JPH07245297A - ウエハ冷却装置 - Google Patents
ウエハ冷却装置Info
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- JPH07245297A JPH07245297A JP6467594A JP6467594A JPH07245297A JP H07245297 A JPH07245297 A JP H07245297A JP 6467594 A JP6467594 A JP 6467594A JP 6467594 A JP6467594 A JP 6467594A JP H07245297 A JPH07245297 A JP H07245297A
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- Japan
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- cooling liquid
- wafer
- cooling
- pipe
- liquid pipe
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 加熱されたウエハを効率良く冷却することが
できるウエハ冷却装置を提供する。 【構成】 支持台の裏面側に渦巻状、リング状、波状ま
たは放射状に冷却液管を配設し、中心側から周縁部に向
けて冷却液を流すようにすることで、ウエハの温度分布
が可及的に均一になるように、かつ効率的にウエハの裏
面全体を冷却することができる。
できるウエハ冷却装置を提供する。 【構成】 支持台の裏面側に渦巻状、リング状、波状ま
たは放射状に冷却液管を配設し、中心側から周縁部に向
けて冷却液を流すようにすることで、ウエハの温度分布
が可及的に均一になるように、かつ効率的にウエハの裏
面全体を冷却することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ドライエッチング装置
や成膜装置などの処理装置に於て支持台に支持されたウ
エハを冷却するためのウエハ冷却装置に関するものであ
る。
や成膜装置などの処理装置に於て支持台に支持されたウ
エハを冷却するためのウエハ冷却装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】異方性エッチングを行うための従来のド
ライエッチング装置及びそのウエハ冷却装置を図１２に
示す。図１２はウエハ冷却装置を兼ねるドライエッチン
グ装置の断面図である。このドライエッチング装置の反
応室３１内には支持台を兼ねる下部電極２１が設けられ
ている。また、反応室３１内には上部電極が設けられる
と共にガスの供給管、排出管などが接続されている（図
示せず）。尚、下部電極２１には高周波を発生させる高
周波装置が接続されている。
ライエッチング装置及びそのウエハ冷却装置を図１２に
示す。図１２はウエハ冷却装置を兼ねるドライエッチン
グ装置の断面図である。このドライエッチング装置の反
応室３１内には支持台を兼ねる下部電極２１が設けられ
ている。また、反応室３１内には上部電極が設けられる
と共にガスの供給管、排出管などが接続されている（図
示せず）。尚、下部電極２１には高周波を発生させる高
周波装置が接続されている。
【０００３】一方、ウエハ冷却装置は、下部電極２１の
内部に環状に設けられた冷却液通路２３と、この冷却液
通路２３に一端が開口し、他端が下方に延出する冷却液
供給ポート２４と、冷却液供給ポート２４と相反する側
にて同じく冷却液通路２３に一端が開口し、他端が下方
に延出する冷却液排出ポート２５とを有している。尚、
冷却液供給ポート２４及び冷却液排出ポート２５は管２
６、２７を介して冷却液供給装置２８に接続され、ここ
で冷却液を冷却して循環させるようになっている。
内部に環状に設けられた冷却液通路２３と、この冷却液
通路２３に一端が開口し、他端が下方に延出する冷却液
供給ポート２４と、冷却液供給ポート２４と相反する側
にて同じく冷却液通路２３に一端が開口し、他端が下方
