JPH07248205A - 測長スケールの表面処理方法 - Google Patents
測長スケールの表面処理方法Info
- Publication number
- JPH07248205A JPH07248205A JP3955694A JP3955694A JPH07248205A JP H07248205 A JPH07248205 A JP H07248205A JP 3955694 A JP3955694 A JP 3955694A JP 3955694 A JP3955694 A JP 3955694A JP H07248205 A JPH07248205 A JP H07248205A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- measuring scale
- length measuring
- light
- fluoroalkylsilane
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガラス基板の表面に光学格子を形成した測長
スケールに結露による光学的特性の悪化を防止するため
の結露対策を、簡易にかつ安価に施すことができる測長
スケールの表面処理方法を提供する。 【構成】 ガラス基板１１の表面に光透過部１５および
光遮断部１６が交互にかつ一定ピッチで連続する光学格
子Ｇを形成した測長スケールＳ0 を、フロオロアルキル
シランを含有したアルコール系溶剤中に浸漬したのち、
引き上げて加熱する。フロオロアルキルシランは、撥水
性を有し、表面に水酸基をもつガラス表面への付着力が
強い一方、光遮断部を構成するクロム表面とは結合しに
くい。この付着力の差によって、光透過部１６の部分に
撥水層２１が形成される。
スケールに結露による光学的特性の悪化を防止するため
の結露対策を、簡易にかつ安価に施すことができる測長
スケールの表面処理方法を提供する。 【構成】 ガラス基板１１の表面に光透過部１５および
光遮断部１６が交互にかつ一定ピッチで連続する光学格
子Ｇを形成した測長スケールＳ0 を、フロオロアルキル
シランを含有したアルコール系溶剤中に浸漬したのち、
引き上げて加熱する。フロオロアルキルシランは、撥水
性を有し、表面に水酸基をもつガラス表面への付着力が
強い一方、光遮断部を構成するクロム表面とは結合しに
くい。この付着力の差によって、光透過部１６の部分に
撥水層２１が形成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光電式エンコーダに用
いられる測長スケールの表面処理方法に関する。詳しく
は、光電式エンコーダにおいて、相対移動されるメイン
スケールやインデックススケールの表面に、結露による
光学的特性の悪化を防止するための結露対策を施す表面
処理方法に関する。
いられる測長スケールの表面処理方法に関する。詳しく
は、光電式エンコーダにおいて、相対移動されるメイン
スケールやインデックススケールの表面に、結露による
光学的特性の悪化を防止するための結露対策を施す表面
処理方法に関する。
【０００２】
【背景技術】変位検出手段の１つとして、メインスケー
ルとインデックススケールとの相対移動によって生じる
光の明暗から両スケールの相対移動変位量を検出する光
電式エンコーダが知られている。これは、図１に示す如
く、長手方向に沿って光学格子Ｇ0 を有するメインスケ
ール１と、これと対応する参照光学格子Ｇ1,Ｇ2,Ｇ3,Ｇ
4 を有するインデックススケール２とを相対移動する２
つの物体（たとえば、固定部材と可動部材）のそれぞれ
に取り付け、この両スケール１，２を挟んで発光素子３
および光電変換素子４1,４2,４3,４4 をインデックスス
ケール２と一体的に配置し、各光電変換素子４1 〜４4
からの出力信号を処理する信号処理回路（図示省略）を
設けた構造である。なお、５は発光素子３からの光を平
行光線として前記スケール１，２に照射するレンズであ
る。
ルとインデックススケールとの相対移動によって生じる
光の明暗から両スケールの相対移動変位量を検出する光
電式エンコーダが知られている。これは、図１に示す如
く、長手方向に沿って光学格子Ｇ0 を有するメインスケ
ール１と、これと対応する参照光学格子Ｇ1,Ｇ2,Ｇ3,Ｇ
