JP2001155305A - Method for machining magnetic head - Google Patents

Method for machining magnetic head

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JP2001155305A
JP2001155305A JP33496899A JP33496899A JP2001155305A JP 2001155305 A JP2001155305 A JP 2001155305A JP 33496899 A JP33496899 A JP 33496899A JP 33496899 A JP33496899 A JP 33496899A JP 2001155305 A JP2001155305 A JP 2001155305A
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JP
Japan
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processing
magnetic
abrasive
outer peripheral
track width
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JP33496899A
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Japanese (ja)
Inventor
Norikatsu Fujisawa
憲克 藤澤
Junichi Honda
順一 本多
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture a magnetic head in which a high precision track width regulating groove is efficiently cut and in which high reliability and improved input/output characteristics are realized. SOLUTION: This method is applied to a magnetic head 1 where metallic magnetic films 5, 6 are formed on the gap-constituting faces of core halves 2, 3 and track width regulating grooves 9, 10 constituting a projected magnetic tape working face 11 corresponding to a recording track width are prepared by cutting/machining on a magnetic tape sliding face 8 by means of a grinding stone 50. In the cutting/machining of the track width regulating grooves 9, 10, the grinding stone 50 is used on which a shaping process is performed on the outer circumferential face 51 after another shaping process is performed on the side face 52.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ヘッドの加工
方法に関し、さらに詳しくは高抗磁気記録媒体に対する
情報信号等の記録再生を行う場合に用いられるメタル・
イン・ギャップ型磁気ヘッド等に適用して好適な磁気ヘ
ッドの加工方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head processing method, and more particularly, to a metal head used for recording and reproducing information signals and the like on a high coercive magnetic recording medium.
The present invention relates to a magnetic head processing method suitable for an in-gap type magnetic head and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気記録再生装置においては、情報信号
等の高密度記録化、短波長化の対応が図られており、こ
のため高い抗磁力と残留磁気密度特性を有して狭記録ピ
ッチ、狭トラック化仕様の磁気テープに対して、高精度
の磁気ヘッドが用いられて情報信号等の記録再生が行わ
れる。かかる磁気記録再生装置には、例えば非磁性支持
体上に形成される磁性層に磁性粉として強磁性粉末が用
いられたいわゆるメタルテープや、強磁性金属材料を蒸
着法等によって非磁性支持体上に直接成膜したいわゆる
蒸着テープ等が用いられる。また、磁気記録再生装置に
は、例えば磁性酸化物材料によって主コアを形成すると
ともに、磁気ギャップの構成面に軟磁性金属磁性材料か
らなる金属磁性薄膜を形成したいわゆるメタル・イン・
ギャップ型磁気ヘッド(以下、MIGヘッドと略称す
る。)100が用いられる。
2. Description of the Related Art In a magnetic recording / reproducing apparatus, high-density recording and short-wavelength recording of information signals and the like have been achieved. A high-precision magnetic head is used to record and reproduce information signals and the like on a magnetic tape with a narrow track specification. Such a magnetic recording / reproducing apparatus includes, for example, a so-called metal tape in which a ferromagnetic powder is used as a magnetic powder in a magnetic layer formed on a nonmagnetic support, or a ferromagnetic metal material formed on a nonmagnetic support by a vapor deposition method or the like. A so-called evaporation tape or the like directly formed on the substrate is used. Further, the magnetic recording / reproducing apparatus has a so-called metal-in-metal structure in which a main core is formed of, for example, a magnetic oxide material, and a metal magnetic thin film made of a soft magnetic metal magnetic material is formed on a constituent surface of a magnetic gap.
A gap type magnetic head (hereinafter, abbreviated as MIG head) 100 is used.

【0003】すなわち、MIGヘッド100は、図21
に示したように、一対のコア半体101、102をガラ
ス103によって一体に接合し、互いに突き合わされた
磁気ギャップ形成面によって磁気ギャップ104を構成
してなる。MIGヘッド100は、磁気テープの摺動面
にトラック幅規制溝105、106の研削工程を施すこ
とによって、この磁気ギャップ104が記録媒体の記録
トラック幅tとほぼ等しく構成されてなる。また、MI
Gヘッド100には、これら一対の磁気コア半体10
1、102の磁気ギャップ構成面に、金属磁性薄膜10
7、108がそれぞれ成膜形成される。
[0003] In other words, the MIG head 100 is configured as shown in FIG.
As shown in (1), a pair of core halves 101 and 102 are integrally joined by a glass 103, and a magnetic gap 104 is formed by a magnetic gap forming surface butted against each other. The MIG head 100 has a configuration in which the magnetic gap 104 is substantially equal to the recording track width t of the recording medium by performing a grinding step of the track width regulating grooves 105 and 106 on the sliding surface of the magnetic tape. Also, MI
The G head 100 includes the pair of magnetic core halves 10.
The metal magnetic thin film 10
7 and 108 are each formed as a film.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、MIGヘッ
ド100においては、トラック幅規制溝105、106
の加工精度に限界があり、図21に示すようにそれぞれ
の両側面105a、106aが磁気ギャップ104を挟
んで対向する傾斜面を構成するようになる。したがっ
て、MIGヘッド100においては、これら両側面10
5a、106aにおいて漏洩磁束が生じ、これによって
磁気記録媒体に対して規定の記録トラック幅を越えて情
報信号等の記録再生が行われるために精度が劣化すると
いった問題があった。
Incidentally, in the MIG head 100, the track width regulating grooves 105, 106 are provided.
There is a limit to the processing accuracy of the above, and as shown in FIG. 21, both side surfaces 105a and 106a form inclined surfaces opposed to each other with the magnetic gap 104 therebetween. Therefore, in the MIG head 100, these side surfaces 10
Leakage magnetic fluxes are generated in the magnetic recording media 5a and 106a, and recording and reproduction of information signals and the like are performed on a magnetic recording medium beyond a specified recording track width, thereby deteriorating accuracy.

【0005】このため、MIGヘッド100において
は、磁気ギャップ104を記録トラックの幅寸法に対応
した所定の幅寸法とするために、コア半体101、10
2を一体化した状態において磁気テープ摺動面に対して
ブレード砥石を用いて磁気テープ当り面を凸状とするよ
うにトラック幅規制溝105、106を削成する研削加
工が施される。かかるトラック幅規制溝の研削加工にお
いては、微小な幅の磁気テープ当り面を構成するトラッ
ク幅規制溝を高精度に形成することが要求されるととも
に、この加工精度を保持したままで多くのトラック幅規
制溝を形成しなければならない。従来の研削方法におい
ては、側面を例えばSD3000の電着ドレッサーによ
って仕上げを施すとともに外周面をSD400の電着ド
レッサーによって仕上げた加工砥石を用いて、トラック
幅規制溝105、106の研削を行っていた。
Therefore, in the MIG head 100, in order to make the magnetic gap 104 a predetermined width corresponding to the width of the recording track, the core halves 101, 10
In a state in which the magnetic tape 2 is integrated, a grinding process is performed on the sliding surface of the magnetic tape by using a blade grindstone to cut the track width regulating grooves 105 and 106 so that the contact surface of the magnetic tape becomes convex. In the grinding of such track width regulating grooves, it is required to form the track width regulating grooves constituting the contact surface of the magnetic tape of a minute width with high precision, and many tracks are maintained while maintaining the machining precision. A width regulating groove must be formed. In the conventional grinding method, the track width regulating grooves 105 and 106 are ground using a processing grindstone whose side surface is finished by, for example, an electrodeposited dresser of SD3000 and an outer peripheral surface is finished by an electrodeposited dresser of SD400. .

【0006】しかしながら、従来の研削方法において
は、かかる電着ドレッサーによる仕上げでは加工砥石の
外周面を充分な面精度を有する研削面として仕上げるこ
とが困難であったために、磁気テープ当り面を構成する
トラック幅規制溝105、106の形状変化が大きくな
るといった問題があった。このため、従来の磁気ヘッド
の加工方法においては、研削工程の条件によりトラック
幅規制溝が高精度に形成し得ないために、磁気テープ当
り面の幅と記録トラックの幅tにバラッキが生じMIG
ヘッド100の歩留りが悪いといった問題があった。
However, in the conventional grinding method, it is difficult to finish the outer peripheral surface of the processing whetstone as a ground surface having a sufficient surface accuracy by finishing with the electrodeposited dresser, so that the surface in contact with the magnetic tape is formed. There is a problem that the shape change of the track width regulating grooves 105 and 106 becomes large. For this reason, in the conventional magnetic head processing method, the track width regulating groove cannot be formed with high accuracy due to the conditions of the grinding process, and thus the width of the contact surface of the magnetic tape and the width t of the recording track vary, resulting in MIG.
There is a problem that the yield of the head 100 is poor.

【0007】また、加工砥石においては、電着ドレッサ
ーによって仕上げ処理が施される場合に、一般に外周縁
部位においてダレが生じ易い。このダレ量は、仕上げ側
の砥粒の粒径が大きいほど、より大きな量となる。加工
砥石は、従来外周面の仕上げ処理を施した後に側面の仕
上げ処理が施されることによって、外周縁部位が面取り
されたような状態を呈してトラック幅規制溝の精度を劣
化させるといった問題があった。
[0007] Further, in the case of a processing whetstone, when finishing treatment is performed by an electrodeposition dresser, dripping is generally likely to occur at an outer peripheral edge portion. The amount of sag increases as the grain size of the abrasive grains on the finishing side increases. The processing grindstone has a problem that the outer peripheral edge portion is chamfered by performing the side surface finishing process after the conventional outer peripheral surface finishing process is performed, thereby deteriorating the accuracy of the track width regulating groove. there were.

