JPH07247409A - Epoxy resin composition, production of epoxy resin mixture and material for sealing semiconductor - Google Patents

Epoxy resin composition, production of epoxy resin mixture and material for sealing semiconductor

Info

Publication number
JPH07247409A
JPH07247409A JP3963494A JP3963494A JPH07247409A JP H07247409 A JPH07247409 A JP H07247409A JP 3963494 A JP3963494 A JP 3963494A JP 3963494 A JP3963494 A JP 3963494A JP H07247409 A JPH07247409 A JP H07247409A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
compound
biphenol
hydrocarbon group
mixture
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3963494A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3484681B2 (en
Inventor
Ichiro Ogura
一郎 小椋
Katsuji Takahashi
勝治 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority to JP03963494A priority Critical patent/JP3484681B2/en
Publication of JPH07247409A publication Critical patent/JPH07247409A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3484681B2 publication Critical patent/JP3484681B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the subject composition, consisting essentially of a specific epoxy resin and a curing agent, capable of highly filling an inorganic filler therein, having a low water absorptivity and a low linear expansion coefficient, excellent in solder crack resistance and fluidity and readily molded into fine semiconductor chips. CONSTITUTION:This epoxy resin composition consists essentially of (A) an epoxy resin using (i) a polyglycidyl ether of a compound bound through a cyclic aliphatic hydrocarbon group (preferably a bivalent hydrocarbon group based on an unsaturated bond in a molecular skeleton of dicyclopentadiene, limonene or 3a,4,7,7a-tetrahydroindene) as a connecting group to a hydroxyl aromatic compound (preferably phenol or cresol) and (ii) a diglycidyl ether of biphenols (preferably biphenol or 4,4'-hydroxy-3,3',5,5'-tetramethylbiphenyl) in combination and (B) a curing agent (preferably a phenolic curing agent).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は特定のエポキシ樹脂と硬
化剤を必須成分とする耐水性と耐熱性のバランス等に優
れたエポキシ樹脂組成物に関し、さらには成形性、表面
実装時の耐ハンダクラック性等に優れた半導体封止材料
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition containing a specific epoxy resin and a curing agent as essential components and having an excellent balance of water resistance and heat resistance, as well as moldability and solder resistance during surface mounting. The present invention relates to a semiconductor encapsulating material having excellent crackability and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、電子産業を中心として科学技術が
急速な進歩を遂げているが、なかでも半導体関連技術の
進歩はめざましいものがある。半導体はメモリーの集積
度の増加に伴い、配線の微細化とチップの薄型化が進ん
でいるが、集積度の向上とともに、実装方法もまたスル
ーホール実装から表面実装への移行が進んでいる。
2. Description of the Related Art Recently, science and technology have been rapidly advancing mainly in the electronics industry, and in particular, semiconductor-related technology has been remarkably advancing. In semiconductors, wiring has become finer and chips have been made thinner with the increase in the degree of integration of memories. With the improvement in the degree of integration, the mounting method is also shifting from through-hole mounting to surface mounting.

【0003】表面実装の自動化ラインではリード線の半
田付けの際に吸湿した半導体パッケージが急激な温度変
化を受け、このため樹脂成形部にクラックが生じ実装不
良を招き、またリード線樹脂間の界面が劣化し、この結
果として耐湿性が低下するという問題がある。
In an automated surface mounting line, a semiconductor package, which has absorbed moisture during lead wire soldering, undergoes a rapid temperature change, which causes cracks in the resin molding portion, leading to mounting failure, and also an interface between lead wire resins. Deteriorates, and as a result, the moisture resistance decreases.

【0004】前記の樹脂成形部に用いられる、半導体封
止用樹脂としては、エポキシ樹脂が主に用いられてお
り、該エポキシ樹脂としては一般にオルソクレゾールノ
ボラック型エポキシ樹脂(以下、単に「ECN」と略記
する)が使用されている。しかしECNを用いた場合、
半導体パッケージの吸湿性が強く、その結果として前述
のように半田浴浸漬時にクラックの発生が避けられない
という問題がある。
An epoxy resin is mainly used as a semiconductor encapsulating resin used in the above resin molding part, and an ortho-cresol novolac type epoxy resin (hereinafter simply referred to as "ECN") is generally used as the epoxy resin. (Abbreviated) is used. But with ECN,
The semiconductor package has a strong hygroscopic property, and as a result, there is a problem that cracking is unavoidable during immersion in the solder bath as described above.

【0005】そこで従来より、半導体封止用樹脂の耐湿
性を改善するために、例えば特開昭61−293219
号公報には、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂
(以下、「DCP樹脂」と略記する)のエポキシ化物と
フェノールノボラック樹脂との組み合わせによる組成物
が提案されている。
Therefore, conventionally, in order to improve the moisture resistance of the semiconductor sealing resin, for example, JP-A-61-293219 has been proposed.
The publication discloses a composition comprising a combination of an epoxidized product of a dicyclopentadiene-modified phenol resin (hereinafter abbreviated as "DCP resin") and a phenol novolac resin.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記DCP樹
脂のエポキシ化物を用いた硬化物は、ECNと比較する
と耐水性は向上しており、更に低溶融粘度であるものの
未だ満足いくレベルには達していない。特に、エポキシ
樹脂組成物の半導体封止材料用途においては、近年の一
層厳しい要求特性を鑑みると、無機充填剤の高充填化を
実現して一層の低吸水率化と低線膨張係数化を達成する
為に、より低溶融粘度が要求されているが、上記のDC
P樹脂のエポキシ化物は未だ十分ではなく、これらの要
求を満足するものではなかった。
However, the cured product using the epoxidized DCP resin has improved water resistance as compared with ECN, and has a low melt viscosity, but still reaches a satisfactory level. Not not. In particular, in the use of epoxy resin compositions for semiconductor encapsulation materials, in view of the more stringent requirements of recent years, we have achieved higher filling of inorganic fillers and further lower water absorption and lower linear expansion coefficient. In order to achieve this, a lower melt viscosity is required, but the above DC
The epoxidized product of P resin is not yet sufficient, and these requirements have not been satisfied.

【0007】本発明が解決しようとする課題は、低溶融
粘度で優れた流動性を付与し得るエポキシ樹脂組成物お
よびその製造方法、更に、無機充填剤の高充填が可能で
低吸水率化と低線膨張係数化とが顕著に優れ、かつ、流
動性に優れて微細な半導体チップへの成形が極めて容易
なる半導体封止材料を提供することにある。
The problem to be solved by the present invention is to provide an epoxy resin composition capable of imparting excellent fluidity with a low melt viscosity and a method for producing the same, and further, to enable high filling of an inorganic filler to reduce water absorption. It is an object of the present invention to provide a semiconductor encapsulating material which has a significantly low coefficient of linear expansion and is excellent in fluidity and which is extremely easy to mold into a fine semiconductor chip.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者等は鋭意検討し
た結果、エポキシ樹脂として、環状脂肪族炭化水素基を
結接基としてヒドロキシル芳香族化合物と結合した化合
物のポリグリシジルエーテルと、ビフェノール類のジグ
リシジルエーテルとの混合物を用いることにより、その
硬化物が、低溶融粘度で流動性に優れることを見いだ
し、さらにはこれらの成分に加え、無機充填剤を必須成
分とする半導体封止材料が、無機充填材の高充填化が可
能で、低吸水率で低線膨張係数の特性を有し、それによ
り耐ハンダクラック性に優れ、かつ、流動性に優れて微
細な半導体チップへの成形が極めて容易であることを見
いだし本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive investigations by the present inventors, polyglycidyl ether of a compound in which a cycloaliphatic hydrocarbon group is bonded to a hydroxyl aromatic compound as a bonding group, and a biphenol are used as an epoxy resin. By using a mixture of diglycidyl ether of, the cured product, it is found that the low melt viscosity and excellent flowability, further, in addition to these components, a semiconductor encapsulating material with an inorganic filler as an essential component The inorganic filler can be highly filled, and has a low coefficient of water absorption and a low coefficient of linear expansion, so that it is excellent in solder crack resistance and excellent in fluidity and can be molded into fine semiconductor chips. They have found that it is extremely easy and have completed the present invention.

【0009】即ち、本発明は (1)エポキシ樹脂と硬化物とを必須成分とするエポキ
シ樹脂組成物において、エポキシ樹脂として、(A)環
状脂肪族炭化水素基を結接基としてヒドロキシル芳香族
化合物と結合した化合物のポリグリシジルエーテルと、
(B)ビフェノール類のジグリシジルエーテルとを併用
することを特徴とするエポキシ樹脂組成物、 (2)環状脂肪族炭化水素基を結接基としてヒドロキシ
ル芳香族化合物と結合した化合物(a)と、ビフェノー
ル類(b)との混合物と、エピハロヒドリンを反応させ
ることを特徴とするエポキシ樹脂混合物の製造方法、及
び、 (3)環状脂肪族炭化水素基を結接基としてヒドロキシ
ル芳香族化合物と結合した化合物のポリグリシジルエー
テル(A)と、ビフェノール若しくはアルキル置換ビフ
ェノールのジグリシジルエーテル(B)と、硬化剤
(C)と、無機充填剤(D)とを必須成分とする半導体
封止材料に関する。
That is, the present invention provides (1) an epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a cured product as essential components, wherein the epoxy resin is (A) a hydroxyl aromatic compound having a cyclic aliphatic hydrocarbon group as a binding group. A polyglycidyl ether of a compound bound with
(B) an epoxy resin composition characterized by being used in combination with a diglycidyl ether of a biphenol, (2) a compound (a) in which a cyclic aromatic hydrocarbon group is bonded to a hydroxyl aromatic compound as a bonding group, A method for producing an epoxy resin mixture, which comprises reacting a mixture with a biphenol (b) with epihalohydrin, and (3) a compound in which a cyclic aliphatic hydrocarbon group is bonded to a hydroxyl aromatic compound as a bonding group. Of the polyglycidyl ether (A), diglycidyl ether of a biphenol or an alkyl-substituted biphenol (B), a curing agent (C), and an inorganic filler (D) as essential components.

【0010】本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ
樹脂として、(A)環状脂肪族炭化水素基を結接基とし
てヒドロキシル芳香族化合物と結合した化合物のポリグ
リシジルエーテル(以下、「ポリグリシジルエーテル
(A)」と略記する)と、(B)ビフェノール類のジグ
リシジルエーテル(以下、「ジグリシジルエーテル
(B)と略記する)とを併用するものであるが、ポリグ
リシジルエーテル(A)の含有量が高くなる程耐熱性お
よび耐水性がより向上する傾向にあり、一方、ジグリシ
ジルエーテル(B)の含有量が高くなる程流動性が向上
し、硬化物の溶融粘度が低下する傾向にある。
The epoxy resin composition of the present invention comprises, as an epoxy resin, a polyglycidyl ether (hereinafter referred to as "polyglycidyl ether (A)" of a compound in which a cycloaliphatic hydrocarbon group is bonded to a hydroxyl aromatic compound as a bonding group. A) ") and (B) diglycidyl ether of biphenols (hereinafter abbreviated as" diglycidyl ether (B) ") are used together, but the content of polyglycidyl ether (A) is The higher the value is, the more the heat resistance and the water resistance tend to be improved. On the other hand, the higher the content of the diglycidyl ether (B) is, the more the fluidity is improved, and the melt viscosity of the cured product is decreased.

【0011】これらのバランスに優れる点からポリグリ
シジルエーテル(A)と、ジグリシジルエーテル(B)
との重量分率が(A)/(B)=95/5〜30/70
であることが好ましい。なかでもそれぞれの化合物の相
乗効果により、極めて顕著な耐熱性、耐水性、低溶融粘
度を兼備した硬化物となり得る点から(A)/(B)=
90/10〜50/50であることが好ましい。
From the point of excellent balance of these, polyglycidyl ether (A) and diglycidyl ether (B)
(A) / (B) = 95/5 to 30/70
Is preferred. Among them, the synergistic effect of each compound makes it possible to obtain a cured product having extremely outstanding heat resistance, water resistance and low melt viscosity (A) / (B) =
It is preferably 90/10 to 50/50.

【0012】上述したポリグリシジルエーテル(A)
と、ジグリシジルエーテル(B)は、特にその使用方法
が制限されるものでなく、それぞれ個別に合成したもの
を溶融混合して用いてもよいし、また、環状脂肪族炭化
水素基を結接基としてヒドロキシル芳香族化合物と結合
した化合物(a)と、ビフェノール類(b)との混合物
に、エピハロヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹
脂混合物として用いてもよい。
The above-mentioned polyglycidyl ether (A)
The use method of the diglycidyl ether (B) is not particularly limited, and the individually synthesized ones may be melt-mixed and used, or the cycloaliphatic hydrocarbon group may be bonded. You may use it as an epoxy resin mixture obtained by making epihalohydrin react with the mixture of the compound (a) couple | bonded with the hydroxyl aromatic compound as a group, and a biphenol (b).

