JPH07248611A

JPH07248611A - 露光用マスクおよび露光用マスク対

Info

Publication number: JPH07248611A
Application number: JP4247694A
Authority: JP
Inventors: Masanori Satou; 昌仙佐藤; Kazuhiro Umeki; 和博梅木
Original assignee: Ricoh Optical Industries Co Ltd
Current assignee: Ricoh Optical Industries Co Ltd
Priority date: 1994-03-14
Filing date: 1994-03-14
Publication date: 1995-09-26

Abstract

(57)【要約】【目的】平行平板状の透明基板の両面に対をなすパター
ンを精度良くパターニングできる露光用マスク対を提供
する。【構成】一対の露光パターン１０，２０は、互いに対を
なす所望のパターン１０Ａと、所定のパターン２０Ａを
有し、これらを位置合わせするための、位置決め用パタ
ーン１０Ｂ１，１０Ｂ２、位置合わせ用パターン２０Ｂ
１，２０Ｂ２、格子パターン１０Ｃ１，１０Ｃ２，２０
Ｃ１，２０Ｃ２が形成され、位置合わせ用パターンと位
置決め用パターンを用いた位置合わせの後、格子パター
ンの重なりによるモアレを利用して、微妙な補正を行
う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は「露光用マスクおよび
露光用マスク対」に関する。

【０００２】

【従来の技術】基板に形成されたフォトレジスト等の感
光性材料層に、「露光用マスク」を用いて所望のパター
ンを露光することは、フォトリソグラフィ等に関連して
良く知られている。

【０００３】近時、透明な光学材料の平坦な面に形成し
たフォトレジスト層に、マイクロレンズの形状をフォト
リソグラフィによりパターニングして、円柱状のフォト
レジスト層を得、これを加熱して熱流動と表面張力の作
用により、フォトレジスト表面を凸曲面化し、次いで異
方性のエッチングにより、上記凸曲面化したフォトレジ
ストの表面形状を光学材料に彫り写して、正の屈折力を
持つ微小な屈折面を形成し、マイクロレンズとするマイ
クロレンズ製造方法が提案されている（特開平５−１７
３００３号公報）。

【０００４】上記公報には、また、上記フォトレジスト
層に所定の強度分布を持った光を照射して、フォトレジ
スト層の表面を凹曲面化し、この凹曲面形状を異方性の
エッチングで光学材料に彫り写し、負の屈折力を持つ微
小な屈折面を形成し、負のマイクロレンズとすることも
提案されている。これらマイクロレンズは、これをアレ
イ配列することによりマイクロレンズアレイとできるこ
とは言うまでもない。

【０００５】このようなマイクロレンズやマイクロレン
ズアレイは、平行平板状の同一基板の表裏に互いに位置
合わせして形成することもでき、このようにすると、基
板表裏の屈折面の組合せとして、凸・凸、凸・凹、凹・
凸、凹・凹の４通りが可能であり、片面のみに形成され
た屈折面の場合よりも広範な光学性能を実現できる。

【０００６】しかし、同一基板の表裏面に、屈折面を対
にして形成する場合、互いに対をなす屈折面が高精度に
位置合わせ（光軸合わせ）されていないと、せっかく形
成されたマイクロレンズで所期の光学性能を実現するこ
とができない。このため、同一基板の表裏に屈折面形状
をパターニングする際、表裏のパターンを、如何にして
精度良く位置合わせするかが重要な問題となる。

【０００７】従来、このような位置合わせは、以下の如
くに行われていた。先ず、平行平板状の透明基板の片面
もしくは両面に所望のフォトレジスト層を形成し、片面
側に所望のパターンを露光用マスクを用いて露光する。
上記マスクには、上記パターンと共に「位置決め用のパ
ターン（俗に言う「トンボ」）」が形成されており、所
望のパターン（マイクロレンズもしくはそのアレイ配列
のパターン）と位置決め用マークとが同時に露光され
る。次いで、現像を行うと上記所望のパターンと共に位
置決め用のパターンがパターニングされる。

