み込むように
して第1の基板13,14が積層されることにより接合
一体化されている。As described above, the magnetic core halves 17 and 18 are
Metal magnetic films 11 and 12 to be main cores, and first and second substrates 13 and 14 and 15 and 1 sandwiching the metal magnetic films 11 and 12 from the thickness direction.
The first substrates 13 and 14 are laminated so as to sandwich the metal magnetic films 11 and 12 formed on the first main surface of the second substrates 15 and 16 and bonded together to form an integrated unit. Has been converted.
【0035】上記基板13,14,15,16として
は、セラミクス或いは結晶化ガラス等の非磁性基板や磁
性フェライト等の磁性基板が挙げられる。なお、本実験
例においては、磁性フェライトよりなる磁性基板とし
た。Examples of the substrates 13, 14, 15 and 16 include non-magnetic substrates such as ceramics or crystallized glass, and magnetic substrates such as magnetic ferrite. In this experimental example, a magnetic substrate made of magnetic ferrite was used.
【0036】上記金属磁性膜11,12は、高周波特性
を向上させる目的で膜厚の薄い磁性金属薄膜が絶縁膜を
介して積層されてなる積層メタル膜とされている。The metal magnetic films 11 and 12 are laminated metal films in which thin magnetic metal thin films are laminated via an insulating film for the purpose of improving high frequency characteristics.
【0037】上記磁性金属薄膜を構成する材料として
は、製造工程中のガラス接合に対応できる耐熱性に優れ
たものが良く、センダスト(Fe−Al−Si)或いは
Fe−Ru−Ga−Si、又はこれらにO,N等を添加
した結晶質磁性金属材料或いはFe系又はCo系の微結
晶磁性金属材料等が挙げられる。また、上記磁性金属薄
膜の膜厚は、高周波特性の向上のために1層当たり2〜
5μmとすることが望ましい。As a material for forming the magnetic metal thin film, a material having excellent heat resistance capable of coping with glass bonding in the manufacturing process is preferable, and sendust (Fe-Al-Si) or Fe-Ru-Ga-Si, or Examples thereof include a crystalline magnetic metal material in which O, N, etc. are added, or a Fe-based or Co-based microcrystalline magnetic metal material. In addition, the thickness of the magnetic metal thin film is 2 to 1 layer for improving high frequency characteristics.
It is desirable that the thickness is 5 μm.
【0038】また、一方の絶縁膜としては、例えばSi
O2 ,Ta2 O5 等の酸化物膜やSi3 N4 等の窒化物
膜等が使用される。上記絶縁膜の膜厚としては、例えば
0.1〜0.3μm程度が好ましい。As one insulating film, for example, Si
An oxide film such as O 2 or Ta 2 O 5 or a nitride film such as Si 3 N 4 is used. The thickness of the insulating film is preferably about 0.1 to 0.3 μm, for example.
【0039】なお、本実験例においては、磁性金属薄膜
として一般的なセンダスト膜、絶縁膜としてSiO2 膜
を使用した。そして、一層あたりの磁性金属薄膜を3μ
mとし、絶縁膜を0.2μmとして5層積層したものを
金属磁性膜11,12とした。In this experimental example, a general sendust film was used as the magnetic metal thin film, and a SiO 2 film was used as the insulating film. And 3μ of magnetic metal thin film per layer
m, the insulating film was 0.2 μm, and five layers were laminated to form metal magnetic films 11 and 12.
【0040】そして、本実験例の磁気ヘッドにおいて
は、磁気ギャップgのトラック幅Twを規制する(本実
験例においてはTwは13μm)ために、磁気コア半体
17,18の突き合わせ面に第1の基板13,14及び
第2の基板15,16、金属磁性膜11,12を切り欠
くようなトラック幅規制溝20a,20b,21a,2
1bが設けられており、これらによる溝部にも融着ガラ
ス19が充填されている。すなわち、上記金属磁性膜1
1,12は、磁気ギャップg近傍においてはその一部が
トラック幅規制溝20a,20b,21a,21bによ
り切り欠かれるため、膜厚方向の厚さがトラック幅Tw
と同一とされている。In the magnetic head of the present experimental example, in order to regulate the track width Tw of the magnetic gap g (Tw is 13 μm in the present experimental example), the first abutting surface of the magnetic core halves 17 and 18 is first. Track width regulating grooves 20a, 20b, 21a, 2 which are formed by cutting out the substrates 13, 14 and the second substrates 15, 16 and the magnetic metal films 11, 12.
1b is provided, and the fused glass 19 is also filled in the groove formed by these. That is, the metal magnetic film 1
In the vicinity of the magnetic gap g, portions 1 and 12 are notched by the track width regulating grooves 20a, 20b, 21a and 21b, so that the thickness in the film thickness direction is the track width Tw.
Is the same as.
【0041】さらに、磁気コア半体17,18の突き合
わせ面側にはコイル巻装用の巻き線溝22,23、ガラ
ス溝24,25が設けられており、磁気コア半体17,
18の接合強度を確保するため、これらの間にも融着ガ
ラス19が溶融充填されている。また、この磁気ヘッド
においては、媒体と摺接する媒体摺動面の両側に段差部
26a,26bが設けられ、媒体に対する当たり幅Hが
規制されるとともに、巻線溝22,23に巻装されるコ
イルの巻装状態を良好なものとなすためにこの巻線溝2
2,23と相対向する位置に巻線補助溝27,28が形
成されている。Further, winding grooves 22, 23 for coil winding and glass grooves 24, 25 are provided on the abutting surfaces of the magnetic core halves 17, 18, respectively.
