JP2001155306A - Method for machining magnetic head - Google Patents

Method for machining magnetic head

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JP2001155306A
JP2001155306A JP33496999A JP33496999A JP2001155306A JP 2001155306 A JP2001155306 A JP 2001155306A JP 33496999 A JP33496999 A JP 33496999A JP 33496999 A JP33496999 A JP 33496999A JP 2001155306 A JP2001155306 A JP 2001155306A
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JP
Japan
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magnetic
track width
abrasive
processing
magnetic head
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP33496999A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Norikatsu Fujisawa
憲克 藤澤
Junichi Honda
順一 本多
Masayuki Sasaki
将之 佐々木
Masahiro Konno
昌弘 今野
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture a magnetic head in which a high precision track width regulating groove is efficiently cut and in which high reliability and improved input/output characteristics are realized. SOLUTION: This method is applied to a magnetic head 1 where metallic magnetic films 5, 6 are formed on the gap-constituting faces of core halves 2, 3 and track width regulating grooves 9, 10 constituting, a projected magnetic tape working face 11 corresponding to a recording track width are prepared by cutting/machining on a magnetic tape sliding face 8 by means of a grinding stone 50. In the cutting/machining of the track width regulating grooves 9, 10, the grinding stone 50 is used for which a shaping process is performed on the side face 52 after another shaping process is performed on the outer circumferential face by supplying an abrasive grain liquid 55 in which powder abrasive grain is dissolved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ヘッドの加工
方法に関し、さらに詳しくは高抗磁気記録媒体に対する
情報信号等の記録再生を行う場合に用いられるメタル・
イン・ギャップ型磁気ヘッド等に適用して好適な磁気ヘ
ッドの加工方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head processing method, and more particularly, to a metal head used for recording and reproducing information signals and the like on a high coercive magnetic recording medium.
The present invention relates to a magnetic head processing method suitable for an in-gap type magnetic head and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気記録再生装置においては、情報信号
等の高密度記録化、短波長化の対応が図られており、こ
のため高い抗磁力と残留磁気密度特性を有して狭記録ピ
ッチ、狭トラック化仕様の磁気テープに対して、高精度
の磁気ヘッドが用いられて情報信号等の記録再生が行わ
れる。かかる磁気記録再生装置には、例えば非磁性支持
体上に形成される磁性層に磁性粉として強磁性粉末が用
いられたいわゆるメタルテープや、強磁性金属材料を蒸
着法等によって非磁性支持体上に直接成膜したいわゆる
蒸着テープ等が用いられる。また、磁気記録再生装置に
は、例えば磁性酸化物材料によって主コアを形成すると
ともに、磁気ギャップの構成面に軟磁性金属磁性材料か
らなる金属磁性薄膜を形成したいわゆるメタル・イン・
ギャップ型磁気ヘッド(以下、MIGヘッドと略称す
る。)100が用いられる。
2. Description of the Related Art In a magnetic recording / reproducing apparatus, high-density recording and short-wavelength recording of information signals and the like have been achieved. A high-precision magnetic head is used to record and reproduce information signals and the like on a magnetic tape with a narrow track specification. Such a magnetic recording / reproducing apparatus includes, for example, a so-called metal tape in which a ferromagnetic powder is used as a magnetic powder in a magnetic layer formed on a nonmagnetic support, or a ferromagnetic metal material formed on a nonmagnetic support by a vapor deposition method or the like. A so-called evaporation tape or the like directly formed on the substrate is used. Further, the magnetic recording / reproducing apparatus has a so-called metal-in-metal structure in which a main core is formed of, for example, a magnetic oxide material, and a metal magnetic thin film made of a soft magnetic metal magnetic material is formed on a constituent surface of a magnetic gap.
A gap type magnetic head (hereinafter, abbreviated as MIG head) 100 is used.

【0003】すなわち、MIGヘッド100は、図19
に示したように、一対のコア半体101、102をガラ
ス103によって一体に接合し、互いに突き合わされた
磁気ギャップ形成面によって磁気ギャップ104を構成
してなる。MIGヘッド100は、磁気テープの摺動面
にトラック幅規制溝105、106の研削工程を施すこ
とによって、この磁気ギャップ104が記録媒体の記録
トラック幅tとほぼ等しく構成されてなる。また、MI
Gヘッド100には、これら一対の磁気コア半体10
1、102の磁気ギャップ構成面に、金属磁性薄膜10
7、108がそれぞれ成膜形成される。
That is, the MIG head 100 is configured as shown in FIG.
As shown in (1), a pair of core halves 101 and 102 are integrally joined by a glass 103, and a magnetic gap 104 is formed by a magnetic gap forming surface butted against each other. The MIG head 100 has a configuration in which the magnetic gap 104 is substantially equal to the recording track width t of the recording medium by performing a grinding step of the track width regulating grooves 105 and 106 on the sliding surface of the magnetic tape. Also, MI
The G head 100 includes the pair of magnetic core halves 10.
The metal magnetic thin film 10
7 and 108 are each formed as a film.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、MIGヘッ
ド100においては、トラック幅規制溝105、106
の加工精度に限界があり、図19に示すようにそれぞれ
の両側面105a、106aが磁気ギャップ104を挟
んで対向する傾斜面を構成するようになる。したがっ
て、MIGヘッド100においては、これら両側面10
5a、106aにおいて漏洩磁束が生じ、これによって
磁気記録媒体に対して規定の記録トラック幅tを越えて
情報信号等の記録再生が行われるために精度が劣化する
といった問題があった。
Incidentally, in the MIG head 100, the track width regulating grooves 105, 106 are provided.
In this case, there is a limit in the processing accuracy, and as shown in FIG. 19, both side surfaces 105a and 106a form inclined surfaces facing each other with the magnetic gap 104 therebetween. Therefore, in the MIG head 100, these side surfaces 10
Leakage magnetic fluxes are generated in the magnetic recording media 5a and 106a, so that recording and reproduction of information signals and the like are performed on the magnetic recording medium beyond a specified recording track width t, thereby deteriorating accuracy.

【0005】このため、MIGヘッド100において
は、磁気ギャップ104を記録トラックの幅寸法に対応
した所定の幅寸法とするために、コア半体101、10
2を一体化した状態において磁気テープ摺動面に対して
ブレード砥石を用いて磁気テープ当り面を凸状とするよ
うにトラック幅規制溝105、106を形成する研削加
工が施される。かかるトラック幅規制溝の研削加工にお
いては、微小な幅の磁気テープ当り面を構成するトラッ
ク幅規制溝を高精度に形成することが要求されるととも
に、この加工精度を保持したままで多くのトラック幅規
制溝を形成しなければならない。従来の研削方法におい
ては、研削面を例えばSD400の電着ドレッサーによ
って仕上げを施した加工砥石を用いて、トラック幅規制
溝105、106の研削を行っていた。
Therefore, in the MIG head 100, in order to make the magnetic gap 104 a predetermined width corresponding to the width of the recording track, the core halves 101, 10
In the state in which the magnetic tape 2 is integrated, a grinding process for forming the track width regulating grooves 105 and 106 is performed on the sliding surface of the magnetic tape by using a blade grindstone so that the contact surface of the magnetic tape becomes convex. In the grinding of such track width regulating grooves, it is required to form the track width regulating grooves constituting the contact surface of the magnetic tape of a minute width with high precision, and many tracks are maintained while maintaining the machining precision. A width regulating groove must be formed. In the conventional grinding method, the track width regulating grooves 105 and 106 are ground using a processing grindstone whose grinding surface is finished by, for example, an electrodeposition dresser of SD400.