【0013】本発明で用いるポリグリシジルエーテル
(A)を構成する環状脂肪族炭化水素基としては特に限
定されるものではないが、中でもその骨格中にシクロヘ
キサン環或いはシクロヘキセン環を有するものが硬化物
の耐水性向上効果に優れる点から好ましい。それらの中
でも特にこの効果が顕著である点から、具体的にはジシ
クロペンタジエン、リモネン、または3a,4,7,7
a−テトラヒドロインデンの分子骨格中の不飽和結合に
基づく2価の炭化水素基が好ましい。これらの化合物は
単独で使用してもよく、また2種類以上併用しても良
い。更に、これらの中でも硬化物の耐熱性及び耐湿性を
一層向上させることができる点からジシクロペンタジエ
ンの分子骨格中の不飽和結合に基づく2価の炭化水素基
が好ましい。
The cycloaliphatic hydrocarbon group constituting the polyglycidyl ether (A) used in the present invention is not particularly limited, but those having a cyclohexane ring or a cyclohexene ring in the skeleton thereof are cured products. It is preferable because it has an excellent effect of improving water resistance. Among these, since this effect is particularly remarkable, specifically, dicyclopentadiene, limonene, or 3a, 4, 7, 7
A divalent hydrocarbon group based on an unsaturated bond in the molecular skeleton of a-tetrahydroindene is preferred. These compounds may be used alone or in combination of two or more kinds. Further, among these, a divalent hydrocarbon group based on an unsaturated bond in the molecular skeleton of dicyclopentadiene is preferable because the heat resistance and moisture resistance of the cured product can be further improved.

【0014】一方、ポリグリシジルエーテル(A)を構
成するヒドロキシ芳香族化合物は、水酸基が1個或いは
2個以上置換したベンゼン環、ナフタレン環或いはアン
トラセン環を示したものであり、例えばフェノール又
は、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のビスフェ
ノール類、クレゾール、p−ターシャリーブチルフェノ
ールのごときアルキル置換フェノール類、レゾルシン等
のフェノール性水酸基を2個以上含有する芳香族炭化水
素、1−ナフトール、2−ナフトール、1,6−ジヒド
ロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン等
のナフトール類、1−ヒドロキシアントラセン、2−ヒ
ドロキシアントラセン等のヒドロキシアントラセン類が
挙げられるが特に限定されるものではないが、特にポリ
グリシジルエーテルの溶融粘度が低く、流動性が優れる
点から具体的にはフェノール或いはクレゾールが好まし
く挙げられる。
On the other hand, the hydroxy aromatic compound constituting the polyglycidyl ether (A) is a benzene ring, naphthalene ring or anthracene ring in which one or more hydroxyl groups are substituted, and examples thereof include phenol or bisphenol. A, bisphenols such as bisphenol F, cresols, alkyl-substituted phenols such as p-tert-butylphenol, aromatic hydrocarbons containing two or more phenolic hydroxyl groups such as resorcin, 1-naphthol, 2-naphthol, 1, Examples thereof include naphthols such as 6-dihydroxynaphthalene and 2,7-dihydroxynaphthalene, and hydroxyanthracenes such as 1-hydroxyanthracene and 2-hydroxyanthracene, but are not particularly limited, but polyglycidyl ether is particularly preferable. Melt viscosity is low, specifically from the viewpoint of fluidity is excellent phenol or cresol preferred.

【0015】前記のポリグリシジルエーテル(A)は、
特にその製造方法が制限されるものではないが、例え
ば、ヒドロキシル芳香族化合物と、ジシクロペンタジエ
ン、リモネンおよび3a,4,7,7a−テトラヒドロ
インデンに代表される脂環式不飽和炭化水素とを触媒を
用いて重合してフェノール性水酸基含有の重合体を得
(第1工程)、次いで該重合体をエピハロヒドリンによ
りグリシジルエーテル化する(第2工程)ことによりポ
リグリシジルエーテル(A)を得る方法が挙げられる。
The above polyglycidyl ether (A) is
Although the production method thereof is not particularly limited, for example, a hydroxyl aromatic compound and an alicyclic unsaturated hydrocarbon represented by dicyclopentadiene, limonene and 3a, 4,7,7a-tetrahydroindene are used. A method of obtaining a polyglycidyl ether (A) by polymerizing using a catalyst to obtain a polymer containing a phenolic hydroxyl group (first step), and then subjecting the polymer to glycidyl etherification with epihalohydrin (second step) Can be mentioned.

【0016】第1工程で用いることのできる触媒として
は、例えば、AlCl3、BF3、ZnCl2、H2
4、TiCl4、H3PO4等のルイス酸が挙げられる。
第1工程の具体的な方法としては例えば、ヒドロキシル
芳香族化合物を加熱溶融させ、そこへ触媒を添加し均一
に溶解した後、50〜180℃、好ましくは80〜15
0℃で脂環式不飽和炭化水素を滴下する等の方法が挙げ
られる。各原料の使用割合としては、特に制限されない
が、脂環式不飽和炭化水素1モルに対して、触媒が0.
001〜0.1モル、好ましくは0.005〜0.10
モルであって、ヒドロキシル芳香族化合物が0.1〜1
0.0モル、好ましくは0.3〜4モルである。また、
この第1工程においては、脂環式不飽和炭化水素と触媒
とを溶融混合したところに、ヒドロキシル芳香族化合物
を添加してもよい。
The catalyst that can be used in the first step is, for example, AlCl 3 , BF 3 , ZnCl 2 , H 2 S.
Lewis acids such as O 4 , TiCl 4 and H 3 PO 4 can be mentioned.
As a specific method of the first step, for example, a hydroxyl aromatic compound is heated and melted, a catalyst is added thereto and uniformly dissolved, and then 50 to 180 ° C., preferably 80 to 15 ° C.
Examples thereof include a method of dropping an alicyclic unsaturated hydrocarbon at 0 ° C. The ratio of each raw material to be used is not particularly limited, but the ratio of the catalyst to 0.1 mol to the alicyclic unsaturated hydrocarbon is 0.1.
001 to 0.1 mol, preferably 0.005 to 0.10.
0.1 to 1 mole of hydroxyl aromatic compound
It is 0.0 mol, preferably 0.3 to 4 mol. Also,
In the first step, the hydroxyl aromatic compound may be added to the melt-mixed alicyclic unsaturated hydrocarbon and the catalyst.

【0017】次いで、第2工程としては、例えば第1工
程で得られた重合体を、該重合体の水酸基に対し、1〜
20当量、好ましく2〜10倍のエピハロヒドリンに溶
解し、10〜120℃、好ましくは50〜90℃の温度
条件で、アルカリ金属の水酸化物の存在下に反応する方
法が挙げられる。アルカリ金属の水酸化物としては、特
に限定されないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム等が挙げらる。アルカリ金属の水酸
化物の使用量としては、第1工程で得られた重合体の水
酸基に対し、0.9〜1.2当量であることが好まし
い。またここでエピハロヒドリンとしては、特に限定さ
れないが、エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン、
エピヨードヒドリン等が挙げられる。
Next, in the second step, for example, the polymer obtained in the first step is added to the hydroxyl group of the polymer in an amount of 1 to
Examples include a method of dissolving in 20 equivalents, preferably 2 to 10 times, of epihalohydrin, and reacting in the presence of an alkali metal hydroxide under the temperature condition of 10 to 120 ° C, preferably 50 to 90 ° C. The alkali metal hydroxide is not particularly limited, and examples thereof include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like. The amount of the alkali metal hydroxide used is preferably 0.9 to 1.2 equivalents with respect to the hydroxyl group of the polymer obtained in the first step. The epihalohydrin is not particularly limited here, but epichlorohydrin, epibromohydrin,
Examples include epiiodohydrin.

【0018】このようにして得られるポリグリシジルエ
ーテル(A)は、封止材料にした場合の流動性やフィラ
ーの充填可能量を鑑み、その溶融粘度が150℃におい
て0.1〜10ポイズが好ましく、中でもこの効果が顕
著になる点から0.1〜2.0ポイズとなる範囲が好ま
しい。またこの際の測定機器は、ICIコーンプレート
型粘度計である。
The polyglycidyl ether (A) thus obtained has a melt viscosity of preferably 0.1 to 10 poise at 150 ° C. in view of the fluidity when used as a sealing material and the fillable amount of the filler. Above all, the range of 0.1 to 2.0 poise is preferable from the viewpoint that this effect becomes remarkable. The measuring instrument at this time is an ICI cone-plate viscometer.

【0019】また、本発明で用いるジグリシジルエーテ
ル(B)において、ビフェノール類とは、ビフェニル構
造の夫々の芳香核にフェノール性水酸基を1つづつ有す
るものであり、例えば、ビフェノール、4,4’−ヒド
ロキシ−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニ
ル、4,4’−ヒドロキシ−3,3’,5,5’−テト
ラクロロビフェニル、4,4’−ヒドロキシ−3,
3’,5,5’−テトラブロモビフェニル等が挙げられ
る。ジグリシジルエーテル(B)としては、これらのビ
フェノール類にエピクロルヒドリンを反応させて得られ
るもの、具体的には4,4’−ジ(2,3−エポキシプ
ロポキシ)−ビフェニル、4,4’−ジ(2,3−エポ
キシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラメチル
ビフェニル、4,4’−ジ(2,3−エポキシプロポキ
シ)−3,3’,5,5’−テトラクロルビフェニル、
4,4’−ジ(2,3−エポキシプロポキシ)−3,
3’,5,5’−テトラブロモビフェニル等が挙げられ
る。これらのなかでも、耐熱性、硬化性が優れることか
ら4,4’−ジ(2,3−エポキシプロポキシ)−ビフ
ェニル、4,4’−ジ(2,3−エポキシプロポキシ)
−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニルが好ま
しい。
In the diglycidyl ether (B) used in the present invention, biphenols are those having one phenolic hydroxyl group in each aromatic nucleus of the biphenyl structure, for example, biphenol, 4,4 '. -Hydroxy-3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl, 4,4'-hydroxy-3,3', 5,5'-tetrachlorobiphenyl, 4,4'-hydroxy-3,
3 ', 5,5'- tetrabromobiphenyl etc. are mentioned. As the diglycidyl ether (B), those obtained by reacting these biphenols with epichlorohydrin, specifically, 4,4′-di (2,3-epoxypropoxy) -biphenyl, 4,4′-di (2,3-Epoxypropoxy) -3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl, 4,4'-di (2,3-epoxypropoxy) -3,3', 5,5'-tetrachloro Biphenyl,
4,4'-di (2,3-epoxypropoxy) -3,
3 ', 5,5'- tetrabromobiphenyl etc. are mentioned. Among these, 4,4'-di (2,3-epoxypropoxy) -biphenyl and 4,4'-di (2,3-epoxypropoxy) are excellent in heat resistance and curability.
-3,3 ', 5,5'-Tetramethylbiphenyl is preferred.

【0020】この際、該グリシジルエーテル(B)の溶
融粘度は得られる効果を鑑み、150℃の溶融粘度が
0.2ポイズ以下が好ましい。また、この溶融粘度を満
足するジグリシジルエーテル(B)の市販品としては、
例えば油化シェルエポキシ(株)製「エピコートYX−
4000」或いは油化シェルエポキシ(株)製「YX−
4000H」等が用いられる。
At this time, in view of the effect of obtaining the melt viscosity of the glycidyl ether (B), the melt viscosity at 150 ° C. is preferably 0.2 poise or less. Further, as a commercially available product of diglycidyl ether (B) satisfying this melt viscosity,
For example, "Epicoat YX-" manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.
4000 "or" YX- "manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.
4000H "or the like is used.

【0021】ジグリシジルエーテル(B)は、通常結晶
性であるので、仕込、混練等の作業性が良好である。ま
たポリグリシジルエーテル(A)との混合系において、
成形時の低溶融粘度の効果により、流動性が優れ、微細
構造のパッケージや金線の破壊等の不良を低減できる。
さらには無機充填剤の配合量の増加にも有効であり、吸
水率の低減による表面実装時の耐ハンダクラック性の向
上及び、線膨張係数の低下にも効果を発揮する。
Since the diglycidyl ether (B) is usually crystalline, it has good workability such as charging and kneading. In a mixed system with polyglycidyl ether (A),
Due to the effect of low melt viscosity at the time of molding, the fluidity is excellent, and defects such as breakage of fine structure packages and gold wires can be reduced.
Further, it is also effective in increasing the amount of the inorganic filler compounded, and it is effective in improving the solder crack resistance during surface mounting by reducing the water absorption rate and also in decreasing the linear expansion coefficient.