In order to secure the bonding strength of 18, the fused glass 19 is also melt-filled between them. Further, in this magnetic head, step portions 26a and 26b are provided on both sides of the medium sliding surface that is in sliding contact with the medium, the contact width H against the medium is regulated, and the magnetic head is wound around the winding grooves 22 and 23. This winding groove 2 is used to improve the winding condition of the coil.
Winding auxiliary grooves 27, 28 are formed at positions facing the Nos. 2, 23, respectively.
【0042】すなわち、本実験例の磁気ヘッドにおいて
は、金属磁性膜11,12が図中矢印Mで示す媒体摺動
方向に対して所定の角度θ1 を有して斜交して連なるた
め、磁気コア半体17,18の媒体摺動面17a,18
aの媒体摺動部分における金属磁性膜11,12の占め
る割合が、比較的小さくなり、耐摩耗性が向上される。That is, in the magnetic head of this experimental example, since the metal magnetic films 11 and 12 are obliquely connected to each other at a predetermined angle θ 1 with respect to the medium sliding direction shown by an arrow M in the figure, Medium sliding surfaces 17a, 18 of the magnetic core halves 17, 18
The ratio of the metal magnetic films 11 and 12 in the medium sliding portion of a is relatively small, and the wear resistance is improved.
【0043】次いで、前述した図4および図5に示す磁
気ヘッドを製造する方法について工程順に従って説明す
る。先ず、図6に示すように、磁性フェライトよりなる
基板31を用意し、この基板31の両面をポリッシング
加工等によって鏡面加工する。次に、図7に示すよう
に、上記基板31の一方の面に、スパッタリング等によ
り金属磁性膜32を被着形成する。Next, a method of manufacturing the above-described magnetic head shown in FIGS. 4 and 5 will be described in the order of steps. First, as shown in FIG. 6, a substrate 31 made of magnetic ferrite is prepared, and both surfaces of the substrate 31 are mirror-finished by polishing or the like. Next, as shown in FIG. 7, a metal magnetic film 32 is deposited on one surface of the substrate 31 by sputtering or the like.
【0044】上記金属磁性膜32を形成するに際して
は、基板31との付着力向上等のために、基板31上に
下地膜を予め形成しておいても良く、該下地膜として
は、SiO2 ,Ta2 O5 等の酸化物膜、Si3 N4 等
の窒化物膜、Cr,Al,Si,Pt等の金属膜及びそ
れらの合金膜、或いはそれらを組合わせた積層膜等が使
用される。なお、本実験例においては、膜厚50nmの
SiO2 膜を使用した。When the metal magnetic film 32 is formed, a base film may be formed in advance on the substrate 31 in order to improve the adhesive force with the substrate 31, and the base film is SiO 2 , An oxide film such as Ta 2 O 5 , a nitride film such as Si 3 N 4 , a metal film such as Cr, Al, Si and Pt and an alloy film thereof, or a laminated film combining them. It In this experimental example, a SiO 2 film having a film thickness of 50 nm was used.
【0045】そして、金属磁性膜32は、高周波特性を
向上させるために、SiO2 よりなる絶縁膜を介して膜
厚の薄いセンダストよりなる磁性金属薄膜を何層にも積
層することにより形成する。なお、本実験例の磁気ヘッ
ドを形成するに際しては、膜厚0.2μmの絶縁膜を介
して一層あたりの膜厚3μmの磁性金属薄膜を5層重ね
た。The metal magnetic film 32 is formed by stacking a number of magnetic metal thin films made of sendust having a small thickness with an insulating film made of SiO 2 interposed therebetween in order to improve high frequency characteristics. When forming the magnetic head of this experimental example, five magnetic metal thin films each having a film thickness of 3 μm were stacked with an insulating film having a film thickness of 0.2 μm interposed therebetween.
【0046】なお、上記金属磁性膜32の厚さは、後工
程において、該金属磁性膜32の膜厚を規定するトラッ
ク幅規制溝を形成する必要があることから、所望のトラ
ック幅の1.2〜3倍程度の厚さとする必要がある。The thickness of the metal magnetic film 32 is set to a desired track width of 1. because it is necessary to form a track width regulating groove for defining the film thickness of the metal magnetic film 32 in a later step. It is necessary to make the thickness about 2-3 times.
