JP4577559B2 - フレキシブル光導波路の製造方法 - Google Patents

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本発明は、フレキシブル光導波路の製造方法に関し、特にコアとなる透明細線材を所定の位置に並べクラッドとなる透明フィルムによって挟んだフレキシブル光導波路の製造方法に関する。
フレキシブル光導波路に関して、特許文献1には、高分子フィルム光導波路が作製可能なことが示されている。高分子フィルムは、シリコン等の基板上に高分子の溶液等をスピンコートし、ベークすることにより下部クラッド層を形成し、同様の方法によりコア層を形成した後、Si含有レジスト等でマスクパターンを形成し、ドライエッチングによってコアパターンを形成後、下部クラッド層を形成した方法と同様の方法により上部クラッド層を形成する。そして、最後に基板から光導波路はがすことによってフィルム化した光導波路を作製している。特にはがしやすくするために基板として熱酸化したSi基板を用い、導波路形成後フッ酸に浸漬することにより剥離する方法を示している。
特開平7−239422号公報
前記フィルム化した光導波路では下部クラッド、コア、上部クラッドの各層をスピンコート、ベークによって形成しているため、この方法では各層の形成に時間がかかるとともに各層を順番に形成する必要が有り全体の製造時間が数10時間を要している。また、Siを基板に用いていることから数cmから10数cmのサイズの光導波路を大量に製造するには向かない。また、上記の製造方法には、ドライエッチング工程を有しており、コア層が厚いマルチモード光導波路を作製するためには、非常に長い時間ドライエッチングを行う必要がある。
本発明はコアサイズの大きなマルチモードフレキシブル光導波路を安価に大量に製造可能な構造と製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するための本発明に係るフレキシブル光導波路は、[1]コアとなる透明細線材を複数本並べて透明細線材より屈折率の小さい下層透明クラッドフィルムと透明細線材より屈折率の小さい上層透明クラッドフィルムによって上記透明細線材を挟み加熱プレスすることを特徴とするフレキシブル光導波路の製造方法に関する。
また、本発明は、[2]下層透明クラッドフィルム上にコアとなる透明細線材を下層透明クラッドフィルムの長手方向に所定の間隔で複数本並べ上層透明クラッドフィルムを重ね合わせて挟む工程を含むフレキシブル光導波路の製造方法に関する。
また、本発明は、[3]上記[1]または上記[2]において透明細線材を下層透明クラッドフィルムと上層透明クラッドフィルムによって挟む前に透明細線材と下層透明クラッドフィルムと上層透明クラッドフィルムの少なくともいずれかに表面処理を行うことを特徴とするフレキシブル光導波路の製造方法に関する。
また、本発明は、[4]上記[3]において表面処理はコロナ放電処理、プラズマ放電処理、溶剤塗布処理、UV照射処理のいずれか又は組合せであることを特徴とするフレキシブル光導波路の製造方法に関する