4 を有するインデックススケール２とを相対移動する２
つの物体（たとえば、固定部材と可動部材）のそれぞれ
に取り付け、この両スケール１，２を挟んで発光素子３
および光電変換素子４1,４2,４3,４4 をインデックスス
ケール２と一体的に配置し、各光電変換素子４1 〜４4
からの出力信号を処理する信号処理回路（図示省略）を
設けた構造である。なお、５は発光素子３からの光を平
行光線として前記スケール１，２に照射するレンズであ
る。
【０００３】従って、インデックススケール２をメイン
スケール１に対してｘ方向へ移動させると、両光学格子
Ｇ0,Ｇ1 〜Ｇ4 を透過した透過光が光電変換素子４1 〜
４4によって検出されたのち、電気信号に変換される。
すると、信号処理回路において、その電気信号を基に両
スケール１，２の相対移動変位量が求められたのち、図
示しないデジタル表示器などに表示される。あるいは、
別のデータ処理装置に伝送され、そこで処理される。
スケール１に対してｘ方向へ移動させると、両光学格子
Ｇ0,Ｇ1 〜Ｇ4 を透過した透過光が光電変換素子４1 〜
４4によって検出されたのち、電気信号に変換される。
すると、信号処理回路において、その電気信号を基に両
スケール１，２の相対移動変位量が求められたのち、図
示しないデジタル表示器などに表示される。あるいは、
別のデータ処理装置に伝送され、そこで処理される。
【０００４】ところで、従来、メインスケール１やイン
デックスススケール２などの測長スケールの製造にあた
っては、図２に示す如く、細長薄板状に形成されたガラ
ス基板１１の表面にクロム（Ｃｒ）を蒸着して薄膜１２
を形成したのち〔（Ａ）参照〕、その上にレジスト１３
を塗布する〔（Ｂ）参照〕。続いて、その上から光を照
射して目的とする光学格子パターンを描画するととも
に、レジスト１３を現像したのち〔（Ｃ）参照〕、残っ
たレジスト１３をマスクとして薄膜１２を部分的にエッ
チングで除去する〔（Ｄ）参照〕。最後に、マスクとし
て使用したレジスト１３を剥離する〔（Ｅ）参照〕。こ
れにより、薄膜１２が除去された部分が光透過部１５、
残った薄膜１２の部分が光遮断部１６として、これらが
交互にかつ一定ピッチで連続する光学格子Ｇ0,Ｇ1 〜Ｇ
4(以下、Ｇと略す。) が形成される。つまり、ガラス基
板１１上に光学格子Ｇを有する測長スケールＳ0 が製造
される。
デックスススケール２などの測長スケールの製造にあた
っては、図２に示す如く、細長薄板状に形成されたガラ
ス基板１１の表面にクロム（Ｃｒ）を蒸着して薄膜１２
を形成したのち〔（Ａ）参照〕、その上にレジスト１３
を塗布する〔（Ｂ）参照〕。続いて、その上から光を照
射して目的とする光学格子パターンを描画するととも
に、レジスト１３を現像したのち〔（Ｃ）参照〕、残っ
たレジスト１３をマスクとして薄膜１２を部分的にエッ
チングで除去する〔（Ｄ）参照〕。最後に、マスクとし
て使用したレジスト１３を剥離する〔（Ｅ）参照〕。こ
れにより、薄膜１２が除去された部分が光透過部１５、
残った薄膜１２の部分が光遮断部１６として、これらが
交互にかつ一定ピッチで連続する光学格子Ｇ0,Ｇ1 〜Ｇ
4(以下、Ｇと略す。) が形成される。つまり、ガラス基
板１１上に光学格子Ｇを有する測長スケールＳ0 が製造
される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した構
造の測長スケールＳ0 の場合、結露が生じる環境下（た
とえば、温度差が大きい環境や室温とスケールの温度差
が大きい環境下）では、クロムに比べて親水性の高いガ
ラス部分、つまり、光透過部１５の部分に水滴が集中す
る傾向にある。すると、光（透過光）は、図３に示す如
く、光透過部１５の部分に集中した水滴１７によって屈
折、減衰の影響を受けてしまい、そのため光電変換素子
４1 〜４4 での受光光量が変化し、測定誤差を生じると
いう欠点がある。
造の測長スケールＳ0 の場合、結露が生じる環境下（た
とえば、温度差が大きい環境や室温とスケールの温度差
が大きい環境下）では、クロムに比べて親水性の高いガ
ラス部分、つまり、光透過部１５の部分に水滴が集中す
る傾向にある。すると、光（透過光）は、図３に示す如
く、光透過部１５の部分に集中した水滴１７によって屈