【0022】本発明のエポキシ樹脂組成物において、用
いられるエポキシ樹脂は、上述した通り、ポリグリシジ
ルエーテル(A)とジグリシジルエーテル(B)とをそ
れぞれ別個に合成したものを溶融混合して用いることが
できるが、以下に詳述する本発明のエポキシ樹脂混合物
の製造方法によって得られるエポキシ樹脂混合物として
用いることが、ポリグリシジルエーテル(A)とジグリ
シジルエーテル(B)とを夫々個別に合成した後溶融混
合する場合に比べ、他の性能を劣化させることなく溶融
粘度を極めて低くくできる点、更に、目的とするエポキ
シ樹脂混合物を極めて容易に得ることができ、エポキシ
樹脂混合物の生産性が飛躍的に向上する点から好まし
い。
In the epoxy resin composition of the present invention, as the epoxy resin used, as described above, the polyglycidyl ether (A) and the diglycidyl ether (B) separately synthesized are melt-mixed and used. However, it can be used as an epoxy resin mixture obtained by the method for producing an epoxy resin mixture of the present invention, which will be described in detail below, after the polyglycidyl ether (A) and the diglycidyl ether (B) are individually synthesized. Compared with the case of melt mixing, the melt viscosity can be made extremely low without degrading other performances, and furthermore, the target epoxy resin mixture can be obtained very easily, and the productivity of the epoxy resin mixture is dramatically improved. It is preferable from the viewpoint of improving

【0023】即ち、ジグリシジルエーテル(B)として
は、例えば、テトラメチルビフェノールのジグリシジル
エーテルに比べ、ビフェノールのジグリシジルエーテル
の方が流動性、耐熱性、硬化性が優れるため好ましい
が、該ビフェノールのジグリシジルエーテルは融点が1
80℃程度と高いため、ポリグリシジルエーテル(A)
との混合が困難である他、加え溶剤溶解性が悪いためエ
ポキシ化工程中に結晶化をきたしジグリシジルエーテル
(B)自体の製造が困難なものであった。そこで本発明
の製造方法によれば、この様な問題を回避して極めて容
易に、ビフェノールのジグリシジルエーテルと、ポリグ
リシジルエーテル(A)との混合物たるエポキシ樹脂が
得られる。
That is, as the diglycidyl ether (B), for example, diglycidyl ether of biphenol is preferable as compared with diglycidyl ether of tetramethylbiphenol because of its excellent fluidity, heat resistance and curability. Diglycidyl ether has a melting point of 1
Since it is as high as about 80 ° C, polyglycidyl ether (A)
In addition to being difficult to mix with, it was difficult to manufacture the diglycidyl ether (B) itself due to crystallization during the epoxidation step due to poor solvent solubility. Therefore, according to the production method of the present invention, an epoxy resin which is a mixture of a diglycidyl ether of biphenol and a polyglycidyl ether (A) can be obtained very easily by avoiding such problems.

【0024】従って、本発明のエポキシ樹脂組成物は、
環状脂肪族炭化水素基を結接基としてヒドロキシル芳香
族化合物と結合した化合物(a)と、ビフェノール類
(b)との混合物と、エピハロヒドリンとの反応生成物
(以下、単に「反応生成物」という)、及び硬化剤とを
必須成分として用いることが最も好ましい。
Therefore, the epoxy resin composition of the present invention is
A reaction product of a mixture of a compound (a) having a cycloaliphatic hydrocarbon group as a binding group bonded to a hydroxyl aromatic compound and a biphenol (b) and epihalohydrin (hereinafter, simply referred to as "reaction product"). ), And a curing agent are most preferably used as essential components.

【0025】以下に、当該反応生成物を得るための本発
明のエポキシ樹脂混合物の製造方法を詳述する。本発明
のエポキシ樹脂混合物の製造方法は、環状脂肪族炭化水
素基を結接基としてヒドロキシル芳香族化合物と結合し
た化合物(a)(以下、「化合物(a)」と略記する)
とビフェノール類(b)との混合物と、エピハロヒドリ
ンとの反応させるものであって、その他の条件が限定さ
れるものではないが、例えば(a)と(b)との混合物
を、該混合物中の水酸基に対して1〜20倍当量、好ま
しくは2〜10倍当量のエピハロヒドリンに溶解し、1
0〜120℃、好ましくは50〜90℃の温度条件で、
アルカリ金属の水酸化物の存在下に反応する方法が挙げ
られる。アルカリ金属の水酸化物としては特に限定され
ないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リ
チウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。アルカ
リ金属の水酸化物の使用量としては、前記水酸基に対し
て0.8〜1.2当量であることが好ましい。
The method for producing the epoxy resin mixture of the present invention for obtaining the reaction product will be described in detail below. The method for producing an epoxy resin mixture of the present invention is a compound (a) having a cycloaliphatic hydrocarbon group as a binding group and a hydroxyl aromatic compound bonded thereto (hereinafter, abbreviated as "compound (a)").
And a biphenol (b) are allowed to react with epihalohydrin, and other conditions are not limited. For example, a mixture of (a) and (b) It is dissolved in 1 to 20 times equivalent, preferably 2 to 10 times equivalent of epihalohydrin with respect to the hydroxyl group,
Under the temperature condition of 0 to 120 ° C, preferably 50 to 90 ° C,
A method of reacting in the presence of an alkali metal hydroxide can be mentioned. The alkali metal hydroxide is not particularly limited, but examples thereof include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. The amount of the alkali metal hydroxide used is preferably 0.8 to 1.2 equivalents to the hydroxyl group.

【0026】さらに目的とするエポキシ樹脂混合物を効
率よく高収率で得るための好ましい方法としては、具体
的には以下の方法が挙げられる。即ち、前記混合物を水
酸基に対して3〜7倍当量のエピクロルヒドリンに溶解
した後、60〜80℃の温度で水酸基に対して1.0〜
1.1当量の20%水酸化ナトリウム水溶液を3〜5時
間要して攪拌しながら滴下する。滴下終了後、1時間攪
拌し静置分液して、下層の食塩水を棄却する。その後、
未反応のエピクロルヒドリンを蒸留回収する。次いでメ
チルイソブチルケトン或いはトルエンを加え溶解した
後、水洗し無機不純物を除去し、溶剤を蒸留回収し目的
のエポキシ樹脂混合物を得る。
Further, as a preferable method for efficiently obtaining the desired epoxy resin mixture in a high yield, the following methods are specifically mentioned. That is, the mixture is dissolved in epichlorohydrin in an amount of 3 to 7 times equivalent to hydroxyl groups, and then 1.0 to 1.0 to the hydroxyl groups at a temperature of 60 to 80 ° C.
1.1 equivalent of 20% sodium hydroxide aqueous solution is added dropwise with stirring over 3 to 5 hours. After completion of the dropping, the mixture is stirred for 1 hour and left to stand for liquid separation to discard the saline solution in the lower layer. afterwards,
Unreacted epichlorohydrin is recovered by distillation. Then, methyl isobutyl ketone or toluene is added and dissolved, and then washed with water to remove inorganic impurities, and the solvent is distilled and recovered to obtain a desired epoxy resin mixture.

【0027】ここで化合物(a)と、ビフェノール類
(b)との混合比率は、特に限定されるものではない
が、流動性の向上、作業性の向上のための適当な軟化点
を得るためと、耐熱性、吸水率のバランスの向上のた
め、重量比率で(a)/(b)=95/5〜30/70
の範囲が好ましい。また一層これらの特性の向上のため
には、90/10〜50/50の範囲が特に好ましい。
Here, the mixing ratio of the compound (a) and the biphenols (b) is not particularly limited, but in order to obtain an appropriate softening point for improving fluidity and workability. In order to improve the balance between heat resistance and water absorption, (a) / (b) = 95/5 to 30/70 in weight ratio.
Is preferred. Further, in order to further improve these characteristics, the range of 90/10 to 50/50 is particularly preferable.

【0028】本発明のエポキシ樹脂混合物の製造方法に
用いられる化合物(a)を構成する環状脂肪族炭化水素
基としては特に限定されるものではなく、上述したポリ
グリシジルエーテル(A)を構成する環状脂肪族炭化水
素基が挙げられる。
The cyclic aliphatic hydrocarbon group constituting the compound (a) used in the method for producing the epoxy resin mixture of the present invention is not particularly limited, and the cyclic aliphatic hydrocarbon group constituting the above polyglycidyl ether (A) is used. Aliphatic hydrocarbon groups are mentioned.

【0029】具体的にはその骨格中にシクロヘキサン環
或いはシクロヘキセン環を有するものが硬化物の耐水性
向上効果に優れる点から好ましく、それらの中でも特に
この効果が顕著である点から、具体的にはジシクロペン
タジエン、リモネン、または3a,4,7,7a−テト
ラヒドロインデンの分子骨格中の不飽和結合に基づく2
価の炭化水素基が好ましい。これらの化合物は単独で使
用してもよく、また2種類以上併用しても良い。更に、
これらの中でも硬化物の耐湿性が一層向上するほか、硬
化物の耐熱性も著しく向上する点からジシクロペンタジ
エンの分子骨格中の不飽和結合に基づく2価の炭化水素
基が好ましい。
Specifically, those having a cyclohexane ring or a cyclohexene ring in the skeleton are preferable from the viewpoint of excellent effect of improving the water resistance of the cured product, and among them, this effect is particularly remarkable. 2 based on unsaturated bonds in the molecular skeleton of dicyclopentadiene, limonene, or 3a, 4,7,7a-tetrahydroindene
A valent hydrocarbon group is preferred. These compounds may be used alone or in combination of two or more kinds. Furthermore,
Of these, a divalent hydrocarbon group based on an unsaturated bond in the molecular skeleton of dicyclopentadiene is preferable because the moisture resistance of the cured product is further improved and the heat resistance of the cured product is significantly improved.

【0030】また同様に化合物(a)を構成するヒドロ
キシ芳香族化合物は、上述したポリグリシジルエーテル
(A)を構成するヒドロキシ芳香族化合物が何れも挙げ
られ、具体的には水酸基が1個或いは2個以上置換した
ベンゼン環、ナフタレン環或いはアントラセン環等が挙
げられる。更に具体的には、例えばフェノール又は、ビ
スフェノールA、ビスフェノールF等のビスフェノール
類、クレゾール、p−ターシャリーブチルフェノールの
ごときアルキル置換フェノール類、レゾルシン等のフェ
ノール性水酸基を2個以上含有する芳香族炭化水素、1
−ナフトール、2−ナフトール、1,6−ジヒドロキシ
ナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン等のナフ
トール類、1−ヒドロキシアントラセン、2−ヒドロキ
シアントラセン等のヒドロキシアントラセン類が挙げら
れ、特にポリグリシジルエーテルの溶融粘度が低く、流
動性が優れる点から具体的にはフェノール或いはクレゾ
ールが好ましく挙げられる。
Similarly, as the hydroxyaromatic compound constituting the compound (a), any of the hydroxyaromatic compounds constituting the above-mentioned polyglycidyl ether (A) can be mentioned, and specifically, one or two hydroxyl groups can be mentioned. Examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, or an anthracene ring substituted with one or more. More specifically, for example, phenol or bisphenols such as bisphenol A and bisphenol F, alkyl-substituted phenols such as cresol and p-tert-butylphenol, and aromatic hydrocarbons containing two or more phenolic hydroxyl groups such as resorcin. 1
-Naphthols such as naphthol, 2-naphthol, 1,6-dihydroxynaphthalene, and 2,7-dihydroxynaphthalene; and hydroxyanthracenes such as 1-hydroxyanthracene and 2-hydroxyanthracene, and particularly the melt viscosity of polyglycidyl ether. In particular, phenol or cresol is preferable because of its low viscosity and excellent fluidity.

【0031】前記の化合物(a)を得るには、ポリグリ
シジルエーテル(A)の製造において既述した通り、ヒ
ドロキシ芳香族化合物と、ジシクロペンタジエン、リモ
ネンおよび3a,4,7,7a−テトラヒドロインデン
に代表される脂環式不飽和炭化水素とを触媒を用いて重
合してフェノール性水酸基含有の付加重合体とする方法
が挙げられる。
To obtain the compound (a), the hydroxyaromatic compound, dicyclopentadiene, limonene and 3a, 4,7,7a-tetrahydroindene, as described above in the production of the polyglycidyl ether (A), are used. A method of polymerizing an alicyclic unsaturated hydrocarbon represented by the formula (1) with a catalyst to obtain an addition polymer containing a phenolic hydroxyl group.

【0032】具体的には、ヒドロキシル芳香族化合物を
加熱溶融させ、そこへ触媒を添加し均一に溶解した後、
50〜180℃、好ましくは80〜150℃で脂環式不
飽和炭化水素を滴下する。各原料の使用割合としては、
特に制限されないが、脂環式不飽和炭化水素1モルに対
して、触媒が0.001〜0.1モル、好ましくは0.
005〜0.10モルであって、ヒドロキシル芳香族化
合物が0.1〜10.0モル、好ましくは0.3〜4モ
ルである。また、この反応においては、脂環式不飽和炭
化水素と触媒とを溶融混合したところに、ヒドロキシル
芳香族化合物を添加してもよい。
Specifically, the hydroxyl aromatic compound is heated and melted, and a catalyst is added thereto to uniformly dissolve it,
The alicyclic unsaturated hydrocarbon is added dropwise at 50 to 180 ° C, preferably 80 to 150 ° C. As for the usage ratio of each raw material,
Although not particularly limited, the catalyst is 0.001 to 0.1 mol, preferably 0.1 to 0.1 mol with respect to 1 mol of the alicyclic unsaturated hydrocarbon.
005 to 0.10 mol, and the hydroxyl aromatic compound is 0.1 to 10.0 mol, preferably 0.3 to 4 mol. Further, in this reaction, the hydroxyl aromatic compound may be added to the place where the alicyclic unsaturated hydrocarbon and the catalyst are melt-mixed.