【0047】さらに、上記基板31上の金属磁性膜32
の上及びその反対面上に、図8に示すように低融点ガラ
ス膜33a,33bを成膜する。このとき、金属磁性膜
32及び基板31と低融点ガラス膜33a,33bの反
応防止等を目的として金属磁性膜32及び基板31と低
融点ガラス膜33の間に下地膜を形成しても良く、該下
地膜としては、SiO2 ,Ta2 O5 等の酸化物膜、S
i3 N4 等の窒化物膜、Cr,Al,Pt等の金属膜及
びこれらの合金膜、或いはそれらを組合わせた積層膜等
が使用できる。なお、本実験例においては、下地膜とし
て膜厚0.1μmのCr膜を形成した。Further, the metal magnetic film 32 on the substrate 31
As shown in FIG. 8, low melting point glass films 33a and 33b are formed on the upper surface and the opposite surface thereof. At this time, a base film may be formed between the metal magnetic film 32 and the substrate 31 and the low melting point glass film 33 for the purpose of preventing the reaction between the metal magnetic film 32 and the substrate 31 and the low melting point glass films 33a and 33b. As the underlayer film, an oxide film such as SiO 2 , Ta 2 O 5 or S
A nitride film of i 3 N 4 or the like, a metal film of Cr, Al, Pt or the like, an alloy film of these, or a laminated film combining them can be used. In this experimental example, a Cr film having a thickness of 0.1 μm was formed as a base film.
【0048】上記低融点ガラス膜33a,33bとして
は、低融点ガラスをスパッタリングして形成したもの、
或いはフリットガラスをスピンコーティング等によって
塗布して形成したものが使用でき、その膜厚としては、
0.1μm〜0.5μmが好ましい。本実験例において
は、低融点ガラス膜33a,33bを膜厚0.2μmの
PbO系の低融点ガラスをスパッタリングによって形成
するものとした。The low melting point glass films 33a and 33b are formed by sputtering low melting point glass,
Alternatively, the one formed by applying frit glass by spin coating or the like can be used.
0.1 μm to 0.5 μm is preferable. In this experimental example, the low-melting glass films 33a and 33b were formed by sputtering PbO-based low-melting glass having a thickness of 0.2 μm.
【0049】なお、本実験例においては、低融点ガラス
膜33を基板31の両面に形成したが、上記低融点ガラ
ス膜33はどちらか一方の面のみに形成すれば良い。Although the low melting point glass films 33 are formed on both sides of the substrate 31 in this experimental example, the low melting point glass films 33 may be formed on only one side.
【0050】そして、上記のように金属磁性膜32及び
低融点ガラス膜33の形成された基板31を図9に示す
ように(以降、低融点ガラス膜33の図示は省略す
る。)基板31と金属磁性膜32が交互に配されるよう
に複数積層し、加圧しながら500℃〜700℃に加熱
して複数の基板31の接合を行い、磁気コアブロック3
4を形成する。このとき、複数の基板31は、図中αで
示す傾斜角を有して積層する。なお、傾斜角αは下記の
式1により求められる角度である。Then, the substrate 31 on which the metal magnetic film 32 and the low melting point glass film 33 are formed as described above is a substrate 31 as shown in FIG. 9 (hereinafter, the low melting point glass film 33 is not shown). A plurality of metal magnetic films 32 are laminated so as to be alternately arranged, and heated to 500 ° C. to 700 ° C. while applying pressure to bond the plurality of substrates 31 to each other.
4 is formed. At this time, the plurality of substrates 31 are stacked with an inclination angle indicated by α in the drawing. The inclination angle α is an angle calculated by the following formula 1.
【0051】α=θ2 −θ1 ・・・ (式1)Α = θ 2 −θ 1 (Equation 1)
【0052】次に、図10に示すように、磁気コアブロ
ック34中の基板31の積層によって段差部となってい
る両側面を傾斜角αを有する面となるように切断し、こ
れらの面に平行な切断面にて磁気コアブロック34を2
分割し、磁気コア半体ブロック35,36を形成する。
そして、分割切断面を平面研削盤等を用いて研磨し、図
11に示すように巻線溝37,38を形成する。しかる
後、この切断面において、図12に示すように基板31
と金属磁性膜32の境界線に沿って金属磁性膜32の一
側縁にかかるような位置で巻線溝37,38と直交する
ようにトラック幅規制溝39,40を切削もしくは研削
により形成する。このとき、トラック幅規制溝39,4
0によって規制される金属磁性膜32の幅はトラック幅
Twとなるようにし、本実験例においては13μmとな
るようにした。Next, as shown in FIG. 10, both side surfaces which are stepped portions due to the lamination of the substrates 31 in the magnetic core block 34 are cut into surfaces having an inclination angle α, and these surfaces are cut into these surfaces. Install the magnetic core block 34 in two parallel cut surfaces.
The magnetic core half blocks 35 and 36 are formed by division.
Then, the divided cut surface is polished by using a surface grinder or the like to form winding grooves 37, 38 as shown in FIG. Then, at this cut surface, as shown in FIG.
The track width regulating grooves 39, 40 are formed by cutting or grinding so as to be orthogonal to the winding grooves 37, 38 at a position along the boundary line between the metal magnetic film 32 and the metal magnetic film 32. . At this time, the track width regulating grooves 39, 4
The width of the metal magnetic film 32 regulated by 0 is set to be the track width Tw, and is set to 13 μm in this experimental example.