【0008】したがって、本発明は、上述した従来の問
題点を解消し、高精度のトラック幅規制溝を効率的に研
削して、信頼性が高く入出力特性が向上された磁気ヘッ
ドの製造を可能とした磁気ヘッドの加工方法を提供する
ことを目的に提案されたものである。
Therefore, the present invention solves the above-mentioned conventional problems and efficiently manufactures a highly accurate track width regulating groove to manufacture a magnetic head having high reliability and improved input / output characteristics. It has been proposed for the purpose of providing a magnetic head processing method that has become possible.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
本発明にかかる磁気ヘッドの加工方法は、少なくとも一
方のコア半体のギャップ構成面に金属磁性膜が成膜形成
されるとともに磁気テープ摺動面に記録トラックの幅に
対応した凸状の磁気テープ当り面を構成するトラック幅
規制溝が形成されてなる磁気ヘッドに適用される。磁気
ヘッドの加工方法は、トラック幅規制溝が、側面の整形
処理を施した後に、外周面の整形処理が施された加工砥
石を用いて研削加工が施されて形成される。
According to the present invention, there is provided a magnetic head processing method according to the present invention, in which a metal magnetic film is formed on at least one of the core halves at a gap forming surface and a magnetic tape slide is formed. The present invention is applied to a magnetic head in which a track width regulating groove which forms a convex magnetic tape contact surface corresponding to the width of a recording track is formed on a moving surface. In the magnetic head processing method, a track width regulating groove is formed by performing a shaping process on a side surface and then performing a grinding process using a processing grindstone having a shaping process on an outer peripheral surface.

【0010】磁気ヘッドの加工方法には、砥粒を混合し
て作製されたボードドレッサが外周面に突き当てられる
ことによりこの外周面の整形処理が行われた加工砥石が
用いられて、トラック幅規制溝の研削加工が施される。
また、磁気ヘッドの加工方法には、回転駆動された状態
で外周面に対して接離動作される突当て板が突き当てら
れるとともにこれら外周面と突当て板との間に粉末砥粒
を溶解した砥粒溶液が供給されてその外周面の整形処理
が行われた加工砥石が用いられて、トラック幅規制溝の
研削加工が施される。
[0010] In the method of processing the magnetic head, a processing whetstone is used in which a board dresser made by mixing abrasive grains is brought into contact with the outer peripheral surface to perform a shaping process on the outer peripheral surface. The control groove is ground.
Further, in the method of processing the magnetic head, an abutment plate that is moved toward and away from the outer peripheral surface while being rotated is abutted, and powder abrasive grains are melted between the outer peripheral surface and the abutment plate. The abrasive solution is supplied, and the outer peripheral surface is shaped and the grinding wheel is used to grind the track width regulating groove.

【0011】以上のように構成された本発明にかかる磁
気ヘッドの加工方法によれば、磁気テープ当り面を構成
するトラック幅規制溝を研削する加工砥石の研削面が高
精度に仕上げられることによって、バラツキの少ない高
精度のトラック幅規制溝を連続して形成する。したがっ
て、磁気ヘッドの加工方法によれば、凸状の磁気テープ
当り面を介して記録トラックの幅寸法に対応した磁気ギ
ャップが構成されることで、狭記録ピッチ、狭トラック
化仕様の記録媒体に対して情報信号等を高精度に記録再
生する信頼性が高くかつ入出力特性の向上が図られた磁
気ヘッドを効率的に製造する。
According to the magnetic head processing method of the present invention configured as described above, the grinding surface of the grinding wheel for grinding the track width regulating groove forming the surface of the magnetic tape can be finished with high precision. A high precision track width regulating groove with little variation is continuously formed. Therefore, according to the magnetic head processing method, the magnetic gap corresponding to the width dimension of the recording track is formed through the convex magnetic tape contact surface, so that a recording medium having a narrow recording pitch and a narrow track specification can be obtained. On the other hand, a magnetic head having high reliability for recording and reproducing information signals and the like with high accuracy and improved input / output characteristics is efficiently manufactured.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。実施の形態として
示す磁気ヘッドの加工方法は、狭記録ピッチ、狭トラッ
ク化仕様のメタルテープを用いる磁気記録再生装置に備
えられて情報信号等を記録再生する図1に示したMIG
ヘッド1の加工方法に適用される。勿論、本発明は、か
かるMIGヘッド1に限定されず、その他の高密度記録
対応型の磁気ヘッド、特にバルク型磁気ヘッド等のよう
なやや大型の磁気ヘッドに対して好適に適用される。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. The magnetic head processing method according to the embodiment is provided in a magnetic recording / reproducing apparatus using a metal tape with a narrow recording pitch and a narrow track specification, and records and reproduces information signals and the like shown in FIG.
The method is applied to the processing method of the head 1. Of course, the present invention is not limited to the MIG head 1 and is suitably applied to other high-density recording-compatible magnetic heads, particularly to a relatively large magnetic head such as a bulk type magnetic head.

【0013】MIGヘッド1は、基本的な構成を従来の
MIGヘッドと同様としており、単結晶フェライトや多
結晶フェライトを素材として所定の工程を経て製作され
た一対のコア半体2、3を突き合わせて溶融ガラス等の
非磁性材4によって一体化した中間材20に対して、詳
細を後述する研削工程を含む適宜の加工が施されて製造
される。MIGヘッド1の加工工程は、基本的な工程を
従来の加工工程とほぼ同等とし、工程や設備の大幅な変
更を要するものでは無い。
The MIG head 1 has a basic configuration similar to that of a conventional MIG head, and a pair of core halves 2 and 3 manufactured through a predetermined process using a single crystal ferrite or a polycrystal ferrite as a material are joined together. The intermediate member 20 integrated by the non-magnetic material 4 such as molten glass is subjected to an appropriate processing including a grinding step which will be described in detail later. The processing steps of the MIG head 1 are basically the same as the conventional processing steps, and do not require significant changes in the steps and equipment.

【0014】MIGヘッド1は、コア半体2、3が軟磁
性酸化物、例えばMn−Zn系フェライトやNi−Zn
系フェライト等の単結晶フェライトや多結晶フェライト
によって所定の形状に形成してなる。MIGヘッド1に
は、これらコア半体2、3の突き合わせ端面に軟磁性金
属膜層5、6が成膜形成されている。MIGヘッド1
は、上述したようにコア半体2、3を非磁性材4によっ
て一体に接合することにより、突き合わされた端部に非
磁性材4を介して軟磁性金属膜層5、6により磁気ギャ
ップ7を構成している。
In the MIG head 1, the core halves 2 and 3 are made of a soft magnetic oxide, for example, Mn-Zn ferrite or Ni-Zn.
It is formed in a predetermined shape by a single crystal ferrite such as a system ferrite or a polycrystal ferrite. In the MIG head 1, soft magnetic metal film layers 5 and 6 are formed on butted end faces of the core halves 2 and 3. MIG head 1
As described above, by joining the core halves 2 and 3 integrally with the nonmagnetic material 4 as described above, the magnetic gap 7 is formed at the butted ends by the soft magnetic metal film layers 5 and 6 via the nonmagnetic material 4. Is composed.

【0015】軟磁性金属膜層5、6には、その素材とし
て、例えばFe−Al−Si、Fe−Ni−Al−S
i、Fe−Ga−Si、Fe−Al−Ge等の結晶材料
に対してAu、Co、Ti、Cr、Nb、Mo、Ta、
Ru、Pd、N、C、O等を一種類以上添加した結晶質
材料が用いられる。また、軟磁性金属膜層5、6には、
その素材として、Coに主としてZr、Ta、Ti、H
f、Mo、Nb等を一種類以上添加したアモルファス材
料や、Co、Feに主としてZr、Ta、Ti、Hf、
Mo、Nb、Si、Al、B等を一種類以上とN、C、
O等を一種類以上添加した微結晶質材料が用いられる。
軟磁性金属膜層5、6は、これらを素材としてコア半体
2、3の相対する端面に、例えば蒸着法やスパッタリン
グ法等の薄膜形成方法によって成膜形成される。なお、
軟磁性金属膜層5、6については、コア半体2、3のい
ずれか一方の磁気ギャップ構成面に成膜形成するように
してもよいことは勿論である。
The soft magnetic metal film layers 5 and 6 are made of, for example, Fe--Al--Si or Fe--Ni--Al--S
Au, Co, Ti, Cr, Nb, Mo, Ta, i, Fe-Ga-Si, Fe-Al-Ge
A crystalline material to which one or more kinds of Ru, Pd, N, C, O and the like are added is used. Further, the soft magnetic metal film layers 5 and 6 include:
Its material is mainly Zr, Ta, Ti, H
f, Mo, Nb, and other amorphous materials, or Co, Fe, mainly Zr, Ta, Ti, Hf,
Mo, Nb, Si, Al, B, etc., at least one type and N, C,
A microcrystalline material to which one or more kinds of O and the like are added is used.
The soft magnetic metal film layers 5 and 6 are formed on the opposite end faces of the core halves 2 and 3 by using these materials as a thin film forming method such as a vapor deposition method or a sputtering method. In addition,
Of course, the soft magnetic metal film layers 5 and 6 may be formed on one of the magnetic gap forming surfaces of the core halves 2 and 3.

【0016】MIGヘッド1には、磁気ギャップ7が構
成された磁気テープ摺動面8の両側縁に沿って、長手方
向の全域に亘って互いに平行な一対のトラック幅規制溝
9、10が後述する研削工程により形成される。MIG
ヘッド1には、これらトラック幅規制溝9、10によっ
て切り残された磁気テープ摺動面8の中央領域に、凸状
の磁気テープ当り面11が長さ方向の全域に亘って構成
される。MIGヘッド1は、トラック幅規制溝9、10
の間隔を記録トラックtの幅とほぼ同等に形成すること
によって、磁気テープ当り面11の幅が記録トラックt
と同等とされている。MIGヘッド1には、磁気テープ
当り面11を補強するために、トラック幅規制溝9、1
0に補強ガラス12a、12bが充填される。
The MIG head 1 has a pair of track width regulating grooves 9 and 10 which are parallel to each other over the entire region in the longitudinal direction along both side edges of the magnetic tape sliding surface 8 where the magnetic gap 7 is formed. Formed by the following grinding process. MIG
In the head 1, a convex magnetic tape contact surface 11 is formed in the central region of the magnetic tape sliding surface 8 left uncut by the track width regulating grooves 9, 10 over the entire region in the length direction. The MIG head 1 has track width regulating grooves 9, 10.
Are formed to be substantially equal to the width of the recording track t, so that the width of the surface 11 of the magnetic tape contacting surface is reduced to the recording track t.
Is equivalent to In order to reinforce the magnetic tape contact surface 11, the MIG head 1 has track width regulating grooves 9, 1 and 2.
0 is filled with reinforcing glass 12a, 12b.