【0033】ここで用いる触媒としては例えば、AlC
3、BF3、ZnCl2、H2SO4、TiCl4、H3
4等のルイス酸等のが挙げられる。
The catalyst used here is, for example, AlC.
l 3 , BF 3 , ZnCl 2 , H 2 SO 4 , TiCl 4 , H 3 P
Examples thereof include Lewis acids such as O 4 .

【0034】また、ビフェノール類(b)としては、既
述したフェノール類が何れも使用でき、具体的にはフェ
ノール類を直接カップリング反応で2分子結合した化合
物を示し、特定の化合物に限定されるものではないが、
例えばビフェノール、4、4’−ヒドロキシ−3,
3’,5,5’−テトラビフェニル、4、4’−ヒドロ
キシ−3,3’,5,5’−テトラクロロビフェニル、
4、4’−ヒドロキシ−3,3’,5,5’−テトラブ
ロモビフェニル等が挙げられる。なかでも、耐熱性、硬
化性が優れることからビフェノール、4、4’−ヒドロ
キシ−3,3’,5,5’−テトラビフェニルが特に好
ましい。中でも特に、既述した通り、ビフェノールを用
いる場合には、流動性および耐熱性に極めて優れたエポ
キシ樹脂組成物となり、また、本発明の製造方法に従っ
て、極めて容易にエポキシ樹脂混合物とすることができ
好ましい。
As the biphenols (b), any of the above-mentioned phenols can be used, and specifically, a compound in which two molecules of phenols are bound by a direct coupling reaction is shown and is not limited to a specific compound. It's not something
For example biphenol, 4,4'-hydroxy-3,
3 ', 5,5'-tetrabiphenyl, 4,4'-hydroxy-3,3', 5,5'-tetrachlorobiphenyl,
4,4'-hydroxy-3,3 ', 5,5'-tetrabromobiphenyl and the like can be mentioned. Among them, biphenol, 4,4′-hydroxy-3,3 ′, 5,5′-tetrabiphenyl are particularly preferable because they have excellent heat resistance and curability. Above all, as described above, when using biphenol, an epoxy resin composition having extremely excellent fluidity and heat resistance can be obtained, and according to the production method of the present invention, an epoxy resin mixture can be extremely easily prepared. preferable.

【0035】この様にして得られるエポキシ樹脂混合物
は、特に限定されないが、硬化物の低溶融粘度化がより
顕著になる点から、150℃における溶融粘度が0.1
〜2.0ポイズの範囲であることが好ましい。
The epoxy resin mixture thus obtained is not particularly limited, but has a melt viscosity at 150 ° C. of 0.1 because the low melt viscosity of the cured product becomes more remarkable.
It is preferably in the range of up to 2.0 poise.

【0036】また、硬化物にした場合の耐熱性が優れた
ものとなる点からエポキシ樹脂混合物の軟化点は70℃
以上であることが好ましく、なかでも70〜110℃で
あることが特に好ましい。
Further, the softening point of the epoxy resin mixture is 70 ° C. from the viewpoint that the cured product has excellent heat resistance.
It is preferably above the temperature range, and particularly preferably 70 to 110 ° C.

【0037】従って、反応物としては、これらの条件を
満足する範囲、即ち150℃における溶融粘度が0.1
〜2.0ポイズの範囲であって、かつ、軟化点が70℃
以上、なかでも70〜110℃であることが、これらの
特性をバランスよく兼備したものとなり好ましい。
Therefore, the reactant has a melt viscosity of 0.1 at 150 ° C., that is, a range satisfying these conditions.
To 2.0 poise and softening point of 70 ° C
Above all, it is preferable that the temperature is 70 to 110 [deg.] C. because these characteristics are well balanced.

【0038】また、上述した通り、該エポキシ樹脂混合
物は、環状脂肪族炭化水素基を結接基としてヒドロキシ
ル芳香族化合物と結合した化合物のポリグリシジルエー
テル(A)と、ビフェノール類のジグリシジルエーテル
(B)とを主成分としており、その他の成分として、環
状脂肪族炭化水素基を結接基としてヒドロキシル芳香族
化合物と結合した化合物のポリグリシジルエーテル
(A)とビフェノール類とが共重合したもの、若しくは
ビフェノール類のジグリシジルエーテル(B)と環状脂
肪族炭化水素基を結接基としてヒドロキシル芳香族化合
物と結合した化合物とが共重合したものを含有するもの
であるが、該混合物中、ポリグリシジルエーテル(A)
とジグリシジルエーテル(B)との合計が50〜90重
量%であることが、本発明の効果が顕著となる点から好
ましく、なかでも60〜80重量%であることが好まし
い。
Further, as described above, the epoxy resin mixture contains a polyglycidyl ether (A) of a compound in which a cycloaliphatic hydrocarbon group is bonded to a hydroxyl aromatic compound and a diglycidyl ether of a biphenol ( B) as a main component, and as another component, a copolymer of a polyglycidyl ether (A) of a compound in which a cycloaliphatic hydrocarbon group is bonded to a hydroxyl aromatic compound as a binding group and a biphenol, Alternatively, it contains a copolymer of a diglycidyl ether of a biphenol (B) and a compound in which a cycloaliphatic hydrocarbon group is bonded to a hydroxyl aromatic compound as a binding group, and polyglycidyl is contained in the mixture. Ether (A)
It is preferable that the total amount of the diglycidyl ether (B) and the diglycidyl ether (B) is 50 to 90% by weight, from the viewpoint that the effect of the present invention becomes remarkable, and it is preferably 60 to 80% by weight.

【0039】本発明のエポキシ樹脂組成物においては、
エポキシ樹脂成分として、ポリグリシジルエーテル
(A)とジグリシジルエーテル(B)との混合物、或い
は本発明の製造方法によって得られるエポキシ樹脂混合
物を用いるものであるが、更に、本発明の効果を損なわ
ない範囲で、その他のエポキシ樹脂を任意の割合で併用
しても構わない。それらの使用割合としては上述の本発
明の効果の程度を鑑みると、エポキシ樹脂と硬化剤の合
計重量に対して、50重量%以下でその他のエポキシ樹
脂を併用することが好ましい。
In the epoxy resin composition of the present invention,
As the epoxy resin component, a mixture of polyglycidyl ether (A) and diglycidyl ether (B) or an epoxy resin mixture obtained by the production method of the present invention is used, but the effect of the present invention is not impaired. Other epoxy resins may be used together in an arbitrary ratio within the range. Considering the degree of the effect of the present invention described above, it is preferable to use other epoxy resins in combination at 50% by weight or less based on the total weight of the epoxy resin and the curing agent.

【0040】併用し得るエポキシ樹脂としても特に限定
されないが、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、BPAノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール
ノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹
脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、臭素
化BPA型エポキシ樹脂、クレゾール−ナフトール共縮
ノボラック型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン型
エポキシ樹脂、グリシジルアミン型4官能エポキシ樹脂
等を挙げることができる。これらのなかでも特に耐熱性
並びに硬化性に優れる点からクレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂が好ましい。
The epoxy resin that can be used in combination is not particularly limited, and examples thereof include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, BPA novolac type epoxy resin, naphthol novolac type. Epoxy resin, biphenol type epoxy resin, brominated phenol novolac type epoxy resin, brominated BPA type epoxy resin, cresol-naphthol co-compressed novolac type epoxy resin, dihydroxynaphthalene type epoxy resin, glycidyl amine type tetrafunctional epoxy resin, etc. You can Among these, the cresol novolac type epoxy resin is preferable because it is excellent in heat resistance and curability.

【0041】また本発明のエポキシ樹脂組成物に使用す
る硬化剤としても、特に限定されないが、例えば、フェ
ノールノボラック型樹脂、アルキル置換フェノールノボ
ラック型樹脂、BPAノボラック型樹脂、ザイロック型
フェノール等のフェノール系硬化剤、またジヒドロキシ
ナフタレン、フェノール−ナフトール共縮ノボラック樹
脂、ナフトールノボラック樹脂、ジヒドロキシナフタレ
ンノボラック樹脂等のナフトール系硬化剤、ジエチレン
トリアミン、トリエチレンテトラアミンなどの脂肪族ア
ミン類、ジアミノジフェニルアミン、ジアミノジフェニ
ルスルフォンなどの芳香族アミン類、ポリアミド樹脂お
よびその変性物、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水
ヘキサヒドロフタル酸、無水ピロペリット酸などの酸無
水物系硬化剤、ジシアンジアミド、イミダゾール、BF
3錯体、グアニジン誘導体等の潜在性硬化剤等が挙げら
れる。これらの硬化剤は単独でも2種類以上の併用でも
よい。
The curing agent used in the epoxy resin composition of the present invention is also not particularly limited, but examples thereof include phenol novolac type resins, alkyl-substituted phenol novolac type resins, BPA novolac type resins, and xyloc type phenols. Hardeners, dihydroxynaphthalene, phenol-naphthol cocondensed novolac resins, naphthol novolak resins, naphthol-based hardeners such as dihydroxynaphthalene novolac resins, aliphatic amines such as diethylenetriamine and triethylenetetraamine, diaminodiphenylamine, diaminodiphenylsulfone, etc. Aromatic amines, polyamide resins and modified products thereof, acid anhydride type curing agents such as maleic anhydride, phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride and pyroperitic anhydride Anjiamido, imidazole, BF
Examples include latent curing agents such as 3 complexes and guanidine derivatives. These curing agents may be used alone or in combination of two or more.

【0042】これらのなかでも、特に硬化性に優れる点
からフェノール系硬化剤が好ましい。硬化剤の使用割合
としては、通常、エポキシ樹脂のエポキシ基と硬化剤中
の活性水素とが当量比で前者/後者=0.8〜1.2と
なる、好ましくは当量となる割合で用いることができ
る。
Of these, a phenol-based curing agent is preferable because of its excellent curability. As a use ratio of the curing agent, usually, the epoxy group of the epoxy resin and the active hydrogen in the curing agent are in the equivalent ratio of the former / the latter = 0.8 to 1.2, preferably used in the equivalent ratio. You can

【0043】さらに必要に応じて硬化促進剤を用いても
よく、使用し得るものとしては公知のエポキシ樹脂用硬
化促進剤を用いることができ、例えば第三級ホスフィン
類、イミダゾ−ル類、第三級アミン類等を用いることが
できる。具体的には、前記第三級ホスフィン類として
は、例えばトリエチルホスフィン、トリブチルホスフィ
ン、トリフェニルホスフィン等を好ましく挙げることが
できる。また前記第三級アミン類としては、例えばジメ
チルエタノールアミン、ジメチルベンジルアミン、2,
4,6−トリス(ジメチルアミノ)フェノール、1,8
ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウンデセンなどを好まし
く挙げることができる。イミダゾ−ル類としては、例え
ば2−エチル−4−メチルイミダゾール、2,4−ジメ
チルイミダゾ−ル、2−メチルイミダゾール、2−ウン
デシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、
1−ビニル−2−メチルイミダゾール、1−プロピル−
2−メチルイミダゾール、2−イソプロピルイミダゾー
ル、1−シアノエチル−2−エチルイミダゾール、1−
シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、
1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−
シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、2−フェニ
ルイミゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾー
ル、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−フェ
ニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−
フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾ
ールなどを挙げることができる。これらの中でも耐熱
性、耐水性、電気特性等に優れ、また、半導体封止材料
用途において安定性に優れる点から2−メチルイミダゾ
ール、ジアザビシクロウンデセン(DBU)、トリフェ
ニルホスフィンやジメチルベンジルアミンおよびこれら
の混合物が好ましい。
Further, if necessary, a curing accelerator may be used, and as the usable one, a known curing accelerator for an epoxy resin may be used, and examples thereof include tertiary phosphines, imidazoles, and Tertiary amines and the like can be used. Specifically, examples of the tertiary phosphines preferably include triethylphosphine, tributylphosphine, triphenylphosphine, and the like. Examples of the tertiary amines include dimethylethanolamine, dimethylbenzylamine, 2,
4,6-Tris (dimethylamino) phenol, 1,8
Preferred examples include diazabicyclo [5,4,0] undecene. Examples of imidazoles include 2-ethyl-4-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole,
1-vinyl-2-methylimidazole, 1-propyl-
2-methylimidazole, 2-isopropylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethylimidazole, 1-
Cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole,
1-Cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-
Cyanoethyl-2-phenylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-
Examples thereof include phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole. Among these, 2-methylimidazole, diazabicycloundecene (DBU), triphenylphosphine, and dimethylbenzylamine are excellent in heat resistance, water resistance, electrical characteristics, and the like, and are excellent in stability in semiconductor encapsulation material applications. And mixtures thereof are preferred.