【0053】そして、上記磁気コア半体ブロック35,
36の突き合わせ面にポリッシング等により鏡面加工を
行い、ギャップ膜を形成した後、図13に示すように、
磁気コア半体ブロック35,36の接合を行う。この
際、上記磁気コア半体ブロック35,36のトラックの
位置合わせを行い、金属磁性膜32同士を突き合わせ
て、両磁気コア半体ブロック35,36を突き合わせ、
先の低融点ガラスよりもさらに低融点のガラス41で融
着すると、前記トラック幅規制溝39,40中にもガラ
ス41が流れ込み、磁気コア半体ブロック35,36が
接合一体化され、突き合わせ面間に磁気ギャップgを有
する磁気ヘッドブロック42が形成される。The magnetic core half block 35,
After mirror-finishing the abutting surfaces of 36 by polishing or the like to form a gap film, as shown in FIG.
The magnetic core half blocks 35 and 36 are joined. At this time, the tracks of the magnetic core half blocks 35 and 36 are aligned, the metal magnetic films 32 are butted, and both magnetic core half blocks 35 and 36 are butted.
When the glass 41 having a lower melting point than the low melting point glass is fused, the glass 41 also flows into the track width regulating grooves 39 and 40, the magnetic core half blocks 35 and 36 are joined and integrated, and the abutting surfaces are formed. A magnetic head block 42 having a magnetic gap g therebetween is formed.
【0054】次いで、巻線補助溝の加工,媒体摺動面の
円筒研磨を行った後、図14に示すように、磁気ギャッ
プgがアジマス角θ2 を有するように、接合一体化され
た磁気コア半体ブロック35,36、すなわち磁気ヘッ
ドブロック42を傾け、図中X−X’及びY−Y’線で
示す金属磁性膜の延在方向に対して所定の角度で交差す
る位置で切断し、切断面に金属磁性膜が露呈している磁
気ヘッド毎に分割する。そして、媒体との当たり幅を規
定する段差部の加工を行い、先に述べた磁気ヘッドを完
成する。Next, after processing the winding auxiliary groove and cylindrical polishing of the medium sliding surface, as shown in FIG. 14, the magnetic particles integrated and joined together so that the magnetic gap g has an azimuth angle θ 2. The core half blocks 35, 36, that is, the magnetic head block 42 is tilted and cut at a position intersecting at a predetermined angle with the extending direction of the metal magnetic film indicated by the lines XX 'and YY' in the drawing. , The magnetic head having the metal magnetic film exposed on the cut surface is divided for each magnetic head. Then, the stepped portion that defines the contact width with the medium is processed to complete the magnetic head described above.
【0055】本実験例においては、上記のような磁気ヘ
ッドブロック42の切断を実験例1で述べたような各種
切断方法により行って磁気ヘッドを製造し、各磁気ヘッ
ドのヘッド出力を測定した。In this experimental example, the magnetic head block 42 was cut by the various cutting methods described in Experimental Example 1 to manufacture magnetic heads, and the head output of each magnetic head was measured.
【0056】先ず、平均粒径が2〜6μmのダイヤモン
ド砥粒を使用したダイヤモンド砥石を使用し、上記砥石
を2000m/min以上,5000m/min以下の
速度で回転させ、被切断物である磁気ヘッドブロック4
2を20mm/min以上,80mm/min以下の送
り速度で送り出して磁気ヘッドブロック42の切断を行
った磁気ヘッドを実施例1とした。First, a diamond grindstone containing diamond abrasive grains having an average particle diameter of 2 to 6 μm is used, and the grindstone is rotated at a speed of 2000 m / min or more and 5000 m / min or less to obtain a magnetic head which is an object to be cut. Block 4
Example 1 was a magnetic head in which the magnetic head block 42 was cut by sending 2 at a feed rate of 20 mm / min or more and 80 mm / min or less.
【0057】そして、平均粒径が20〜30μmのダイ
ヤモンド砥粒を使用したダイヤモンド砥石を使用し、該
砥石の回転速度,ダミー基板の送り速度を実施例1と同
様にして磁気ヘッドブロック42を切断した後、切断面
を実験例1で述べたようにしてポリッシングした磁気ヘ
ッドを比較例1とした。なお、上記ポリッシングは、図
15に示すように、ポリッシング治具51として、接着
面51aに、磁気ヘッドブロック42の切断により作製
された磁気ヘッド52を切断面である加工面52aが上
記接着面51aに臨むようにワックス等の接着剤にて固
定するものを使用し、上記接着面51aに複数の磁気ヘ
ッド52を接着し、図2に示したような装置を用いて行
った。なお、ポリッシングは、当然のことながら磁気ヘ
ッド52の両側の切断面について行い、ポリッシングの
後に磁気ヘッド52を治具から外して洗浄を行った。Then, a diamond grindstone containing diamond abrasive grains having an average particle diameter of 20 to 30 μm is used, and the magnetic head block 42 is cut in the same manner as in Example 1 with respect to the rotational speed of the grindstone and the feeding speed of the dummy substrate. After that, a magnetic head whose cut surface was polished as described in Experimental Example 1 was used as Comparative Example 1. In the polishing, as shown in FIG. 15, as a polishing jig 51, a processed surface 52a, which is a cut surface of a magnetic head 52 produced by cutting the magnetic head block 42, is formed on the adhesive surface 51a. A plurality of magnetic heads 52 are adhered to the adhering surface 51a by using an adhesive such as wax so as to face the above, and the apparatus as shown in FIG. 2 is used. The polishing was naturally performed on the cut surfaces on both sides of the magnetic head 52, and after the polishing, the magnetic head 52 was removed from the jig and washed.