に延出する冷却液排出ポート２５とを有している。尚、
冷却液供給ポート２４及び冷却液排出ポート２５は管２
６、２７を介して冷却液供給装置２８に接続され、ここ
で冷却液を冷却して循環させるようになっている。
【０００４】このドライエッチング装置にてエッチング
を行う際には、冷却された冷却液を、冷却液供給装置２
８から冷却液供給ポート２４を介して冷却液通路２３に
供給し、加熱したウエハＷを冷却した後、冷却液排出ポ
ート２５から冷却ガス供給装置２８に戻すこととなる。
を行う際には、冷却された冷却液を、冷却液供給装置２
８から冷却液供給ポート２４を介して冷却液通路２３に
供給し、加熱したウエハＷを冷却した後、冷却液排出ポ
ート２５から冷却ガス供給装置２８に戻すこととなる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来は
冷却液通路２３が下部電極２１の周縁部に形成されてい
ることから、ウエハＷの周縁部は良好に冷却されるもの
の、最も昇温する中心部は良好に冷却され難いという問
題があった。
冷却液通路２３が下部電極２１の周縁部に形成されてい
ることから、ウエハＷの周縁部は良好に冷却されるもの
の、最も昇温する中心部は良好に冷却され難いという問
題があった。
【０００６】そこで、冷却液通路を下部電極２１の周縁
部のみならず中心部にも設けることが考えられるが、通
路形状が複雑になることから加工上の問題があり、更に
冷却液が円滑に流れる構造にすることが厄介であると云
う問題もあった。
部のみならず中心部にも設けることが考えられるが、通
路形状が複雑になることから加工上の問題があり、更に
冷却液が円滑に流れる構造にすることが厄介であると云
う問題もあった。
【０００７】また、下部電極２１に接続されたＲＦ（Ra
dio Frequency）装置によって下部電極２１に高周波を
与えるとウエハの温度が上昇するという問題があった。
dio Frequency）装置によって下部電極２１に高周波を
与えるとウエハの温度が上昇するという問題があった。
【０００８】本発明は上記した従来技術の問題点に鑑み
なされたものであり、その主な目的は、加熱されたウエ
ハを効率良く冷却することができるウエハ冷却装置を提
供することにある。
なされたものであり、その主な目的は、加熱されたウエ
ハを効率良く冷却することができるウエハ冷却装置を提
供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、ウエハの表面を処理するべく反応室内にて
前記ウエハ裏面側を略全面に亘り支持するための支持台
を有する処理装置に用いられるウエハ冷却装置であっ
て、前記ウエハの裏面全面を冷却するべく前記支持台の
の裏面側に配設された冷却液管を有し、前記冷却液管一
端を上流側とし、かつ前記冷却液管他端を下流側として
前記冷却液管に冷却液を流すようにしたことを特徴とす
るウエハ冷却装置または、ウエハを固定する支持台の裏
面に接して設けられ、冷却液が流れる冷却液循環部を内
部に形成する筐体部と、前記筐体部の中心部に設けられ
た第１の連結管と周辺部の少なくとも２箇所に設けられ
た第２の連結管とを備え、前記各連結管のいずれか一方
から冷却液を前記冷却液循環部に注入し前記各連結管の
いずれか他方から排出するようにしたことを特徴とする
ウエハ冷却装置を提供する。
するために、ウエハの表面を処理するべく反応室内にて
前記ウエハ裏面側を略全面に亘り支持するための支持台
を有する処理装置に用いられるウエハ冷却装置であっ
て、前記ウエハの裏面全面を冷却するべく前記支持台の
の裏面側に配設された冷却液管を有し、前記冷却液管一
端を上流側とし、かつ前記冷却液管他端を下流側として
前記冷却液管に冷却液を流すようにしたことを特徴とす
るウエハ冷却装置または、ウエハを固定する支持台の裏
面に接して設けられ、冷却液が流れる冷却液循環部を内
部に形成する筐体部と、前記筐体部の中心部に設けられ
た第１の連結管と周辺部の少なくとも２箇所に設けられ
た第２の連結管とを備え、前記各連結管のいずれか一方
から冷却液を前記冷却液循環部に注入し前記各連結管の