【0044】硬化促進剤の使用割合は特に制限されるも
のではないが、通常、組成物中の樹脂成分に対して0.
05〜0.30重量%、好ましくは0.5〜0.20重
量%の範囲である。
The proportion of the curing accelerator used is not particularly limited, but it is usually 0. 0 with respect to the resin component in the composition.
It is in the range of 05 to 0.30% by weight, preferably 0.5 to 0.20% by weight.

【0045】本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記各成
分に、必要に応じて無機充填剤を使用しても良く、無機
充填材としては、溶融或いは結晶シリカ粉末、ガラス繊
維、炭素繊維、炭酸カルシウム、石英、酸化アルミニウ
ム、酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マ
グネシウム、珪藻土、焼成クレイ、カリオン、マイカ、
アスベスト、パルプ、木粉等が挙げられる。無機充填剤
の配合割合としては、使用目的に応じ適宜選択すること
ができるが、組成物全体に対して通常50〜90重量%
であり、中でも65〜85重量%の範囲が好ましい。更
に、73〜85重量%の高充填にする場合にする場合に
は硬化物の耐湿性は極めて顕著なものとなり一層好まし
い。
In the epoxy resin composition of the present invention, an inorganic filler may be used in each of the above components, if necessary. Examples of the inorganic filler include fused or crystalline silica powder, glass fiber, carbon fiber and carbonic acid. Calcium, quartz, aluminum oxide, magnesium oxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, diatomaceous earth, calcined clay, carion, mica,
Examples include asbestos, pulp, wood flour and the like. The blending ratio of the inorganic filler can be appropriately selected according to the purpose of use, but is usually 50 to 90% by weight with respect to the entire composition.
And the range of 65 to 85% by weight is preferable. Furthermore, in the case of using a high filling of 73 to 85% by weight, the moisture resistance of the cured product becomes extremely remarkable, which is more preferable.

【0046】さらに必要に応じて三酸化アンチモン、ヘ
キサブロモベンゼン等の難燃剤、カ−ボンブラック、ベ
ンガラ等の着色剤、天然ワックス、合成ワックス等の離
型剤及びシリコンオイル、ゴム等の低応力添加剤等の種
々の添加剤等を配合適宜配合して得られる。また、前記
難燃剤としては、上記のその他の併用し得るエポキシ樹
脂として例示した臭素化フェノールノボラック型エポキ
シ樹脂、臭素化BPA型エポキシ樹脂も難燃剤として用
いることができる。
If necessary, flame retardants such as antimony trioxide and hexabromobenzene, coloring agents such as carbon black and red iron oxide, releasing agents such as natural wax and synthetic wax, and low stress such as silicone oil and rubber. It can be obtained by appropriately mixing various additives such as additives. Further, as the flame retardant, a brominated phenol novolac type epoxy resin or a brominated BPA type epoxy resin exemplified as the other epoxy resins which can be used in combination can be used as the flame retardant.

【0047】また、本発明のエポキシ樹脂組成物から成
型材料を調製するには、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促
進剤、その他の添加剤をミキサー等によって十分に均一
に混合した後、更に熱ロールまたはニーダ−等で溶融混
練し、トランスファー成形或いは射出成形するなどして
得ることができる。
Further, in order to prepare a molding material from the epoxy resin composition of the present invention, the epoxy resin, the curing agent, the curing accelerator, and other additives are sufficiently and uniformly mixed with a mixer or the like, and then a heat roll is further added. Alternatively, it can be obtained by melt-kneading with a kneader or the like and performing transfer molding or injection molding.

【0048】本発明の半導体封止材料は、上述したエポ
キシ樹脂と硬化剤を必須成分とする本発明のエポキシ樹
脂組成物に、更に無機充填材を必須成分として含有する
こものである。また同様に前述で例示された様な他のエ
ポキシ樹脂、硬化剤を任意の割合で併用してもよく、さ
らに同様に必要に応じて前述で例示された様な他の硬化
促進剤、添加剤を用いても構わない。
The semiconductor encapsulating material of the present invention is the epoxy resin composition of the present invention containing the above-mentioned epoxy resin and curing agent as essential components, and further containing an inorganic filler as an essential component. Similarly, the other epoxy resin as exemplified above and the curing agent may be used together in an arbitrary ratio, and similarly, if necessary, other curing accelerators and additives as exemplified above. May be used.

【0049】本発明の半導体封止材料で用いる無機充填
材としては前述のものがいずれも使用できるが一般にシ
リカ粉末充填剤等を好ましく用いることができる。本発
明の封止材用エポキシ樹脂組成物に使用する無機充填剤
の配合割合は、半導体封止材料全体に対して、通常50
〜90重量%であり、中でも65〜85重量%の範囲が
好ましい。
As the inorganic filler used in the semiconductor encapsulating material of the present invention, any of the above-mentioned ones can be used, but in general, silica powder filler and the like can be preferably used. The compounding ratio of the inorganic filler used in the epoxy resin composition for encapsulant of the present invention is usually 50 with respect to the entire semiconductor encapsulant.
Is 90 to 90% by weight, and particularly preferably 65 to 85% by weight.

【0050】本発明の半導体封止材料を用いて成型材料
を調製するには、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、硬化
促進剤、無機充填材、その他の添加剤をミキサー等によ
って十分に均一に混合した後、更に熱ロールまたはニー
ダ−等で溶融混練し、低圧トランスファー成形あるいは
射出成形するなどして得ることができる。
To prepare a molding material using the semiconductor encapsulating material of the present invention, an epoxy resin, a phenol resin, a curing accelerator, an inorganic filler, and other additives are sufficiently uniformly mixed with a mixer or the like. Alternatively, it can be obtained by melt-kneading with a hot roll or a kneader and performing low-pressure transfer molding or injection molding.

【0051】[0051]

【実施例】以下に実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、実
施例および比較例における各試験方法は以下の方法によ
る。
The present invention is described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. Each test method in Examples and Comparative Examples is as follows.

【0052】[評価方法] ガラス転移温度:試験片を切り出し粘弾性測定装置(D
MA)で測定。 吸水率:85℃・85%RHの条件下で300時間処理
した後重量増加率から計算。
[Evaluation method] Glass transition temperature: A test piece was cut out and a viscoelasticity measuring device (D
Measured by MA). Water absorption rate: Calculated from the weight increase rate after treatment for 300 hours under the conditions of 85 ° C. and 85% RH.

【0053】ゲルタイム:175℃においてキュアプレ
ート上でゲル化までの時間を測定。 溶融粘度:配合時の150℃におけるICIコーンプレ
ート型粘度計で測定した粘度である。
Gel time: Measure the time to gelation on a cure plate at 175 ° C. Melt viscosity: It is the viscosity measured by an ICI cone plate type viscometer at 150 ° C. at the time of compounding.

【0054】実施例1 ジシクロペンタジエン−フェノール重付加物型エポキシ樹脂(E1)(エポキ シ当量263g/eq、軟化点65℃、ICIコーンプレート型粘度計による150 ℃の溶融粘度0.8ポイズ:大日本インキ化学工業(株)製、EPICLON EXA−7200)) 56重量部 4、4’−ジ(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラ メチル−ビフェノール(E2)(エポキシ当量194g/eq、軟化点105℃、1 50℃の溶融粘度0.1ポイズ:油化シェルエポキシ(株)製 「YX−400 0H」) 14重量部 フェノールノボラック樹脂(H1)(水酸基当量104g/eq、軟化点80℃: 大日本インキ化学工業(株)製 フェノライト TD−2131)30重量部 トリフェニルフォスフィン 0.7重量部 を溶融混合した後、175℃で5時間硬化して注型板を
作成し、耐熱性と耐水性の評価を行った。結果を第1表
の1に示す。
Example 1 Dicyclopentadiene-phenol polyadduct type epoxy resin (E1) (epoxy equivalent: 263 g / eq, softening point: 65 ° C., melt viscosity at 150 ° C. by ICI cone plate viscometer: 0.8 poise: Dainippon Ink and Chemicals, Inc., EPICLON EXA-7200)) 56 parts by weight 4,4′-di (2,3-epoxypropoxy) -3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-biphenol (E2 ) (Epoxy equivalent 194 g / eq, softening point 105 ° C., melt viscosity at 150 ° C. 0.1 poise: “YX-4000H” manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) 14 parts by weight Phenol novolac resin (H1) Equivalent weight 104 g / eq, softening point 80 ° C .: Dainippon Ink and Chemicals, Inc. Phenolite TD-2131) 30 parts by weight Triphenylphosphine 0.7 parts by weight After melting mixed and cured 5 hours at 175 ° C. to create a cast plate were evaluated heat resistance and water resistance. The results are shown in Table 1-1.

【0055】実施例2 エポキシ樹脂及び硬化剤を以下のものに代えた以外は実
施例1と同様にして評価した。結果を第1表の1に示
す。
Example 2 Evaluations were made in the same manner as in Example 1 except that the epoxy resin and the curing agent were changed to the following. The results are shown in Table 1-1.

【0056】 エポキシ樹脂(E1) 34重量部 エポキシ樹脂(E2) 34重量部 フェノールノボラック樹脂(H1) 32重量部 トリフェニルフォスフィン 0.7重量部Epoxy resin (E1) 34 parts by weight Epoxy resin (E2) 34 parts by weight Phenol novolac resin (H1) 32 parts by weight Triphenylphosphine 0.7 parts by weight

【0057】実施例3 エポキシ樹脂及び硬化剤を以下のものに代えた以外は実
施例1と同様にして評価した。結果を第1表の1に示
す。
Example 3 Evaluations were made in the same manner as in Example 1 except that the epoxy resin and the curing agent were changed to the following. The results are shown in Table 1-1.

【0058】 エポキシ樹脂(E1) 41重量部 エポキシ樹脂(E2) 17重量部 フェノール−アラルキル樹脂(H2)(水酸基当量175g/eq、軟化点75℃ 、150℃の溶融粘度3.1ポイズ、三井東圧化学(株)製 ミレックス「XL −225−LL」) 42重量部 トリフェニルフォスフィン 0.7重量部Epoxy resin (E1) 41 parts by weight Epoxy resin (E2) 17 parts by weight Phenol-aralkyl resin (H2) (hydroxyl equivalent 175 g / eq, softening point 75 ° C., melt viscosity at 150 ° C. 3.1 poise, Mitsui Higashi Pressure Chemical Co., Ltd. Millex "XL-225-LL") 42 parts by weight Triphenylphosphine 0.7 parts by weight

【0059】実施例4 エポキシ樹脂及び硬化剤を以下のものに代えた以外は実
施例1と同様にして評価した。結果を第1表の1に示
す。
Example 4 Evaluations were made in the same manner as in Example 1 except that the following epoxy resin and curing agent were used. The results are shown in Table 1-1.

【0060】 ジシクロペンタジエン−クレゾール重付加物型エポキシ樹脂(E3)(エポキ シ当量280g/eq、軟化点58℃、150℃の溶融粘度0.7ポイズ) 56重量部 エポキシ樹脂(E2) 14重量部 フェノールノボラック樹脂(H1) 30重量部 トリフェニルフォスフィン 0.7重量部Dicyclopentadiene-cresol polyaddition type epoxy resin (E3) (epoxy equivalent 280 g / eq, softening point 58 ° C., melt viscosity at 150 ° C. 0.7 poise) 56 parts by weight Epoxy resin (E2) 14 parts by weight Parts Phenol novolac resin (H1) 30 parts by weight Triphenylphosphine 0.7 parts by weight

【0061】実施例5 エポキシ樹脂及び硬化剤を以下のものに代えた以外は実
施例1と同様にして評価した。結果を第1表の1に示
す。
Example 5 Evaluations were made in the same manner as in Example 1 except that the epoxy resin and the curing agent were changed to the following. The results are shown in Table 1-1.

【0062】 3a,4,7,7a−テトラヒドロインデン−フェノール重付加物型エポキシ 樹脂(E4)(エポキシ当量275g/eq、軟化点60℃、ICIコーンプレート 型粘度計による150℃の溶融粘度0.5ポイズ:大日本インキ化学工業(株) 製、EPICLON EXA−7861L) 41重量部 エポキシ樹脂(E2) 28重量部 フェノールノボラック樹脂(H1) 31重量部 トリフェニルフォスフィン 0.7重量部3a, 4,7,7a-Tetrahydroindene-phenol polyadduct type epoxy resin (E4) (epoxy equivalent: 275 g / eq, softening point: 60 ° C., melt viscosity of 150 ° C. measured by an ICI cone plate type viscometer. 5 Poise: EPICLON EXA-7861L manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. 41 parts by weight Epoxy resin (E2) 28 parts by weight Phenol novolac resin (H1) 31 parts by weight Triphenylphosphine 0.7 parts by weight

【0063】実施例6 エポキシ樹脂及び硬化剤を以下のものに代えた以外は実
施例1と同様にして評価した。結果を第1表の1に示
す。
Example 6 Evaluations were made in the same manner as in Example 1 except that the epoxy resin and the curing agent were changed to the following. The results are shown in Table 1-1.