【0006】しかしながら、従来の研削方法において
は、かかる電着ドレッサーによる仕上げでは加工砥石の
側面を充分な面精度を有する研削面として仕上げること
が困難であったために、磁気テープ当り面を構成するト
ラック幅規制溝105、106の形状変化が大きくなる
といった問題があった。このため、従来の磁気ヘッドの
加工方法においては、研削工程の条件によりトラック幅
規制溝が高精度に形成し得ないために、磁気テープ当り
面の幅と記録トラック幅tにバラッキが生じMIGヘッ
ド100の歩留りが悪いといった問題があった。
However, in the conventional grinding method, it is difficult to finish the side surface of the processing whetstone as a ground surface having a sufficient surface accuracy by the finishing using the electrodeposition dresser, so that the track forming the surface to contact the magnetic tape is difficult. There is a problem that the shape change of the width regulating grooves 105 and 106 becomes large. For this reason, in the conventional magnetic head processing method, since the track width regulating groove cannot be formed with high precision due to the conditions of the grinding step, the width of the contact surface of the magnetic tape and the recording track width t vary, and the MIG head There was a problem that the yield of 100 was poor.

【0007】したがって、本発明は、上述した従来の問
題点を解消し、高精度のトラック幅規制溝を効率的に研
削して、信頼性が高く入出力特性が向上された磁気ヘッ
ドの製造を可能とした磁気ヘッドの加工方法を提供する
ことを目的に提案されたものである。
Therefore, the present invention solves the above-mentioned conventional problems and efficiently manufactures a highly accurate track width regulating groove to manufacture a magnetic head having high reliability and improved input / output characteristics. It has been proposed for the purpose of providing a magnetic head processing method that has become possible.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
本発明にかかる磁気ヘッドの加工方法は、少なくとも一
方のコア半体のギャップ構成面に金属磁性膜が成膜形成
されるとともに加工砥石により磁気テープ摺動面に記録
トラックの幅に対応した凸状の磁気テープ当り面を構成
するトラック幅規制溝が研削加工される磁気ヘッドに適
用される。磁気ヘッドの加工方法は、トラック幅規制溝
の研削加工が、外周面の仕上げ加工を施した後に、粉末
砥粒を溶解した砥粒溶液が供給されて側面の整形処理を
施した加工砥石を用いて研削加工が施される。
According to the present invention, there is provided a magnetic head processing method according to the present invention, wherein a metal magnetic film is formed and formed on a gap forming surface of at least one of the core halves by a processing grindstone. The present invention is applied to a magnetic head in which a track width regulating groove which forms a convex magnetic tape contact surface corresponding to the width of a recording track is ground on a magnetic tape sliding surface. The processing method of the magnetic head uses a processing grindstone in which the grinding process of the track width regulating groove is performed after the finishing process of the outer peripheral surface is performed, and then the abrasive solution in which the powder abrasive is dissolved is supplied and the side surface is shaped. Grinding process.

【0009】以上のように構成された本発明にかかる磁
気ヘッドの加工方法によれば、磁気テープ当り面を構成
するトラック幅規制溝を研削する加工砥石の側面が高精
度に仕上げられることによって、バラツキの少ない高精
度のトラック幅規制溝を連続して形成する。したがっ
て、磁気ヘッドの加工方法によれば、凸状の磁気テープ
当り面を介して記録トラックの幅寸法に対応した磁気ギ
ャップが構成されることで、狭記録ピッチ、狭トラック
化仕様の記録媒体に対して情報信号等を高精度に記録再
生する信頼性が高くかつ入出力特性の向上が図られた磁
気ヘッドを効率的に製造する。
According to the magnetic head processing method of the present invention configured as described above, the side surface of the processing grindstone for grinding the track width regulating groove constituting the surface of the magnetic tape can be finished with high precision. High precision track width regulating grooves with little variation are continuously formed. Therefore, according to the magnetic head processing method, the magnetic gap corresponding to the width dimension of the recording track is formed through the convex magnetic tape contact surface, so that a recording medium having a narrow recording pitch and a narrow track specification can be obtained. On the other hand, a magnetic head having high reliability for recording and reproducing information signals and the like with high accuracy and improved input / output characteristics is efficiently manufactured.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。実施の形態として
示す磁気ヘッドの加工方法は、狭記録ピッチ、狭トラッ
ク化仕様のメタルテープを用いる磁気記録再生装置に備
えられて情報信号等を記録再生する図1に示したMIG
ヘッド1の加工方法に適用される。勿論、本発明は、か
かるMIGヘッド1に限定されず、その他の高密度記録
対応型の磁気ヘッド、特にバルク型磁気ヘッド等のよう
なやや大型の磁気ヘッドに対して好適に適用される。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. The magnetic head processing method according to the embodiment is provided in a magnetic recording / reproducing apparatus using a metal tape with a narrow recording pitch and a narrow track specification, and records and reproduces information signals and the like shown in FIG.
The method is applied to the processing method of the head 1. Of course, the present invention is not limited to the MIG head 1 and is suitably applied to other high-density recording-compatible magnetic heads, particularly to a relatively large magnetic head such as a bulk type magnetic head.

【0011】MIGヘッド1は、基本的な構成を従来の
MIGヘッドと同様としており、単結晶フェライトや多
結晶フェライトを素材として所定の工程を経て製作され
た一対のコア半体2、3を突き合わせて溶融ガラス等の
非磁性材4によって一体化した中間体20に対して、詳
細を後述する研削工程を含む適宜の加工が施されて製造
される。MIGヘッド1の加工工程は、基本的な工程を
従来の加工工程とほぼ同等とし、工程や設備の大幅な変
更を要するものでは無い。
The MIG head 1 has a basic configuration similar to that of a conventional MIG head, and a pair of core halves 2, 3 manufactured through a predetermined process using a single crystal ferrite or a polycrystal ferrite as a material are joined together. The intermediate body 20 integrated with the non-magnetic material 4 such as a molten glass is subjected to an appropriate processing including a grinding step which will be described in detail later. The processing steps of the MIG head 1 are basically the same as the conventional processing steps, and do not require significant changes in the steps and equipment.

【0012】MIGヘッド1は、コア半体2、3が軟磁
性酸化物、例えばMn−Zn系フェライトやNi−Zn
系フェライト等の単結晶フェライトや多結晶フェライト
によって所定の形状に形成してなる。MIGヘッド1に
は、これらコア半体2、3の突き合わせ端面に軟磁性金
属膜層5、6が成膜形成されている。MIGヘッド1
は、上述したようにコア半体2、3を非磁性材4によっ
て一体に接合することにより、突き合わされた端部に非
磁性材4を介して軟磁性金属膜層5、6により磁気ギャ
ップ7を構成している。
In the MIG head 1, the core halves 2 and 3 are made of a soft magnetic oxide, for example, Mn-Zn ferrite or Ni-Zn.
It is formed in a predetermined shape by a single crystal ferrite such as a system ferrite or a polycrystal ferrite. In the MIG head 1, soft magnetic metal film layers 5 and 6 are formed on butted end faces of the core halves 2 and 3. MIG head 1
As described above, by joining the core halves 2 and 3 integrally with the nonmagnetic material 4 as described above, the magnetic gap 7 is formed at the butted ends by the soft magnetic metal film layers 5 and 6 via the nonmagnetic material 4. Is composed.