【０００８】続いて、透明基板を裏返し、他方の面に形
成したフォトレジスト層に、別の露光用マスクを重ね
る。この別のマスクには、先のパターニングでの露光に
用いた露光用マスクのパターンと対をなすマイクロレン
ズあるいはそのアレイ配列のパターンが形成されてお
り、このパターンと共に上記位置決め用のマークと組み
合わせられて位置決めを行う「位置合わせ用のパター
ン」が形成されている。

【０００９】他方の面に形成されたフォトレジストの露
光を行う前に、上記フォトレジスト層が感度を持たない
光で照明しつつ、「位置合わせ用の顕微鏡」を用いて、
透明基板表裏のパターンの位置合わせを行う。即ち、透
明基板の片面に先に形成されている所望のパターンと、
上記別の露光用マスクのパターンとの位置合わせを行
う。この位置合わせは、顕微鏡の視野内で、上記「位置
決め用パターン」と「位置合わせ用パターン」を合致さ
せるこにとにより行われる。

【００１０】ところで、形成されるマイクロレンズ（も
しくはマイクロレンズアレイ）のレンズ径は大きくても
１〜２ｍｍ程度、一般には１ｍｍ以下であり、透明基板
表裏に形成される屈折面の光軸合わせは「μｍオーダー
の精度」で行う必要がある。このため位置合わせ用の顕
微鏡には、１００倍オーダーの「高倍率」が必要であ
り、焦点深度は極めて浅くなる。

【００１１】上記の位置合わせされるべき「位置決め用
パターン」と「位置合わせ用パターン」は、透明基板を
介して反対側にあるから、両者は「透明基板の厚さ」
分、即ち、通常１ｍｍ前後離れており、このため、顕微
鏡の視野内で、両パターンを同時に明瞭に観察すること
ができない。

【００１２】そこで、先ず透明基板の片面に既に形成さ
れている「位置決め用パターン」にピントを合わせ、
「位置決め用パターン」の像中心部が顕微鏡視野の中心
に位置するようにする。次に、顕微鏡のピントをマスク
の「位置合わせ用パターン」に合わせ、露光用のマスク
を位置調整することにより「位置合わせ用パターン」の
像中心部が顕微鏡視野の中心に一致するようにする。こ
れで、間接的に「位置決め用パターン」と「位置合わせ
用パターン」の位置合わせが行われたことになる。

【００１３】しかし、問題は、この先にある。上記位置
合わせの最に、顕微鏡のピントを、「位置決め用パター
ン」から「位置合わせようパターン」に移す最に、顕微
鏡は透明基板の表面に直交する方向へ変位するのである
が、この変位の軸（変位軸と言う）は機械的な誤差のた
め、上記透明基板表面の法線と完全には平行とならず、
微小角：δの「狂い」がある。この「変位軸の傾き角：
δ」は、顕微鏡の「くせ」のようなもので、個々の顕微
鏡に固有な値であり、予め測定により知ることができ
る。

【００１４】顕微鏡に「変位軸の傾き角：δ」がある
と、上述のように、間接的に位置合わせされた「位置決
め用パターン」と「位置合わせ用パターン」とは、透明
基板の厚さ：ｄに対し、ｄ・ｓｉｎδ（≒ｄ・δ，∵δ
＜＜１）だけ互いにずれていることになる。傾き角：δ
が１度としても、透明基板の厚さが１ｍｍあると、透明
基板表裏のパターンのずれは、０．０１７ｍｍ＝１７μ
ｍとなり、マイクロレンズの光軸合わせの誤差としては
無視できない大きさになる。

【００１５】従って、顕微鏡による位置合わせの後に、
「変位軸の傾きに応じた補正」を行わねば、パターン相
互の正確な位置合わせを実現できない。変位軸の傾きに
応じた補正は、補正量が小さいため、正確な補正が困難
であった。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】この発明は上述した事
情に鑑みてなされたものであって、上記位置合わせ用の
顕微鏡の変位軸の傾きによるパターンのずれを、容易に
補正することを可能ならしめた、新規な露光用マスクお
よび露光用マスク対の提供を目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明の
「露光用マスク」は、「平行平板状の透明基板の片面に
形成された感光性材料層に所望のパターンを露光するた
めのマスク」である。この露光用マスクは、「透明平行
平板の片面に、所望のパターンとともに、位置決め用パ
ターンと、２つの格子パターンとを形成した」ものであ
る。従って、この露光用マスクを上記感光性材料層に密
着させて露光し、現像を行えば、所望のパターンと位置
決め用パターンと２つの格子パターンとを、透明基板の
片面にパターニングできる。