【0017】MIGヘッド1には、コア半体2、3の相
対する突合せ面にそれぞれ形成した凹部13a、13b
によって、突合せ状態において共同して磁気ギャップ7
の深さを規定するディプス規制溝13が構成されてい
る。MIGヘッド1には、ディプス規制溝13と対向す
るコア半体2、3の側面にそれぞれ巻き線ガイド溝14
a、14bが形成されている。MIGヘッド1には、凹
部13aと巻き線ガイド溝14a及び凹部13bと巻き
線ガイド溝14bとをガイドとしてコア半体2、3にそ
れぞれ図示しないコイルが巻き線されている。
The MIG head 1 has concave portions 13a, 13b formed on opposing butting surfaces of the core halves 2, 3, respectively.
By the joint, the magnetic gap 7
Is defined. The MIG head 1 has winding guide grooves 14 on the side surfaces of the core halves 2 and 3 facing the depth regulating grooves 13 respectively.
a and 14b are formed. In the MIG head 1, coils (not shown) are wound around the core halves 2 and 3, respectively, using the recess 13a and the winding guide groove 14a and the recess 13b and the winding guide groove 14b as guides.

【0018】MIGヘッド1は、コア半体2、3と軟磁
性金属膜層5、6とが共同して閉磁路を構成してなる。
MIGヘッド1は、コア半体2、3が補助コア部を構成
するとともに、軟磁性金属膜層5、6が主コア部を構成
する。MIGヘッド1は、情報信号等に基づいて磁気ギ
ャップ7から漏洩する磁束によって磁気テープ摺動面8
を摺擦走行するメタルテープに対して情報信号等を記録
し、またメタルテープに記録された情報信号等に基づく
磁束変化によって情報信号等を再生する。
In the MIG head 1, the core halves 2, 3 and the soft magnetic metal film layers 5, 6 cooperate to form a closed magnetic circuit.
In the MIG head 1, the core halves 2 and 3 constitute an auxiliary core portion, and the soft magnetic metal film layers 5 and 6 constitute a main core portion. The MIG head 1 uses a magnetic tape sliding surface 8 by a magnetic flux leaking from a magnetic gap 7 based on an information signal or the like.
The information signal and the like are recorded on the metal tape which rubs and travels, and the information signal and the like are reproduced by a magnetic flux change based on the information signal and the like recorded on the metal tape.

【0019】MIGヘッド1においては、図2に示すよ
うに磁気テープ当り面11が、トラック幅規制溝9、1
0をそれぞれその底面9a、10a及び側面9b、10
bが高寸法精度を以って形成されることにより、その幅
をメタルテープの微細な記録トラックの幅tとほぼ等し
く形成されている。このため、MIGヘッド1は、詳細
を後述するようにコア半体2、3を構成する基材21を
一体化してなる中間体20に対して、研削面が高精度に
仕上げられた加工砥石50が用いられてトラック幅規制
溝9、10の研削加工が施されて形成される。
In the MIG head 1, as shown in FIG.
0 is the bottom surface 9a, 10a and the side surface 9b, 10
Since b is formed with high dimensional accuracy, its width is formed substantially equal to the width t of the fine recording track of the metal tape. For this reason, the MIG head 1 has a processing grindstone 50 whose grinding surface has been finished with high precision with respect to the intermediate body 20 in which the base materials 21 constituting the core halves 2 and 3 are integrated as described in detail later. Are used to form the track width regulating grooves 9 and 10 by grinding.

【0020】すなわち、MIGヘッド1は、図3に示す
コア半体2、3を形成する基材21を素材として順次所
定の工程が施されて形成される。基材21は、上述した
ように例えばMn−Zn系フェライト材やNi−Zn系
フェライト材等の酸化物軟磁性材からなり、長さ寸法が
約34.5mm、幅寸法が約2.5mm、厚み寸法が約
1mmの外形寸法を有している。基材21には、図4に
示すようにその主面21aの長さ方向の全域に亘って、
一方の端面21bからの間隔を磁気ギャップ7のディプ
ス寸法gとほぼ等しくしてディプス規制溝13を構成す
る略台形の凹溝22の加工が施される。
That is, the MIG head 1 is formed by sequentially performing predetermined processes using the base material 21 for forming the core halves 2 and 3 shown in FIG. The base material 21 is made of an oxide soft magnetic material such as a Mn-Zn ferrite material or a Ni-Zn ferrite material as described above, and has a length of about 34.5 mm, a width of about 2.5 mm, It has an outer dimension of about 1 mm in thickness. As shown in FIG. 4, the base material 21 extends over the entire area of the main surface 21 a in the length direction.
The gap from one end face 21b is made substantially equal to the depth g of the magnetic gap 7, and a substantially trapezoidal concave groove 22 constituting the depth regulating groove 13 is processed.

【0021】また、基材21には、凹溝22と直交して
複数のガラス充填溝23が形成される。ガラス充填溝2
3は、基材21から各MIGヘッド1を切り出す領域に
対応してそれぞれ形成され、後述するように一対の基材
21を接合して中間体20を構成する際に溶融されて接
合材となる非磁性材のガラス棒が充填される。なお、ガ
ラス充填溝23については、特に形成しない場合もあ
る。また、基材21には、他方の主面に、凹溝22と対
応して巻き線ガイド溝14を構成する凹溝24が形成さ
れる。
Further, a plurality of glass filling grooves 23 are formed in the substrate 21 at right angles to the concave grooves 22. Glass filling groove 2
Numerals 3 are respectively formed corresponding to regions where the MIG heads 1 are cut out from the base material 21, and are melted to form a bonding material when the pair of base materials 21 are bonded to form the intermediate body 20 as described later. A non-magnetic glass rod is filled. The glass filling groove 23 may not be particularly formed. On the other main surface of the base material 21, a concave groove 24 corresponding to the concave groove 22 and constituting the winding guide groove 14 is formed.

【0022】基材21には、主面21aに対して中心線
表面粗さが0.2μm乃至1.0μmとなるように研磨
仕上げが施される。基材21には、図5に示すように凹
溝22が形成された主面21aの全面に、上述した軟磁
性金属材料により軟磁性金属膜層25が成膜形成され
る。なお、基材21には、軟磁性金属膜層25上に、例
えば図6に示すようにギャップ膜26を構成するAuを
成膜形成してもよい。ギャップ膜26は、後述するよう
に基材21を接合する際に、加圧処理と熱処理とを施す
ことによってAuの熱拡散効果により接合が行われる。
なお、軟磁性金属膜層25については、上述した主面2
1aに対する各溝22、23の形成工程の前工程で主面
21aに成膜形成されるようにしてもよい。
The substrate 21 is polished so as to have a center line surface roughness of 0.2 μm to 1.0 μm with respect to the main surface 21 a. As shown in FIG. 5, a soft magnetic metal film layer 25 of the above-described soft magnetic metal material is formed on the entire surface of the main surface 21a of the base 21 where the concave groove 22 is formed. The base 21 may be formed on the soft magnetic metal film layer 25 with, for example, Au forming the gap film 26 as shown in FIG. When the gap film 26 is bonded to the base material 21 as described later, the bonding is performed by the heat diffusion effect of Au by applying a pressure treatment and a heat treatment.
Note that the soft magnetic metal film layer 25 has the principal surface 2 described above.
The film may be formed on the main surface 21a in a step before the step of forming the grooves 22 and 23 for 1a.

【0023】基材21は、上述した工程を経た後にガラ
ス充填溝23に充填されたガラス棒が溶融されることに
より、図7に示すように主面21aを接合面として一対
(21A、21B)が接合されて中間体20を構成す
る。中間体20には、図8に示すように磁気ギャップ7
が形成される一方の端面21aに、加工砥石50を用い
てトラック幅規制溝9、10を形成する研削加工が施さ
れる。各トラック幅規制溝9、10は、詳細には図11
に示すようにそれぞれ所定の間隔を以って互いに平行に
形成されるとともに、磁気ギャップ7にアジスマ角を付
与する幅方向に対して所定の角度が付された傾斜溝とし
て形成されてなる。中間体20には、隣り合う各トラッ
ク幅規制溝9、10によって切り残されて複数条の凸状
部28が構成される。これら凸状部28は、磁気テープ
当り面11を構成する。なお、各トラック幅規制溝9、
10は、アジスマ角を0°とした直線状の溝であっても
よいことは勿論である。また、各トラック幅規制溝9、
10は、その底面9a、10aを平面形状として研削さ
れたが、例えばV字状であってもよい。
As shown in FIG. 7, the base member 21 is formed by melting the glass rod filled in the glass filling groove 23 after the above-described steps, so that the main surface 21a is joined to the pair (21A, 21B). Are joined to form an intermediate body 20. The intermediate body 20 has a magnetic gap 7 as shown in FIG.
Is formed on one end face 21a on which the track width regulating grooves 9 and 10 are formed using a processing grindstone 50. Each track width regulating groove 9, 10 is described in detail in FIG.
As shown in FIG. 5, the magnetic gap 7 is formed in parallel with each other at predetermined intervals, and is formed as an inclined groove having a predetermined angle with respect to the width direction in which the magnetic gap 7 is provided with an azimuth angle. The intermediate body 20 has a plurality of protruding portions 28 that are left uncut by the adjacent track width regulating grooves 9 and 10. These convex portions 28 constitute the surface 11 for contacting the magnetic tape. Each track width regulating groove 9,
Needless to say, 10 may be a linear groove having an azimuth angle of 0 °. Also, each track width regulating groove 9,
Although the bottom 10 is ground with its bottom surfaces 9a and 10a in a planar shape, it may be V-shaped, for example.