【0058】さらに、平均粒径が20〜30μmのダイ
ヤモンド砥粒を使用したダイヤモンド砥石を使用し、該
砥石の回転速度,ダミー基板の送り速度をサンプル1と
同様にして磁気ヘッドブロック42を切断した磁気ヘッ
ドを比較例2とした。Further, a diamond grindstone containing diamond abrasive grains having an average particle diameter of 20 to 30 μm was used, and the magnetic head block 42 was cut in the same manner as in Sample 1 at the rotational speed of the grindstone and the feed speed of the dummy substrate. A magnetic head was used as Comparative Example 2.
【0059】実施例1及び比較例1,2のヘッド出力の
測定結果を図16に示す。図中縦軸は相対出力を示し、
横軸は周波数を示し、図中実線は実施例1及び比較例1
の結果を示し、図中破線は比較例2の結果を示す。な
お、周波数が0.6MHz〜4MHzの領域においては
実施例1及び比較例1,2の結果に差がなく実線と破線
が重なるため、実線にて示す。FIG. 16 shows the measurement results of the head output of Example 1 and Comparative Examples 1 and 2. The vertical axis in the figure indicates the relative output,
The horizontal axis represents frequency, and the solid line in the figure indicates Example 1 and Comparative Example 1
And the broken line in the figure shows the result of Comparative Example 2. In the frequency range of 0.6 MHz to 4 MHz, there is no difference in the results of Example 1 and Comparative Examples 1 and 2, and the solid line and the broken line overlap with each other.
【0060】図16の結果から、実施例1と比較例1の
結果は同等であり、比較例2は高周波数領域においてこ
れらに劣ることがわかる。From the results of FIG. 16, it is understood that the results of Example 1 and Comparative Example 1 are equivalent, and Comparative Example 2 is inferior to them in the high frequency region.
【0061】上記比較例1においては、実験例1で述べ
たように、磁気ヘッドブロックを切断した後、切断面を
ポリッシングすることにより、切断面の金属磁性膜内の
絶縁層の破損部分を除去し、磁気的な絶縁を確保して金
属磁性膜の透磁率を良好なものとしており、そのため図
16に示すような高周波数領域においてもヘッド出力が
高く、良好なヘッド出力を得られる。In Comparative Example 1, as described in Experimental Example 1, after cutting the magnetic head block, the cut surface was polished to remove the damaged portion of the insulating layer in the metal magnetic film on the cut surface. However, the magnetic insulation is ensured and the magnetic permeability of the metal magnetic film is made good, so that the head output is high and a good head output can be obtained even in the high frequency region as shown in FIG.
【0062】一方、実施例1においては、実験例1でも
述べたように、磁気ヘッドブロックの切断を平均粒径が
2〜6μmのダイヤモンド砥粒を使用したダイヤモンド
砥石を使用して行っていることから、切断面の金属磁性
膜内の絶縁層に破損が生じ難く、磁気的な絶縁が確保さ
れ、また、上記砥石を2000m/min以上,500
0m/min以下の速度で回転させ、被切断物である磁
気ヘッドブロックを20mm/min以上,80mm/
min以下の送り速度で送り出していることから、切断
面の金属磁性膜内の絶縁層の破損が更に発生し難くな
り、金属磁性膜の透磁率が良好なものとなり、高周波数
領域においてもヘッド出力が高く、比較例1と同等の良
好なヘッド出力が得られることが確認された。On the other hand, in Example 1, as described in Experimental Example 1, the magnetic head block was cut using a diamond grindstone using diamond abrasive grains having an average grain size of 2 to 6 μm. Therefore, the insulating layer in the metal magnetic film of the cut surface is less likely to be damaged, magnetic insulation is secured, and the grindstone is 2,000 m / min or more, 500 m / min or more.
The magnetic head block, which is the object to be cut, is rotated at a speed of 0 m / min or less and 20 mm / min or more, 80 mm / min.
Since the feed speed is less than min, the insulating layer in the metal magnetic film on the cut surface is less likely to be damaged, the magnetic permeability of the metal magnetic film is good, and the head output is high even in the high frequency range. It was confirmed that a high head output comparable to that of Comparative Example 1 was obtained.
【0063】一方、比較例3においては、実験例1で述
べたように、切断面が表面粗さの粗い面となってしまう
ため、切断面の金属磁性膜内の絶縁層に破損が生じ、金
属磁性膜の透磁率も大幅に低下しており、このためヘッ
ド出力が低いものとなることが確認された。On the other hand, in Comparative Example 3, as described in Experimental Example 1, since the cut surface has a rough surface, the insulating layer in the metal magnetic film on the cut surface is damaged, It has been confirmed that the magnetic permeability of the metal magnetic film is also significantly reduced, which results in a low head output.
【0064】なお、砥石に使用される砥粒として、ダイ
ヤモンド砥粒の代わりにキュービックボロンナイトライ
ド砥粒を使用して同様の実験を行ったが、上記実験例と
同様の結果が得られた。A similar experiment was carried out using cubic boron nitride abrasive grains instead of diamond abrasive grains as the abrasive grains used in the grindstone, but the same results as in the above experimental example were obtained.