【００１８】２つの「格子パターン」は、配列方向が互
いに直交しており、所定のピッチを有する。２つの格子
パターンのピッチは互いに同じでも良いし、異なってい
ても良い。

【００１９】請求項２記載の発明の「露光用マスク」
は、「平行平板状の透明基板の片面に形成された感光性
材料層に所定のパターンを露光するためのマスク」であ
る。

【００２０】この露光用マスクは、「透明平行平板の片
面に、所定のパターンとともに、位置合わせ用パターン
と、２つの格子パターンとを形成した」ものである。

【００２１】２つの「格子パターン」は、配列方向が互
いに直交しており、所定のピッチを有する。「所定のパ
ターン」は、上記請求項１記載の露光用マスクにおける
「所望のパターン」と組み合わせられるパターンであ
る。「位置合わせ用パターン」は、請求項１記載の露光
用マスクにおける「位置決め用パターン」と共働して、
所望のパターンと所定のパターンとの位置合わせを行う
ためのパターンである。

【００２２】２つの格子パターンは、ピッチが互いに同
じでも異なっていても良いが、「請求項１記載の露光用
マスクにおける２つの格子パターン」とそれぞれ重なり
あって、「周期の大きいモアレ」を発生するように、形
成位置および格子ピッチが定められている。

【００２３】なお、請求項１，２記載の発明の露光用マ
スクにおける各格子パターンは、光透過率が格子配列方
向へ配列ピッチに従って周期的に変化しているものであ
り、透過率の周期的変化は「矩形波状」でも良いし「サ
イン波状」でもよい。

【００２４】請求項３記載の発明の「露光用マスク対」
は、「平行平板状の透明基板の両面に形成された感光性
材料層に、互いに対応する所望のパターンと所定のパタ
ーンとを位置合わせしてを露光するためのマスク対」で
あって、一方のマスクが前記請求項１記載の露光用マス
クであり、他方のマスクが上記請求項２記載の露光用マ
スクであることを特徴とする。

【００２５】この請求項３記載の発明の露光用マスク対
において、「平行平板状の透明基板の両面に形成された
感光性材料層」とは、透明基板の両面に予め感光性材料
層を形成する場合のみならず、一方の面に感光性材料層
を形成して、先ずこの面をパターニングし、続いて、他
方の面に感光性材料を形成した後、この側の面をパター
ニングする場合も含み、透明基板の一方の面にパターニ
ングが行われるとき、他方の面に感光性材料層が形成さ
れている必要は必ずしもない。

【００２６】

【作用】平行平板状の透明基板の片面側に請求項１記載
の露光用マスクを配し、別面側に請求項２記載の露光用
マスクを配すると、それぞれのマスクにおける２つの格
子パターンが、対応するもの同志で重なり合い、「モア
レ」を発生する。

【００２７】この状態で、一方の露光用マスクを他方の
露光用マスクのパターンに対して移動させると、モアレ
の移動が生じる。

【００２８】例えば、一方の露光用マスクにおける一つ
の格子パターンのピッチを(１/ｎ)とし、格子パターン
を簡単に「ｓｉｎ(ｎｘ)」とし、この格子パターンと重
なり合う格子パターン(ピッチ:１/ｍ）を「ｓｉｎ(ｍ
{ｘ＋Δｘ}）」とする。このとき、これらを重ねあわせ
た状態は、２ｓｉｎ［{(ｎ＋ｍ)ｘ＋ｍΔｘ}/２］・ｃ
ｏｓ［{(ｎ−ｍ)ｘ−ｍΔｘ}/２］で、「ｃｏｓ［{(ｎ
−ｍ)ｘ−ｍΔｘ}/２］」の部分が「モアレ」を表す。