いずれか他方から排出するようにしたことを特徴とする
ウエハ冷却装置を提供する。
【００１０】
【作用】本発明によれば、支持台の裏面側中心から周縁
に冷却液通路を配設し、冷却液を流すようにすること
で、最も冷却したい中心部に好適に冷却液が供給され
る。また、中心部から周縁部に向けて冷却液を流すよう
にすることで、中心部に最も低い温度の、即ち冷却能の
高い冷却液が供給され、そこから徐々に外側が冷却され
る。
に冷却液通路を配設し、冷却液を流すようにすること
で、最も冷却したい中心部に好適に冷却液が供給され
る。また、中心部から周縁部に向けて冷却液を流すよう
にすることで、中心部に最も低い温度の、即ち冷却能の
高い冷却液が供給され、そこから徐々に外側が冷却され
る。
【００１１】
【実施例】以下に、本発明のウエハ冷却装置をドライエ
ッチング装置に適用した実施例を図１〜図１１に基づき
説明する。
ッチング装置に適用した実施例を図１〜図１１に基づき
説明する。
【００１２】図１は、ドライエッチング装置及びウエハ
冷却装置の概略構成を示す断面図である。図１に示すよ
うに、プラズマを用いたドライエッチング装置の反応室
１１内には支持台を兼ねる下部電極１が設けられてい
る。また、反応室１１内には上部電極が設けられると共
に各種ガスの給排気管などが接続されている（図示せ
ず）。更に、下部電極１には高周波を発生させる高周波
装置が接続されている。
冷却装置の概略構成を示す断面図である。図１に示すよ
うに、プラズマを用いたドライエッチング装置の反応室
１１内には支持台を兼ねる下部電極１が設けられてい
る。また、反応室１１内には上部電極が設けられると共
に各種ガスの給排気管などが接続されている（図示せ
ず）。更に、下部電極１には高周波を発生させる高周波
装置が接続されている。
【００１３】熱伝導率の高いアルミニウムなどからなる
下部電極１は、例えばアルマイト加工されたウエハ載置
面２と、その裏面側に設けられた凹部３とを有し、この
凹部３には、中心から周縁側に向けて渦巻状にアルミニ
ウム管などからなる冷却液管４が配管されている（図
２）。この冷却液管４の中心部には冷却液の供給側接続
管５が接続され、周縁部には冷却液の戻し側接続管６が
接続されている。また、これら接続管５、６は冷却器を
内蔵する冷却液供給装置７に接続され、冷却液が冷却液
供給装置７にて冷却されて接続管５から冷却液管４に至
り、接続管６を介して冷却液供給装置７に戻されるよう
になっている。
下部電極１は、例えばアルマイト加工されたウエハ載置
面２と、その裏面側に設けられた凹部３とを有し、この
凹部３には、中心から周縁側に向けて渦巻状にアルミニ
ウム管などからなる冷却液管４が配管されている（図
２）。この冷却液管４の中心部には冷却液の供給側接続
管５が接続され、周縁部には冷却液の戻し側接続管６が
接続されている。また、これら接続管５、６は冷却器を
内蔵する冷却液供給装置７に接続され、冷却液が冷却液
供給装置７にて冷却されて接続管５から冷却液管４に至
り、接続管６を介して冷却液供給装置７に戻されるよう
になっている。
【００１４】尚、実際には冷却液供給装置７にて冷却さ
れた冷却液が接続管６から冷却液管４に至り、接続管５
を介して冷却液供給装置７に戻されるようになっていて
も良い。
れた冷却液が接続管６から冷却液管４に至り、接続管５
を介して冷却液供給装置７に戻されるようになっていて
も良い。
【００１５】このようなドライエッチング装置によれ
ば、まず、冷却液管４に接続管５を介して冷却液供給装
置７から−２０〜＋１０℃に冷却された冷却液が供給さ
れる。冷却液管４に供給された冷却液は、ウエハＷを冷
却しつつ中心部から周縁部に渦巻状に流れ、接続管６を
介して冷却液供給装置７に戻される。また、上記したよ
うな接続管６から冷却液管４に冷却液が供給され、ウエ
ハＷを冷却しつつ周縁部から中心部に渦巻状に流れ、接
続管５を介して冷却液供給装置７に戻されるようになっ
ていても良い。
ば、まず、冷却液管４に接続管５を介して冷却液供給装
置７から−２０〜＋１０℃に冷却された冷却液が供給さ
れる。冷却液管４に供給された冷却液は、ウエハＷを冷
却しつつ中心部から周縁部に渦巻状に流れ、接続管６を