【0013】軟磁性金属膜層5、6には、その素材とし
て、例えばFe−Al−Si、Fe−Ni−Al−S
i、Fe−Ga−Si、Fe−Al−Ge等の結晶材料
に対してAu、Co、Ti、Cr、Nb、Mo、Ta、
Ru、Pd、N、C、O等を一種類以上添加した結晶質
材料が用いられる。また、軟磁性金属膜層5、6には、
その素材として、Coに主としてZr、Ta、Ti、H
f、Mo、Nb等を一種類以上添加したアモルファス材
料や、Co、Feに主としてZr、Ta、Ti、Hf、
Mo、Nb、Si、Al、B等を一種類以上とN、C、
O等を一種類以上添加した微結晶質材料が用いられる。
軟磁性金属膜層5、6は、これらを素材としてコア半体
2、3の相対する端面に、例えば蒸着法やスパッタリン
グ法等の薄膜形成方法によって成膜形成される。なお、
軟磁性金属膜層5、6については、コア半体2、3のい
ずれか一方の磁気ギャップ構成面に成膜形成するように
してもよいことは勿論である。
The soft magnetic metal film layers 5 and 6 are made of, for example, Fe--Al--Si or Fe--Ni--Al--S
Au, Co, Ti, Cr, Nb, Mo, Ta, i, Fe-Ga-Si, Fe-Al-Ge
A crystalline material to which one or more kinds of Ru, Pd, N, C, O and the like are added is used. Further, the soft magnetic metal film layers 5 and 6 include:
Its material is mainly Zr, Ta, Ti, H
f, Mo, Nb, and other amorphous materials, or Co, Fe, mainly Zr, Ta, Ti, Hf,
Mo, Nb, Si, Al, B, etc., at least one type and N, C,
A microcrystalline material to which one or more kinds of O and the like are added is used.
The soft magnetic metal film layers 5 and 6 are formed on the opposite end faces of the core halves 2 and 3 by using these materials as a thin film forming method such as a vapor deposition method or a sputtering method. In addition,
Of course, the soft magnetic metal film layers 5 and 6 may be formed on one of the magnetic gap forming surfaces of the core halves 2 and 3.

【0014】MIGヘッド1には、磁気ギャップ7が構
成された磁気テープ摺動面8の両側縁に沿って、長手方
向の全域に亘って互いに平行な一対のトラック幅規制溝
9、10が後述する研削工程により形成される。MIG
ヘッド1には、これらトラック幅規制溝9、10によっ
て切り残された磁気テープ摺動面8の中央領域に、凸状
の磁気テープ当り面11が長さ方向の全域に亘って構成
される。MIGヘッド1は、トラック幅規制溝9、10
の間隔を記録トラック幅tとほぼ同等に形成することに
よって、磁気テープ当り面11がその幅を記録トラック
幅tと同等とされている。MIGヘッド1には、磁気テ
ープ当り面11を補強するために、トラック幅規制溝
9、10に補強ガラス12a、12bが充填される。
The MIG head 1 has a pair of track width regulating grooves 9 and 10 which are parallel to each other over the entire area in the longitudinal direction along both side edges of the magnetic tape sliding surface 8 where the magnetic gap 7 is formed. Formed by the following grinding process. MIG
In the head 1, a convex magnetic tape contact surface 11 is formed in the central region of the magnetic tape sliding surface 8 left uncut by the track width regulating grooves 9, 10 over the entire region in the length direction. The MIG head 1 has track width regulating grooves 9, 10.
Are formed substantially equal to the recording track width t, so that the width of the magnetic tape contact surface 11 is equal to the recording track width t. In the MIG head 1, the track width regulating grooves 9, 10 are filled with reinforcing glasses 12a, 12b in order to reinforce the surface 11 for contacting the magnetic tape.

【0015】MIGヘッド1には、コア半体2、3の相
対する突合せ面にそれぞれ形成した凹部13a、13b
によって、突合せ状態において共同して磁気ギャップ7
の深さを規定するディプス規制溝13が構成されてい
る。MIGヘッド1には、ディプス規制溝13と対向す
るコア半体2、3の側面にそれぞれ巻き線ガイド溝14
a、14bが形成されている。MIGヘッド1には、凹
部13aと巻き線ガイド溝14a及び凹部13bと巻き
線ガイド溝14bとをガイドとしてコア半体2、3にそ
れぞれ図示しないコイルが巻き線されている。
The MIG head 1 has concave portions 13a, 13b formed in opposing abutting surfaces of the core halves 2, 3, respectively.
By the joint, the magnetic gap 7
Is defined. The MIG head 1 has winding guide grooves 14 on the side surfaces of the core halves 2 and 3 facing the depth regulating grooves 13 respectively.
a and 14b are formed. In the MIG head 1, coils (not shown) are wound around the core halves 2 and 3, respectively, using the recess 13a and the winding guide groove 14a and the recess 13b and the winding guide groove 14b as guides.

【0016】MIGヘッド1は、コア半体2、3と軟磁
性金属膜層5、6とが共同して閉磁路を構成してなる。
MIGヘッド1は、コア半体2、3が補助コア部を構成
するとともに、軟磁性金属膜層5、6が主コア部を構成
する。MIGヘッド1は、情報信号等に基づいて磁気ギ
ャップ7から漏洩する磁束によって磁気テープ摺動面8
を摺擦走行するメタルテープに対して情報信号等を記録
し、またメタルテープに記録された情報信号等に基づく
磁束変化によって情報信号等を再生する。
In the MIG head 1, the core halves 2, 3 and the soft magnetic metal film layers 5, 6 cooperate to form a closed magnetic circuit.
In the MIG head 1, the core halves 2 and 3 constitute an auxiliary core portion, and the soft magnetic metal film layers 5 and 6 constitute a main core portion. The MIG head 1 uses a magnetic tape sliding surface 8 by a magnetic flux leaking from a magnetic gap 7 based on an information signal or the like.
The information signal and the like are recorded on the metal tape which rubs and travels, and the information signal and the like are reproduced by a magnetic flux change based on the information signal and the like recorded on the metal tape.

【0017】MIGヘッド1においては、図2に示すよ
うに磁気テープ当り面11が、トラック幅規制溝9、1
0をそれぞれその底面9a、10a及び側面9b、10
bが高寸法精度を以って形成されることにより、その幅
をメタルテープの微細な記録トラックの幅tとほぼ等し
く形成されている。このため、MIGヘッド1は、詳細
を後述するようにコア半体2、3を構成する基材21を
一体化してなる中間体20に対して、研削面が高精度に
仕上げられた加工砥石50が用いられてトラック幅規制
溝9、10の研削加工が施されて形成される。
In the MIG head 1, as shown in FIG.
0 is the bottom surface 9a, 10a and the side surface 9b, 10
Since b is formed with high dimensional accuracy, its width is formed substantially equal to the width t of the fine recording track of the metal tape. For this reason, the MIG head 1 has a processing grindstone 50 whose grinding surface has been finished with high precision with respect to the intermediate body 20 in which the base materials 21 constituting the core halves 2 and 3 are integrated as described in detail later. Are used to form the track width regulating grooves 9 and 10 by grinding.

【0018】すなわち、MIGヘッド1は、図3に示す
コア半体2、3を形成する基材21を素材として順次所
定の工程が施されて形成される。基材21は、上述した
ように例えばMn−Zn系フェライト材やNi−Zn系
フェライト材等の酸化物軟磁性材からなり、長さ寸法が
約34.5mm、幅寸法が約2.5mm、厚み寸法が約
1mmの外形寸法を有している。基材21には、図4に
示すようにその主面21aの長さ方向の全域に亘って、
一方の端面21bからの間隔を磁気ギャップ7のディプ
ス寸法gとほぼ等しくしてディプス規制溝13を構成す
る略台形の凹溝22の加工が施される。
That is, the MIG head 1 is formed by sequentially performing predetermined processes using the base material 21 for forming the core halves 2 and 3 shown in FIG. The base material 21 is made of an oxide soft magnetic material such as a Mn-Zn ferrite material or a Ni-Zn ferrite material as described above, and has a length of about 34.5 mm, a width of about 2.5 mm, It has an outer dimension of about 1 mm in thickness. As shown in FIG. 4, the base material 21 extends over the entire area of the main surface 21 a in the length direction.
The gap from one end face 21b is made substantially equal to the depth g of the magnetic gap 7, and a substantially trapezoidal concave groove 22 constituting the depth regulating groove 13 is processed.