【００２９】Δｘを２つの格子パターンの相対的な変位
量とすると、ｍΔｘ＝πのとき、即ち、「Δｘ＝π／
ｍ］のとき、「ｃｏｓ［{(ｎ−ｍ)ｘ−ｍΔｘ}/２］」
は、「ｓｉｎ｛（ｎ−ｍ）ｘ／２｝」となり、モアレの
位相が９０度変化する。

【００３０】上記ｍを大きく（格子ピッチを小さく）す
ることにより、２つの格子パターンの相対的な変位を
「モアレの大きな変位」として拡大することができる。

【００３１】

【実施例】以下、具体的な実施例に即して説明する。図
１（ａ），（ｂ）に示す露光用マスクは、請求項３記載
の露光用マスク対を構成している。即ち、これら露光用
マスク対のうちの任意の一方は請求項１記載の露光用マ
スクであり得、他方は請求項２記載の露光用マスクであ
り得る。

【００３２】説明の具体性のため、ここでは図１（ａ）
が、請求項１記載の露光用マスクの１実施例を示し、図
１（ｂ）は、請求項２記載の露光用マスクの１実施例を
示しているものとする。これら露光用マスク対は「マイ
クロレンズアレイ」を作製するのに用いられ、各露光用
マスクは、透明基板の各面の感光性材料層に、マイクロ
レンズアレイにおける各屈折面のアレイ配列をパターニ
ングするためのものである。

【００３３】図１（ａ）に示す露光用マスク１０は、所
望のパターンである「マイクロレンズアレイの片面側の
屈折面のアレイ配列」に対応する黒円パターンのアレイ
配列１０Ａ、１対の位置決め用パターン１０Ｂ１，１０
Ｂ２、および２つの格子パターン１０Ｃ１，１０Ｃ２を
「金属薄膜パターン」により形成されている。

【００３４】位置決め用パターン１０Ｂ１，１０Ｂ２
は、図１（ｃ）に示すように、円形の遮光部（ハッチを
施した部分）の内部に「十字形の透光部」を形成したも
のである。格子パターン１０Ｃ１，１０Ｃ２は、その配
列方向が互いに直交するように形成されている。

【００３５】図１（ｂ）に示す露光用マスク２０は「マ
イクロレンズアレイの他面側の屈折面のアレイ配列」に
対応する黒円パターンのアレイ配列２０Ａと、１対の位
置合わせ用パターン２０Ｂ１，２０Ｂ２、および、２つ
の格子パターン２０Ｃ１，２０Ｃ２を「金属薄膜パター
ン」により形成されている。アレイ配列２０Ａは勿論、
「所定のパターン」であって、露光用マスク１０におけ
るアレイ配列１０Ａにより与えられる屈折面配列に対応
して、マイクロレンズアレイを構成する他方の面におけ
る屈折面配列を与えている。

【００３６】位置決め用パターン２０Ｂ１，２０Ｂ２
は、図１（ｄ）に示すように、円形のパターンの内部に
「十字形の遮光部（ハッチを施した部分）」を形成した
ものである。格子パターン２０Ｃ１，２０Ｃ２は、その
配列方向が互いに直交するように形成されている。

【００３７】前述した「位置合わせ用の顕微鏡」で位置
合わせされた状態とは、図１（ｅ）に示すように、位置
決め用パターン１０Ｂ１，１０Ｂ２の内部の「十字形の
透光部」の内部に、対応する位置合わせ用パターン２０
Ｂ１，２０Ｂ２の「十字形の遮光部」が、互いに重なり
合うこと無く位置する状態であるが、前述のように、こ
れらのパターンは「透明基板の厚さ」を介して対向して
おり、顕微鏡の焦点深度が極めて小さいため、顕微鏡の
視野内に、図１（ｅ）のような状態が観察されることは
ない。

【００３８】前述のように、位置合わせに際しては、顕
微鏡のピントを先ず、位置決め用パターン１０Ｂ１もし
くは１０Ｂ２に合わせ、このパターンが顕微鏡の視野の
中心に位置するようにする（顕微鏡の視野には、照準パ
ターン記されており、照準パターンの中心に、位置決め
用パターンの中心を合致させる）。次に、顕微鏡のピン
トを位置合わせ用パターン２０Ｂ１あるいは２０Ｂ２に
合わせ、露光用マスク２０の位置を微調整して、位置合
わせ用パターン２０Ｂ１あるいは２０Ｂ２が視野の中心
にくるようにする。図１（ｅ）は、このようにして、位
置合わせを実現した状態を説明図的に示しているのであ
る。