介して冷却液供給装置７に戻される。また、上記したよ
うな接続管６から冷却液管４に冷却液が供給され、ウエ
ハＷを冷却しつつ周縁部から中心部に渦巻状に流れ、接
続管５を介して冷却液供給装置７に戻されるようになっ
ていても良い。
【００１６】このとき、図３に示すように、従来の冷却
装置による場合、ウエハＷの温度は全体的に高く、エッ
チング速度などに影響を与えることが考えられるが（破
線）、本実施例による冷却装置を用いることにより、ウ
エハＷの全体の温度を下げることができるばかりでな
く、特にウエハＷの中心部の温度を効果的に下げること
ができ、温度分布が一様になることから、エッチング時
の中心部と周縁部との温度条件が略均一となり、加工精
度を高めることができ、ウエハＷの品質を向上させるこ
とができる。尚、上記実施例で使用する冷却液には、
水、不凍液またはフッ素系不活性液体を使用しても良
い。
装置による場合、ウエハＷの温度は全体的に高く、エッ
チング速度などに影響を与えることが考えられるが（破
線）、本実施例による冷却装置を用いることにより、ウ
エハＷの全体の温度を下げることができるばかりでな
く、特にウエハＷの中心部の温度を効果的に下げること
ができ、温度分布が一様になることから、エッチング時
の中心部と周縁部との温度条件が略均一となり、加工精
度を高めることができ、ウエハＷの品質を向上させるこ
とができる。尚、上記実施例で使用する冷却液には、
水、不凍液またはフッ素系不活性液体を使用しても良
い。
【００１７】図４及び図５に示すように、上記した冷却
液管４をリング状に形成していても良い。熱伝導率の高
いアルミニウムなどからなる下部電極１は、例えばアル
マイト加工されたウエハ載置面２と、その裏面側に設け
られた凹部３とを有し、この凹部３には、中心から周縁
側に向けてリング状にアルミニウム管などからなる冷却
液管４が配管されている（図５）。冷却液管４は同心円
上に設けられたリング状部４ａ〜４ｄを備え、各リング
状部４ａ〜４ｄは接続部４ｅ〜４ｇで接続されている。
この冷却液管４の中心部には冷却液の供給側接続管５が
接続部４ｈにより接続され、周縁部のリング状部４ａに
は冷却液の戻し側接続管６が接続されている。また、こ
れら接続管５、６は冷却器を内蔵する冷却液供給装置７
に接続され、冷却液が冷却液供給装置７にて冷却されて
接続管５から冷却液管４に至り、接続管６を介して冷却
液供給装置７に戻されるようになっている（図４）。
液管４をリング状に形成していても良い。熱伝導率の高
いアルミニウムなどからなる下部電極１は、例えばアル
マイト加工されたウエハ載置面２と、その裏面側に設け
られた凹部３とを有し、この凹部３には、中心から周縁
側に向けてリング状にアルミニウム管などからなる冷却
液管４が配管されている（図５）。冷却液管４は同心円
上に設けられたリング状部４ａ〜４ｄを備え、各リング
状部４ａ〜４ｄは接続部４ｅ〜４ｇで接続されている。
この冷却液管４の中心部には冷却液の供給側接続管５が
接続部４ｈにより接続され、周縁部のリング状部４ａに
は冷却液の戻し側接続管６が接続されている。また、こ
れら接続管５、６は冷却器を内蔵する冷却液供給装置７
に接続され、冷却液が冷却液供給装置７にて冷却されて
接続管５から冷却液管４に至り、接続管６を介して冷却
液供給装置７に戻されるようになっている（図４）。
【００１８】このようなドライエッチング装置によれ
ば、まず、冷却液管４に接続管５を介して冷却液供給装
置７から−２０〜＋１０℃に冷却された冷却液が供給さ
れる。冷却液管４に供給された冷却液は、ウエハＷを冷
却しつつ中心部から周縁部にリング状に流れ、接続管６
を介して冷却液供給装置７に戻される。尚、冷却液管４
に接続管６から冷却液が供給され、ウエハＷを冷却しつ
つ周縁部から中心部にリング状に流れ、接続管５を介し
て冷却液供給装置７に戻されるようになっていても良
い。
ば、まず、冷却液管４に接続管５を介して冷却液供給装
置７から−２０〜＋１０℃に冷却された冷却液が供給さ
れる。冷却液管４に供給された冷却液は、ウエハＷを冷
却しつつ中心部から周縁部にリング状に流れ、接続管６