折、減衰の影響を受けてしまい、そのため光電変換素子
４1 〜４4 での受光光量が変化し、測定誤差を生じると
いう欠点がある。
【０００６】これを改善する手段として、図４に示す如
く、ガラス基板１１の光学格子Ｇが形成されている面に
コート剤１８を均一に塗布すれば、結露によって生じる
水滴１７が光透過部１５の部分に集中しなくなる。しか
し、これにしても、光透過部１５にかかる水滴１７を完
全になくすことはできないため、光の屈折、減衰の影響
を完全に取り除くことは不可能である。
く、ガラス基板１１の光学格子Ｇが形成されている面に
コート剤１８を均一に塗布すれば、結露によって生じる
水滴１７が光透過部１５の部分に集中しなくなる。しか
し、これにしても、光透過部１５にかかる水滴１７を完
全になくすことはできないため、光の屈折、減衰の影響
を完全に取り除くことは不可能である。
【０００７】そこで、本発明者等は、これらの問題を解
決すべく、鋭意、検討した結果、図５に示す如く、ガラ
ス基板１１の表面に光透過部（ガラス部分）１５および
光遮断部（クロム部分）１６が交互にかつ一定ピッチで
連続する光学格子Ｇを形成した測長スケールＳ0 の場
合、前記光透過部１５の表面に撥水性材料からなる撥水
層２１を形成すれば、上記問題を解決できることをつき
とめた。これによれば、結露によって水滴が発生して
も、その水滴は撥水層２１の撥水性によってはじかれ、
光遮断部１６の部分に集められる。その結果、光透過部
１５の部分には水滴が集中しなくなるから、光透過部１
５を透過する透過光が水滴による影響を受けることが少
なく、測定誤差を低減できる。
決すべく、鋭意、検討した結果、図５に示す如く、ガラ
ス基板１１の表面に光透過部（ガラス部分）１５および
光遮断部（クロム部分）１６が交互にかつ一定ピッチで
連続する光学格子Ｇを形成した測長スケールＳ0 の場
合、前記光透過部１５の表面に撥水性材料からなる撥水
層２１を形成すれば、上記問題を解決できることをつき
とめた。これによれば、結露によって水滴が発生して
も、その水滴は撥水層２１の撥水性によってはじかれ、
光遮断部１６の部分に集められる。その結果、光透過部
１５の部分には水滴が集中しなくなるから、光透過部１
５を透過する透過光が水滴による影響を受けることが少
なく、測定誤差を低減できる。
【０００８】ところで、上記測長スケールＳ0 に表面処
理を施す場合、つまり、光透過部１５の表面に撥水性材
料からなる撥水層２１を形成する場合、通常、図６に示
すリソグラフィ技術を利用して行うことが考えられる。 （Ａ）撥水層形成工程 ガラス基板１１の表面に光透過部１５および光遮断部１
６が交互にかつ一定ピッチで連続する光学格子Ｇを形成
した測長スケールＳ0 の表面（光学格子Ｇ側面）に撥水
性の高い撥水性材料、たとえば、フッソ樹脂をコーティ
ングして撥水層２１を形成する。 （Ｂ）レジスト塗布工程 上記（Ａ）工程で得られた撥水層２１の上にレジスト２
２を塗布する。 （Ｃ）露光・現像工程 上記（Ｂ）工程処理後、光透過部（ガラス部分）１５と
光遮断部（クロム部分）１６とからなる光学格子Ｇと同
じパターンが施されているマスク２３をレジスト２２側
に配置し、その上から光を照射してレジスト２２を露光
・現像する。 （Ｄ）エッチング工程 上記（Ｃ）工程において、レジスト２２がとれた部分の
撥水層２１をエッチングする。 （Ｅ）レジスト剥離工程 上記（Ｄ）工程において、残ったレジスト２２を剥離す
る。
理を施す場合、つまり、光透過部１５の表面に撥水性材
料からなる撥水層２１を形成する場合、通常、図６に示
すリソグラフィ技術を利用して行うことが考えられる。 （Ａ）撥水層形成工程 ガラス基板１１の表面に光透過部１５および光遮断部１
６が交互にかつ一定ピッチで連続する光学格子Ｇを形成
した測長スケールＳ0 の表面（光学格子Ｇ側面）に撥水
性の高い撥水性材料、たとえば、フッソ樹脂をコーティ
ングして撥水層２１を形成する。 （Ｂ）レジスト塗布工程 上記（Ａ）工程で得られた撥水層２１の上にレジスト２
２を塗布する。 （Ｃ）露光・現像工程 上記（Ｂ）工程処理後、光透過部（ガラス部分）１５と
光遮断部（クロム部分）１６とからなる光学格子Ｇと同
じパターンが施されているマスク２３をレジスト２２側
に配置し、その上から光を照射してレジスト２２を露光