【0064】 リモネン−フェノール重付加物型エポキシ樹脂(E5)(エポキシ当量250 g/eq、軟化点56℃、ICIコーンプレート型粘度計による150℃の溶融粘度 0.4ポイズ) 55重量部 エポキシ樹脂(E2) 14重量部 フェノールノボラック樹脂(H1) 31重量部 トリフェニルフォスフィン 0.7重量部Limonene-phenol polyaddition type epoxy resin (E5) (epoxy equivalent 250 g / eq, softening point 56 ° C., melt viscosity at 150 ° C. by ICI cone plate viscometer 0.4 poise) 55 parts by weight epoxy resin (E2) 14 parts by weight Phenol novolac resin (H1) 31 parts by weight Triphenylphosphine 0.7 parts by weight

【0065】比較例1 エポキシ樹脂及び硬化剤を以下のものに代えた以外は実
施例1と同様にして評価した。結果を第1表の2に示
す。
Comparative Example 1 Evaluation was made in the same manner as in Example 1 except that the epoxy resin and the curing agent were changed to the following. The results are shown in Table 1-2.

【0066】 エポキシ樹脂(E1) 72重量部 フェノールノボラック樹脂(H1) 28重量部 トリフェニルフォスフィン 0.7重量部Epoxy resin (E1) 72 parts by weight Phenol novolac resin (H1) 28 parts by weight Triphenylphosphine 0.7 parts by weight

【0067】比較例2 エポキシ樹脂及び硬化剤を以下のものに代えた以外は実
施例1と同様にして評価した。結果を第1表の2に示
す。
Comparative Example 2 Evaluation was made in the same manner as in Example 1 except that the epoxy resin and the curing agent were changed to the following. The results are shown in Table 1-2.

【0068】 エポキシ樹脂(E2) 65重量部 フェノールノボラック樹脂(H1) 35重量部 トリフェニルフォスフィン 0.7重量部Epoxy resin (E2) 65 parts by weight Phenol novolac resin (H1) 35 parts by weight Triphenylphosphine 0.7 parts by weight

【0069】比較例3 エポキシ樹脂及び硬化剤を以下のものに代えた以外は実
施例1と同様にして評価した。結果を第1表の2に示
す。
Comparative Example 3 Evaluation was made in the same manner as in Example 1 except that the epoxy resin and the curing agent were changed to the following. The results are shown in Table 1-2.

【0070】 エポキシ樹脂(E1) 60重量部 フェノール−アラルキル樹脂(H2) 40重量部 トリフェニルフォスフィン 0.6重量部Epoxy resin (E1) 60 parts by weight Phenol-aralkyl resin (H2) 40 parts by weight Triphenylphosphine 0.6 parts by weight

【0071】比較例4 オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(E6)(エポキシ当量208g/ eq、軟化点67℃、ICIコーンプレート型粘度計による150℃の溶融粘度3 .0ポイズ:大日本インキ化学工業(株)製 EPICLON N−665) 67重量部 フェノールノボラック樹脂(H1) 33重量部 トリフェニルフォスフィン 0.7重量部Comparative Example 4 Orthocresol novolac type epoxy resin (E6) (epoxy equivalent: 208 g / eq, softening point: 67 ° C., melt viscosity at 150 ° C. by ICI cone plate type viscometer 3.0 poise: Dainippon Ink and Chemicals ( EPICLON N-665) 67 parts by weight Phenol novolac resin (H1) 33 parts by weight Triphenylphosphine 0.7 parts by weight

【0072】[0072]

【表1】 (第1表の1中、配合量は重量基準である)[Table 1] (In 1 of Table 1, the blending amount is based on weight)

【0073】[0073]

【表2】 (第1表の2中、配合量は重量基準である)[Table 2] (In 2 of Table 1, the blending amount is based on weight)

【0074】実施例7 DCP樹脂(P1)(水酸基当量169g/eq、軟化点9
0℃、ICIコーンプレート型粘度計による溶融粘度
1.7ポイズ(150℃))320gとビフェノール80
gをエピクロルヒドリン1070gに溶解し、70℃に
おいて20%NaOH水溶液510gを3時間要して攪
拌しながら滴下する。その後1時間攪拌を続けて、静置
し下層の食塩水を分液棄却する。過剰のエピクロルヒド
リンを蒸留回収し、粗樹脂にメチルイソブチルケトン8
00gと水200gを添加して、無機不純物を除去す
る。次いで加熱脱水した後、精密濾過を行い精製し、溶
剤を蒸留回収し、褐色のエポキシ樹脂混合物(E7)5
00gを得た。
Example 7 DCP resin (P1) (hydroxyl equivalent 169 g / eq, softening point 9
320 g of melt viscosity 1.7 poise (150 ° C.) by ICI cone plate type viscometer and biphenol 80 at 0 ° C.
g was dissolved in 1070 g of epichlorohydrin, and 510 g of 20% NaOH aqueous solution was added dropwise at 70 ° C. while stirring for 3 hours. Then, stirring is continued for 1 hour, and the mixture is allowed to stand still and the lower layer saline is discarded. Excess epichlorohydrin was recovered by distillation, and methyl isobutyl ketone 8 was added to the crude resin.
Inorganic impurities are removed by adding 00 g and 200 g of water. Then, after dehydration by heating, it is refined by microfiltration and the solvent is distilled and recovered to obtain a brown epoxy resin mixture (E7) 5
00g was obtained.

【0075】そのエポキシ樹脂混合物はエポキシ当量2
53g/eq、軟化点108℃、ICIコーンプレート型粘
度計による150℃の溶融粘度0.4ポイズであり、混
合物中DCP樹脂のポリグリシジルエーテルは68重量
%、ビフェノールのジグリシジルエーテルは17重量%
であった。
The epoxy resin mixture has an epoxy equivalent of 2
53 g / eq, softening point 108 ° C., melt viscosity at 150 ° C. by an ICI cone plate type viscometer of 0.4 poise, 68% by weight of polyglycidyl ether of DCP resin and 17% by weight of diglycidyl ether of biphenol in the mixture.
Met.

【0076】実施例8 ビフェノールを120g、エピクロルヒドリンを147
0g、20%NaOH水溶液を700gに代えた以外は
実施例7と同様にして褐色のエポキシ樹脂(E8)53
0gを得た。エポキシ当量231g/eq、軟化点120
℃、ICIコーンプレート型粘度計による150℃の溶
融粘度0.2ポイズであり、混合物中DCP樹脂のグリ
シジルエーテルは63重量%、ビフェノールのジグリシ
ジルエーテルは24重量%であった。
Example 8 120 g of biphenol and 147 of epichlorohydrin
Brown epoxy resin (E8) 53 in the same manner as in Example 7 except that 0 g and a 20% NaOH aqueous solution were replaced with 700 g.
0 g was obtained. Epoxy equivalent 231g / eq, softening point 120
C., the melt viscosity at 150.degree. C. measured by an ICI cone and plate viscometer was 0.2 poise, the glycidyl ether of DCP resin was 63% by weight, and the diglycidyl ether of biphenol was 24% by weight.

【0077】実施例9 DCP樹脂(P1)をDCP樹脂(P2)(水酸基当量
172g/eq、軟化点101℃、ICIコーンプレート型
粘度計による溶融粘度5.5ポイズ(150℃))320
gに、エピクロルヒドリンを1060g、20%NaO
H水溶液を500gに代えた以外は実施例7と同様にし
て褐色のエポキシ樹脂混合物(E9)501gを得た。
エポキシ当量266g/eq、軟化点118g/eq、ICIコ
ーンプレート型粘度計による150℃の溶融粘度1.7
ポイズであり、混合物中DCP樹脂のグリシジルエーテ
ルは65重量%、ビフェノールのジグリシジルエーテル
は16重量%であった。
Example 9 DCP resin (P1) was replaced with DCP resin (P2) (hydroxyl group equivalent 172 g / eq, softening point 101 ° C., melt viscosity 5.5 poise (150 ° C.) by ICI cone plate type viscometer) 320
g, epichlorohydrin 1060 g, 20% NaO
501 g of a brown epoxy resin mixture (E9) was obtained in the same manner as in Example 7 except that the H aqueous solution was changed to 500 g.
Epoxy equivalent of 266 g / eq, softening point of 118 g / eq, melt viscosity at 150 ° C. by ICI cone plate viscometer 1.7
Poise, the glycidyl ether of DCP resin was 65% by weight and the diglycidyl ether of biphenol was 16% by weight in the mixture.

【0078】実施例10 ビフェノールを4,4’−ヒドロキシ−3,3,5,
5’−テトラメチルビフェニルに、エピクロルヒドリン
を1180g、20%NaOH水溶液を560gに代え
た以外は実施例7と同様にして褐色のエポキシ樹脂混合
物(E10)520gを得た。エポキシ当量250g/e
q、軟化点86g/eq、ICIコーンプレート型粘度計に
よる150℃の溶融粘度0.4ポイズであり、混合物中
DCP樹脂のグリシジルエーテルは68重量%、4,
4’−ヒドロキシ−3,3,5,5’−テトラメチルビ
フェニルのジグリシジルエーテルは16重量%であっ
た。
Example 10 Biphenol was added to 4,4'-hydroxy-3,3,5,5.
520 g of a brown epoxy resin mixture (E10) was obtained in the same manner as in Example 7 except that 5180 g of epichlorohydrin and 560 g of 20% NaOH aqueous solution were used in place of 5′-tetramethylbiphenyl. Epoxy equivalent 250g / e
q, softening point 86 g / eq, melt viscosity at 150 ° C. by an ICI cone plate viscometer of 0.4 poise, glycidyl ether of DCP resin in the mixture is 68% by weight, 4,
The diglycidyl ether of 4'-hydroxy-3,3,5,5'-tetramethylbiphenyl was 16% by weight.

【0079】実施例11 DCP樹脂(P1)をリモネン−フェノール樹脂(P
3)(水酸基当量169g/eq、軟化点89℃、溶融粘度
1.4ポイズ(150℃))に代えた以外は実施例7と同
様にして褐色のエポキシ樹脂混合物(E11)489g
を得た。エポキシ当量249g/eq、軟化点99g/eq、I
CIコーンプレート型粘度計による150℃の溶融粘度
0.3ポイズであり、混合物中リモネン−フェノール樹
脂のグリシジルエーテルは69重量%、ビフェノールの
ジグリシジルエーテルは19%であった。
Example 11 DCP resin (P1) was replaced with limonene-phenol resin (P
4) Brown epoxy resin mixture (E11) 489 g in the same manner as in Example 7 except that 3) (hydroxyl equivalent 169 g / eq, softening point 89 ° C., melt viscosity 1.4 poise (150 ° C.)) was used.
Got Epoxy equivalent 249 g / eq, softening point 99 g / eq, I
The melt viscosity at 150 ° C. measured by a CI cone plate type viscometer was 0.3 poise, and the glycidyl ether of the limonene-phenol resin was 69% by weight and the diglycidyl ether of biphenol was 19% in the mixture.

【0080】実施例12 DCP樹脂(P1)を3a,4,7,7a−テトラヒド
ロインデン−フェノール樹脂(P4)(水酸基当量16
8g/eq、軟化点93℃、ICIコーンプレート型粘度計
による溶融粘度1.8ポイズ(150℃))に代えた以外
は実施例7と同様にして褐色のエポキシ樹脂混合物(E
12)492gを得た。エポキシ当量252g/eq、軟化
点100g/eq、ICIコーンプレート型粘度計による1
50℃の溶融粘度0.4ポイズであり、混合物中3a,
4,7,7a−テトラヒドロインデン−フェノール樹脂
のグリシジルエーテルは68重量%、ビフェノールのジ
グリシジルエーテルは15重量%であった。
Example 12 DCP resin (P1) was mixed with 3a, 4,7,7a-tetrahydroindene-phenol resin (P4) (hydroxyl equivalent 16
8 g / eq, softening point 93 ° C., melt viscosity 1.8 poise (150 ° C.) measured by an ICI cone plate type viscometer) except that a brown epoxy resin mixture (E) was used.
12) Obtained 492 g. Epoxy equivalent 252g / eq, softening point 100g / eq, 1 by ICI cone plate viscometer
The melt viscosity at 50 ° C. is 0.4 poise and 3a in the mixture,
The glycidyl ether of 4,7,7a-tetrahydroindene-phenol resin was 68% by weight, and the diglycidyl ether of biphenol was 15% by weight.

【0081】実施例13 DCP樹脂(P1)をジシクロペンタジエン−クレゾー
ル樹脂(P5)(水酸基当量174g/eq、軟化点99
℃、ICIコーンプレート型粘度計による溶融粘度2.
3ポイズ(150℃))に、エピクロルヒドリンを105
0g、20%NaOH水溶液を500gに代えた以外は
実施例7と同様にして褐色のエポキシ樹脂混合物(E1
3)502gを得た。エポキシ当量242g/eq、軟化点
108g/eq、ICIコーンプレート型粘度計による15
0℃の溶融粘度0.5ポイズでり、混合物中ジシクロペ
ンタジエン−クレゾール樹脂のグリシジルエーテルは6
6重量%、ビフェノールのジグリシジルエーテルは16
重量%であった。
Example 13 DCP resin (P1) was replaced with dicyclopentadiene-cresol resin (P5) (hydroxyl group equivalent: 174 g / eq, softening point: 99).
C., melt viscosity by ICI cone plate viscometer 2.
3 poises (150 ℃), add epichlorohydrin to 105
A brown epoxy resin mixture (E1) was prepared in the same manner as in Example 7 except that 0 g and a 20% NaOH aqueous solution were replaced with 500 g.
3) 502g was obtained. Epoxy equivalent 242 g / eq, softening point 108 g / eq, 15 by ICI cone plate type viscometer
The melt viscosity at 0 ° C. is 0.5 poise, and the glycidyl ether of the dicyclopentadiene-cresol resin in the mixture is 6
6% by weight, diglycidyl ether of biphenol is 16
% By weight.