を介して冷却液供給装置７に戻される。尚、冷却液管４
に接続管６から冷却液が供給され、ウエハＷを冷却しつ
つ周縁部から中心部にリング状に流れ、接続管５を介し
て冷却液供給装置７に戻されるようになっていても良
い。
【００１９】図６及び図７に示すように、上記したよう
な冷却液管４に代えて、内部に円形の冷却液通路１０が
画定されたケーシング９を用いても良い。熱伝導率の高
いアルミニウムなどからなる下部電極１は、例えばアル
マイト加工されたウエハ載置面２と、その裏面側に設け
られた凹部３とを有し、この凹部３には、内部に円形の
冷却液通路１０が画定されたアルミニウムなどからなる
ケーシング９が配設されている（図７）。このケーシン
グ９の中心部には冷却液の供給側接続管５が接続され、
周縁部には複数の冷却液の戻し側接続管６が等間隔に接
続されている。また、これら接続管５、６は冷却器を内
蔵する冷却液供給装置７に接続され、冷却液が冷却液供
給装置７にて冷却されて接続管５からケーシング９内の
冷却液通路１０に至り、接続管６を介して冷却液供給装
置７に戻されるようになっている（図６）。
な冷却液管４に代えて、内部に円形の冷却液通路１０が
画定されたケーシング９を用いても良い。熱伝導率の高
いアルミニウムなどからなる下部電極１は、例えばアル
マイト加工されたウエハ載置面２と、その裏面側に設け
られた凹部３とを有し、この凹部３には、内部に円形の
冷却液通路１０が画定されたアルミニウムなどからなる
ケーシング９が配設されている（図７）。このケーシン
グ９の中心部には冷却液の供給側接続管５が接続され、
周縁部には複数の冷却液の戻し側接続管６が等間隔に接
続されている。また、これら接続管５、６は冷却器を内
蔵する冷却液供給装置７に接続され、冷却液が冷却液供
給装置７にて冷却されて接続管５からケーシング９内の
冷却液通路１０に至り、接続管６を介して冷却液供給装
置７に戻されるようになっている（図６）。
【００２０】このようなドライエッチング装置によれ
ば、まず、ケーシング９内の冷却液通路１０に接続管５
を介して冷却液供給装置７から−２０〜＋１０℃に冷却
された冷却液が供給される。冷却液通路１０に供給され
た冷却液は、ウエハＷを冷却しつつ中心部から周縁部に
流れ、接続管６を介して冷却液供給装置７に戻される。
尚、冷却液通路１０に接続管６から冷却液が供給され、
ウエハＷを冷却しつつ周縁部から中心部に流れ、接続管
５を介して冷却液供給装置７に戻されるようになってい
ても良い。
ば、まず、ケーシング９内の冷却液通路１０に接続管５
を介して冷却液供給装置７から−２０〜＋１０℃に冷却
された冷却液が供給される。冷却液通路１０に供給され
た冷却液は、ウエハＷを冷却しつつ中心部から周縁部に
流れ、接続管６を介して冷却液供給装置７に戻される。
尚、冷却液通路１０に接続管６から冷却液が供給され、
ウエハＷを冷却しつつ周縁部から中心部に流れ、接続管
５を介して冷却液供給装置７に戻されるようになってい
ても良い。
【００２１】図８及び図９に示すように、図６に示した
冷却液通路１０を半径方向に沿って分割し、中心から周
縁側に向けて冷却液が流れるようにしても良い。熱伝導
率の高いアルミニウムなどからなる下部電極１は、例え
ばアルマイト加工されたウエハ載置面２と、その裏面側
に設けられた凹部３とを有し、この凹部３には、内部に
円形の冷却液通路１０が画定されたアルミニウムなどか
らなるケーシング９が配設されている（図９）。このケ
ーシング９の中心部には冷却液の供給側接続管５が接続
され、周縁部には複数の冷却液の戻し側接続管６が等間
隔に接続されている。また、円形の冷却液通路１０は中
心から周縁部に向けて放射線状に設けられたパーティシ
ョンＡにより扇状に区切られている。上記接続管５、６
は冷却器を内蔵する冷却液供給装置７に接続され、冷却
液が冷却液供給装置７にて冷却されて接続管５からケー
シング９内の冷却液通路１０に至り、接続管６を介して
冷却液供給装置７に戻されるようになっている（図
８）。
冷却液通路１０を半径方向に沿って分割し、中心から周
縁側に向けて冷却液が流れるようにしても良い。熱伝導