・現像する。 （Ｄ）エッチング工程 上記（Ｃ）工程において、レジスト２２がとれた部分の
撥水層２１をエッチングする。 （Ｅ）レジスト剥離工程 上記（Ｄ）工程において、残ったレジスト２２を剥離す
る。
【０００９】しかし、このような表面処理方法では、リ
ソグラフィ技術を用いなければならないから、製造コス
トが高いという問題があった。つまり、リソグラフィ技
術は設備と工数がかかるため、製造コストが高くなると
いう問題があった。
ソグラフィ技術を用いなければならないから、製造コス
トが高いという問題があった。つまり、リソグラフィ技
術は設備と工数がかかるため、製造コストが高くなると
いう問題があった。
【００１０】ここに、本発明の目的は、このような従来
の問題を解決し、光学格子を有するガラス基板の表面
に、結露による光学的特性の悪化を防止するための結露
対策を、簡易にかつ安価に施すことができる測長スケー
ルの表面処理方法を提供することにある。
の問題を解決し、光学格子を有するガラス基板の表面
に、結露による光学的特性の悪化を防止するための結露
対策を、簡易にかつ安価に施すことができる測長スケー
ルの表面処理方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の測長スケールの
表面処理方法は、ガラス基板の表面に光透過部および光
遮断部が交互にかつ一定ピッチで連続する光学格子を形
成した測長スケールの表面処理方法であって、前記測長
スケールを、フロオロアルキルシランまたはアルコキシ
シランを含有した溶剤中に浸漬し、その後、溶剤中から
引き上げて加熱する。
表面処理方法は、ガラス基板の表面に光透過部および光
遮断部が交互にかつ一定ピッチで連続する光学格子を形
成した測長スケールの表面処理方法であって、前記測長
スケールを、フロオロアルキルシランまたはアルコキシ
シランを含有した溶剤中に浸漬し、その後、溶剤中から
引き上げて加熱する。
【００１２】ここで、フロオロアルキルシランまたはア
ルコキシシランは、ともに撥水性を有し、表面に水酸基
をもつガラス表面への付着力を有するが、撥水性の点で
はアルコキシシランよりもフロオロアルキルシランが好
ましい。また、溶剤の種類としては、アルコール系溶剤
であればいずれでもよい。たとえば、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、ブチルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、アミルアルコールなどが挙げられる。ま
た、溶剤に対するフロオロアルキルシランまたはアルコ
キシシランの含有量は、重量比１〜１０％の範囲がよ
く、好ましくは２％程度がよい。また、測長スケールを
溶剤中に浸漬する時間は、フロオロアルキルシランまた
はアルコキシシランがガラス基板の表面（光遮断部）に
均一に付着する時間であればよい。また、測長スケール
を加熱する加熱温度は、溶剤の沸点以下の温度であれば
よく、概ね６０〜７０℃程度が好ましい。い。
ルコキシシランは、ともに撥水性を有し、表面に水酸基
をもつガラス表面への付着力を有するが、撥水性の点で
はアルコキシシランよりもフロオロアルキルシランが好
ましい。また、溶剤の種類としては、アルコール系溶剤
であればいずれでもよい。たとえば、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、ブチルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、アミルアルコールなどが挙げられる。ま
た、溶剤に対するフロオロアルキルシランまたはアルコ
キシシランの含有量は、重量比１〜１０％の範囲がよ
く、好ましくは２％程度がよい。また、測長スケールを
溶剤中に浸漬する時間は、フロオロアルキルシランまた
はアルコキシシランがガラス基板の表面（光遮断部）に
均一に付着する時間であればよい。また、測長スケール
を加熱する加熱温度は、溶剤の沸点以下の温度であれば
よく、概ね６０〜７０℃程度が好ましい。い。
【００１３】
【作用】ガラス基板の表面に光透過部および光遮断部が
交互にかつ一定ピッチで連続する光学格子を形成した測
長スケールを、フロオロアルキルシランまたはアルコキ