本発明のフレキシブル光導波路によれば、コアは円形もしくは円形に近い形とした場合、コアをクラッド間に形成する際捻れを考慮する必要がない。また、角が無いことからコアとクラッド界面に生じる応力を緩和することが出来る。応力の集中は耐屈曲性を低下させる要因となり、本発明の構造とすることにより耐屈曲性を向上させることが出来る。また、本発明のフレキシブル光導波路によれば、コアとなる透明細線材を並べて透明細線材より屈折率の小さい下層透明クラッドフィルムと透明細線材より屈折率の小さい上層透明クラッドフィルムによって前記透明細線材を挟むという構造により光導波路を形成出来る。そのためコアサイズの大きいマルチモード光導波路でもドライエッチング工程を必要としないため、短時間で光導波路を製造することが出来る。例えば、従来方法によるSiウエハ上にマルチモード光導波路を製造する場合には、下部クラッド、コア、上部クラッドを順番にウエハ上に形成し、しかも、それぞれを形成するための各工程に要する時間が少なくとも2〜5時間のため、光導波路の剥離、カッティングを含めると製品が完成するまでに1週間以上要していた。一方、本発明を用いると、下部クラッド、コア、上部クラッドとなる部材はそれぞれ別に製造したものを用いることが出来、これらの部材を投入してから最初の製品が出来上がるまで、1〜2分間で済む。また、下部クラッド、コア、上部クラッドとなる部材を装置内で形成する場合でも樹脂の硬化に時間がかかるのみで、それ以外の工程にはほとんど時間を要しないことから、材料投入から完成まで数時間で終了する。従来方法では工程毎に装置が必要なのに対し、本発明の製造装置1台でフレキシブル光導波路を製造することが可能になる。また、光導波路を作製する際にSi基板を用いないため、最も大きなSiのウエハサイズ300mmより大きなフィルムサイズにすることにより数cmから10数cmのサイズ、必要により更に長さの長い光導波路でも大量に安価に製造することが可能である。
以下、本発明を適用したフレキシブル光導波路、その製造方法及び製造装置の実施例を説明する。本発明を用いたフレキシブル光導波路を上から見た図とその断面構造を図1に示した。図1には、光が通るコアとなる透明細線材を下層透明クラッドフィルムと上層透明クラッドフィルムで挟んだ構造になっている。図1ではコアの断面は円形となっているが、真円である必要はない。また、断面が四角形であってもよい。コア材と上下クラッド材は透明であることが求められ、特に光の通るコア材は光の損失が小さい材料であることが求められる。コアとクラッドの屈折率差は大きいほうが光導波路を曲げた際の損失を抑えることが出来ることから、1%以上、好ましくは2%以上、更に好ましくは5%以上である。具体的には、1〜25%であることが求められ、より好ましくは2〜25%、更に5〜25%であることが好ましい。ここで、屈折率の測定はプリズムカプラを用いて行った。
更に、光導波路がフレキシブルに曲がるためにはコア材及びクラッド材の両方の弾性率が2GPa以下と小さいことが求められ、特にクラッド材の弾性率は0.05から2GPaであることが好ましく、0.05〜1GPaがより好ましく、0.05〜500MPaが最も好ましい。これらの弾性率はISO178に示されている3点曲げ法により求めた(使用状態の温度、0〜30℃)。ここでの弾性率は、曲げ弾性率の値であり、2GPa以下とすることにより、広く使用されているポリイミド樹脂製のフレキシブルプリント板より弾性率が小さくなり、フレキシブルプリント板からの移行を容易にすることができる。さらに曲げ弾性率を小さくすることにより、クラッド厚さの設計裕度が広がるとともに、屈曲させた際の導波路内部の応力が減少し、剥れ等に対する信頼性が向上する。
コア材としては、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、非晶質ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。また、クラッド材としては、前記コア材に加えて、ポリウレタン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、更にはエラストマ樹脂が挙げられる。また、図1には示してないが、保護、情報表示用等のために図1で示したフレキシブル光導波路の上面及び下面のいずれか又は両面を別の材料で覆った構造とすることが好ましい。覆う材料としては難燃性や高耐湿な特性を持つ樹脂や、金属薄膜や、それらを複合させたものが挙げられる。具体的にはポリ塩化ビニル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリエステルエラストマ、シリコーンゴム、フッ素樹脂、オレフィン系エラストマ、サントプレーン、ポリウレタン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂の他、これらの樹脂とAl等の金属薄膜を重ねたものがある。本実施例では0.1mm厚のポリ塩化ビニル樹脂フィルムを用いた。
図2に本発明の第2の実施形態であるフレキシブル光導波路を上から見た図と断面構造を示した。本発明ではコアとなる透明細線材が曲線状態で複数本並んで配置されている。断面形状は図1と同様に光が通るコアとなる透明細線材1を上部透明クラッド材と下部透明クラッド材で挟んだ構造になっている。コアの断面は円形となっているが、真円である必要はない。また、断面が四角形であってもよい。また、コア材、クラッド材は上記の第1の実施形態と同様の材料が選べる。また、図2には示してないが、図2で示したフレキシブル光導波路の上面及び下面のいずれか又は両面を覆った構造とすることが好ましい。覆う材料としては上記と同様難燃性や高耐湿な特性を持つ樹脂や金属薄膜、それらを複合させたものが挙げられる。
図3に本発明の第3の実施形態であるフレキシブル光導波路の実施例を示した。光導波路の両端部には発光素子や受光素子等の光素子が実装されたり、光ファイバ等が実装される。その際、光導波路のコアと光素子、光ファイバは精度良く位置合せして実装することが求められる。そこで図3に示したようにコアの位置を特定するための合せマークをフレキシブル光導波路に形成することが好ましい。この合せマークは、コアの位置に対して相対的に定まった位置に形成されることが好ましい。本実施例では、合せマークは、レーザを用いて形成し、光導波路を精度良く所定の形状に加工するため前記合せマークを使用し、この合わせマークを光学的に認識させフレキシブル光導波路を所定の形状に切断し製品としてのフレキシブル光導波路を得た。前記のように合わせマークはスキャン式のYAGレーザマーカーを用いて形成した。
本発明を用いた第1の実施の形態であるフレキシブル光導波路の製造方法を図4に示した。下層透明クラッドフィルム上にコアとなる透明細線材を並べて上層透明クラッドフィルムで挟んだ後、加熱されたローラで圧着し図1及び図2で示した構造のフレキシブル光導波路を製造する。その際、フィルムの密着性を向上するため、フィルムの密着する面の表面処理やコア材の表面処理を行うと好ましい。本実施例では表面処理としてコロナ放電を用いた。コロナ放電処理は印加電圧を12kVとし、下部及び上部の接する側のクラッドフィルム表面に対して行った。その他、表面処理としてプラズマ放電処理、溶剤塗布処理、UV照射処理などを用いても良い。具体的には下層透明クラッドフィルム2及び上層透明クラッドフィルム3としてポリエチレン樹脂フィルム、コアとなる透明細線材1としてナイロンを用いた場合、ラミネート用ローラ4は115℃に設定した。また、透明細線材1のピッチは本発明の光導波路と組み合わせる光素子のピッチに合わせ250μmとした。
図5に本発明を用いたフレキシブル光導波路の製造装置の例を示す。図5の上段は製造装置を上から見た装置構成図、図5の下段は製造装置を横から見た装置構成図である。本装置を用いることにより、例えば図3に示したフレキシブル光導波路を製造できる。本装置において、下層透明クラッドフィルム2が巻かれたロールと上層透明クラッドフィルム3が巻かれたロールが回転しながらコアとなる透明細線材1を挟むように送り出し、ラミネート用ローラ4によってラミネートされ、フレキシブル光導波路としてロール5に巻き取られる。本装置ではコアとなる透明細線材1が4本並ぶように構成されており、透明細線材1が設定したピッチで並ぶようにコア位置調整用ガイド6が取り付けてありコア位置読み取り機7で読み取ったコア位置情報を元にコア位置調整ガイド6で調整を行うことができる。また、コア位置調整用に粗合せコア位置調整用ガイド9と張力調整用ガイド10も組み合わせている。巻かれている透明細線材1の位置に合せ、粗合せコア位置調整用ガイド9は僅かに傾いて設置されている。本製造装置では下層透明クラッドフィルム2及び上層透明クラッドフィルム3としてポリエチレン樹脂フィルム、コアとなる透明細線材1としてナイロンを用いた場合、ラミネート用ローラ4は115℃に設定した。また、透明細線材1のピッチは本発明の光導波路と組み合わせる光素子のピッチに合わせ250μmとした。また、合せマーク形成用にコア位置アライメントマーク形成レーザ8が組み込まれ、コア位置読み取り機7の情報を元にコア位置から所定の距離は離れたところにマークを形成する。形成するマークは直線パターンのほか、十字マークも形成することが出来る。十字マークはフィルムの流れを一旦止めて形成する場合とレーザの光軸をフィルムの流れる速さに合わせて移動する方法があるが、本製造装置では後者の方法を取っている。
本発明による第1の実施形態に係わるフレキシブル光導波路の構造を示す図。 本発明による第2の実施形態に係わるフレキシブル光導波路の構造を示す図。 本発明による第3の実施形態に係わるフレキシブル光導波路の構造を示す図。 本発明によるフレキシブル光導波路の製造方法を示す図。 本発明によるフレキシブル光導波路の製造装置を示す図。
符号の説明
1 コアとなる透明細線材
2 下層透明クラッドフィルム
3 上層透明クラッドフィルム
4 ラミネート用ローラ
5 ロール(導波路フィルム)
6 コア位置用調整ガイド(高精度位置合せ)
7 コア位置読み取り装置
8 コア位置アライメントマーク書き込み用レーザ
9 コア位置用調整ガイド(粗合せ)
10 張力調整用ガイド
11 合わせマーク