【0019】また、基材21には、凹溝22と直交して
複数のガラス充填溝23が形成される。ガラス充填溝2
3は、基材21から各MIGヘッド1を切り出す領域に
対応してそれぞれ形成され、後述するように一対の基材
21を接合して中間体20を構成する際に溶融されて接
合材となる非磁性材のガラス棒が充填される。なお、ガ
ラス充填溝23については、特に形成しない場合もあ
る。また、基材21には、他方の主面に、凹溝22と対
応して巻き線ガイド溝14を構成する凹溝24が形成さ
れる。
Further, a plurality of glass filling grooves 23 are formed on the substrate 21 at right angles to the concave grooves 22. Glass filling groove 2
Numerals 3 are respectively formed corresponding to regions where the MIG heads 1 are cut out from the base material 21, and are melted to form a bonding material when the pair of base materials 21 are bonded to form the intermediate body 20 as described later. A non-magnetic glass rod is filled. The glass filling groove 23 may not be particularly formed. On the other main surface of the base material 21, a concave groove 24 corresponding to the concave groove 22 and constituting the winding guide groove 14 is formed.

【0020】基材21には、主面21aに対して中心線
表面粗さが0.2μm乃至1.0μmとなるように研磨
仕上げが施される。基材21には、図5に示すように凹
溝22が形成された主面21aの全面に、上述した軟磁
性金属材料により軟磁性金属膜層25が成膜形成され
る。基材21には、軟磁性金属膜層25上に、例えば図
6に示すようにギャップ膜26を構成するためのAuを
成膜形成するようにしてもよい。Auギャップ膜26
は、例えば加圧処理と熱処理とを施すことによって、基
材21を接合する際にAuの熱拡散効果により接合され
る。なお、軟磁性金属膜層25については、上述した主
面21aに対する各溝22、23の形成工程の前工程で
主面21aに成膜形成されるようにしてもよい。
The base material 21 is polished so that the center line surface roughness of the main surface 21a is 0.2 μm to 1.0 μm. As shown in FIG. 5, a soft magnetic metal film layer 25 of the above-described soft magnetic metal material is formed on the entire surface of the main surface 21a of the base 21 where the concave groove 22 is formed. On the base material 21, for example, Au for forming the gap film 26 may be formed on the soft magnetic metal film layer 25 as shown in FIG. Au gap film 26
Are bonded by the heat diffusion effect of Au when the base material 21 is bonded, for example, by applying a pressure treatment and a heat treatment. The soft magnetic metal film layer 25 may be formed on the main surface 21a in a step before the step of forming the grooves 22 and 23 on the main surface 21a.

【0021】基材21は、上述した工程を経た後にガラ
ス充填溝23に充填されたガラス棒が溶融されることに
より、図7に示すように主面21aを接合面として一対
(21A、21B)が接合されて中間体20を構成す
る。中間体20には、図8に示すように磁気ギャップ7
が形成される一方の端面21aに、加工砥石50を用い
てトラック幅規制溝9、10を形成する研削加工が施さ
れる。各トラック幅規制溝9、10は、所定の間隔を以
って互いに平行に形成されるとともに、磁気ギャップ7
にアジスマ角を付与する幅方向に対して所定の角度が付
された傾斜溝として形成されてなる。中間体20には、
隣り合う各トラック幅規制溝9、10によって切り残さ
れて複数条の凸状部28が構成される。これら凸状部2
8は、磁気テープ当り面11を構成する。なお、各トラ
ック幅規制溝9、10は、アジスマ角を0°とした直線
状の溝であってもよいことは勿論である。また、各トラ
ック幅規制溝9、10は、その底面が平面形状とされた
が、例えばV字状であってもよい。
As shown in FIG. 7, the base material 21 is formed by melting the glass rod filled in the glass filling groove 23 after the above-described steps, and using the main surface 21a as a bonding surface as a pair (21A, 21B). Are joined to form an intermediate body 20. The intermediate body 20 has a magnetic gap 7 as shown in FIG.
Is formed on one end face 21a on which the track width regulating grooves 9 and 10 are formed using a processing grindstone 50. The track width regulating grooves 9 and 10 are formed parallel to each other at a predetermined interval, and
Is formed as an inclined groove having a predetermined angle with respect to the width direction in which an azimuth angle is provided. Intermediate 20 includes
A plurality of convex portions 28 are formed by being left uncut by the adjacent track width regulating grooves 9 and 10. These convex portions 2
Reference numeral 8 denotes a surface 11 for contacting the magnetic tape. It is needless to say that each of the track width regulating grooves 9 and 10 may be a linear groove having an azimuth angle of 0 °. In addition, although the bottom surface of each of the track width regulating grooves 9 and 10 has a planar shape, it may have, for example, a V-shape.

【0022】トラック幅規制溝9、10は、凸状部28
の幅寸法、詳細には磁気テープ当り面11に形成される
磁気ギャップ7の幅寸法を上述したように微細な記録ト
ラックの幅寸法tとほぼ一致させるように高寸法精度を
以って形成される。したがって、これらトラック幅規制
溝9、10の研削加工には、詳細を後述するように研削
面を高精度に仕上げ処理を施した加工砥石50が用いら
れ、側面が高精度の垂直面に仕上げられた磁気テープ当
り面11を形成する。中間体20には、各トラック幅規
制溝9、10にそれぞれ溶融ガラス29が充填される。
溶融ガラス29は、上述した補強ガラス部12を構成す
る部位であり、磁気テープ当り面11の外周縁の欠け等
の発生を防止するとともに磁気テープの当り幅を保持す
るようにする。
The track width regulating grooves 9 and 10 are
The width dimension of the magnetic gap 7 formed on the surface 11 of the magnetic tape, specifically, the width dimension of the magnetic recording tape 7 is formed with high dimensional accuracy so as to substantially coincide with the width dimension t of the fine recording track as described above. You. Therefore, for the grinding of the track width regulating grooves 9 and 10, a processing grindstone 50 having a ground surface subjected to a high-precision finishing process is used as described later in detail, and the side surface is finished to a high-precision vertical surface. The magnetic tape contact surface 11 is formed. The intermediate body 20 is filled with molten glass 29 in each of the track width regulating grooves 9 and 10.
The molten glass 29 is a part constituting the above-mentioned reinforcing glass portion 12 and prevents the occurrence of chipping of the outer peripheral edge of the contact surface 11 of the magnetic tape and keeps the contact width of the magnetic tape.

【0023】中間体20には、図9に示すように磁気テ
ープ摺動面8が形成された一方の端面20aを円弧状と
する円筒研削加工が施される。中間体20には、磁気テ
ープ当り面11を挟んだ各トラック幅規制溝9、10の
中央部からそれぞれスライシング加工が施されることに
よって、図10に示すように多数個のヘッドチップ30
に切り分けられてMIGヘッドチップを構成する。
As shown in FIG. 9, the intermediate body 20 is subjected to cylindrical grinding in which one end surface 20a on which the magnetic tape sliding surface 8 is formed is formed into an arc shape. The intermediate body 20 is subjected to slicing from the center of each of the track width regulating grooves 9 and 10 sandwiching the surface 11 of the magnetic tape, so that a large number of head chips 30 are formed as shown in FIG.
To form a MIG head chip.