シシランを含有した溶剤中に浸漬したのち、溶剤中から
引き上げて加熱すると、フロオロアルキルシランまたは
アルコキシシランとガラス表面との加水分解反応が促さ
れ、その結果物がガラス表面に付着される。フロオロア
ルキルシランまたはアルコキシシランは、撥水性を有
し、表面に水酸基をもつガラス表面への付着力が強い。
一方、光遮断部を構成するクロム表面は水酸基をもたな
いためフロオロアルキルシランまたはアルコキシシラン
が結合しにくい。従って、この付着力の差によって、光
透過部の表面にはフロオロアルキルシランまたはアルコ
キシシランの層、つまり、撥水層が形成される。
交互にかつ一定ピッチで連続する光学格子を形成した測
長スケールを、フロオロアルキルシランまたはアルコキ
シシランを含有した溶剤中に浸漬したのち、溶剤中から
引き上げて加熱すると、フロオロアルキルシランまたは
アルコキシシランとガラス表面との加水分解反応が促さ
れ、その結果物がガラス表面に付着される。フロオロア
ルキルシランまたはアルコキシシランは、撥水性を有
し、表面に水酸基をもつガラス表面への付着力が強い。
一方、光遮断部を構成するクロム表面は水酸基をもたな
いためフロオロアルキルシランまたはアルコキシシラン
が結合しにくい。従って、この付着力の差によって、光
透過部の表面にはフロオロアルキルシランまたはアルコ
キシシランの層、つまり、撥水層が形成される。
【００１４】
【実施例】次に、本発明の実施例について説明する。ま
ず、図７に示す構造の測長スケールＳ0 、つまり、ガラ
ス基板１１の表面に光透過部（ガラス部分）１５および
光遮断部（クロム部分）１６が交互にかつ一定ピッチで
連続する光学格子Ｇを形成した測長スケールＳ0 を、フ
ロオロアルキルシランを重量比２％含有したイソプロピ
ルアルコール中に浸漬し、攪拌たのち、イソプロピルア
ルコール中から引き上げ、６０〜７０℃の温度で約３０
分間加熱してフロオロアルキルシランとガラス表面（光
透過部１５）との加水分解反応を促した。その結果、図
８に示す如く、光学格子Ｇの光遮断部（クロム部分）１
６の表面にはフロオロアルキルシランが付着されず、光
透過部（ガラス部分）１５の表面にのみフロオロアルキ
ルシランが付着された。つまり、フロオロアルキルシラ
ンによる撥水層２１が形成された。
ず、図７に示す構造の測長スケールＳ0 、つまり、ガラ
ス基板１１の表面に光透過部（ガラス部分）１５および
光遮断部（クロム部分）１６が交互にかつ一定ピッチで
連続する光学格子Ｇを形成した測長スケールＳ0 を、フ
ロオロアルキルシランを重量比２％含有したイソプロピ
ルアルコール中に浸漬し、攪拌たのち、イソプロピルア
ルコール中から引き上げ、６０〜７０℃の温度で約３０
分間加熱してフロオロアルキルシランとガラス表面（光
透過部１５）との加水分解反応を促した。その結果、図
８に示す如く、光学格子Ｇの光遮断部（クロム部分）１
６の表面にはフロオロアルキルシランが付着されず、光
透過部（ガラス部分）１５の表面にのみフロオロアルキ
ルシランが付着された。つまり、フロオロアルキルシラ
ンによる撥水層２１が形成された。
【００１５】なお、上記光学格子Ｇとしては、上記実施
例で述べた光透過部と光遮断部とが交互にかつ一定ピッ
チで連続する測長用のものに限らず、光透過部と光遮断
部とが不規則に配列される原点検出パターンなどでもよ
い。また、上記実施例では、光電式エンコーダのうち、
透過型エンコーダに用いられる測長スケールに適用した
例について説明したが、これに限らず、反射型エンコー
ダに用いられる測長スケールにも適用できる。
例で述べた光透過部と光遮断部とが交互にかつ一定ピッ
チで連続する測長用のものに限らず、光透過部と光遮断
部とが不規則に配列される原点検出パターンなどでもよ
い。また、上記実施例では、光電式エンコーダのうち、
透過型エンコーダに用いられる測長スケールに適用した
例について説明したが、これに限らず、反射型エンコー
ダに用いられる測長スケールにも適用できる。
【００１６】
【発明の効果】以上の通り、本発明の測長スケールの表
面処理方法によれば、リソグラフィ技術を利用すること
なく、ガラス基板の表面に光学格子を形成した測長スケ
ールに、結露による光学的特性の悪化を防止するための
結露対策を、簡易かつ安価に施すことができる。つま