【0024】トラック幅規制溝9、10は、凸状部28
の幅寸法、詳細には磁気テープ当り面11に形成される
磁気ギャップ7の幅寸法を上述したように微細な記録ト
ラックの幅寸法tとほぼ一致させるように高寸法精度を
以って形成される。したがって、これらトラック幅規制
溝9、10の研削加工には、詳細を後述するように研削
面を高精度に仕上げ処理を施した加工砥石50が用いら
れ、底面9a、10a及び側面9b、10bが高面精度
に仕上げられたトラック幅規制溝9、10が形成されて
磁気テープ当り面11が構成される。中間体20には、
各トラック幅規制溝9、10間にそれぞれ溶融ガラス2
9が充填される。溶融ガラス29は、上述した補強ガラ
ス部12を構成する部位であり、磁気テープ当り面11
の外周縁の欠け等の発生を防止するとともに磁気テープ
の当り幅を保持するようにする。
The track width regulating grooves 9 and 10 are
The width dimension of the magnetic gap 7 formed on the surface 11 of the magnetic tape, specifically, the width dimension of the magnetic recording tape 7 is formed with high dimensional accuracy so as to substantially coincide with the width dimension t of the fine recording track as described above. You. Therefore, for the grinding of the track width regulating grooves 9, 10, a processing grindstone 50 having a ground surface subjected to a high-precision finishing process as described in detail later is used, and the bottom surfaces 9a, 10a and the side surfaces 9b, 10b are formed. The track width regulating grooves 9 and 10 finished with high surface accuracy are formed to form the magnetic tape contact surface 11. Intermediate 20 includes
Molten glass 2 between track width regulating grooves 9 and 10
9 are filled. The molten glass 29 is a part constituting the above-mentioned reinforcing glass part 12, and the surface 11
Of the outer peripheral edge of the magnetic tape is prevented, and the contact width of the magnetic tape is maintained.

【0025】中間体20には、図9に示すように磁気テ
ープ摺動面8が形成された一方の端面20aを円弧状と
する円筒研削加工が施される。中間体20には、磁気テ
ープ当り面11を挟んだ各トラック幅規制溝9、10の
中央部からそれぞれスライシング加工が施されることに
よって、図10に示すように多数個のヘッドチップ30
に切り分けられてMIGヘッドチップを構成する。
As shown in FIG. 9, the intermediate body 20 is subjected to cylindrical grinding in which one end surface 20a on which the magnetic tape sliding surface 8 is formed is formed into an arc shape. The intermediate body 20 is subjected to slicing from the center of each of the track width regulating grooves 9 and 10 sandwiching the surface 11 of the magnetic tape, so that a large number of head chips 30 are formed as shown in FIG.
To form a MIG head chip.

【0026】加工砥石50は、図12に示すように外周
面51と側面52とを研削面として、中間体20の一方
端面に複数個のトラック幅規制溝9、10を順次形成す
る。加工砥石50には、厚みが20μm乃至500μ
m、砥石砥粒の粒度が#2000(砥粒の平均粒径が3
μm乃至8μm)乃至#8000(砥粒の平均粒径が
0.2μm乃至0.6μm)の砥石が用いられる。加工
砥石50には、具体的にはリード株式会社製の製品名S
D2/4BZ057(Φ99−TO.2−X2)を用い
た。加工砥石50は、詳細を後述するようにその側面5
2の整形処理が施された後に、外周面51の整形処理が
施される。加工砥石50は、同図に示すように整形処理
が施された外周面51と側面52との連結部位であり切
歯を構成する外周縁部53が、全周に亘ってブレが無く
かつ高精度の直角度を保持されて形成されることで、高
精度でかつ変動量の少ない多数個のトラック幅規制溝
9、10を形成する。
As shown in FIG. 12, the working grindstone 50 has a plurality of track width regulating grooves 9 and 10 sequentially formed on one end surface of the intermediate body 20 with the outer peripheral surface 51 and the side surface 52 as ground surfaces. The processing grindstone 50 has a thickness of 20 μm to 500 μm.
m, the grain size of the abrasive grains is # 2000 (the average grain size of the abrasive grains is 3
A grindstone having an average particle diameter of 0.2 to 0.6 μm is used. The processing whetstone 50 has a product name S manufactured by Reed Co., Ltd.
D2 / 4BZ057 (Φ99-TO.2-X2) was used. The processing whetstone 50 has a side surface 5 as described in detail later.
After the shaping process of No. 2 is performed, the shaping process of the outer peripheral surface 51 is performed. As shown in the drawing, the processing grindstone 50 is a connecting portion between the outer peripheral surface 51 and the side surface 52 which have been subjected to the shaping process, and the outer peripheral edge 53 constituting the cutting teeth has no vibration over the entire circumference and has a high height. The track width regulating grooves 9 and 10 are formed with high accuracy and a small amount of variation by being formed while maintaining the squareness of accuracy.

【0027】加工砥石50は、図13に示すように回転
駆動された状態でその側面52に突当て板60の側面6
0aが突き当てられるとともに、供給パイプ61から砥
粒溶液62が供給されて側面52の整形処理が施され
る。加工砥石50は、図示しない駆動機構によって毎分
100乃至300回転で回転駆動されるとともに、同図
矢印xで示す方向に毎分100mmの速度でスライド移
動される。
As shown in FIG. 13, the processing grindstone 50 is rotated and driven, and the side surface 52 of the abutment plate 60 is rotated.
At the same time, the abrasive solution 62 is supplied from the supply pipe 61 and the side surface 52 is shaped. The processing grindstone 50 is rotationally driven at 100 to 300 revolutions per minute by a drive mechanism (not shown), and is slid at a speed of 100 mm per minute in a direction indicated by an arrow x in the drawing.

【0028】突当て板60には、例えば幅が10mm、
厚さが1mmの真鍮板が用いられ、図示しない駆動機構
によって加工砥石50の側面52と平行な方向(図13
矢印x方向)及び側面52に対して接離する方向(図1
3矢印y方向)とにスライド移動される。なお、突当て
板60には、砥粒溶液55に対する耐化学特性を有する
材料板、例えばガラス板等も用いてもよいが、ビッカー
ス硬度が300乃至1000程度の硬質材料によって高
面精度に形成されたものが用いられる。突当て板60
は、加工砥石50の砥粒を保持するとともに、その側面
52の仕上げ処理を施す。
The abutment plate 60 has a width of, for example, 10 mm,
A brass plate having a thickness of 1 mm is used, and a direction parallel to the side surface 52 of the processing grindstone 50 (FIG.
The direction of contact and separation with the side surface 52 (the direction of arrow x) (FIG. 1)
(3 arrow y direction). The abutment plate 60 may be a material plate having chemical resistance to the abrasive solution 55, for example, a glass plate or the like, but is formed of a hard material having a Vickers hardness of about 300 to 1000 with high surface accuracy. Is used. Butt plate 60
Holds the abrasive grains of the processing whetstone 50 and performs a finishing process on the side surface 52 thereof.

【0029】砥粒溶液62には、例えばグリーンカーボ
ン(GC)、ホワイトアルミナ(WA)或いはダイヤモ
ンド等の粉末砥粒を溶媒に溶解したものが用いられる。
砥粒粉末は、その粒度が加工砥石50の粒度と同等若し
くは3倍、すなわち#600(砥粒の平均粒径が20μ
m乃至30μm)乃至#8000(砥粒の平均粒径が
0.2μm乃至0.6μm)の砥粒粉末が用いられる。
砥粒溶液62には、具体的には旭ダイヤモンド製のGC
#3000が用いられ、この砥粒粉末を重量比0.5倍
乃至5倍の純水を主体とする溶媒に混ぜ合わせるととも
に、これに界面活性剤を含んだ潤滑剤を1/10乃至1
/30の割合で添加して調製される。溶媒には、水道水
を用いてもよいが、塩素等の不純物の影響により砥粒粉
末の分散率に影響が生じる虞があるため、上述した純水
を使用することが好ましい。
As the abrasive solution 62, a solution in which powder abrasives such as green carbon (GC), white alumina (WA) or diamond are dissolved in a solvent is used.
The particle size of the abrasive powder is equal to or three times the particle size of the grinding wheel 50, that is, # 600 (the average particle size of the abrasive particles is 20 μm).
m to 30 μm) to # 8000 (the average particle size of the abrasive particles is 0.2 μm to 0.6 μm).
The abrasive solution 62 specifically includes Asahi Diamond GC
# 3000 is used. This abrasive powder is mixed with a solvent mainly composed of pure water at a weight ratio of 0.5 to 5 times, and a lubricant containing a surfactant is mixed with the solvent at a ratio of 1/10 to 1
/ 30. Tap water may be used as the solvent, but since the influence of impurities such as chlorine may affect the dispersion rate of the abrasive powder, it is preferable to use the pure water described above.

【0030】加工砥石50には、上述した回転動作条件
で側面52に突当て板60が押し当てられるとともにこ
の突当て板60との間に砥粒溶液62が常時供給されて
整形処理が行われる。加工砥石50は、突当て板60を
上述した動作条件でx方向にスライド動作させた状態
で、y方向に1往復毎に0.2μm、累積で30μm乃
至40μm移動される。加工砥石50は、かかる整形処
理を施すことによって、側面52が中心線表面粗さを
0.5μm乃至2μmの面精度を以って仕上げられる。
The abutment plate 60 is pressed against the side surface 52 under the above-described rotating operation conditions, and the abrasive solution 62 is constantly supplied between the abutment plate 60 and the shaping process. . The working grindstone 50 is moved by 0.2 μm for each reciprocation in the y direction and cumulatively 30 μm to 40 μm in the y direction while the abutment plate 60 is slid in the x direction under the above operating conditions. By performing such a shaping process, the side surface 52 of the processing whetstone 50 is finished with a center line surface roughness of 0.5 μm to 2 μm with a surface accuracy of 0.5 μm to 2 μm.