【0065】次に、上記のような実施例1及び比較例1
の磁気ヘッドについて、図5中に示すようにVTRのド
ラム53上に取り付けた場合のドラム53の磁気ヘッド
搭載面53aから磁気ヘッドの磁気ギャップgのエッジ
までの図中Thで示す距離、いわゆるトラック高さのば
らつきについて調査した。結果を図17に示す。図17
中縦軸は各磁気ヘッドにおけるトラック高さ基準値から
の相対的なずれを示し、図中△は比較例1を用いた場合
の結果を示し、×は実施例1を用いた場合の結果を示
す。Next, Example 1 and Comparative Example 1 as described above
5, the distance from the magnetic head mounting surface 53a of the drum 53 to the edge of the magnetic gap g of the magnetic head when it is mounted on the drum 53 of the VTR as shown in FIG. The variation in height was investigated. Results are shown in FIG. FIG. 17
The vertical axis indicates the relative deviation from the track height reference value in each magnetic head, Δ in the figure shows the result when Comparative Example 1 was used, and × shows the result when Example 1 was used. Show.
【0066】図17の結果を見てわかるように、比較例
1の磁気ヘッドを用いた場合のトラック高さのばらつき
を示すトラック高さ最大値とトラック高さ最小値の差R
がR=10μmであるのに対し、実施例1の磁気ヘッド
を用いた場合のトラック高さのばらつきはR=3μmと
大きく改善されている。この結果から、比較例1の磁気
ヘッドにおいては、前述のように切断面にポリッシング
を施しており、磁気ヘッド自体のトラック高さにばらつ
きが生じていることから、トラック高さが磁気ヘッド自
体のトラック高さのばらつきと、ドラムの磁気ヘッド搭
載面の高さのばらつきの2つの要因に左右されることと
なり、ばらつきが大きくなってしまうことがわかる。一
方、実施例1の磁気ヘッドにおいては、切断面に切断後
に加工を施さないため、磁気ヘッド自体のトラック高さ
にばらつきが生じておらず、トラック高さはドラムの磁
気ヘッド搭載面の高さのばらつきのみに左右されてお
り、ばらつきが小さく抑えられていることがわかる。さ
らに、実施例1のようにトラック高さのばらつきが小さ
いと、前述のペア収率も高くなり、ほぼ100%とな
る。なお、比較例1においては、70%程度であった。As can be seen from the results shown in FIG. 17, the difference R between the maximum track height and the minimum track height indicating the variation in track height when the magnetic head of Comparative Example 1 is used.
Is R = 10 μm, whereas the variation in track height when the magnetic head of Example 1 is used is greatly improved to R = 3 μm. From these results, in the magnetic head of Comparative Example 1, the cutting surface is polished as described above, and the track height of the magnetic head itself varies. It can be seen that the variation becomes large because it depends on two factors, that is, the variation in the track height and the variation in the height of the magnetic head mounting surface of the drum. On the other hand, in the magnetic head of Example 1, since the cut surface is not processed after cutting, there is no variation in the track height of the magnetic head itself, and the track height is the height of the magnetic head mounting surface of the drum. It can be seen that the variation is suppressed only to a small extent, and the variation is suppressed to be small. Further, when the variation in track height is small as in Example 1, the above-mentioned pair yield is also high and is almost 100%. In Comparative Example 1, it was about 70%.
【0067】実験例1,2の結果から、本実施例の磁気
ヘッドの製造方法のように、金属磁性膜の端面同士を突
き合わせるように接合一体化した磁気コア半体ブロック
を金属磁性膜延在方向に対して所定の角度で交差するよ
うに切断する際、平均粒径が2μm以上,6μm以下の
砥粒を使用した砥石を用いれば、切断面の金属磁性膜内
の絶縁層に破損が生じ難く、磁気的な絶縁が確保され、
更には、上記砥石の回転速度を2000m/min以
上,5000m/min以下とし、上記接合一体化した
磁気コア半体ブロックの送り速度を20mm/min以
上,80mm/min以下とすれば、切断面の金属磁性
膜内の絶縁層の破損が更に発生しにくくなり、金属磁性
膜の透磁率が良好となり、ヘッド出力の良好な磁気ヘッ
ドが製造されることが確認された。From the results of Experimental Examples 1 and 2, the magnetic core half block, which was joined and integrated so that the end faces of the metal magnetic films were butted against each other as in the method of manufacturing the magnetic head of this embodiment, was extended to the metal magnetic film. When cutting so as to intersect with the existing direction at a predetermined angle, if a grindstone using abrasive grains with an average grain size of 2 μm or more and 6 μm or less is used, the insulating layer in the metal magnetic film of the cut surface is damaged. Hard to occur, magnetic insulation is secured,
Furthermore, if the rotational speed of the grindstone is 2000 m / min or more and 5000 m / min or less, and the feed speed of the magnetic core half block integrally joined is 20 mm / min or more and 80 mm / min or less, It was confirmed that breakage of the insulating layer in the metal magnetic film is less likely to occur, the magnetic permeability of the metal magnetic film is good, and a magnetic head having a good head output is manufactured.
