JPH0725266Y2 - 基板洗浄装置 - Google Patents

基板洗浄装置

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JPH0725266Y2
JPH0725266Y2 JP1990025814U JP2581490U JPH0725266Y2 JP H0725266 Y2 JPH0725266 Y2 JP H0725266Y2 JP 1990025814 U JP1990025814 U JP 1990025814U JP 2581490 U JP2581490 U JP 2581490U JP H0725266 Y2 JPH0725266 Y2 JP H0725266Y2
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JP
Japan
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brush
substrate
cleaning
cleaning liquid
horizontal
Prior art date
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Expired - Lifetime
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JP1990025814U
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English (en)
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JPH03119483U (ja
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知己 和田
潤 高林
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Inc
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Publication date
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Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案は、フォトマスク用ガラス基板、透明電極用ガラ
ス基板、カラーフィルター用ガラス基板などの基板表面
を洗浄液にて洗浄するための基板洗浄装置に関する。
(従来の技術) 従来の洗浄液による基板洗浄装置は、第3図に示すよう
に、被洗浄基板2を載置固定する水平回転テーブル1を
備え、該テーブル1を回転させながら、該基板2上面
に、水平軸3aに取り付けられたロール状の回転ブラシ3
を接触させながら回転し、ノズル15より洗浄液を該ブラ
シ3に供給しながら洗浄するものである。しかしなが
ら、基板2面を洗浄する間に、回転ブラシ3と基板2と
の接触面より回転ベクトル方向に洗浄液を撥ね上げて、
装置A内周壁面を汚損する。
(考案の目的) 本考案の第1の目的は、上記洗浄操作時におけるブラシ
によって撥ね上げられた洗浄液によって装置内が汚損さ
れることを防止することであり、第2の目的は、洗浄に
使用したことによって汚損された該ブラシを前記装置内
で洗浄液によって洗浄する場合、その洗浄液の撥ね上げ
によって、折角洗浄した前記基板に洗浄液が再付着して
汚損することがないように防御することである。
(考案の構成) 本考案は、基板2を水平状態に載置固定する水平回転テ
ーブル1と、該テーブル1上方から該テーブル上の基板
2までの間を上下動作可能な水平軸回転ブラシ3と、該
ブラシ3近傍に設置する洗浄液噴出部16とを備え、該ブ
ラシ3の上昇動作で該ブラシ3の下側に水平状態に姿勢
を変換され下降動作で該ブラシ3の側方に起立状態に姿
勢を変換される洗浄液受皿部7とを設けたことを特徴と
する基板洗浄装置である。
(考案の作用) 本考案は、基板洗浄操作時においては、水平軸に取り付
けた洗浄のために、水平軸回転駆動可能な回転ブラシは
基板面に下降動作し、洗浄液を噴出させながら回転テー
ブルによって連続的又は間欠的に水平回転する基板面に
対して接触しながら回転動作して基板面を洗浄するもの
であるが、該ブラシの下降に追従して基板とブラシとの
接触面より回転ベクトル方向の基板面側方に洗浄液を受
け止める受皿が起立し、前記ベクトル方向に撥ね上げら
れる洗浄廃液を受け止め、装置本体の内周壁面を汚損す
ることがない。又、洗浄操作終了後は、前記回転ブラシ
は、基板上方に上昇し、その上昇動作に追従して前記受