率の高いアルミニウムなどからなる下部電極１は、例え
ばアルマイト加工されたウエハ載置面２と、その裏面側
に設けられた凹部３とを有し、この凹部３には、内部に
円形の冷却液通路１０が画定されたアルミニウムなどか
らなるケーシング９が配設されている（図９）。このケ
ーシング９の中心部には冷却液の供給側接続管５が接続
され、周縁部には複数の冷却液の戻し側接続管６が等間
隔に接続されている。また、円形の冷却液通路１０は中
心から周縁部に向けて放射線状に設けられたパーティシ
ョンＡにより扇状に区切られている。上記接続管５、６
は冷却器を内蔵する冷却液供給装置７に接続され、冷却
液が冷却液供給装置７にて冷却されて接続管５からケー
シング９内の冷却液通路１０に至り、接続管６を介して
冷却液供給装置７に戻されるようになっている（図
８）。
【００２２】このようなドライエッチング装置によれ
ば、まず、冷却液通路１０に接続管５を介して冷却液供
給装置７から−２０〜＋１０℃に冷却された冷却液が供
給される。冷却液通路１０に供給された冷却液は、ウエ
ハＷを冷却しつつ中心部から周縁部に流れ、接続管６を
介して冷却液供給装置７に戻される。尚、冷却液通路１
０に接続管６から冷却液が供給され、ウエハＷを冷却し
つつ周縁部から中心部に流れ、接続管５を介して冷却液
供給装置７に戻されるようになっていても良い。
ば、まず、冷却液通路１０に接続管５を介して冷却液供
給装置７から−２０〜＋１０℃に冷却された冷却液が供
給される。冷却液通路１０に供給された冷却液は、ウエ
ハＷを冷却しつつ中心部から周縁部に流れ、接続管６を
介して冷却液供給装置７に戻される。尚、冷却液通路１
０に接続管６から冷却液が供給され、ウエハＷを冷却し
つつ周縁部から中心部に流れ、接続管５を介して冷却液
供給装置７に戻されるようになっていても良い。
【００２３】また、図１０及び図１１に示すように、冷
却液管４が下部電極１の中心部から周縁部に向けて放射
状に蛇行するように形成されていても良い。熱伝導率の
高いアルミニウムなどからなる下部電極１は、例えばア
ルマイト加工されたウエハ載置面２と、その裏面側に設
けられた凹部３とを有し、この凹部３には、中心から周
縁側に向けてアルミニウム管などからなる複数の冷却液
管４が蛇行するように配管されている（図１１）。この
冷却液管４の中心部には冷却液の供給側接続管５が接続
され、周縁部には冷却液の戻し側接続管６が複数接続さ
れている。また、これら接続管５、６は冷却器を内蔵す
る冷却液供給装置７に接続され、冷却液が冷却液供給装
置７にて冷却されて接続管５から冷却液管４に至り、接
続管６を介して冷却液供給装置７に戻されるようになっ
ている（図１０）。
却液管４が下部電極１の中心部から周縁部に向けて放射
状に蛇行するように形成されていても良い。熱伝導率の
高いアルミニウムなどからなる下部電極１は、例えばア
ルマイト加工されたウエハ載置面２と、その裏面側に設
けられた凹部３とを有し、この凹部３には、中心から周
縁側に向けてアルミニウム管などからなる複数の冷却液
管４が蛇行するように配管されている（図１１）。この
冷却液管４の中心部には冷却液の供給側接続管５が接続
され、周縁部には冷却液の戻し側接続管６が複数接続さ
れている。また、これら接続管５、６は冷却器を内蔵す
る冷却液供給装置７に接続され、冷却液が冷却液供給装
置７にて冷却されて接続管５から冷却液管４に至り、接
続管６を介して冷却液供給装置７に戻されるようになっ
ている（図１０）。
【００２４】このようなドライエッチング装置によれ
ば、まず、冷却液管４に接続管５を介して冷却液供給装
置７から−２０〜＋１０℃に冷却された冷却液が供給さ
れる。冷却液管４に供給された冷却液は、ウエハＷを冷
却しつつ中心部から周縁部に蛇行するように流れ、接続
管６を介して冷却液供給装置７に戻される。尚、冷却液
管４に接続管６から冷却液が供給され、ウエハＷを冷却
しつつ周縁部から中心部にリング状に流れ、接続管５を
介して冷却液供給装置７に戻されるようになっていても
良い。
ば、まず、冷却液管４に接続管５を介して冷却液供給装
置７から−２０〜＋１０℃に冷却された冷却液が供給さ