【0031】ところで、加工砥石50は、上述した側面
52の整形処理が施された際に、平面研削法の加工特性
によって外周側縁部53においてその研削量が次第に大
きくなり図14(b)に示すように外周面51側まで切
れ込むダレ部54が生じる。加工砥石50は、切込み量
が一定では無いダレ部54によって、切り歯部位を構成
する外周側縁部53に凹凸が生じることで高精度に形成
されないといった状態を呈する。このため、加工砥石5
0には、側面52の整形処理を施した後に、外周面51
の整形処理が施される。
By the way, when the above-mentioned shaping process of the side surface 52 is performed, the grinding amount of the processing grindstone 50 gradually increases at the outer peripheral side edge portion 53 due to the processing characteristics of the surface grinding method, and as shown in FIG. As shown, a sagging portion 54 that cuts to the outer peripheral surface 51 side occurs. The processing grindstone 50 is in a state where it is not formed with high accuracy due to the unevenness of the outer peripheral side edge portion 53 constituting the incised tooth portion due to the sagging portion 54 having an inconsistent cutting amount. Therefore, the processing whetstone 5
0, after performing shaping processing of the side surface 52, the outer peripheral surface 51
Is performed.

【0032】外周面整形処理は、図14(a)に示すよ
うに、加工砥石50を回転駆動した状態でその外周面5
1がボードドレッサ65の主面65aに突き当てられる
ことによって行われる。加工砥石50は、この外周面整
形処理によって、同図(b)の鎖線で示すようにこのダ
レ部54が研削されて外周側縁部53が高精度に形成さ
れる。ボードドレッサ65は、幅が10mmとされると
ともに、その粒度が加工砥石50の粒度と同等若しくは
3倍、すなわち#600(砥粒の平均粒径が20μm乃
至30μm)乃至#8000(砥粒の平均粒径が0.2
μm乃至0.6μm)のボードドレッサが用いられる。
ボードドレッサ65には、具体的には粒度がGC#20
00のボードドレッサが用いられる。
As shown in FIG. 14 (a), the outer peripheral surface shaping process is performed while the machining grindstone 50 is driven to rotate.
1 is abutted against the main surface 65a of the board dresser 65. In the processing grindstone 50, the sagging portion 54 is ground by the outer peripheral surface shaping process as shown by a chain line in FIG. The board dresser 65 has a width of 10 mm and a grain size equal to or three times that of the grinding wheel 50, that is, from # 600 (the average grain size of the abrasive grains is 20 μm to 30 μm) to # 8000 (the average grain size of the abrasive grains). Particle size 0.2
(μm to 0.6 μm) is used.
The board dresser 65 has a specific particle size of GC # 20.
00 board dressers are used.

【0033】外周面整形処理は、加工砥石50を、図1
4(a)の矢印y1方向(側面52側)にボードドレッ
サ65の全面を通過するように移動させるとともに、1
往復動作毎に同図の矢印z1方向(外周面51の整形方
向)に対して0.5μm移動させることによってその外
周面51の整形を行う。加工砥石50は、毎分1000
回転乃至3000回転の速度で回転されるとともに、y
1方向に毎分120mmの速度で移動される。また、ボ
ードドレッサ65には、その主面65aに湿る程度に研
削水が連続して供給される。
In the outer peripheral surface shaping process, the processing grindstone 50 is
4 (a), move in the direction of arrow y1 (toward the side surface 52) so as to pass through the entire surface of the board dresser 65, and
The outer peripheral surface 51 is shaped by moving the outer peripheral surface 51 by 0.5 μm in the direction of arrow z1 (shaping direction of the outer peripheral surface 51) in each reciprocating operation. Processing whetstone 50 is 1000
It is rotated at a speed of rotation to 3000 rotations and y
It is moved in one direction at a speed of 120 mm per minute. Further, the grinding water is continuously supplied to the board dresser 65 to such an extent that the main surface 65a is moistened.

【0034】加工砥石50は、上述した整形処理によっ
て、図14(b)においてΔxで示すように外周面51
が30μm乃至40μmの範囲で研削されることによっ
て面精度充分に保持されていないダレ部54の除去が行
われる。したがって、加工砥石50は、高精度に整形さ
れた外周面51と側面52とによって切り歯部位を構成
する外周側縁部53が高精度に形成される。
As shown by Δx in FIG. 14 (b), the outer peripheral surface 51
Is ground in the range of 30 μm to 40 μm, so that the sagged portion 54 whose surface accuracy is not sufficiently maintained is removed. Therefore, in the machining grindstone 50, the outer peripheral side edge 53 constituting the cutting teeth portion is formed with high accuracy by the outer peripheral surface 51 and the side surface 52 that are precisely shaped.

【0035】加工砥石50は、上述した各面51、52
の仕上げ処理を施した後に慣らし研削が行われて、上述
した中間体20にトラック幅規制溝9、10の研削加工
に用いられる。加工砥石50は、多結晶フェライト基板
を300mm研削した後に、単結晶フェライトブロック
を100mm研削する慣らし研削が行われる。加工砥石
50は、毎分8000回転、加工テーブルの移動速度が
毎分30mmの加工条件により10本の2mm幅中間体
20に対してその端面20aにトラック幅規制溝9、1
0を研削加工する。
The processing grindstone 50 has the surfaces 51 and 52 described above.
After performing the finishing process, the break-in grinding is performed, and the intermediate body 20 is used for the grinding of the track width regulating grooves 9 and 10. After grinding the polycrystalline ferrite substrate by 300 mm, the processing grindstone 50 is subjected to break-in grinding in which the single crystal ferrite block is ground by 100 mm. The processing whetstone 50 has 8000 rotations per minute, and the moving speed of the processing table is 30 mm per minute.
0 is ground.

【0036】上述した整形処理を施した加工砥石50を
用い、これを毎分8000回転、加工テーブルを毎分3
0mmの移動速度の加工条件により10本の2mm幅の
中間体20に対してその端面20aにトラック幅規制溝
9、10を研削する加工を施した。同様に、従来の加工
砥石を用い、同一の加工条件によってトラック幅規制溝
9、10を研削する加工を施した。これらのトラック幅
規制溝9、10の研削加工によって、切り残されて磁気
テープ当り面11を構成する凸状部28の幅寸法を測定
した。
The above-mentioned shaping process is performed on the processing whetstone 50, which is rotated at 8000 revolutions per minute, and the processing table is set at 3 times per minute.
Under the processing conditions of the moving speed of 0 mm, the processing of grinding the track width regulating grooves 9 and 10 on the end faces 20 a of the ten intermediate bodies 20 having a width of 2 mm was performed. Similarly, using a conventional processing grindstone, processing for grinding the track width regulating grooves 9 and 10 was performed under the same processing conditions. By grinding the track width regulating grooves 9 and 10, the width dimension of the protruding portion 28 which is left uncut and forms the surface 11 for contacting the magnetic tape was measured.

【0037】凸状部28の幅寸法の測定は、図11矢印
で示すトラック幅規制溝9、10の研削加工の加工開始
側から加工終了側に向かって、80個の凸状部28につ
いて順次測定した。測定結果は、図15に示す通りであ
る。同図(a)は、上述した整形処理を施した加工砥石
50を用いて研削加工を施した場合を示し、また同図
(b)は、従来の加工砥石を用いて研削加工を施した場
合を示する。同図において、縦軸は各凸状部28の幅寸
法を、横軸は各凸状部28を示している。
The width dimension of the convex portions 28 is measured in order from the starting side of the grinding process of the track width regulating grooves 9 and 10 shown by the arrow in FIG. It was measured. The measurement results are as shown in FIG. FIG. 3A shows a case where the grinding process is performed using the processing grindstone 50 on which the above-described shaping process is performed, and FIG. 3B shows a case where the grinding process is performed using the conventional processing grindstone. Is shown. In the figure, the vertical axis represents the width dimension of each convex portion 28, and the horizontal axis represents each convex portion 28.

【0038】各凸状部28は、上述した整形処理を施こ
した加工砥石50を用いてトラック幅規制溝9、10の
研削加工を行うことで、図15(a)から明らかなよう
に加工開始時と終了時との変動量が0.5μm以内と、
バラツキが極めて少ない高精度のトラック幅規制溝9、
10が形成される。一方、従来の加工砥石を用いてトラ
ック幅規制溝9、10の研削加工を施した場合には、同
図(b)に示すように変動量が1.5μm以上にもなる
トラック幅規制溝9、10が形成される。
Each of the convex portions 28 is formed by grinding the track width regulating grooves 9 and 10 by using the processing grindstone 50 which has been subjected to the above-mentioned shaping processing, so as to be processed as is apparent from FIG. When the variation between the start and the end is within 0.5 μm,
A highly accurate track width regulating groove 9 with very little variation,
10 are formed. On the other hand, when the track width regulating grooves 9 and 10 are ground by using a conventional processing grindstone, the track width regulating grooves 9 whose variation amounts to 1.5 μm or more as shown in FIG. , 10 are formed.