皿は、回転ブラシの下側に水平に姿勢が変換される。こ
れによって洗浄操作後の回転ブラシ本体を洗浄液噴出部
から供給しつつ洗浄液によって洗浄する場合にも、ブラ
シ洗浄廃液を受皿によって受け止めることができ、その
下側にある基板を汚損することがない。
(実施例) 本考案を図面に従って詳細に説明すれば、第1図は、本
考案装置の一実施例の側面図であり、エアーシリンダ
ー、油圧シリンダー、電動モーターなどによって駆動す
る昇降アーム4の先端部5に軸3aを軸支し、該軸3aと一
体に水平軸ロール状の回転ブラシ3を取り付ける。該ブ
ラシ3は、軸3aを適宜駆動手段(伝動モーター)により
回転させて回転駆動させる。ブラシ3に近接してその上
側を覆う上部カバー6を先端部5に一体に設ける。該上
部カバー6の内側にブラシ3の片側又は両側円周に、該
ブラシ3に向かって洗浄液を噴出させる洗浄液噴出部16
を設ける。該回転ブラシ3の下側に水平に受皿7を設
け、該受皿7の一側方端部に該受皿7を水平に支持する
垂直支持板7aを備え、該垂直支持板7aの上端部に該垂直
支持板7aを支持し且つ前記受皿7に約平行方向に相対す
る水平な支持板7bを備え、該水平支持板7bの前記垂直支
持板7a側と反対側の端部を、前記回転ブラシ3を軸支す
る前記アーム4の先端部5上部に備えた取付板17に支点
8を介して回転自在に軸支する。これによって前記受皿
7と垂直支持板7aと水平支持板7bは、概略コの字型体を
構成する。該コの字型構造体は、上端部の前記支点8に
よつて受皿7を水平にした状態で均衡がとれるように支
点8に対するその重心位置が設定される。
前記昇降アーム4の先端部5に軸支された前記ロール状
の回転ブラシ3と、該先端部5にある取付板17に支点8
を介して取り付けられた前記コの字型構造体及び受皿7
とは、適宜駆動手段により回転する水平回転テーブル1
を備える装置本体外槽9内に設置される。該回転テーブ
ル1上には例えばガラス基板、樹脂基板、金属基板など
被洗浄基板2を載置固定する。そして、前記昇降アーム
4は、水平を維持しながら斜め方向に上昇及び下降可能
になっている。前記受皿7を支持する前記垂直取付板7a
の上端部又は下端部と、前記装置本体外槽9の上端部の
張出部10との間には、連結紐11(あるいは連結杆)によ
って連結してされている。適宜駆動手段(例えばエアー
シリンダーなど)によって昇降アーム4が上方位置から
斜め下方位置に下降動作することによってその先端部に
取り付けられた回転ブラシ3は、被洗浄基板2上面まで
下降するするとともに、前記垂直取付板7aは、連結紐11
によって上方に引っ張られ、支点8を介して均衡状態に
あるコの字型構造体の受皿7は、被洗浄基板2の側方に
水平状態から起立状態に姿勢変換されるものである。一
方、昇降アーム4の斜め上方への上昇動作によって回転
ブラシ3は前記基板2上面より離脱するとともに、前記
受皿7は、支点8を中心とする回転モーメント力によっ
てブラシ3の下側に復帰し、水平状態に姿勢変換される
ものである。
第2図は、本考案の他の実施例の側面図であり、支点12
aを介して取り付けた傾斜姿勢より水平姿勢に移動可能
なアーム12の先端部5にロール状の回転ブラシ3を支軸
3aによって軸支し、該回転ブラシ3を適宜駆動モーター
によって回転させる。又、ブラシ3の周面の片側又は両
側に近接して、洗浄液を噴出させる洗浄液供給ノズルな
どの洗浄液噴出部16をアーム12の先端部5に一体に設け
る。該回転ブラシ3の下側には受皿7を水平状態に設
け、該受皿7の一端部に該受皿7を水平に支持する垂直
支持板7aを設け、該垂直支持板7aの上端部に前記受皿7
に平行に相対して水平支持板7bを設ける。該水平支持板
7bの前記垂直支持板7aと反対側端部を、前記アーム12の
端部上部に設けた取付板17に支点8を介して取り付け
る。前記受皿7と垂直支持板7aと水平支持板7bからなる
概略コの字型構造体は、支点8を介して前記受皿7を水
平状態な状態にして均衡を保持している。そのため、受
皿7は回転ブラシ3の下側に保持されている。垂直支持
板7aの下端部と、装置本体外槽9の上端部の前記張出部
10との間を連結紐11によって連結されている。アーム12
を傾斜位置から水平位置に動作させることによって、回
転ブラシ3を下降させ、基板2上面に接触させるととも
に、前記連結紐11によって垂直支持板7aの下端が引っ張
られて、受皿7は、アーム12と同じ傾斜状態からブラシ
3側方に支点8を介して起立状態に姿勢変換されるもの
である。そして、洗浄操作後は、再びアーム12を傾斜位
置に戻すことによってブラシ3は基板2面から上方に離
脱し、受皿7は、支点8を介して回転モーメント力によ
ってブラシ3の下側に水平状態に復帰するものである。
本考案は、基板の洗浄において、第1図、水平状態で回