【0068】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法にお
いては、磁気ヘッドの切断面にポリッシング等の研磨加
工等を施さないことから、製造される磁気ヘッドのトラ
ック高さにばらつきが生じ難く、寸法精度の安定した磁
気ヘッドを形成することができ、製造歩留りが向上し、
生産性も向上する。従って、上記磁気ヘッドをVTRに
搭載する場合のペア収率を高めることもできる。Further, in the method of manufacturing a magnetic head of the present invention, since the cut surface of the magnetic head is not subjected to polishing processing such as polishing, variations in the track height of the manufactured magnetic head are unlikely to occur, and the dimensions are reduced. It is possible to form a magnetic head with stable accuracy, improve the manufacturing yield,
Productivity is also improved. Therefore, the pair yield can be increased when the magnetic head is mounted on the VTR.
【0069】さらに、本発明の磁気ヘッドの製造方法に
おいては、磁気ヘッドの切断面にポリッシングを施さな
いことから、煩雑な作業が削除されて製造工程が短縮さ
れ、かつ研磨加工装置への取り付けや取り外しが不要と
なり、磁気ヘッドの破損が生じ難く、製造歩留りが向上
し、生産性が良好となる。Further, in the method of manufacturing the magnetic head of the present invention, since the cutting surface of the magnetic head is not polished, complicated work is eliminated, the manufacturing process is shortened, and the magnetic head is attached to the polishing apparatus. Removal is not necessary, damage to the magnetic head is less likely to occur, manufacturing yield is improved, and productivity is improved.
【0070】[0070]
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明は、一対の基板により金属磁性膜が膜厚方向より挟み
込まれてなる一対の磁気コア半体を、それぞれの金属磁
性膜の端面同士を突き合わせるようにして接合一体化し
た後、上記接合一体化された磁気コア半体を金属磁性膜
延在方向に対して所定の角度で交差するような位置で切
断し、切断面に金属磁性膜が露呈している磁気ヘッドを
形成する磁気ヘッドの製造方法において、接合一体化さ
れた磁気コア半体の切断が、平均粒径が2μm以上,6
μm以下の砥粒を使用した砥石を用いて行われることか
ら、切断面の金属磁性膜内の絶縁層が破損し難く、磁気
的な絶縁が確保され、金属磁性膜の透磁率が良好とな
り、ヘッド出力の良好な磁気ヘッドが製造される。As is apparent from the above description, according to the present invention, a pair of magnetic core halves, in which a metal magnetic film is sandwiched by a pair of substrates in the thickness direction, are provided on the end faces of each metal magnetic film. After they are joined and integrated by butting each other, the joined and joined magnetic core halves are cut at a position where they intersect at a predetermined angle with respect to the extending direction of the metal magnetic film, and the metal is cut on the cut surface. In a method of manufacturing a magnetic head for forming a magnetic head having a magnetic film exposed, cutting of the magnetic core halves integrally bonded and joined has an average particle size of 2 μm or more, 6
Since it is performed using a grindstone using abrasive grains of μm or less, the insulating layer in the metal magnetic film on the cut surface is less likely to be damaged, magnetic insulation is secured, and the magnetic permeability of the metal magnetic film is improved. A magnetic head having a good head output is manufactured.
【0071】また、本発明において、接合一体化された
磁気コア半体の切断の際の砥石の回転速度を2000m
/min以上,5000m/min以下とし、接合一体
化された磁気コア半体の送り速度を20mm/min以
上,80mm/min以下とすれば、切断面の金属磁性
膜内の絶縁層の破損が更に発生し難くなり、金属磁性膜
の透磁率が良好となり、ヘッド出力の良好な磁気ヘッド
が製造される。Further, in the present invention, the rotational speed of the grindstone at the time of cutting the magnetic core half body integrated and joined is 2000 m.
/ Min or more and 5000 m / min or less and the feed speed of the magnetic core half body integrally joined is set to 20 mm / min or more and 80 mm / min or less, further damage to the insulating layer in the metal magnetic film on the cut surface is caused. It is less likely to occur, the magnetic permeability of the metal magnetic film is good, and a magnetic head having a good head output is manufactured.
【0072】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法にお
いては、磁気ヘッドの切断面に研磨加工等を施さないこ
とから、磁気ヘッドのトラック高さにばらつきが生じ難
く、寸法精度の安定した磁気ヘッドを形成することがで
き、製造歩留りが向上し、生産性も向上する。Further, in the method of manufacturing a magnetic head of the present invention, since the cut surface of the magnetic head is not subjected to polishing or the like, variations in the track height of the magnetic head hardly occur, and the magnetic head with stable dimensional accuracy. Can be formed, the manufacturing yield is improved, and the productivity is also improved.
【図1】実験例1で使用するダミー基板を示す斜視図で
ある。FIG. 1 is a perspective view showing a dummy substrate used in Experimental Example 1.
【図2】ポリッシング加工装置を模式的に示す要部概略
斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view of a main part schematically showing a polishing apparatus.
【図3】周波数と金属磁性膜の透磁率の関係を示す図で
ある。FIG. 3 is a diagram showing a relationship between frequency and magnetic permeability of a metal magnetic film.
【図4】実験例2で作製した磁気ヘッドを示す斜視図で
ある。FIG. 4 is a perspective view showing a magnetic head manufactured in Experimental Example 2.