れる。冷却液管４に供給された冷却液は、ウエハＷを冷
却しつつ中心部から周縁部に蛇行するように流れ、接続
管６を介して冷却液供給装置７に戻される。尚、冷却液
管４に接続管６から冷却液が供給され、ウエハＷを冷却
しつつ周縁部から中心部にリング状に流れ、接続管５を
介して冷却液供給装置７に戻されるようになっていても
良い。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、支
持台の裏面側中心から周縁に冷却液通路を配設し、冷却
液を流すようにすることで、最も冷却したい中心部に好
適に冷却液が供給される。また、中心部から周縁部に向
けて冷却液を流すようにすることで、中心部に最も低い
温度の、即ち冷却能の高い冷却液が供給され、そこから
徐々に外側が冷却される。従って、ウエハの温度分布が
可及的に均一になるように、かつ効率的にウエハの裏面
全体を冷却することができる。
持台の裏面側中心から周縁に冷却液通路を配設し、冷却
液を流すようにすることで、最も冷却したい中心部に好
適に冷却液が供給される。また、中心部から周縁部に向
けて冷却液を流すようにすることで、中心部に最も低い
温度の、即ち冷却能の高い冷却液が供給され、そこから
徐々に外側が冷却される。従って、ウエハの温度分布が
可及的に均一になるように、かつ効率的にウエハの裏面
全体を冷却することができる。
【００２６】また、本発明をドライエッチング装置に適
用すれば、下部電極上に配置されたウエハを、下部電極
に接続された高周波装置による高周波に起因する温度上
昇から回避させることができ、より良いドライエッチン
グを行うことかできる。
用すれば、下部電極上に配置されたウエハを、下部電極
に接続された高周波装置による高周波に起因する温度上
昇から回避させることができ、より良いドライエッチン
グを行うことかできる。
【図１】本発明が適用されたドライエッチング装置及び
ウエハ冷却装置の概略構成を示す断面図である。
ウエハ冷却装置の概略構成を示す断面図である。
【図２】図１のII-II線について見た矢視図である。
【図３】本発明による冷却装置と従来の冷却装置とに於
ける冷却時の温度及びその分布を比較するグラフであ
る。
ける冷却時の温度及びその分布を比較するグラフであ
る。
【図４】本発明が適用されたドライエッチング装置及び
ウエハ冷却装置の概略構成を示す断面図である。
ウエハ冷却装置の概略構成を示す断面図である。
【図５】図４のV-V線について見た矢視図である。
【図６】本発明が適用されたドライエッチング装置及び
ウエハ冷却装置の概略構成を示す断面図である。
ウエハ冷却装置の概略構成を示す断面図である。
【図７】図４のVII-VII線について見た矢視図である。
【図８】本発明が適用されたドライエッチング装置及び
ウエハ冷却装置の概略構成を示す断面図である。
ウエハ冷却装置の概略構成を示す断面図である。
【図９】図４のIX-IX線について見た矢視図である。
【図１０】本発明が適用されたドライエッチング装置及
びウエハ冷却装置の概略構成を示す断面図である。
びウエハ冷却装置の概略構成を示す断面図である。
【図１１】図４のXI-XI線について見た矢視図である。
【図１２】従来のドライエッチング装置及びウエハ冷却
装置の概略構成を示す断面図である。
装置の概略構成を示す断面図である。
１ 下部電極 ２ ウエハ載置面 ３ 凹部 ４ 冷却液管 ５ 冷却液供給側接続管 ６ 冷却液戻し側接続管 ７ 冷却液供給装置 ９ ケーシング １０ 冷却液通路 １１ 反応室 ２１ 下部電極 ２３ 冷却液通路 ２４ 冷却液供給ポート ２５ 冷却液排出ポート ２６、２７ 管 ２８ 冷却液供給装置 ３１ 反応室
Claims (5)
- 【請求項１】 ウエハの表面を処理するべく反応室内
にて前記ウエハ裏面側を略全面に亘り支持するための支
持台を有する処理装置に用いられるウエハ冷却装置であ
って、 前記支持台裏面側の中心から周縁側に向けて配設された
冷却液管を有し、 前記冷却液管の一端を上流側とし、かつ冷却液管の他端
を下流側として前記冷却液管に冷却液を流すようにした
ことを特徴とするウエハ冷却装置。 - 【請求項２】 請求項１に於て、前記冷却液管の上流