り、光学格子の光透過部に撥水層を簡易かつ安価に形成
できるという効果を奏する。
面処理方法によれば、リソグラフィ技術を利用すること
なく、ガラス基板の表面に光学格子を形成した測長スケ
ールに、結露による光学的特性の悪化を防止するための
結露対策を、簡易かつ安価に施すことができる。つま
り、光学格子の光透過部に撥水層を簡易かつ安価に形成
できるという効果を奏する。
【図１】光電式エンコーダの構成を示す概略図である。
【図２】従来の測長スケールの製造工程を示す図であ
る。
る。
【図３】従来の測長スケールの問題点を説明するための
図である。
図である。
【図４】従来の測長スケールにコート剤をコーティング
した状態における問題点を説明するための図である。
した状態における問題点を説明するための図である。
【図５】結露対策を施した測長スケールの構造を示す図
である。
である。
【図６】図５の測長スケールの表面処理工程を示す図で
ある。
ある。
【図７】本発明の表面処理前の測長スケールを示す断面
図である。
図である。
【図８】本発明の表面処理後の測長スケールを示す断面
図である。
図である。
Ｇ 光学格子 ２ メインスケール（測長スケール） ４ インデックススケール（測長スケール） １１ ガラス基板 １５ 光透過部 １６ 光遮断部 ２１ 撥水層
Claims (3)
- 【請求項１】ガラス基板の表面に光透過部および光遮断
部からなる光学格子を形成した測長スケールの表面処理
方法であって、 前記測長スケールを、フロオロアルキルシランまたはア
ルコキシシランを含有した溶剤中に浸漬し、その後、溶
剤中から引き上げて加熱することを特徴とする測長スケ
ールの表面処理方法。 - 【請求項２】請求項１に記載の測長スケールの表面処理
方法において、前記溶剤に対するフロオロアルキルシラ
ンまたはアルコキシシランの含有量を、重量比２％とし
たことを特徴とする測長スケールの表面処理方法。 - 【請求項３】請求項１または請求項２に記載の測長スケ
ールの表面処理方法において、前記溶剤として、アルコ
ール系溶剤を用いたことを特徴とする測長スケールの表
面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3955694A JPH07248205A (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | 測長スケールの表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3955694A JPH07248205A (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | 測長スケールの表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07248205A true JPH07248205A (ja) | 1995-09-26 |
Family
ID=12556349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3955694A Withdrawn JPH07248205A (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | 測長スケールの表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07248205A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11292920B2 (en) | 2015-06-10 | 2022-04-05 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Water repellant surface treatment for aircraft transparencies and methods of treating aircraft transparencies |
-
1994