【0082】比較例5 ビフェノールを用いず、エピクロルヒドリンを870
g、20%NaOH水溶液を410gに代えた以外は実
施例7と同様にして褐色のエポキシ樹脂混合物(E1
4)410gを得た。エポキシ当量262g/eq、軟化点
63g/eq、ICIコーンプレート型粘度計による150
℃の溶融粘度0.9ポイズであった。
Comparative Example 5 Epichlorohydrin was added to 870 without using biphenol.
g, a brown epoxy resin mixture (E1) in the same manner as in Example 7 except that 410 g of 20% NaOH aqueous solution was used.
4) 410 g was obtained. Epoxy equivalent 262 g / eq, softening point 63 g / eq, ICI cone plate viscometer 150
The melt viscosity at 0 ° C. was 0.9 poise.

【0083】比較例6 ビフェノールを用いず、エピクロルヒドリンを860
g、20%NaOH水溶液を410gに代えた以外は実
施例9と同様にして褐色のエポキシ樹脂混合物(E9)
401gを得た。エポキシ当量280g/eq、軟化点81
g/eq、ICIコーンプレート型粘度計による150℃の
溶融粘度3.8ポイズであった。
Comparative Example 6 860 was added to epichlorohydrin without using biphenol.
g, a brown epoxy resin mixture (E9) in the same manner as in Example 9 except that the 20% NaOH aqueous solution was changed to 410 g.
401 g was obtained. Epoxy equivalent 280g / eq, softening point 81
g / eq, melt viscosity at 150 ° C. measured by ICI cone and plate viscometer was 3.8 poise.

【0084】組成物の実施例14〜21、比較例7〜9
の試験結果を第2表の1および第2表の2に記す。試験
内容は、表の配合(重量基準)に従いエポキシ樹脂と硬
化剤、促進剤を溶融混合した後、175℃で5時間硬化
して注型板を作成し、耐熱性と吸水率を評価した。
Composition Examples 14-21, Comparative Examples 7-9
The test results of are shown in Table 1-1 and Table-2-2. Regarding the test content, an epoxy resin, a curing agent, and an accelerator were melt-mixed in accordance with the formulation (weight basis) in the table and then cured at 175 ° C. for 5 hours to prepare a cast plate, and heat resistance and water absorption were evaluated.

【0085】[0085]

【表3】 [Table 3]

【0086】[0086]

【表4】 (第2表の1および第2表の2中、配合量は重量基準で
あり、ECN** はクレソ゛ールノホ゛ラック型エホ゜キシ樹脂「EPICLON
N-665」(大日本インキ化学工業(株)製、エポキシ
当量211g/eq、軟化点68℃、ICIコーンプレート
型粘度計による150℃の溶融粘度3.2ポイズ)であ
り、フェノールノホ゛ラック樹脂 *は「フェノライトTD−213
1」(大日本インキ化学工業(株)製、水酸基当量10
4g/eq、軟化点80℃、溶融粘度1.5psである。)
[Table 4] (In Table 1 and 2 of Table 2, the blending amount is on a weight basis, and ECN ** is a cresol novolak type epoxy resin “EPICLON”.
N-665 "(manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., epoxy equivalent 211 g / eq, softening point 68 ° C., melt viscosity at 150 ° C. 3.2 poise by ICI cone plate type viscometer), phenol novolak resin * Is "Phenolite TD-213
1 "(Dainippon Ink and Chemicals, Inc., hydroxyl equivalent 10
4 g / eq, softening point 80 ° C., melt viscosity 1.5 ps. )

【0087】実施例21〜26、比較例10〜13の試
験結果を第3表に示す。次に第3表の配合(重量基準)
に従い、ミキサーで常温で混合し、70〜100℃で2
軸ロールにより混練し、冷却後粉砕し成形材料とした。
得られた成形材料をタブレット化し、低圧トランスファ
ー成形機にて175℃、70kg/cm2、120秒の条件で
ハンダクラック試験用の6mm×6mmのチップを16
pSOPパッケージに封止した。封止したテスト用素子
について下記の耐熱性評価、耐水性評価、流動性評価、
並びにハンダクラック試験及びハンダ耐湿試験を行っ
た。
Table 3 shows the test results of Examples 21 to 26 and Comparative Examples 10 to 13. Next, the composition of Table 3 (weight basis)
Mix at room temperature with a mixer according to
The mixture was kneaded with a shaft roll, cooled, and then ground to obtain a molding material.
The obtained molding material is made into a tablet, and a 6 mm × 6 mm chip for solder crack test is prepared with a low pressure transfer molding machine under the conditions of 175 ° C., 70 kg / cm 2, 120 seconds.
It was sealed in a pSOP package. The following heat resistance evaluation, water resistance evaluation, fluidity evaluation of the sealed test element,
In addition, a solder crack test and a solder moisture resistance test were performed.

【0088】ハンダクラック試験:封止したテスト用素
子を85℃・85%RHの環境下で72時間処置し、そ
の後240℃のハンダ槽に10秒間浸せきした後顕微鏡
で外部クラックを観察した。
Solder crack test: The sealed test element was treated in an environment of 85 ° C. and 85% RH for 72 hours, then immersed in a solder bath at 240 ° C. for 10 seconds, and then external cracks were observed with a microscope.

【0089】耐熱性試験、耐水性試験:上記組成物と同
じ 流動性試験:EMMI規格に準じた金型を使用して17
5℃、70kg/cm2の条件でスパイラルフローを測定し
た。
Heat resistance test, water resistance test: same as the above composition Flowability test: 17 using a mold according to EMMI standard
The spiral flow was measured under the conditions of 5 ° C. and 70 kg / cm 2 .

【0090】ボイド試験:封止したテスト用素子を超音
波試験機を用い、ボイド発生率を目視にて観察した。
Void test: The sealed test element was visually observed for the void occurrence rate using an ultrasonic testing machine.

【0091】[0091]

【表5】 [Table 5]

【0092】[0092]

【表6】 [Table 6]

【0093】実施例27〜34、比較例14〜16の試
験結果を表2に示す。次に第4表の配合(重量基準)に
従い、ミキサーで常温で混合し、70〜100℃で2軸
ロールにより混練し、冷却後粉砕し成形材料とした。得
られた成形材料をタブレット化し、低圧トランスファー
成形機にて175℃、70kg/cm2、120秒の条件でハ
ンダクラック試験用の6mm×6mmのチップを16p
SOPパッケージに封止した。封止したテスト用素子に
ついて下記の耐熱性評価、耐水性評価、流動性評価、並
びにハンダクラック試験及びハンダ耐湿試験を行った。
Table 2 shows the test results of Examples 27 to 34 and Comparative Examples 14 to 16. Next, in accordance with the composition (weight basis) in Table 4, they were mixed at room temperature with a mixer, kneaded at 70 to 100 ° C. with a biaxial roll, cooled and pulverized to obtain a molding material. The obtained molding material is made into a tablet, and a 6 mm × 6 mm chip for solder cracking test is put into 16p with a low-pressure transfer molding machine under the conditions of 175 ° C., 70 kg / cm 2, and 120 seconds.
It was sealed in an SOP package. The sealed test element was subjected to the following heat resistance evaluation, water resistance evaluation, fluidity evaluation, and solder crack test and solder moisture resistance test.

【0094】ハンダクラック試験:封止したテスト用素
子を85℃・85%RHの環境下で72時間処置し、そ
の後240℃のハンダ槽に10秒間浸せきした後顕微鏡
で外部クラックを観察した。
Solder crack test: The sealed test element was treated in an environment of 85 ° C. and 85% RH for 72 hours, then immersed in a solder bath at 240 ° C. for 10 seconds, and then external cracks were observed with a microscope.

【0095】[0095]

【表7】 [Table 7]

【0096】[0096]

【表8】 (第4表の1および第4表の2中、配合量は重量基準で
あり、ECN** はクレソ゛ールノホ゛ラック型エホ゜キシ樹脂「EPICLON
N-665」(大日本インキ化学工業(株)製、エポキシ
当量211g/eq、軟化点68℃、ICIコーンプレート
型粘度計による150℃の溶融粘度3.2ポイズ)であ
り、臭素化エホ゜キシ樹脂***は「EPICLON 153」(大日本イ
ンキ化学工業(株)製、エポキシ当量400g/eq、軟化
点68℃、150℃の溶融粘度1.0ポイズ、臭素含有
量48%であり、フェノールノホ゛ラック樹脂 *は「フェノライト
TD−2131」(大日本インキ化学工業(株)製、水
酸基当量104g/eq、軟化点80℃、溶融粘度1.5ps
である。)
[Table 8] (In Table 1 and 2 in Table 4, the blending amount is based on weight, and ECN ** is a cresol novolak type epoxy resin "EPICLON".
N-665 "(Dainippon Ink and Chemicals, Inc., epoxy equivalent 211g / eq, softening point 68 ° C, melt viscosity 3.2 poise at 150 ° C by ICI cone plate type viscometer), brominated epoxy resin *** means "EPICLON 153" (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., epoxy equivalent 400 g / eq, softening point 68 ° C, melt viscosity 1.0 poise at 150 ° C, bromine content 48%, phenol novolak Resin * is "Phenolite TD-2131" (Dainippon Ink and Chemicals, Inc., hydroxyl equivalent 104g / eq, softening point 80 ° C, melt viscosity 1.5ps
Is. )

【0097】[0097]

【発明の効果】本発明によれば、硬化物に優れた低溶融
粘度性を付与するエポキシ樹脂混合物を容易に得る製造
方法および前記特性を兼備したエポキシ樹脂組成物、更
に、無機充填剤の高充填が可能で低吸水率化と低線膨張
係数化とに顕著に優れ、かつ、流動性に優れて微細な半
導体チップへの成形が極めて容易なる半導体封止材料を
提供できる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, a method for easily obtaining an epoxy resin mixture imparting excellent low melt viscosity to a cured product, an epoxy resin composition having the above characteristics, and a high inorganic filler It is possible to provide a semiconductor encapsulating material that can be filled, is remarkably excellent in low water absorption and low linear expansion coefficient, has excellent fluidity, and is extremely easy to mold into a fine semiconductor chip.