【００３９】図１（ｆ）は、格子パターン１０Ｃ１もし
くは１０Ｃ２と、格子パターン２０Ｃ１もしくは２０Ｃ
２の重なりにより発生するモアレの状態を示している。

【００４０】格子パターン１０Ｃ１，１０Ｃ２および、
これらとそれぞれ重なりあう格子パターン２０Ｃ１，２
０Ｃ２のピッチは、発生するモアレの周期が大きくなる
ように、即ち、発生するモアレが「数倍程度の低倍率の
顕微鏡もしくは目視」で十分に観察できるように定めら
れる。

【００４１】以下、図１の実施例の露光用マスク対を用
いて、パターニングを行う例を説明する。図２（ａ）に
おいて、符号３０で示す平行平板状の透明基板は、厚
さ：ｄを有し、その片面には、感光性材料層としてのポ
ジのフォトレジスト層３１が形成されている。フォトレ
ジスト層３１はプリベイクされている。

【００４２】フォトレジスト層３１に密接して露光用マ
スク１０が設けられ（図では、露光用マスク１０をフォ
トレジスト層３１と離して描いているが、実際には両者
を密着させる）図の上方から露光用の光を均一照射す
る。図の「領域Ａ」は、格子パターン１０Ｃ１等や位置
決め用パターン１０Ｃ１等をパターニングする領域であ
り、「領域Ｂ」は、所望のパターン（図１（ａ）のパタ
ーン１０Ａ）をパターニングする領域である。

【００４３】図２（ｂ）は、露光後、フォトレジスト層
３１を現像した状態を示している。領域Ａには、フォト
レジスト層３１に、格子パターンや位置決め用パターン
がパターニングされ、領域Ｂには所望のパターンがパタ
ーニングされる。

【００４４】図２（ｃ）は、上記パターニングされた側
の面を反転させて下方へ向け、反対側の面にフォトレジ
スト層３２を形成し、その表面に露光用マスク２０を密
着させた状態を示している。この図でも、露光用マスク
２００をフォトレジスト層３２と離して描いているが、
実際には両者を密着させる。

【００４５】この状態で、先に説明した「顕微鏡による
位置合わせ」を、位置決め用パターンと位置合わせ用パ
ターンを用いて実行する。このとき、透明基板３０は治
具に固定し、露光用マスク２０は透明基板３０に対して
相対的に変位調整できるようにしておく。

【００４６】このようにして、顕微鏡による位置合わせ
が終了した状態を、図３に示す。格子パターン１０Ｃ１
によりパターニングされたフォトレジスト層による格子
パターンと、格子パターン２０Ｃ１との重なりによりモ
アレＭ１が生じており、格子パターン１０Ｃ２によりパ
ターニングされたフォトレジスト層による格子パターン
と、格子パターン２０Ｃ２との重なりによりモアレＭ２
が生じている。

【００４７】透明基板３０の表面に立てた法線の方向を
ｚ方向とし、モアレＭ１，Ｍ２の方向に、それぞれｘ，
ｙ方向を取る。図示のように顕微鏡の「変位軸Ａの傾き
角」がδであり、「変位軸Ａのｘｙ面への射影」とｘ方
向とのなす角をθとすると、透明基板３０に対する露光
用マスク２０の「位置補正量（変位軸Ａの傾きに応じた
補正の補正量）」は、ｘ方向に対し「ｄ・ｓｉｎδ・ｃ
ｏｓθ」であり、ｙ方向に対しては「ｄ・ｓｉｎδ・ｓ
ｉｎθ」であるが、傾き角：δは微小角であるので、こ
れらは「ｄ・δ・ｃｏｓθおよびｄ・δ・ｓｉｎθ」と
なり、いずれも微小量である。「ｄ」は、前述の透明基
板３０の「厚さ」である。