【0024】加工砥石50は、砥石砥粒の粒径が0.5
μm乃至8μm、厚みが20μm乃至500μmの仕様
とされ、具体的にはリード株式会社製の製品名SD2/
4BZ057(Φ99−TO.2−X2)を用いた。加
工砥石50は、その外周面51のブレ取り処理を施すと
ともにトラック幅規制溝9、10の側面を研削する側面
52の整形処理が施される。すなわち、加工砥石50
は、図11に示すように回転駆動された状態でその側面
52に突当て板53が突き当てられるとともに、供給パ
イプ54から砥粒溶液55が連続して供給されることに
よってその整形処理が施される。加工砥石50は、図示
しない駆動機構によって毎分100乃至300回転で回
転駆動されるとともに、同図矢印xで示す方向に毎分8
0mmの速度でスライド移動される。
The grinding wheel 50 has a grinding stone particle size of 0.5.
μm to 8 μm and a thickness of 20 μm to 500 μm. Specifically, a product name SD2 /
4BZ057 (Φ99-TO.2-X2) was used. The processing grindstone 50 is subjected to a shaving process of the outer peripheral surface 51 and a shaping process of a side surface 52 for grinding the side surface of the track width regulating grooves 9 and 10. That is, the processing whetstone 50
As shown in FIG. 11, the abutment plate 53 is abutted against the side surface 52 while being rotated and the abrasive solution 55 is continuously supplied from the supply pipe 54 to perform the shaping process. Is done. The processing grindstone 50 is driven to rotate at 100 to 300 revolutions per minute by a drive mechanism (not shown), and at a speed of 8 min.
It is slid at a speed of 0 mm.

【0025】突当て板53には、幅が10mm、厚さが
1mmの真鍮板が用いられ、図示しない駆動機構により
加工砥石50の側面52と平行な方向(図11矢印x方
向)及び側面52と接離する方向(図11矢印y方向)
とにスライド移動される。なお、突当て板53には、砥
粒溶液55に対する耐化学特性を有する材料板、例えば
ガラス板等も用いてもよいが、ビッカース硬度が300
乃至1000程度の硬質材料によって高面精度に形成さ
れたものが用いられる。突当て板53は、加工砥石50
の砥粒を保持するとともに、その側面52の整形処理を
施す。
As the abutment plate 53, a brass plate having a width of 10 mm and a thickness of 1 mm is used, and a driving mechanism (not shown) is provided in a direction parallel to the side surface 52 of the processing grindstone 50 (in the direction of the arrow x in FIG. 11) and the side surface 52. (In the direction of arrow y in FIG. 11)
Is slid. A material plate having chemical resistance to the abrasive solution 55, for example, a glass plate or the like may be used as the butting plate 53, but the Vickers hardness is 300.
A material formed with a high surface accuracy from about 1000 to about 1000 hard materials is used. The butting plate 53 is formed by
And a shaping process of the side surface 52 is performed.

【0026】砥粒溶液55には、例えばグリーンカーボ
ン(GC)、ホワイトアルミナ(WA)或いはダイヤモ
ンド等の粉末砥粒を溶媒に溶解したものが用いられる。
砥粒粉末は、その砥粒粒径が加工砥石50の砥粒粒径と
ほぼ同径乃至は3倍(0.5μm乃至24μm)程度の
ものが用いられる。砥粒溶液55は、具体的には旭ダイ
ヤモンド製のGC#3000が用いられ、この砥粒粉末
を重量比0.5倍乃至5倍の純水を主体とする溶媒に混
ぜ合わせるとともに、これに界面活性剤を含んだ潤滑剤
を1/10乃至1/30の割合で添加して調製される。
溶媒には、水道水を用いてもよいが、塩素等の不純物の
影響により砥粒粉末の分散率に影響が生じることもある
ために、上述した純水を使用することが好ましい。
As the abrasive solution 55, a solution in which powder abrasives such as green carbon (GC), white alumina (WA) or diamond are dissolved in a solvent is used.
As the abrasive powder, one having an abrasive particle diameter substantially equal to or about three times (0.5 μm to 24 μm) the abrasive particle diameter of the processing whetstone 50 is used. As the abrasive solution 55, specifically, GC # 3000 made by Asahi Diamond is used, and this abrasive powder is mixed with a solvent mainly composed of pure water at a weight ratio of 0.5 to 5 times, and It is prepared by adding a lubricant containing a surfactant at a ratio of 1/10 to 1/30.
Tap water may be used as the solvent, but since the influence of impurities such as chlorine may affect the dispersion ratio of the abrasive powder, it is preferable to use the pure water described above.

【0027】加工砥石50には、上述した回転動作条件
で側面52に突当て板53が押し当てられるとともにこ
の突当て板53との間に砥粒溶液55が常時供給されて
整形処理が行われる。加工砥石50は、突当て板53を
上述した動作条件でx方向にスライド動作させた状態
で、y方向に1往復毎に0.2μm、累積で30μm乃
至40μm移動される。加工砥石50は、かかる仕上げ
処理を施すことにより、側面52が中心線表面粗さを
0.5μm乃至2μmの面精度を以って仕上げられる。
An abutment plate 53 is pressed against the side surface 52 under the above-described rotating operation conditions, and an abrasive solution 55 is constantly supplied between the abutment plate 53 and the working grindstone 50 to perform a shaping process. . The working grindstone 50 is moved by 0.2 μm for each reciprocation in the y direction and cumulatively 30 μm to 40 μm in the y direction while the abutment plate 53 is slid in the x direction under the above-described operating conditions. By performing such a finishing process, the processing grindstone 50 is finished with the side surface 52 having a center line surface roughness of 0.5 μm to 2 μm with a surface accuracy of 0.5 μm to 2 μm.

【0028】加工砥石50は、上述した側面52の仕上
げ処理を施した後に慣らし研削を行って、図12に示す
ように中間体20にトラック幅規制溝9、10を研削す
るために用いられる。加工砥石50は、多結晶フェライ
ト基板を300mm研削した後に、単結晶フェライトブ
ロックを100mm研削する慣らし研削が行われる。加
工砥石50は、毎分8000回転、加工テーブルの移動
速度が毎分30mmの加工条件によって、10本の2m
m幅中間体20の端面20aにトラック幅規制溝9、1
0を研削する。
The working grindstone 50 is used to grind the track width regulating grooves 9 and 10 in the intermediate body 20 as shown in FIG. After grinding the polycrystalline ferrite substrate by 300 mm, the processing grindstone 50 is subjected to break-in grinding in which the single crystal ferrite block is ground by 100 mm. The processing whetstone 50 is 8000 revolutions per minute, and the moving speed of the processing table is 30 mm per minute.
The track width regulating grooves 9 and 1 are formed in the end face 20a of the m-width intermediate body 20.
Grind 0.

【0029】加工砥石50について、その側面52に上
述した整形処理を施した場合と従来の電着ドレッサによ
る整形処理を施こした場合とについて、図13に示すよ
うにレーザ変位計60を用いてそれぞれの面粗さの測定
を行った。レーザ変位計60には、KEYENCE社製
レーザ変位計(LS2420&LS2400)を用い、
加工砥石50の側面52にレーザを照射し、反射レーザ
の変位により表面粗さを測定した。それぞれの測定結果
は、図14及び図15に示す通りであった。なお、これ
らの図において、縦軸は側面52の振れ量(μm)であ
り、横軸は検出位置を示している。
As shown in FIG. 13, a laser grindstone 60 is used for a case where the above-described shaping process is performed on the side surface 52 of the processing grindstone 50 and a case where the shaping process is performed using a conventional electrodeposition dresser. Each surface roughness was measured. As the laser displacement meter 60, a laser displacement meter (LS2420 & LS2400) manufactured by KEYENCE CORPORATION is used.
Laser was applied to the side surface 52 of the processing grindstone 50, and the surface roughness was measured by the displacement of the reflected laser. Each measurement result was as shown in FIG. 14 and FIG. In these figures, the vertical axis indicates the amount of shake (μm) of the side surface 52, and the horizontal axis indicates the detection position.

【0030】加工砥石50は、図14から明らかなよう
に、側面52に上述した仕上げ処理を施すことによっ
て、この側面52が中心線表面粗さを2μm以下とする
とともに、その振れ量の範囲も1.6μmと凹凸が極め
て小さな高面精度を以って形成される。一方、従来の加
工砥石は、図15から明らかなように、側面の振れ量の
範囲が4.2μmと凹凸がやや大きな表面粗さであっ
た。
As is apparent from FIG. 14, the processing grindstone 50 is provided with the above-described finishing treatment on the side surface 52 so that the side surface 52 has a center line surface roughness of 2 μm or less and a range of the amount of runout. The irregularities of 1.6 μm are formed with extremely small surface accuracy. On the other hand, as is apparent from FIG. 15, the conventional processing grindstone had a slightly large surface roughness with a range of side runout of 4.2 μm.