【0039】したがって、加工砥石50は、上述した側
面52の整形処理を施した後に外周面51の整形処理を
施すことによって、バラツキが少なくかつ高精度の各ト
ラック幅規制溝9、10を効率的に形成する。MIGヘ
ッド1は、これによって歩留りよく製造されるようにな
るとともに、磁気テープ当り面11が微細な記録トラッ
クの幅tに対応してバラツキの小さい極めて高精度に形
成される。したがって、MIGヘッド1は、狭記録ピッ
チ、狭トラック化仕様のメタルテープに対して情報信号
等を高精度に記録再生する。
Therefore, the processing grindstone 50 can efficiently form the track width regulating grooves 9 and 10 with less variation and high accuracy by performing the shaping processing on the outer peripheral surface 51 after performing the shaping processing on the side surface 52 described above. Formed. As a result, the MIG head 1 can be manufactured with a high yield, and the surface 11 for contacting the magnetic tape is formed with extremely small accuracy corresponding to the width t of the fine recording track. Therefore, the MIG head 1 records and reproduces information signals and the like with high accuracy on a metal tape having a narrow recording pitch and a narrow track specification.

【0040】ところで、加工砥石50においては、図1
6に示すように、粒度が大きい、換言すれば砥粒の平均
粒径の小さなボードドレッサ65を用いて上述した外周
面51の整形処理を施すことによって、トラック幅規制
溝9、10をより高精度に形成して記録トラック幅の変
動量を小さくする。加工砥石50は、この場合ボードド
レッサ65による研削効率が劣化することから、外周面
51の整形処理に要する時間が長くなる。
By the way, in the processing whetstone 50, FIG.
As shown in FIG. 6, by performing the above-described shaping process on the outer peripheral surface 51 using a board dresser 65 having a large grain size, in other words, a small average grain size of the abrasive grains, the track width regulating grooves 9 and 10 can be made higher. It is formed with high precision to reduce the fluctuation amount of the recording track width. In this case, the grinding efficiency of the processing grindstone 50 by the board dresser 65 is deteriorated, so that the time required for the shaping process of the outer peripheral surface 51 increases.

【0041】一方、加工砥石50は、同図に示すよう
に、粒度が小さい、換言すれば砥粒の平均粒径の大きな
ボードドレッサ65を用いて上述した外周面51の整形
処理を施すことによって、外周面51の精度がやや低く
なることでトラック幅規制溝9、10の寸法精度が劣化
し、記録トラック幅の変動量も大きくなる。加工砥石5
0は、この場合ボードドレッサ65による研削効率が大
きいことから、外周面51の整形処理に要する時間の短
縮化が図られるようになる。
On the other hand, as shown in the figure, the processing grindstone 50 is formed by subjecting the outer peripheral surface 51 to the above-mentioned shaping process using a board dresser 65 having a small grain size, in other words, a large average grain size of the abrasive grains. When the accuracy of the outer peripheral surface 51 is slightly lowered, the dimensional accuracy of the track width regulating grooves 9 and 10 is deteriorated, and the fluctuation amount of the recording track width is also increased. Processing whetstone 5
In the case of 0, since the grinding efficiency by the board dresser 65 is large in this case, the time required for the shaping process of the outer peripheral surface 51 can be reduced.

【0042】すなわち、粒度400番のボードドレッサ
65を用いて上述した外周面51の整形処理を行った加
工砥石50aについては、図17に示すように、記録ト
ラック幅の変動量が1.8μm、その処理時間が5分で
あった。また、粒度2000番のボードドレッサ65を
用いて上述した外周面51の整形処理を行った加工砥石
50bについては、記録トラック幅の変動量が0.8μ
m、その処理時間が20分であった。粒度3000番の
ボードドレッサ65を用いて上述した外周面51の整形
処理を行った加工砥石50cについては、記録トラック
幅の変動量が0.7μm、その処理時間が30分であっ
た。 粒度4000番のボードドレッサ65を用いて上
述した外周面51の整形処理を行った加工砥石50dに
ついては、記録トラック幅の変動量が0.5μm、その
処理時間が40分であった。
That is, as shown in FIG. 17, for the processing grindstone 50a which has been subjected to the above-mentioned shaping processing of the outer peripheral surface 51 using the board dresser 65 having a grain size of 400, the fluctuation amount of the recording track width is 1.8 μm, The processing time was 5 minutes. In addition, for the processing grindstone 50b that has been subjected to the above-described shaping processing of the outer peripheral surface 51 using the board dresser 65 having a grain size of 2000, the fluctuation amount of the recording track width is 0.8 μm.
m, and the processing time was 20 minutes. With respect to the processing grindstone 50c which has been subjected to the above-described shaping processing of the outer peripheral surface 51 using the board dresser 65 having a grain size of No. 3000, the fluctuation amount of the recording track width was 0.7 μm, and the processing time was 30 minutes. With respect to the processing grindstone 50d in which the above-described shaping processing of the outer peripheral surface 51 was performed using the board dresser 65 having a grain size of 4000, the fluctuation amount of the recording track width was 0.5 μm, and the processing time was 40 minutes.

【0043】なお、図18は、砥粒或いは砥石の粒度と
番手に対する粒径の対応表であり、例えば粒度400番
は砥粒の平均粒径が40μm乃至60μmである。ま
た、粒度1300番は砥粒の平均粒径が5μm乃至12
μmであり、粒度2000番は砥粒の平均粒径が3μm
乃至8μmである。さらに、粒度3000番は、砥粒の
平均粒径が2μm乃至6μmであり、粒度4000番
は、砥粒の平均粒径が2μm乃至4μmである。さらに
また、粒度8000番は、砥粒の平均粒径が0.2μm
乃至0.6μmである。
FIG. 18 is a table showing the correspondence between the grain size of the abrasive grains or the grindstone and the grain size with respect to the count. For example, in the case of grain size 400, the average grain size of the abrasive grains is 40 μm to 60 μm. In the case of grain No. 1300, the average grain diameter of abrasive grains is 5 μm to 12 μm.
The average particle size of abrasive grains is 3 μm
To 8 μm. Further, the average particle diameter of the abrasive grains is 2 μm to 6 μm in the particle diameter of No. 3000, and the average particle diameter of the abrasive grains is 2 μm to 4 μm in the No. 4000 particle diameter. Furthermore, the average particle size of the abrasive grains is 0.2 μm
To 0.6 μm.

【0044】したがって、MIGヘッド1は、トラック
幅規制溝9、10が、側面52の整形処理が施された後
に、上述したように外周面52の整形処理が施された粒
度2000番乃至8000番、粒径で0.2μm乃至8
μmの仕様の加工砥石50が用いられて研削加工が施さ
れる。また、加工砥石50は、粒度が同等乃至は3倍、
すなわち粒度600番乃至8000番、粒径で0.2μ
m乃至24μmのボードドレッサ65を用いて外周面5
1の仕上げ処理が施される。
Therefore, in the MIG head 1, the track width regulating grooves 9, 10 are formed after the shaping process of the side surface 52, and thereafter the grain size No. 2000 to 8000 of which the shaping process of the outer peripheral surface 52 is performed as described above. 0.2 to 8 μm in particle size
Grinding is performed using a processing grindstone 50 having a specification of μm. In addition, the processing grindstone 50 has the same or three times the grain size,
That is, particle size 600-8000, 0.2μ in particle size
outer surface 5 using a board dresser 65
1 is performed.

【0045】上述した第1の実施の形態においては、加
工砥石50がボードドレッサ65を用いてその外周面5
1の整形処理を施すようにしたが、本発明はかかる整形
方法に限定されるものでは無い。加工砥石50は、側面
52と同様に、突当板と砥粒溶液とを用いて整形処理を
行うようにしてもよい。加工砥石50は、図19に示す
ように回転駆動された状態でその外周面51が突当て板
70の主面70aに突き当てられるとともに、供給パイ
プ71から砥粒溶液72が連続して供給されて外周面5
1の整形処理が施される。
In the first embodiment described above, the processing grindstone 50 is mounted on the outer peripheral surface 5 using the board dresser 65.
Although the first shaping process is performed, the present invention is not limited to such a shaping method. As with the side surface 52, the processing whetstone 50 may perform a shaping process using a butting plate and an abrasive solution. As shown in FIG. 19, the processing grindstone 50 is rotated and driven, and its outer peripheral surface 51 is abutted against the main surface 70 a of the abutment plate 70, and an abrasive solution 72 is continuously supplied from a supply pipe 71. Outer surface 5
1 is performed.

【0046】すなわち、加工砥石50は、図示しない駆
動機構によって同図(a)の矢印y2方向(側面52
側)に突当て板70の全面を通過するように移動させる
とともに、1往復動作毎に同図の矢印z2方向(外周面
51の整形方向)に対して0.2μm移動させる。加工
砥石50は、毎分100乃至300回転で回転駆動され
るとともに、同図矢印y2で方向に毎分80mmの速度
でスライド移動される。突当て板70には、その主面7
0aと加工砥石50の外周面51との間に砥粒溶液72
が常時供給される。突当て板70には、砥粒溶液52に
対する耐化学特性を有する材料板、例えば幅が10mm
のガラス板が用いられるが、真鍮板を用いるようにして
もよい。突当て板70は、ビッカース硬度が300乃至
1000程度の硬質材料によって高面精度に形成された
ものが用いられ、加工砥石50の砥粒を保持するととも
に、その外周面51の仕上げ処理を施す。
That is, the working grindstone 50 is moved by a driving mechanism (not shown) in the direction of the arrow y2 in FIG.
Side) so as to pass through the entire surface of the abutment plate 70, and at the same time, it is moved by 0.2 μm with respect to the direction of arrow z2 in FIG. The processing grindstone 50 is driven to rotate at 100 to 300 revolutions per minute, and is slid at a speed of 80 mm per minute in the direction of arrow y2 in FIG. The butting plate 70 has its main surface 7
0a and the outer peripheral surface 51 of the grinding wheel 50
Is always supplied. The abutment plate 70 has a material plate having a chemical resistance to the abrasive solution 52, for example, a width of 10 mm.
Is used, but a brass plate may be used. The abutment plate 70 is formed of a hard material having a Vickers hardness of about 300 to 1000 with high surface accuracy, holds the abrasive grains of the processing grindstone 50, and finishes the outer peripheral surface 51 thereof.