側端部が前記支持台の中心側に配設されかつ前記冷却液
管の下流側端部が前記支持台の周縁側に配設されること
を特徴とするウエハ冷却装置。 - 【請求項３】 請求項１若しくは請求項２に於て、前
記支持台の中心側から周縁側に向けて渦巻き状、放射線
状または蛇行する少なくとも１つ以上の前記冷却液管が
配設されることを特徴とするウエハ冷却装置。 - 【請求項４】 請求項１若しくは請求項２に於て、前
記冷却液管が同心円上に設けられた複数のリング状部分
と前記リング状部分を結ぶ連結部とを備えることを特徴
とするウエハ冷却装置。 - 【請求項５】 ウエハを固定する支持台の裏面に接し
て設けられ、冷却液が流れる冷却液循環部を内部に形成
する筐体部と、前記筐体部の中心部に設けられた第１の
連結管と周辺部の少なくとも２箇所に設けられた第２の
連結管とを備え、 前記各連結管のいずれか一方から冷却液を前記冷却液循
環部に注入し前記各連結管のいずれか他方から排出する
ようにしたことを特徴とするウエハ冷却装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6467594A JPH07245297A (ja) | 1994-03-07 | 1994-03-07 | ウエハ冷却装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6467594A JPH07245297A (ja) | 1994-03-07 | 1994-03-07 | ウエハ冷却装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07245297A true JPH07245297A (ja) | 1995-09-19 |
Family
ID=13264990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6467594A Pending JPH07245297A (ja) | 1994-03-07 | 1994-03-07 | ウエハ冷却装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07245297A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012015286A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
| JP5841281B1 (ja) * | 2015-06-15 | 2016-01-13 | 伸和コントロールズ株式会社 | プラズマ処理装置用チラー装置 |
-
1994
- 1994-03-07 JP JP6467594A patent/JPH07245297A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012015286A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
| KR101299891B1 (ko) * | 2010-06-30 | 2013-08-23 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 |
| JP5841281B1 (ja) * | 2015-06-15 | 2016-01-13 | 伸和コントロールズ株式会社 | プラズマ処理装置用チラー装置 |
| WO2016204076A1 (ja) * | 2015-06-15 | 2016-12-22 | 伸和コントロールズ株式会社 | プラズマ処理装置用チラー装置 |
| US10415862B2 (en) | 2015-06-15 | 2019-09-17 | Shinwa Controls Co., Ltd | Chiller apparatus for plasma treatment device |
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