【００４８】そこで、顕微鏡の倍率を数倍程度の低倍率
に切り換え、透明基板３０に対する露光用マスク２０の
ｘ方向の変位量をモアレＭ１の変化を観察しつつ調整
し、ｙ方向の変位量をモアレＭ２の変化を観察しつつ調
整することにより、上記補正を実行する。かくして、透
明基板３０の片面にパターニングされた所望のパターン
と、露光用マスクの所定のパターンとの位置合わせが完
了する。

【００４９】この状態で露光を行い、フォトレジスト層
３２を現像すると、図２（ｄ）に示すように、透明基板
３０の両面に形成されたフォトレジスト層３１，３２
が、互いに対応する「所望のパターン」および「所定の
パターン」により正しく（両面のパターンが位置合わせ
された状態で）パターニングされる。

【００５０】図２（ｅ）は、同図（ｄ）の状態から熱処
理を行い、領域Ｂにパターニングされたフォトレジスト
層３１，３２の表面形状を曲面化した状態を示してい
る。この状態から「異方性のエッチング」を行い、フォ
トレジスト層３１，３２の表面形状を透明基板３０に彫
り写せば、図２（ｆ）に示すように、両面に、対応する
屈折面を軸合わせして形成されたマイクロレンズアレイ
を得ることができる。

【００５１】なお、位置合わせ以降では、領域Ａのパタ
ーンは何ら実質的な役割を持たないので、図２（ｅ），
（ｆ）では、この部分の図示を割愛した。

【００５２】図４は、露光用マスクパターン対によるパ
ターニングの変形例を説明するための図である。透明基
板３００は「紫外線吸収性の平行平板」で、その両面に
「紫外線により感光」するフォトレジスト層３０１，３
０２が形成されている。フォトレジスト層３０１に密着
させて露光用マスク１０を配備し、フォトレジスト層３
０２に密着させて露光用マスク２０を配備する。

【００５３】露光用マスク２０と透明基板３００とを治
具により一体的に固定し、この状態で、露光用マスク１
０の微小変位により、「顕微鏡による位置合わせ」と
「モアレによる補正」とを実行する。

【００５４】そして、これらが終了したら、透明基板３
００の両面側から同時に「紫外線の照射」を行って、フ
ォトレジスト層３０１，３０２を同時に露光する。あと
は、フォトレジスト層３０１，３０２に対して現像を行
えば、所期の目的である両面のパターニングを実現でき
る。

【００５５】このパターニング方法では、透明基板の両
面に露光用マスクを配備し、位置決め用パターンと位置
合わせ用パターンによる位置合わせも、格子パターンの
モアレによる補正も、共に、マスクの金属薄膜パターン
同志で行うので、例えばモアレの観察が容易であるとい
う利点がある。

【００５６】図５には、図１の露光用マスク対を用いる
パターニングの別の変形例を示す。図５（ａ）に示すよ
うに、平行平板状の透明基板３０の片面には、感光性材
料層であるフォトレジスト３１が形成されているが、格
子パターン１０Ｃ１や位置決め用パターン１０Ｂ１をパ
ターニングされるべき領域Ａでは、透明基板３０の表面
にＡｌ等による金属薄膜３３が形成され、その上にフォ
トレジスト層３１が形成されている。

【００５７】図５（ａ）に示す用に、露光用マスク１０
を用いてパターニングを行い、そのあと、上記金属薄膜
３のみをエッチングで除去すると、図５（ｂ）に示すよ
うに領域Ａでは、格子パターンや位置決め用パターンに
応じてパターニングされたフォトレジスト３１と、透明
基板３０との間に金属薄膜３３が挾持されている。

【００５８】この状態で熱処理を行って、領域Ｂにおけ
るフォトレジスト層３１の表面を曲面化させ、続いて、
フォトレジストと透明基板３０にのみ作用し、金属薄膜
３３には作用しない異方性のエッチングを行うと、図５
（ｃ）に示すように、領域Ｂではフォトレジスト層表面
の曲面形状が彫り写され、領域Ａでは、透明基板３０の
表面に格子パターンおよび位置決め用パターンを写した
金属薄膜のパターンが残される。