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エポキシ樹脂と硬化物とを必須成分とす
るエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂として、 (A)環状脂肪族炭化水素基を結接基としてヒドロキシ
ル芳香族化合物と結合した化合物のポリグリシジルエー
テルと、 (B)ビフェノール類のジグリシジルエーテルとを併用
することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
1. An epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a cured product as essential components, wherein the epoxy resin comprises (A) a compound of a compound in which a cyclic aliphatic hydrocarbon group is bonded to a hydroxyl aromatic compound as a bonding group. An epoxy resin composition comprising a combination of glycidyl ether and (B) a diglycidyl ether of a biphenol.
【請求項2】 ポリグリシジルエーテル(A)と、ジグ
リシジルエーテル(B)との重量分率が、(A)/
(B)=95/5〜30/70である請求項1記載の組
成物。
2. The weight fraction of polyglycidyl ether (A) and diglycidyl ether (B) is (A) /
The composition according to claim 1, wherein (B) = 95/5 to 30/70.
【請求項3】 エポキシ樹脂が、環状脂肪族炭化水素基
を結接基としてヒドロキシル芳香族化合物と結合した化
合物(a)とビフェノール類(b)との混合物と、エピ
ハロヒドリンとの反応して得られるエポキシ樹脂混合物
である請求項1または2であるエポキシ樹脂組成物。
3. An epoxy resin is obtained by reacting a mixture of a compound (a) having a cycloaliphatic hydrocarbon group as a binding group with a hydroxyl aromatic compound and a biphenol (b) with epihalohydrin. The epoxy resin composition according to claim 1, which is an epoxy resin mixture.
【請求項4】 エポキシ樹脂の150℃における溶融粘
度が0.1〜2.0ポイズの範囲である請求項3記載の
エポキシ樹脂組成物。
4. The epoxy resin composition according to claim 3, wherein the epoxy resin has a melt viscosity at 150 ° C. in the range of 0.1 to 2.0 poise.
【請求項5】 エポキシ樹脂の軟化点が70℃以上であ
る請求項3または4に記載の組成物。
5. The composition according to claim 3, wherein the epoxy resin has a softening point of 70 ° C. or higher.
【請求項6】 エポキシ樹脂が、環状脂肪族炭化水素基
を結接基としてヒドロキシル芳香族化合物と結合した化
合物(a)と、ビフェノール類(b)とを、重量分率
が、(a)/(b)=95/5〜30/70となる割合
で用いてエピハロヒドリンと反応させたものである請求
項3、4または5に記載の組成物。
6. An epoxy resin comprising a compound (a) having a cycloaliphatic hydrocarbon group as a binding group bonded to a hydroxyl aromatic compound and a biphenol (b) in a weight fraction of (a) / The composition according to claim 3, 4 or 5, which is used in a ratio of (b) = 95/5 to 30/70 and reacted with epihalohydrin.
【請求項7】 環状脂肪族炭化水素基が、ジシクロペン
タジエン、リモネン、または3a,4,7,7a−テト
ラヒドロインデンの分子骨格中の不飽和結合に基づく2
価の炭化水素基である請求項1、2、3、4、5または
6に記載の組成物。
7. A cycloaliphatic hydrocarbon group based on an unsaturated bond in the molecular skeleton of dicyclopentadiene, limonene, or 3a, 4,7,7a-tetrahydroindene.
The composition according to claim 1, 2, 3, 4, 5, or 6, which is a valent hydrocarbon group.
【請求項8】 ヒドロキシ芳香族化合物が、フェノール
またはクレゾールである請求項7記載のエポキシ樹脂組
成物。
8. The epoxy resin composition according to claim 7, wherein the hydroxyaromatic compound is phenol or cresol.
【請求項9】 ビフェノール類が、ビフェノールまたは
4、4’−ヒドロキシ−3,3’,5,5’−テトラメ
チルビフェニルである請求項7または8に記載の組成
物。
9. The composition according to claim 7, wherein the biphenol is biphenol or 4,4′-hydroxy-3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenyl.
【請求項10】 環状脂肪族炭化水素基を結接基として
ヒドロキシル芳香族化合物と結合した化合物(a)と、
ビフェノール類(b)との混合物と、エピハロヒドリン
を反応させることを特徴とするエポキシ樹脂混合物の製
造方法。
10. A compound (a) in which a cyclic aromatic hydrocarbon group is bonded to a hydroxyl aromatic compound as a bonding group,
A process for producing an epoxy resin mixture, which comprises reacting a mixture with a biphenol (b) with epihalohydrin.
【請求項11】 環状脂肪族炭化水素基が、ジシクロペ
ンタジエン、リモネン、または3a,4,7,7a−テ
トラヒドロインデンの分子骨格中の不飽和結合に基づく
2価の炭化水素基である請求項10に記載の製造方法。
11. The cycloaliphatic hydrocarbon group is a divalent hydrocarbon group based on an unsaturated bond in the molecular skeleton of dicyclopentadiene, limonene, or 3a, 4,7,7a-tetrahydroindene. 10. The manufacturing method according to 10.
【請求項12】 ヒドロキシ芳香族化合物が、フェノー
ルまたはクレゾールである請求項11に記載の製造方
法。
12. The method according to claim 11, wherein the hydroxyaromatic compound is phenol or cresol.
【請求項13】 ビフェノール類がビフェノールまたは
4、4’−ヒドロキシ−3,3’,5,5’−テトラメ
チルビフェニルである請求項11または12に記載の製
造方法。
13. The method according to claim 11, wherein the biphenol is biphenol or 4,4′-hydroxy-3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenyl.
【請求項14】 環状脂肪族炭化水素基を結接基として
ヒドロキシル芳香族化合物と結合した化合物(a)と、
ビフェノール類(b)との混合物との重量分率が、
(a)/(b)=95/5〜30/70である請求項1
0、11、12、13または14に記載の製造方法。
14. A compound (a) in which a cyclic aromatic hydrocarbon group is bonded to a hydroxyl aromatic compound as a bonding group,
The weight fraction with the mixture with the biphenols (b) is
(A) / (b) = 95/5 to 30/70.
The manufacturing method according to 0, 11, 12, 13 or 14.
【請求項15】 環状脂肪族炭化水素基を結接基として
ヒドロキシル芳香族化合物と結合した化合物のポリグリ
シジルエーテル(A)と、ビフェノール類のジグリシジ
ルエーテル(B)と、硬化剤(C)と、無機充填剤
(D)とを必須成分とする半導体封止材料。
15. A polyglycidyl ether (A) of a compound in which a cyclic aromatic hydrocarbon group is bonded to a hydroxyl aromatic compound as a binding group, a diglycidyl ether of a biphenol (B), and a curing agent (C). A semiconductor encapsulating material containing, as an essential component, an inorganic filler (D).
【請求項16】 ポリグリシジルエーテル(A)と、ジ
グリシジルエーテル(B)との重量分率が(A)/
(B)=95/5〜30/70である請求項15記載の
半導体封止材料。
16. The weight fraction of polyglycidyl ether (A) and diglycidyl ether (B) is (A) /
The semiconductor encapsulating material according to claim 15, wherein (B) = 95/5 to 30/70.
【請求項17】 ポリグリシジルエーテル(A)及びジ
グリシジルエーテル(B)が、環状脂肪族炭化水素基を
結接基としてヒドロキシル芳香族化合物と結合した化合
物(a)と、ビフェノール類(b)との混合物に、エピ
ハロヒドリンを反応して得られる反応生成物である請求
項16記載の半導体封止材料。
17. A compound (a) in which a polyglycidyl ether (A) and a diglycidyl ether (B) are bonded to a hydroxyl aromatic compound with a cycloaliphatic hydrocarbon group as a binding group, and a biphenol (b). The semiconductor encapsulating material according to claim 16, which is a reaction product obtained by reacting epihalohydrin with the mixture of.
【請求項18】 反応生成物が、150℃における溶融
粘度が0.1〜2.0ポイズの範囲のものである請求項
17記載の半導体封止材料。
18. The semiconductor encapsulating material according to claim 17, wherein the reaction product has a melt viscosity at 150 ° C. in the range of 0.1 to 2.0 poise.
【請求項19】 反応生成物が、軟化点70℃以上のも
のである請求項17または18に記載の半導体封止材
料。
19. The semiconductor encapsulating material according to claim 17, wherein the reaction product has a softening point of 70 ° C. or higher.
【請求項20】 環状脂肪族炭化水素基が、ジシクロペ
ンタジエン、リモネン、または3a,4,7,7a−テ
トラヒドロインデンの分子骨格中の不飽和結合に基づく
2価の炭化水素基である請求項15、16、17、18
または19に記載の半導体封止材料。
20. The cycloaliphatic hydrocarbon group is a divalent hydrocarbon group based on an unsaturated bond in the molecular skeleton of dicyclopentadiene, limonene, or 3a, 4,7,7a-tetrahydroindene. 15, 16, 17, 18
Alternatively, the semiconductor encapsulating material according to Item 19.
【請求項21】 ヒドロキシ芳香族化合物が、フェノー
ルまたはクレゾールである請求項20に記載の半導体封
止材料。
21. The semiconductor encapsulating material according to claim 20, wherein the hydroxyaromatic compound is phenol or cresol.
【請求項22】 ビフェノール類が、ビフェノールまた
は4、4’−ヒドロキシ−3,3’,5,5’−テトラ
メチルビフェニルである請求項20または21記載の製
造方法。
22. The method according to claim 20, wherein the biphenol is biphenol or 4,4′-hydroxy-3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenyl.
【請求項23】 反応生成物が、環状脂肪族炭化水素基
を結接基としてヒドロキシル芳香族化合物と結合した化
合物(a)と、ビフェノール類(b)とを、重量分率
が、(a)/(b)=95/5〜30/70となる割合
で用いてエピハロヒドリンと反応させたものである請求
項17〜22の何れか1つに記載の半導体封止材料。
23. The reaction product comprises a compound (a) having a cycloaliphatic hydrocarbon group as a binding group bonded to a hydroxyl aromatic compound and a biphenol (b) in a weight fraction (a). The semiconductor encapsulating material according to any one of claims 17 to 22, which is used by reacting with epihalohydrin at a ratio of / (b) = 95/5 to 30/70.
JP03963494A 1994-03-10 1994-03-10 Epoxy resin composition, method for producing epoxy resin mixture, and semiconductor encapsulating material Expired - Lifetime JP3484681B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03963494A JP3484681B2 (en) 1994-03-10 1994-03-10 Epoxy resin composition, method for producing epoxy resin mixture, and semiconductor encapsulating material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03963494A JP3484681B2 (en) 1994-03-10 1994-03-10 Epoxy resin composition, method for producing epoxy resin mixture, and semiconductor encapsulating material

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003115499A Division JP3731585B2 (en) 2003-04-21 2003-04-21 Production method of epoxy resin

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07247409A true JPH07247409A (en) 1995-09-26
JP3484681B2 JP3484681B2 (en) 2004-01-06

Family

ID=12558532

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP03963494A Expired - Lifetime JP3484681B2 (en) 1994-03-10 1994-03-10 Epoxy resin composition, method for producing epoxy resin mixture, and semiconductor encapsulating material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3484681B2 (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0885752A (en) * 1994-07-19 1996-04-02 Sumitomo Chem Co Ltd Epoxy resin composition and semiconductor device sealed therewith
JP2011058003A (en) * 2010-11-24 2011-03-24 Mitsubishi Chemicals Corp Epoxy resin composition for sealing semiconductor, resin-sealed semiconductor device and method for mounting semiconductor device
JP2011219600A (en) * 2010-04-08 2011-11-04 Nippon Kayaku Co Ltd Modified epoxy resin and epoxy resin composition
WO2015060306A1 (en) * 2013-10-23 2015-04-30 日本化薬株式会社 Epoxy resin mixture, epoxy resin composition, prepreg, and cured article thereof
WO2016088815A1 (en) * 2014-12-04 2016-06-09 三菱化学株式会社 Tetramethylbiphenol epoxy resin, epoxy resin composition, cured product and semiconductor sealing material
WO2023243994A1 (en) * 2022-06-14 2023-12-21 신아티앤씨 Tetramethylbiphenol type epoxy resin and preparation method therefor

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0885752A (en) * 1994-07-19 1996-04-02 Sumitomo Chem Co Ltd Epoxy resin composition and semiconductor device sealed therewith
JP2011219600A (en) * 2010-04-08 2011-11-04 Nippon Kayaku Co Ltd Modified epoxy resin and epoxy resin composition
JP2011058003A (en) * 2010-11-24 2011-03-24 Mitsubishi Chemicals Corp Epoxy resin composition for sealing semiconductor, resin-sealed semiconductor device and method for mounting semiconductor device
WO2015060306A1 (en) * 2013-10-23 2015-04-30 日本化薬株式会社 Epoxy resin mixture, epoxy resin composition, prepreg, and cured article thereof
WO2016088815A1 (en) * 2014-12-04 2016-06-09 三菱化学株式会社 Tetramethylbiphenol epoxy resin, epoxy resin composition, cured product and semiconductor sealing material
KR20170091622A (en) * 2014-12-04 2017-08-09 미쯔비시 케미컬 주식회사 Tetramethylbiphenol epoxy resin, epoxy resin composition, cured product and semiconductor sealing material
US10381282B2 (en) 2014-12-04 2019-08-13 Mitsubishi Chemical Corportion Tetramethylbiphenol type epoxy resin, epoxy resin composition, cured product, and semiconductor sealing material
WO2023243994A1 (en) * 2022-06-14 2023-12-21 신아티앤씨 Tetramethylbiphenol type epoxy resin and preparation method therefor

Also Published As

Publication number Publication date
JP3484681B2 (en) 2004-01-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3734602B2 (en) Epoxy resin composition and epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JP3579959B2 (en) Semiconductor sealing material
JPWO2008050879A1 (en) Epoxy resin composition and cured product
JP3509236B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor encapsulating material
JP3484681B2 (en) Epoxy resin composition, method for producing epoxy resin mixture, and semiconductor encapsulating material
JPH0948839A (en) Epoxy resin composition and semiconductor sealer
JPH09165433A (en) Production of epoxy resin, epoxy resin composition and semiconductor sealing material
JPH07206995A (en) Epoxy resin composition and sealing material for semiconductor
JP3731585B2 (en) Production method of epoxy resin
JP3915938B2 (en) Epoxy resin composition, method for producing epoxy resin, and semiconductor sealing material
JP4608709B2 (en) Epoxy resin composition
JP4435342B2 (en) Epoxy resin composition and epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JP3508289B2 (en) Epoxy resin composition and resin encapsulated semiconductor device
JP3770343B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor sealing material
JPH08100049A (en) Epoxy resin composition for semiconductor-sealing material
JP4142155B2 (en) Epoxy resin and method for producing the same
JP3517961B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor encapsulating material
JP3118763B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor encapsulating material
JP4093199B2 (en) Semiconductor sealing material
JP4334446B2 (en) Semiconductor sealing material
JP4765135B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP3986025B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor sealing material
JP2927222B2 (en) Resin-sealed semiconductor device
JP2001151856A (en) Epoxy resin composition for sealing electronic part
JP2010053293A (en) Epoxy resin composition

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081024

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081024

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091024

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091024

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 7

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101024

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 9

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 9

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 9

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 9

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 10

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131024

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term