【0031】また、上述した側面52の整形処理を施し
た加工砥石50を用いて中間体20にトラック幅規制溝
9、10の研削加工を行い、これらトラック幅規制溝
9、10によって切り残されて磁気テープ当り面11と
なる凸状部28の幅寸法を測定した結果を図16に示
す。また、従来の方法により側面の整形処理を施した加
工砥石を用いて中間体20にトラック幅規制溝9、10
の研削加工を行い、これらトラック幅規制溝9、10に
よって切り残されて磁気テープ当り面11となる凸状部
28の幅寸法を測定した結果を図17に示す。各凸状部
28の幅寸法の測定は、図12矢印で示すトラック幅規
制溝9、10の研削加工の加工開始側から加工終了側に
向かって、80個の凸状部28について順次測定した。
なお、図16及び図17において、縦軸は各凸状部28
の幅寸法を、横軸は各凸状部28を示している。
The intermediate body 20 is subjected to grinding of the track width regulating grooves 9 and 10 by using the processing grindstone 50 on which the above-described side surface 52 has been shaped. FIG. 16 shows the result of measuring the width dimension of the convex portion 28 serving as the surface 11 of the magnetic tape. Also, the track width regulating grooves 9, 10 are formed in the intermediate body 20 by using a processing grindstone whose side surface has been shaped by a conventional method.
FIG. 17 shows the result of measurement of the width dimension of the convex portion 28 which is cut off by the track width regulating grooves 9 and 10 and becomes the surface 11 for contacting the magnetic tape. The measurement of the width dimension of each convex portion 28 was sequentially performed for 80 convex portions 28 from the processing start side to the processing end side of the grinding of the track width regulating grooves 9 and 10 shown by arrows in FIG. .
In FIGS. 16 and 17, the vertical axis represents each convex portion 28.
The abscissa indicates each convex portion 28.

【0032】各凸状部28は、側面52に上述した整形
処理が施こされた加工砥石50を用いてトラック幅規制
溝9、10の研削加工が行われることで、図16から明
らかなように加工開始時に多少のバラツキが生じるもの
の、全体として変動範囲がほぼ1.7μm以内でバラツ
キが少なく高精度に形成される。一方、各凸状部28
は、従来の加工砥石を用いてトラック幅規制溝9、10
の研削加工が行われることで、図17から明らかなよう
に研削加工の加工開始側から加工終了側とでその変動範
囲が3.5μmと大きなバラツキを以って形成される。
As shown in FIG. 16, each of the convex portions 28 is formed by grinding the track width regulating grooves 9 and 10 using the processing grindstone 50 having the side surface 52 subjected to the above-described shaping process. Although some variation occurs at the start of processing, the variation range is within 1.7 μm as a whole, and the variation is small and high precision is formed. On the other hand, each convex portion 28
Are formed using conventional processing whetstones.
As shown in FIG. 17, the variation range is 3.5 μm from the processing start side to the processing end side of the grinding process with a large variation.

【0033】したがって、加工砥石50は、上述した側
面52の整形処理が施されることによって、バラツキが
少なくかつ高精度の各トラック幅規制溝9、10を効率
的に形成する。MIGヘッド1は、これによって歩留り
よく製造されるようになるとともに、磁気テープ当り面
11が微細な記録トラックの幅tに対応してバラツキの
小さい極めて高精度に形成される。したがって、MIG
ヘッド1は、狭記録ピッチ、狭トラック化仕様のメタル
テープに対して情報信号等を高精度に記録再生する。
Therefore, by performing the above-described shaping process on the side surface 52, the processing grindstone 50 efficiently forms the track width regulating grooves 9, 10 with little variation and high accuracy. As a result, the MIG head 1 can be manufactured with a high yield, and the surface 11 for contacting the magnetic tape is formed with extremely small accuracy corresponding to the width t of the fine recording track. Therefore, MIG
The head 1 records and reproduces information signals and the like with high accuracy on a metal tape having a narrow recording pitch and a narrow track specification.

【0034】ところで、加工砥石50においては、図1
8(a)に示すように、粒度が大きい、換言すれば粒径
の小さな粉末砥粒を混合した砥粒溶液55を用いて上述
した側面52の整形処理が施されることによって、トラ
ック幅規制溝9、10をより高精度に形成して記録トラ
ック幅の変動量を小さくする。加工砥石50は、この場
合砥粒溶液55による研削効率が劣化することから、側
面52の仕上げ処理に要する時間が長くなる。
By the way, in the processing whetstone 50, FIG.
As shown in FIG. 8A, the above-described shaping process of the side surface 52 is performed by using the abrasive solution 55 in which powder abrasives having a large particle size, in other words, a powder particle having a small particle size are mixed. The grooves 9 and 10 are formed with higher precision to reduce the amount of change in the recording track width. In this case, since the grinding efficiency of the processing whetstone 50 is deteriorated by the abrasive solution 55, the time required for the finish processing of the side surface 52 becomes longer.

【0035】一方、加工砥石50は、同図に示すよう
に、粒度が小さな粉末砥粒を混合した砥粒溶液55を用
いて側面52の整形処理を施すことによって、トラック
幅規制溝9、10の寸法精度が劣化することで記録トラ
ック幅の変動量も大きくなる。加工砥石50は、この場
合砥粒溶液55による研削効率が大きいことから、側面
52の整形処理に要する時間の短縮化が図られるように
なる。
On the other hand, as shown in the figure, the processing grindstone 50 is formed by shaping the side surface 52 using an abrasive solution 55 mixed with powder abrasive grains having a small particle size, so that the track width regulating grooves 9, 10 are formed. As the dimensional accuracy of the recording medium deteriorates, the amount of change in the recording track width also increases. In this case, the processing grindstone 50 has a high grinding efficiency with the abrasive solution 55, so that the time required for the shaping process of the side surface 52 can be reduced.

【0036】すなわち、400番の粉末砥粒を混合した
砥粒溶液55を用いて上述した側面52の整形処理を行
った加工砥石50aについては、図18(b)に示すよ
うに、記録トラック幅の変動量が3.5μm、その処理
時間が11分であった。かかる加工砥石50aは、記録
トラック幅の変動量について、従来の加工砥石との有為
差が得られなかった。また、2000番の粉末砥粒を混
合した砥粒溶液55を用いて上述した側面52の整形処
理を行った加工砥石50bについては、記録トラック幅
の変動量が2.6μm、その処理時間が32分であっ
た。加工砥石50bは、側面52の整形処理にやや時間
がかかったが、記録トラック幅の変動量を抑制したトラ
ック幅規制溝9、10を形成する。
That is, as shown in FIG. 18 (b), for the processing whetstone 50a which has been subjected to the above-mentioned shaping treatment of the side surface 52 using the abrasive solution 55 mixed with the # 400 powder abrasive, the recording track width is as shown in FIG. Was 3.5 μm, and the processing time was 11 minutes. With this processing grindstone 50a, no significant difference was obtained with respect to the variation amount of the recording track width from the conventional processing whetstone. Further, with respect to the processing grindstone 50b which has been subjected to the above-mentioned shaping processing of the side surface 52 using the abrasive solution 55 mixed with # 2000 powder abrasive, the fluctuation amount of the recording track width is 2.6 μm, and the processing time is 32 μm. Minutes. The processing grindstone 50b forms the track width regulating grooves 9, 10 in which the shaping process of the side surface 52 took a little time, but the amount of fluctuation of the recording track width was suppressed.