- 1994-03-10 JP JP3955694A patent/JPH07248205A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11292920B2 (en) | 2015-06-10 | 2022-04-05 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Water repellant surface treatment for aircraft transparencies and methods of treating aircraft transparencies |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR940000088B1 (ko) | 평판형 플라스틱 광 도파로 | |
| TWI518391B (zh) | 使用烷基官能性倍半矽氧烷樹脂製造撓性波導器的方法及由其製得之平面光學波導器總成 | |
| US20060133762A1 (en) | Polymer optical waveguide and method of making the same | |
| JP4468843B2 (ja) | 光導波路の製造方法 | |
| WO2005040873A1 (en) | Planar waveguide with patterned cladding and method for producing same | |
| WO2002053345A1 (fr) | Article presentant une forme de surface predefinie et son procede de preparation | |
| KR100930127B1 (ko) | 유연성 기판 브래그 격자 광도파로 스트레인 센서 | |
| EP2693195A1 (en) | Spr sensor cell, and spr sensor | |
| CN110006347B (zh) | 刻度尺及其制造方法 | |
| JP2599497B2 (ja) | 平板型プラスチック光導波路 | |
| JPH07248205A (ja) | 測長スケールの表面処理方法 | |
| JPH07248207A (ja) | 測長スケールおよびその製造方法 | |
| CN112540430B (zh) | 一种基于波导光栅的pdms柔性力敏传感器及制备方法 | |
| JP3287737B2 (ja) | 測長スケールおよびそれを用いた光電式変位検出装置 | |
| JPH07248206A (ja) | 測長スケールの表面処理方法 | |
| JP2006098428A (ja) | レプリカ回折格子 | |
| EP3844554B1 (en) | High refractive index waveguide for augmented reality | |
| JP2000055806A (ja) | 紫外線硬化型樹脂の硬化特性評価方法およびこれに用いられる装置 | |
| JP4440479B2 (ja) | 温度依存性を制御することを特徴とするプレーナ型高分子材導波路デバイス | |
| CN101253426B (zh) | 透明薄膜、光学装置及其制造方法 | |
| US6684019B1 (en) | Planar polymeric waveguide devices with temperature dependence control features | |
| WO2005069052A1 (en) | Optical cable for optical signal detection and manufacturing method thereof | |
| JP4577559B2 (ja) | フレキシブル光導波路の製造方法 | |
| Girschikofsky et al. | Optical Bragg gratings in inorganic-organic hybrid polymers for highly sensitive temperature measurements | |
| JP3882784B2 (ja) | ポリマー光導波路及び光学装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010605 |