転する回転テーブル1上に基板2を載置固定した後、昇
降アーム4を下降させて、回転ブラシ3を基板2上面に
接触させ、洗浄液を噴出ノズルなどの洗浄液噴出部16,1
6より噴出供給させながら高速回転させ、該回転テーブ
ル1を緩やかに回転させて、洗浄操作する。回転ブラシ
3の幅は、基板2が角形の場合は、その対角線の幅、あ
るいはそれより大きい幅のものを使用することが良い。
基板2と洗浄ブラシ3の接触面より回転モーメント方向
への洗浄液の撥ね上げは、その前方に起立する受皿7に
よって遮断される。
洗浄後は、昇降アーム4を上昇動作させて、回転ブラシ
3を基板2より離脱させ、受皿7を回転ブラシ3下側に
復帰させる。次に洗浄液噴出部16,16より洗浄液を噴出
させて回転ブラシ3を回転させながら該ブラシ3の自己
洗浄を行なうものである。洗浄液の回収は、受皿7の側
方、又は底部にある排出口18より受板19と排出管20を介
して外方に排出する。
本考案装置において、水平軸回転ブラシ3は、その直径
は適宜選定できるが、ブラシ周面の軸方向の有効長さ
は、回転テーブル上に載置する被洗浄基板の直径、ある
いは対角線長さ以上であることが適当である。
又、本考案の前記水平回転テーブルは、前記回転ブラシ
3に対して水平方向に適宜距離を相対的に往復移動でき
るようにしてもよい。
(考案の効果) 本考案は、基板洗浄操作中の基板洗浄ブラシによる洗浄
液の撥ね上げと、基板洗浄後のブラシの自己洗浄におけ
る洗浄液の撥ね上げによる装置本体の汚損あるいは洗浄
後の基板への洗浄液の再付着を防止することができ、基
板洗浄の仕上がり品質に良好な結果を得ることができ
る。又、本考案装置の水平回転テーブルに、フォトレジ
ストなど感光液を基板面に塗布する水平回転スピナー塗
布方式の水平回転テーブルを取り付けることによって、
レジスト塗布と基板の洗浄とを同一装置によって実施す
ることが可能になるなどの実用的価値のあるものであ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案装置の一実施例の側面図、第2図は本考
案装置の他の実施例の側面図、第3図は従来の基板洗浄
装置の概要側面図である。 1……水平回転テーブル、2……基板、3……水平軸回
転ブラシ、4……昇降アーム、5……アーム先端部、6
……上部カバー、7……受皿、8……支点、9……装置
本体外槽、10……張出部、11……連結紐、12……アー
ム、13……エアーシリンダー、14……作動連結部、15…
…ノズル、16……洗浄液噴出部、17……取付板、18……
排出口、19……受板、20……排出管

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板2を水平状態に載置固定する水平回転
    テーブル1と、該テーブル1上方から該テーブル上の基
    板2までの間を上下動作可能な水平軸回転ブラシ3と、
    該ブラシ3近傍に設置する洗浄液噴出部16とを備え、該
    ブラシ3の上昇動作で該ブラシ3の下側に水平状態に姿
    勢を変換され下降動作で該ブラシ3の側方に起立状態に
    姿勢を変換される洗浄液受皿部7とを設けたことを特徴
    とする基板洗浄装置。
JP1990025814U 1990-03-14 1990-03-14 基板洗浄装置 Expired - Lifetime JPH0725266Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1990025814U JPH0725266Y2 (ja) 1990-03-14 1990-03-14 基板洗浄装置

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JP1990025814U JPH0725266Y2 (ja) 1990-03-14 1990-03-14 基板洗浄装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03119483U JPH03119483U (ja) 1991-12-10
JPH0725266Y2 true JPH0725266Y2 (ja) 1995-06-07

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ID=31528735

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JP1990025814U Expired - Lifetime JPH0725266Y2 (ja) 1990-03-14 1990-03-14 基板洗浄装置

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