【0037】3000番の粉末砥粒を混合した砥粒溶液
55を用いて上述した側面52の整形処理を行った加工
砥石50cについては、記録トラック幅の変動量が1.
7μm、その処理時間が45分であった。加工砥石50
cは、側面52の整形処理にさらに時間を要したが、記
録トラック幅の変動量を大幅に抑制したトラック幅規制
溝9、10を形成する。4000番の粉末砥粒を混合し
た砥粒溶液55を用いて上述した側面52の整形処理を
行った加工砥石50dについては、記録トラック幅の変
動量が1.4μm、その処理時間が59分であった。加
工砥石50dは、側面52の整形処理にさらに時間を要
したが、記録トラック幅の変動量を大幅に抑制した高精
度のトラック幅規制溝9、10を形成する。
With respect to the processing grindstone 50c which has been subjected to the above-described shaping process of the side surface 52 using the abrasive solution 55 mixed with the # 3000 powder abrasive, the fluctuation amount of the recording track width is 1.
7 μm, and the processing time was 45 minutes. Processing whetstone 50
c forms the track width regulating grooves 9 and 10 in which the time required for the shaping process of the side surface 52 is longer, but the fluctuation amount of the recording track width is largely suppressed. For the processing grindstone 50d obtained by performing the shaping process on the side surface 52 using the abrasive solution 55 mixed with the 4000th powder abrasive, the fluctuation amount of the recording track width is 1.4 μm, and the processing time is 59 minutes. there were. The processing grindstone 50d forms the high-precision track width regulating grooves 9 and 10 in which the time required for the shaping process of the side surface 52 is longer, but the fluctuation amount of the recording track width is largely suppressed.

【0038】なお、図18(c)は、砥粒或いは砥石の
粒度と番手に対する粒径の対応表であり、例えば400
番の粉末砥粒は粒径が40μm乃至60μmであり、2
000番の粉末砥粒は粒径が3μm乃至8μm、300
0番の粉末砥粒は粒径が2μm乃至6μm、4000番
の粉末砥粒は粒径が2μm乃至4μmである。
FIG. 18C is a table showing the correspondence between the grain size of the abrasive grains or the grindstone and the grain size with respect to the count.
The powder abrasive of No. 4 has a particle size of 40 μm to 60 μm,
No. 000 powder abrasive grains have a particle size of 3 μm to 8 μm, 300
No. 0 powder abrasive has a particle size of 2 μm to 6 μm, and No. 4000 powder abrasive has a particle size of 2 μm to 4 μm.

【0039】したがって、MIGヘッド1は、トラック
幅規制溝9、10の研削加工に、上述したように200
0番乃至5000番、粒径で0.5μm乃至8μmの仕
様の加工砥石50が用いられる。また、MIGヘッド1
は、外周面51の整形処理を施した後に、600番乃至
5000番、粒径で0.5μm乃至24μmの粉末砥粒
を混合した砥粒溶液55を供給して側面52の整形処理
を施すことにより、この側面52が中心線表面粗さを
0.5μm乃至2μmに保持された加工砥石50によっ
て、トラック幅規制溝9、10の研削加工が行われる。
Therefore, the MIG head 1 is used for grinding the track width regulating grooves 9 and 10 as described above.
A working grindstone 50 having a specification of No. 0 to No. 5000 and a particle size of 0.5 μm to 8 μm is used. MIG head 1
After shaping the outer peripheral surface 51, supply the abrasive solution 55 mixed with powder abrasives of No. 600 to No. 5000 and having a particle size of 0.5 μm to 24 μm to perform shaping of the side surface 52. Accordingly, the track width regulating grooves 9 and 10 are ground by the processing grindstone 50 in which the side surface 52 has a center line surface roughness of 0.5 μm to 2 μm.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明にか
かる磁気ヘッドの加工方法によれば、少なくとも一方の
コア半体のギャップ構成面に金属磁性膜が成膜形成され
るとともに加工砥石によりトラック幅規制溝が研削加工
される磁気ヘッドに適用され、トラック幅規制溝の研削
加工が、外周面の整形処理を施した後に、粉末砥粒を溶
解した砥粒溶液が供給されて側面の整形処理を施した加
工砥石を用いて研削加工を施すようにする。したがっ
て、本発明にかかる磁気ヘッドの加工方法によれば、研
削面が高精度に仕上げられた加工砥石によって高精度の
トラック幅規制溝が連続して形成されることで、狭記録
ピッチ、狭トラック化仕様の記録媒体に対して情報信号
等を高精度に記録再生する信頼性が高くかつ入出力特性
の向上が図られた磁気ヘッドを効率的に製造することが
可能となる。
As described above in detail, according to the magnetic head processing method of the present invention, a metal magnetic film is formed on at least one of the core halves at the gap-constituting surface, and the processing whetstone is used. The track width regulating groove is applied to a magnetic head that is ground, and the grinding of the track width regulating groove is performed after the outer peripheral surface is shaped, and then an abrasive solution in which powder abrasive is dissolved is supplied to form the side surface. Grinding is performed using the processed grinding wheel. Therefore, according to the magnetic head processing method of the present invention, a high-precision track width regulating groove is continuously formed by a processing grindstone whose grinding surface is finished with high precision, thereby achieving a narrow recording pitch and a narrow track. It is possible to efficiently manufacture a magnetic head that has high reliability for recording and reproducing information signals and the like with high accuracy on a recording medium of a general specification and has improved input / output characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】MIGヘッドと、トラック幅規制溝を研削する
加工砥石とを説明する一部切欠き要部斜視図である。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view illustrating a MIG head and a processing grindstone for grinding a track width regulating groove.

【図2】MIGヘッドの要部平面図である。FIG. 2 is a plan view of a main part of the MIG head.

【図3】MIGヘッドの製造工程の説明図であり、基材
の斜視図である。
FIG. 3 is an explanatory view of a manufacturing process of the MIG head, and is a perspective view of a base material.

【図4】同製造工程の説明図であり、ディプス規制溝を
構成する凹溝を形成した状態を示す図である。
FIG. 4 is an explanatory view of the manufacturing process, showing a state in which a concave groove that forms a depth regulating groove is formed.

【図5】同製造工程の説明図であり、軟磁性金属膜層を
成膜形成した状態を示す図である。
FIG. 5 is an explanatory view of the manufacturing process, showing a state in which a soft magnetic metal film layer is formed.

【図6】同製造工程の説明図であり、ギャップ膜を構成
するAuを成膜形成した状態を示す図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of the manufacturing process, showing a state in which Au forming a gap film is formed.

【図7】同製造工程の説明図であり、基材を接合して中
間体を構成した状態を示す図である。
FIG. 7 is an explanatory view of the manufacturing process, and is a view showing a state in which a base material is joined to form an intermediate.

【図8】同製造工程の説明図であり、中間体の一方端面
にトラック幅規制溝を形成した状態を示す図である。
FIG. 8 is an explanatory view of the manufacturing process, showing a state where a track width regulating groove is formed on one end surface of the intermediate body.

【図9】同製造工程の説明図であり、中間体の一方の端
面を円弧状とした状態を示す図である。
FIG. 9 is an explanatory view of the manufacturing process, showing a state where one end face of the intermediate body is formed in an arc shape.

【図10】同製造工程の説明図であり、切り分けられた
ヘッドチップを示す図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram of the manufacturing process, showing a cut head chip.

【図11】加工砥石の側面の整形処理を説明する図であ
る。
FIG. 11 is a diagram illustrating a shaping process of a side surface of a processing grindstone.

【図12】加工砥石を用いたトラック幅規制溝の研削加
工の説明図である。
FIG. 12 is an explanatory diagram of a grinding process of a track width regulating groove using a processing grindstone.

【図13】加工砥石の側面の表面粗さを測定する説明図
である。
FIG. 13 is an explanatory diagram for measuring the surface roughness of a side surface of a processing whetstone.

【図14】整形処理を施した加工砥石について、その側
面の表面粗さを測定した結果を示した図である。
FIG. 14 is a view showing a result of measuring a surface roughness of a side surface of a processing whetstone subjected to a shaping process.