【0047】砥粒溶液72にも、例えばグリーンカーボ
ン(GC)、ホワイトアルミナ(WA)或いはダイヤモ
ンド等の粉末砥粒を溶媒に溶解したものが用いられる。
砥粒粉末は、その粒度が加工砥石50の粒度と同等若し
くは3倍、すなわち#600(砥粒の平均粒径が20μ
m乃至30μm)乃至#8000(砥粒の平均粒径が
0.2μm乃至0.6μm)の砥粒粉末が用いられる。
砥粒溶液72には、具体的には旭ダイヤモンド製のGC
#3000が用いられ、この砥粒粉末を重量比0.5倍
乃至5倍の水を主体とする溶媒に混ぜ合わせるととも
に、これに界面活性剤を含んだ潤滑剤を1/10乃至1
/30の割合で添加して調製される。なお、潤滑剤は、
混合した界面活性剤によって砥粒粉末の分散性を向上さ
せ、具体的にはジョンソン社製JC−7030が用いら
れる。溶媒には、水道水を用いるが、塩素等の不純物の
影響による砥粒粉末の分散率に影響が生じることもある
ので純水を使用してもよい。
As the abrasive solution 72, a solution in which powder abrasives such as green carbon (GC), white alumina (WA) or diamond are dissolved in a solvent is used.
The particle size of the abrasive powder is equal to or three times the particle size of the grinding wheel 50, that is, # 600 (the average particle size of the abrasive particles is 20 μm).
m to 30 μm) to # 8000 (the average particle size of the abrasive particles is 0.2 μm to 0.6 μm).
The abrasive solution 72 specifically includes GC made by Asahi Diamond.
# 3000 is used, and this abrasive powder is mixed with a solvent mainly composed of water in a weight ratio of 0.5 to 5 times, and a lubricant containing a surfactant is added to the mixture in a ratio of 1/10 to 1
/ 30. The lubricant is
The dispersibility of the abrasive powder is improved by the mixed surfactant, and specifically, JC-7030 manufactured by Johnson Co. is used. Tap water is used as the solvent, but pure water may be used because the influence of impurities such as chlorine may affect the dispersion ratio of the abrasive powder.

【0048】加工砥石50は、上述した整形処理によっ
て、図19(b)においてΔxで示すように外周面51
が30μm乃至40μmの範囲で研削されることによっ
て面精度充分に保持されていないダレ部54の除去が行
われる。したがって、加工砥石50は、高精度に整形さ
れた外周面51と側面52とによって切り歯部位を構成
する外周側縁部53が高精度に形成される。
As shown by Δx in FIG. 19 (b), the outer peripheral surface 51
Is ground in the range of 30 μm to 40 μm, so that the sagged portion 54 whose surface accuracy is not sufficiently maintained is removed. Therefore, in the machining grindstone 50, the outer peripheral side edge 53 constituting the cutting teeth portion is formed with high accuracy by the outer peripheral surface 51 and the side surface 52 that are precisely shaped.

【0049】加工砥石50も、上述した各面51、52
の仕上げ処理を施した後に慣らし研削が行われて、上述
した中間体20にトラック幅規制溝9、10の研削加工
に用いられる。加工砥石50は、多結晶フェライト基板
を300mm研削した後に、単結晶フェライトブロック
を100mm研削する慣らし研削が行われる。加工砥石
50は、毎分8000回転、加工テーブルの移動速度が
毎分30mmの加工条件により10本の2mm幅中間体
20に対してその端面20aにトラック幅規制溝9、1
0を研削加工する。
The processing grindstone 50 also has the surfaces 51 and 52 described above.
After performing the finishing process, the break-in grinding is performed, and the intermediate body 20 is used for the grinding of the track width regulating grooves 9 and 10. After grinding the polycrystalline ferrite substrate by 300 mm, the processing grindstone 50 is subjected to break-in grinding in which the single crystal ferrite block is ground by 100 mm. The processing whetstone 50 has 8000 rotations per minute, and the moving speed of the processing table is 30 mm per minute.
0 is ground.

【0050】上述した整形処理を施した加工砥石50を
用い、上述した第1の実施の形態と同様にこれを毎分8
000回転、加工テーブルを毎分30mmの移動速度の
加工条件により10本の2mm幅の中間体20に対して
その端面20aにトラック幅規制溝9、10を研削する
加工を施した。このトラック幅規制溝9、10の研削加
工によって、切り残されて磁気テープ当り面11を構成
する凸状部28の幅寸法を測定し、その結果を図20に
示した。同図において、縦軸は各凸状部28の幅寸法
を、横軸は各凸状部28を示している。
Using the processing whetstone 50 that has been subjected to the above-mentioned shaping processing, the same as in the first embodiment described above, this is
Under the processing conditions of 000 rotations and a moving speed of the processing table of 30 mm per minute, the processing of grinding the track width regulating grooves 9 and 10 on the end face 20a of ten intermediate bodies 20 having a width of 2 mm was performed. By grinding the track width regulating grooves 9 and 10, the width dimension of the protruding portion 28 remaining and constituting the magnetic tape contact surface 11 was measured, and the result is shown in FIG. In the figure, the vertical axis represents the width dimension of each convex portion 28, and the horizontal axis represents each convex portion 28.

【0051】各凸状部28は、上述した整形処理を施こ
した加工砥石50を用いてトラック幅規制溝9、10の
研削加工を行うことで、加工開始時と終了時との変動量
が0.5μm以内と、バラツキが極めて少ない高精度の
トラック幅規制溝9、10が形成される。
Each of the convex portions 28 is formed by grinding the track width regulating grooves 9 and 10 using the processing grindstone 50 subjected to the above-mentioned shaping process, so that the amount of fluctuation between the start and end of the processing is reduced. When the thickness is within 0.5 μm, the track width regulating grooves 9 and 10 with high accuracy and extremely small variation are formed.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明にか
かる磁気ヘッドの加工方法によれば、少なくとも一方の
コア半体のギャップ構成面に金属磁性膜が成膜形成され
るとともに加工砥石によりトラック幅規制溝が研削加工
される磁気ヘッドに適用され、トラック幅規制溝の研削
加工が、側面の整形処理を施した後に外周面の整形処理
を行った加工砥石を用いて、トラック幅規制溝を研削す
る。したがって、本発明にかかる磁気ヘッドの加工方法
によれば、研削面を高精度に仕上げられた加工砥石によ
って研削されるトラック幅規制溝が極めて高精度に連続
して形成されることで、狭記録ピッチ、狭トラック化仕
様の記録媒体に対して情報信号等を高精度に記録再生す
る信頼性が高くかつ入出力特性の向上が図られた磁気ヘ
ッドを効率的に製造することが可能となる。
As described above in detail, according to the magnetic head processing method of the present invention, a metal magnetic film is formed on at least one of the core halves at the gap-constituting surface, and the processing whetstone is used. The track width regulating groove is applied to a magnetic head in which the track width regulating groove is ground, and the grinding of the track width regulating groove is performed by using a processing whetstone in which the outer peripheral surface is shaped after performing the side surface shaping processing. Grinding. Therefore, according to the magnetic head processing method of the present invention, the track width regulating grooves that are ground by the processing grindstone whose grinding surface has been finished with high precision are continuously formed with extremely high precision, thereby achieving narrow recording. It is possible to efficiently manufacture a magnetic head having high reliability for recording and reproducing information signals and the like with high precision on a recording medium having a specification of a narrow pitch and a narrow track and improved input / output characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】MIGヘッドと、トラック幅規制溝を研削する
加工砥石とを説明する一部切欠き要部斜視図である。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view illustrating a MIG head and a processing grindstone for grinding a track width regulating groove.

【図2】MIGヘッドの要部平面図である。FIG. 2 is a plan view of a main part of the MIG head.

【図3】MIGヘッドの製造工程の説明図であり、基材
の斜視図である。
FIG. 3 is an explanatory view of a manufacturing process of the MIG head, and is a perspective view of a base material.

【図4】同製造工程の説明図であり、ディプス規制溝を
構成する凹溝を形成した状態を示す図である。
FIG. 4 is an explanatory view of the manufacturing process, showing a state in which a concave groove that forms a depth regulating groove is formed.

【図5】同製造工程の説明図であり、軟磁性金属膜層を
形成した状態を示す図である。
FIG. 5 is an explanatory view of the manufacturing process, showing a state where a soft magnetic metal film layer is formed.

【図6】同製造工程の説明図であり、ギャップ膜を構成
するAu膜を形成した状態を示す図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of the manufacturing process, showing a state in which an Au film constituting a gap film is formed.

【図7】同製造工程の説明図であり、基材を接合して中
間体を構成した状態を示す図である。
FIG. 7 is an explanatory view of the manufacturing process, and is a view showing a state in which a base material is joined to form an intermediate.

【図8】同製造工程の説明図であり、中間体の一方端面
にトラック幅規制溝を形成した状態を示す図である。
FIG. 8 is an explanatory view of the manufacturing process, showing a state where a track width regulating groove is formed on one end surface of the intermediate body.

【図9】同製造工程の説明図であり、中間体の一方端面
を円弧状とした状態を示す図である。
FIG. 9 is an explanatory view of the manufacturing process, showing a state where one end face of the intermediate body is formed in an arc shape.

【図10】同製造工程の説明図であり、切り分けたヘッ
ドチップを示す図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram of the manufacturing process, showing a cut head chip.

【図11】加工砥石を用いたトラック幅規制溝の研削工
程を説明する斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view illustrating a grinding step of a track width regulating groove using a processing grindstone.

【図12】同要部側面図である。FIG. 12 is a side view of the main part.

【図13】加工砥石の側面の整形処理を説明する図であ
る。
FIG. 13 is a diagram illustrating a shaping process of a side surface of a processing whetstone.

【図14】加工砥石の外周面の整形処理を説明する図で
ある。
FIG. 14 is a diagram illustrating a shaping process of an outer peripheral surface of a processing grindstone.