Claims (4)

  1. コアとなる透明細線材を複数本並べて透明細線材より屈折率の小さい下層透明クラッドフィルムと透明細線材より屈折率の小さい上層透明クラッドフィルムによって上記透明細線材を挟み加熱プレスすることを特徴とするフレキシブル光導波路の製造方法。
  2. 下層透明クラッドフィルム上にコアとなる透明細線材を下層透明クラッドフィルムの長手方向に所定の間隔で複数本並べ上層透明クラッドフィルムを重ね合わせて挟む工程を含むフレキシブル光導波路の製造方法。
  3. 請求項1または請求項2において透明細線材を下層透明クラッドフィルムと上層透明クラッドフィルムによって挟む前に透明細線材、下層透明クラッドフィルム及び上層透明クラッドフィルムの少なくともいずれかに表面処理を行うことを特徴とするフレキシブル光導波路の製造方法。
  4. 請求項3において表面処理はコロナ放電処理、プラズマ放電処理、溶剤塗布処理、UV照射処理のいずれか又は組合せであることを特徴とするフレキシブル光導波路の製造方法
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05281428A (ja) * 1992-03-30 1993-10-29 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光インターコネクションボード及び光導波路

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6459201A (en) * 1987-08-31 1989-03-06 Nok Corp Flexible optical waveguide circuit

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05281428A (ja) * 1992-03-30 1993-10-29 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光インターコネクションボード及び光導波路

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