【図5】実験例2で作製した磁気ヘッドを示す平面図で
ある。FIG. 5 is a plan view showing a magnetic head manufactured in Experimental Example 2.
【図6】実験例2における磁気ヘッドの製造方法を工程
順に示すものであり、基板に鏡面加工を行う工程を示す
斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a method of manufacturing a magnetic head in Experimental Example 2 in the order of steps, showing steps of mirror-finishing a substrate.
【図7】基板上に金属磁性膜を形成する工程を示す斜視
図である。FIG. 7 is a perspective view showing a step of forming a metal magnetic film on a substrate.
【図8】低融点ガラス膜を形成する工程を示す斜視図で
ある。FIG. 8 is a perspective view showing a step of forming a low melting point glass film.
【図9】磁気コアブロックを形成する工程を示す斜視図
である。FIG. 9 is a perspective view showing a step of forming a magnetic core block.
【図10】磁気コア半体ブロックを形成する工程を示す
斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing a process of forming a magnetic core half block.
【図11】磁気コア半体ブロックに巻線溝を形成する工
程を示す斜視図である。FIG. 11 is a perspective view showing a step of forming a winding groove in the magnetic core half block.
【図12】磁気コア半体ブロックにトラック幅規制溝を
形成する工程を示す斜視図である。FIG. 12 is a perspective view showing a step of forming a track width regulating groove in a magnetic core half block.
【図13】磁気コア半体ブロックを接合する工程を示す
斜視図である。FIG. 13 is a perspective view showing a step of joining magnetic core half blocks.
【図14】磁気ヘッドブロックを切断する工程を示す平
面図である。FIG. 14 is a plan view showing a step of cutting a magnetic head block.
【図15】ポリッシング治具の一例を示す斜視図であ
る。FIG. 15 is a perspective view showing an example of a polishing jig.
【図16】周波数と磁気ヘッドの相対出力の関係を示す
図である。FIG. 16 is a diagram showing a relationship between frequency and relative output of the magnetic head.
【図17】実施例1と比較例1のトラック高さのばらつ
きを示す図である。FIG. 17 is a diagram showing variations in track height between Example 1 and Comparative Example 1.
11,12,32・・・金属磁性膜 13,14,15,16,31・・・基板 17,18・・・磁気コア半体 35,36 磁気コア半体ブロック g・・・磁気ギャップ 11, 12, 32 ... Metal magnetic film 13, 14, 15, 16, 31 ... Substrate 17, 18 ... Magnetic core half body 35, 36 Magnetic core half body block g ... Magnetic gap
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 敦 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Atsushi Sato 6-735 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation
Claims (4)
より挟み込まれてなる一対の磁気コア半体を、それぞれ
の金属磁性膜の端面同士を突き合わせるようにして接合
一体化した後、上記接合一体化された磁気コア半体を金
属磁性膜延在方向に対して所定の角度で交差するような
位置で切断し、切断面に金属磁性膜が露呈している磁気
ヘッドを形成する磁気ヘッドの製造方法において、 接合一体化された磁気コア半体の切断が、平均粒径が2
μm以上,6μm以下の砥粒を使用した砥石を用いて行
われることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。1. A pair of magnetic core halves in which a metal magnetic film is sandwiched by a pair of substrates in the film thickness direction are joined and integrated so that the end faces of the metal magnetic films are abutted to each other. A magnetic head that forms a magnetic head in which a magnetic core half body that has been joined and integrated is cut at a position that intersects the extending direction of the metal magnetic film at a predetermined angle to expose the metal magnetic film on the cut surface. In the manufacturing method of, the average particle diameter of the magnetic core halves integrally bonded is 2
A method of manufacturing a magnetic head, which is carried out by using a grindstone using abrasive grains having a size of not less than μm and not more than 6 μm.
際の砥石の回転速度を2000m/min以上,500
0m/min以下とし、接合一体化された磁気コア半体
の送り速度を20mm/min以上,80mm/min
以下とすることを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッド
の製造方法。2. The rotational speed of the grindstone at the time of cutting the magnetic core halves integrally joined together is 2000 m / min or more, 500 or more.
The feed rate of the magnetic core half body joined and integrated is 20 mm / min or more, 80 mm / min or less at 0 m / min or less.
The method of manufacturing a magnetic head according to claim 1, wherein:
粒であることを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッドの
製造方法。3. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 1, wherein the abrasive grains used for the grindstone are diamond abrasive grains.
ロンナイトライド砥粒であることを特徴とする請求項1
記載の磁気ヘッドの製造方法。4. The abrasive grain used for the grindstone is cubic boron nitride abrasive grain.
A method for manufacturing the magnetic head described.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6422694A JPH07272206A (en) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | Production of magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6422694A JPH07272206A (en) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | Production of magnetic head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07272206A true JPH07272206A (en) | 1995-10-20 |
Family
ID=13251989
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6422694A Withdrawn JPH07272206A (en) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | Production of magnetic head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07272206A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR980011056A (en) * | 1996-07-26 | 1998-04-30 | 조희재 | Manufacturing method of magnetic head core |
-
1994
- 1994-03-31 JP JP6422694A patent/JPH07272206A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR980011056A (en) * | 1996-07-26 | 1998-04-30 | 조희재 | Manufacturing method of magnetic head core |
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