【図15】トラック幅規制溝のトラック幅を測定した寸
法特性図であり、同図(a)は整形処理を施した加工砥
石を用いた場合の寸法特性図、同図(b)は従来の加工
砥石を用いた場合の寸法特性図である。
15A and 15B are dimensional characteristic diagrams obtained by measuring a track width of a track width regulating groove, wherein FIG. 15A is a dimensional characteristic diagram when a shaping-processed grinding wheel is used, and FIG. It is a dimensional characteristic diagram at the time of using a processing whetstone.

【図16】加工砥石の研削面の整形処理を施す際に用い
られるボードドレッサの砥粒の粒度と整形時間及び形成
される記録トラック幅の変動量との特性を説明する図で
ある。
FIG. 16 is a diagram for explaining the characteristics of the grain size of the abrasive grains of the board dresser used in performing the shaping process of the grinding surface of the processing whetstone, the shaping time, and the variation amount of the formed recording track width.

【図17】加工砥石の研削面の整形処理を施す際に用い
られるボードドレッサの粒度と仕上げ時間及び形成され
る記録トラック幅の変動量との特性をまとめた一覧表を
示す図である。
FIG. 17 is a view showing a list summarizing characteristics of a grain size of a board dresser used when shaping a ground surface of a processing whetstone, a finishing time, and a fluctuation amount of a formed recording track width.

【図18】砥石の粒度(番手)と粒径の対応表を示す図
である。
FIG. 18 is a diagram showing a correspondence table between the grain size (count) of the grindstone and the grain size.

【図19】加工砥石の外周面の他の整形処理を説明する
図である。
FIG. 19 is a diagram illustrating another shaping process of the outer peripheral surface of the processing grindstone.

【図20】同加工砥石を用いて形成したトラック幅規制
溝のトラック幅を測定した寸法特性図である。
FIG. 20 is a dimensional characteristic diagram obtained by measuring a track width of a track width regulating groove formed using the processing grindstone.

【図21】従来のMIGヘッドの要部平面図である。FIG. 21 is a plan view of a main part of a conventional MIG head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 MIGヘッド(磁気ヘッド)、2,3 コア半体、
4 非磁性材、5,6軟磁性金属膜層、7 磁気ギャッ
プ、8 磁気テープ摺動面、9,10 トラック幅規制
溝、11 磁気テープ当り面、12 補強ガラス部、1
3 ディプス規制溝、14 巻き線ガイド溝、20 中
間体、21 基材、28 凸状部、50 加工砥石、5
1 外周面、52 側面、53 外周縁部、54 ダレ
部、60 突当て板、61 供給パイプ、62 砥粒溶
液、65 ボードドレッサ、70 突当て板、71 供
給パイプ、72 砥粒溶液
1 MIG head (magnetic head), 2-3 core halves,
4 Non-magnetic material, 5,6 soft magnetic metal film layer, 7 Magnetic gap, 8 Magnetic tape sliding surface, 9,10 Track width regulating groove, 11 Magnetic tape contact surface, 12 Reinforced glass part, 1
3 depth regulating groove, 14 winding guide groove, 20 intermediate, 21 base material, 28 convex portion, 50 processing whetstone, 5
1 outer peripheral surface, 52 side surface, 53 outer peripheral edge, 54 sagging part, 60 abutment plate, 61 supply pipe, 62 abrasive solution, 65 board dresser, 70 abutment plate, 71 supply pipe, 72 abrasive solution

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5D093 AA01 AB03 AC01 DA02 FA18 JA01 5D111 AA23 DD04 DD22 FF02 GG16 JJ24 KK01  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5D093 AA01 AB03 AC01 DA02 FA18 JA01 5D111 AA23 DD04 DD22 FF02 GG16 JJ24 KK01

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも一方のコア半体のギャップ構
成面に金属磁性膜が成膜形成されるとともに磁気テープ
摺動面に記録トラックの幅に対応した凸状の磁気テープ
当り面を構成するトラック幅規制溝が形成されてなる磁
気ヘッドの加工方法において、 上記トラック幅規制溝は、側面の整形処理を施した後
に、外周面の整形処理が施された加工砥石を用いて研削
加工が施されて形成されることを特徴とする磁気ヘッド
の加工方法。
A track forming a metal magnetic film on at least one of the core halves of a gap forming surface and a convex magnetic tape contact surface corresponding to the width of a recording track on a magnetic tape sliding surface. In the method for processing a magnetic head in which a width regulating groove is formed, the track width regulating groove is subjected to a shaping process on a side surface, and then subjected to a grinding process using a processing grindstone subjected to a shaping process on an outer peripheral surface. A magnetic head processing method characterized by being formed by:
【請求項2】 上記加工砥石は、外周面に対して、砥粒
を混合して作製されたボードドレッサが突き当てられて
その整形処理が行われることを特徴とする請求項1に記
載の磁気ヘッドの加工方法。
2. The magnetic processing apparatus according to claim 1, wherein the processing grindstone is subjected to a shaping process by abutting a board dresser made by mixing abrasive grains against an outer peripheral surface. Head processing method.
【請求項3】 上記加工砥石には、厚みが20μm乃至
500μm、砥粒の平均粒径が0.5μm乃至5μmの
仕様の加工砥石が用いられるとともに、 上記ボードドレッサには、平均粒径が0.5μm乃至2
5μmの砥粒を混合して作製されたボードドレッサが用
いられることを特徴とする請求項2に記載の磁気ヘッド
の加工方法。
3. A processing grindstone having a thickness of 20 μm to 500 μm and an average particle size of abrasive grains of 0.5 μm to 5 μm is used for the processing whetstone, and the board dresser has an average particle size of 0 μm to 5 μm. 0.5 μm to 2
The method according to claim 2, wherein a board dresser prepared by mixing 5 µm abrasive grains is used.
【請求項4】 上記加工砥石は、回転駆動された状態で
側面に対して接離動作される突当て板が突き当てられる
とともに、これら側面と突当て板との間に粉末砥粒を溶
解した砥粒溶液が供給されてその側面の整形処理が行わ
れることを特徴とする請求項2に記載の磁気ヘッドの加
工方法。
4. The processing whetstone is abutted against an abutment plate that is moved toward and away from a side surface while being rotationally driven, and melts powder abrasive grains between the side surface and the abutment plate. 3. The magnetic head processing method according to claim 2, wherein an abrasive solution is supplied and the side surface is shaped.
【請求項5】 上記加工砥石は、回転駆動された状態で
外周面が突当て板に突き当てられるとともに、これら外
周面と突当て板との間に粉末砥粒を溶解した砥粒溶液が
供給されて整形処理が行われることを特徴とする請求項
1に記載の磁気ヘッドの加工方法。
5. The grinding wheel has its outer peripheral surface abutted against an abutment plate while being rotationally driven, and an abrasive solution in which powder abrasive is dissolved is supplied between the outer peripheral surface and the abutment plate. 2. The method according to claim 1, wherein the shaping process is performed.
【請求項6】 上記仕上げ砥粒溶液は、溶媒にグリーン
カーボン、ホワイトアルミナ或いはダイヤモンド等の粉
末砥粒が混合されて調製されてなることを特徴とする請
求項5に記載の磁気ヘッドの加工方法。
6. The magnetic head processing method according to claim 5, wherein the finishing abrasive solution is prepared by mixing a powder abrasive such as green carbon, white alumina or diamond with a solvent. .
【請求項7】 上記加工砥石には、厚みが20μm乃至
500μm、砥粒の平均粒径が0.5μm乃至5μmの
仕様の加工砥石が用いられるとともに、 上記仕上げ砥粒溶液には、平均粒径が0.5μm乃至2
5μmの粉末砥粒を溶媒に混合した上記仕上げ砥粒溶液
が供給されて外周面の整形処理を施すことを特徴とする
請求項5に記載の磁気ヘッドの加工方法。
7. A processing whetstone having a thickness of 20 μm to 500 μm and an average particle diameter of abrasive grains of 0.5 μm to 5 μm is used for the processing whetstone. Is 0.5 μm to 2
6. The magnetic head processing method according to claim 5, wherein the finishing abrasive solution in which 5 μm powder abrasive is mixed with a solvent is supplied to perform a shaping process on an outer peripheral surface.
【請求項8】 上記仕上げ砥粒溶液には、粉末砥粒を重
量比で0.5倍乃至5倍の水を主とする溶媒に混ぜ合わ
せてなる混合溶液に対して、界面活性剤を含んだ潤滑剤
が1/10乃至1/30倍添加されて調製された仕上げ
砥粒溶液が用いられることを特徴とする請求項5に記載
の磁気ヘッドの加工方法。
8. The above-mentioned finishing abrasive solution contains a surfactant in a mixed solution obtained by mixing powder abrasives with a solvent mainly composed of water at a weight ratio of 0.5 to 5 times. 6. The magnetic head processing method according to claim 5, wherein a finishing abrasive solution prepared by adding 1/10 to 1/30 times of a lubricant is used.
【請求項9】 上記突当て板には、その研削面にビッカ
ース硬度が300乃至1000のガラス材や真鍮等によ
って形成された突当て板が用いられることを特徴とする
請求項5に記載の磁気ヘッドの加工方法。
9. The magnetic plate according to claim 5, wherein the butting plate is made of a glass material or a brass material having a Vickers hardness of 300 to 1000 on its ground surface. Head processing method.
【請求項10】 上記加工砥石は、回転駆動された状態
で、側面に対して接離動作される突当て板が突き当てら
れるとともに、これら側面と突当て板との間に粉末砥粒
を溶解した砥粒溶液が供給されてその側面の整形処理が
行われることを特徴とする請求項5に記載の磁気ヘッド
の加工方法。
10. The processing whetstone is rotated and driven, and abutment plates that are moved toward and away from the side surface are abutted, and powder abrasive grains are melted between these side surfaces and the abutment plate. 6. The magnetic head processing method according to claim 5, wherein the prepared abrasive solution is supplied to perform a shaping process on a side surface thereof.
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