【００５９】次いで、透明基板３０を裏返し、他方の面
にフォトレジスト層２を形成し、このフォトレジスト層
３２に露光用マスク２０を密着させる。そして、位置決
め用パターンを写された金属薄膜と位置合わせ用パター
ン２０Ｂ１等を利用して、顕微鏡による位置合わせを行
う。この位置合わせ後、格子パターンを写された金属薄
膜３３のパターン１０Ｃ１’と格子パターン２０Ｃ１等
のモアレを利用した補正を行って、パターニングを行
う。

【００６０】図５の方法の場合も、位置合わせや補正
が、金属薄膜のパターン同志で行われるので、位置合わ
せや補正のためのモアレの観察が容易である利点があ
る。

【００６１】なお、図２，４，５に即して説明したパタ
ーニングの例において、透明基板の表面に形成したフォ
トレジスト層の厚さは５０μｍ程度以下であり、若干の
着色はあるものの、例えば、図２（ｃ）の位置合わせの
段階では、フォトレジスト層３２を介して、フォトレジ
スト層３１のパターンを観察できる。

【００６２】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば新規な露光用マスクおよび露光用マスク対を提供でき
る（請求項１〜３）。この発明の露光用マスク対（請求
項３）を構成する各露光用マスク（請求項１，２）は、
上記の如く互いに重なりあったときにモアレを生じるよ
うな格子パターンが形成されているので、顕微鏡を用い
たパターン相互の位置合わせの後、顕微鏡の変位軸の傾
きに応じた補正をすとるときに、露光用マスクと透明基
板との間の相対変位を、モアレの変位として大きく拡大
して観察できるので、微妙な補正を正確に行うことがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の露光用マスク対の１実施例を説明す
るための図である。

【図２】上記実施例の露光用マスク対を用いたパターニ
ングの１例を、マイクロレンズ製造方法との関連で説明
するための図である。

【図３】露光パターン相互の位置合わせにおける、顕微
鏡の変位軸の傾きに応じた補正を説明するための図であ
る。

【図４】上記実施例の露光用マスク対を用いたパターニ
ングの別例を説明するための図である。

【図５】上記実施例の露光用マスク対を用いたパターニ
ングの他の例を説明するための図である。

【符号の説明】

１０露光用マスク１０Ａ所望のパターン１０Ｂ１，１０Ｂ２位置決め用パターン１０Ｃ１，１０Ｃ２格子パターン２０露光用マスク２０Ａ所定のパターン２０Ｂ１，２０Ｂ２位置合わせ用パターン２０Ｃ１，２０Ｃ２格子パターン

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】平行平板状の透明基板の片面に形成された
感光性材料層に所望のパターンを露光するためのマスク
であって、透明平行平板の片面に、上記所望のパターンとともに、
位置決め用パターンと、配列方向が互いに直交する所定
ピッチの２つの格子パターンとが形成されていることを
特徴とする露光用マスク。
【請求項２】平行平板状の透明基板の片面に形成された
感光性材料層に所定のパターンを露光するためのマスク
であって、透明平行平板の片面に、上記所定のパターンとともに、
位置合わせ用パターンと、配列方向が互いに直交する所
定ピッチの２つの格子パターンとが形成されており、上記所定のパターンは、請求項１記載の露光用マスクに
おける所望のパターンと組み合わせられるパターンであ
り、上記位置合わせ用パターンは、請求項１記載の露光用マ
スクにおける位置決め用パターンと共働して、上記所望
のパターンと所定のパターンとの位置合わせを行うため
のパターンであり、上記２つの格子パターンは、請求項１記載の露光用マス
クにおける２つの格子パターンとそれぞれ重なりあっ
て、周期の大きいモアレを発生するように、形成位置お
よび格子ピッチが定められていることを特徴とする露光
用マスク。
【請求項３】平行平板状の透明基板の両面に形成された
感光性材料層に、互いに対応する所望のパターンと所定
のパターンとを位置合わせしてを露光するためのマスク
対であって、一方のマスクが請求項１記載の露光用マスクであり、他
方のマスクが請求項２記載の露光用マスクであることを
特徴とする露光用マスク対。