【図15】従来の加工砥石について、その側面の表面粗
さを測定した結果を示した図である。
FIG. 15 is a view showing the result of measuring the surface roughness of the side surface of a conventional processing whetstone.

【図16】側面の整形処理を施した加工砥石によって研
削されたトラック幅規制溝により構成される磁気テープ
当たり面の寸法特性図である。
FIG. 16 is a dimensional characteristic diagram of a contact surface of a magnetic tape formed by a track width regulating groove ground by a processing grindstone having a side surface shaping process.

【図17】従来の加工砥石によって研削されたトラック
幅規制溝により構成される磁気テープ当たり面の寸法特
性図である。
FIG. 17 is a dimensional characteristic diagram of a magnetic tape contact surface formed by a track width regulating groove ground by a conventional processing grindstone.

【図18】加工砥石の側面に整形処理を施す際に用いる
砥粒溶液に混合される粉末砥粒の粒度と仕上げ時間及び
形成される記録トラック幅の変動量との特性を説明する
図であり、同図(a)は特性図、同図(b)は代表例の
一覧表であり、同図(c)は粒度(番手)と粒径の対応
表である。
FIG. 18 is a diagram illustrating characteristics of a particle size of powder abrasive grains mixed with an abrasive solution used for performing a shaping process on a side surface of a processing whetstone, a finishing time, and a variation amount of a formed recording track width. (A) is a characteristic diagram, (b) is a list of typical examples, and (c) is a correspondence table of particle size (count) and particle size.

【図19】従来のMIGヘッドの要部平面図である。FIG. 19 is a plan view of a main part of a conventional MIG head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 MIGヘッド(磁気ヘッド)、2,3 コア半体、
4 非磁性材、5,6軟磁性金属膜層、7 磁気ギャッ
プ、8 磁気テープ摺動面、9,10 トラック幅規制
溝、11 磁気テープ当り面、12 補強ガラス部、1
3 ディプス規制溝、14 巻き線ガイド溝、20 中
間体、21 基材、28 凸状部、50 加工砥石、5
1 外周面、52 側面、53 突当て板、54 供給
パイプ、55 砥粒溶液
1 MIG head (magnetic head), 2-3 core halves,
4 Non-magnetic material, 5,6 soft magnetic metal film layer, 7 Magnetic gap, 8 Magnetic tape sliding surface, 9,10 Track width regulating groove, 11 Magnetic tape contact surface, 12 Reinforced glass part, 1
3 depth regulating groove, 14 winding guide groove, 20 intermediate, 21 base material, 28 convex portion, 50 processing whetstone, 5
1 outer peripheral surface, 52 side surface, 53 butting plate, 54 supply pipe, 55 abrasive solution

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 5/127 G11B 5/127 S (72)発明者 佐々木 将之 宮城県登米郡中田町宝江新井田字加賀野境 30番地 ソニー・プレシジョン・マグネ株 式会社内 (72)発明者 今野 昌弘 宮城県登米郡中田町宝江新井田字加賀野境 30番地 ソニー・プレシジョン・マグネ株 式会社内 Fターム(参考) 3C047 FF03 GG20 3C049 AA03 AA07 AC04 CA05 5D093 AA01 BB05 FA16 FA18 FA26 5D111 AA22 BB17 GG14 GG16 HH16 JJ24 KK01 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G11B 5/127 G11B 5/127 S (72) Inventor Masayuki Sasaki Takae, Nakata-cho, Tome-gun, Miyagi Prefecture No. 30 Sony Precision Magne Co., Ltd. (72) Inventor Masahiro Konno No. 30 Kagono Border, Takae Niida, Nakata-cho, Tome-gun, Miyagi Prefecture No. 30 Sony Precision Magne Co., Ltd. F-term (reference) AC04 CA05 5D093 AA01 BB05 FA16 FA18 FA26 5D111 AA22 BB17 GG14 GG16 HH16 JJ24 KK01

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも一方のコア半体のギャップ構
成面に金属磁性膜が成膜形成されるとともに加工砥石に
より磁気テープ摺動面に記録トラックの幅に対応した凸
状の磁気テープ当り面を構成するトラック幅規制溝の研
削加工を施す磁気ヘッドの加工方法において、 上記トラック幅規制溝の研削加工には、外周面の仕上げ
加工を施した後に、粉末砥粒を溶解した砥粒溶液が供給
されて側面の整形処理を施した上記加工砥石が用いられ
ることを特徴とする磁気ヘッドの加工方法。
A metal magnetic film is formed on at least one of the core halves of a gap forming surface, and a convex grind surface corresponding to the width of a recording track is formed on a magnetic tape sliding surface by a working grindstone. In the magnetic head processing method for grinding the track width regulating groove to be formed, the grinding of the track width regulating groove is performed by supplying an abrasive solution in which powder abrasive is dissolved after finishing the outer peripheral surface. A method for processing a magnetic head, comprising using the above-mentioned processing whetstone subjected to a shaping process on a side surface.
【請求項2】 上記仕上げ砥粒溶液は、溶媒にグリーン
カーボン、ホワイトアルミナ或いはダイヤモンド等の粉
末砥粒が混合されて調製されてなることを特徴とする請
求項1に記載の磁気ヘッドの加工方法。
2. The magnetic head processing method according to claim 1, wherein the finishing abrasive solution is prepared by mixing a powder abrasive such as green carbon, white alumina or diamond with a solvent. .
【請求項3】 上記加工砥石には、厚みが20μm乃至
500μm、砥粒の粒径が0.5μm乃至8μmの仕様
の加工砥石が用いられるとともに、 上記加工砥石に対して粒径が0.5μm乃至24μmの
粉末砥粒を溶媒に混合した上記仕上げ砥粒溶液が供給さ
れて側面の整形処理を施すことを特徴とする請求項1に
記載の磁気ヘッドの加工方法。
3. A grinding wheel having a thickness of 20 μm to 500 μm and a grain size of abrasive grains of 0.5 μm to 8 μm is used for the grinding wheel, and the grain diameter is 0.5 μm to the grinding wheel. 2. The magnetic head processing method according to claim 1, wherein the finishing abrasive grain solution obtained by mixing powder abrasive grains having a diameter of about 24 [mu] m with a solvent is supplied to perform side shaping processing.
【請求項4】 上記仕上げ砥粒溶液は、粉末砥粒を重量
比で0.5倍乃至5倍の水体を主とする溶媒に混ぜ合わ
せてなる混合溶液に対して、界面活性剤を含んだ潤滑剤
が1/10乃至1/30倍添加されて調製されてなるこ
とを特徴とする請求項1に記載の磁気ヘッドの加工方
法。
4. The above-mentioned finishing abrasive solution contains a surfactant in a mixed solution obtained by mixing powder abrasives with a solvent mainly composed of a water body at a weight ratio of 0.5 to 5 times. 2. The magnetic head processing method according to claim 1, wherein the lubricant is prepared by adding 1/10 to 1/30 times the lubricant.
【請求項5】 上記加工砥石には、その側面にビッカー
ス硬度が300乃至1000のガラス材や真鍮等によっ
て形成された突当て板が突き当てられ、この突当て板に
より砥粒を保持された状態で上記仕上げ砥粒溶液が供給
されてその整形処理が施されることを特徴とする請求項
1に記載の磁気ヘッドの加工方法。
5. An abutting plate made of glass material or brass having a Vickers hardness of 300 to 1000 is abutted against the side surface of the processing whetstone, and the abrasive grains are held by the abutting plate. 2. The magnetic head processing method according to claim 1, wherein the finishing abrasive solution is supplied and shaping is performed.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102581717A (en) * 2012-03-27 2012-07-18 安徽大地熊新材料股份有限公司 Method for processing neodymium-iron-boron inclined tiles and special fixture

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