JPH07244213A - ブラックマトリクス基板の製造方法およびブラックマトリクス基板形成用樹脂 - Google Patents
ブラックマトリクス基板の製造方法およびブラックマトリクス基板形成用樹脂Info
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- JPH07244213A JPH07244213A JP3244494A JP3244494A JPH07244213A JP H07244213 A JPH07244213 A JP H07244213A JP 3244494 A JP3244494 A JP 3244494A JP 3244494 A JP3244494 A JP 3244494A JP H07244213 A JPH07244213 A JP H07244213A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】透明基板上に、遮光性機能を有する物質を含有
する紫外線硬化型樹脂を主成分とする塗工層を設ける塗
工工程、該塗工層を目的のパターンを有するフォトマス
クを介して露光し部分的に硬化させる露光工程、該露光
工程後未硬化部分を現像液により溶解させる現像工程よ
りなるブラックマトリクス基板の製造方法において、該
遮光性機能を有する物質は３００〜４００ｎｍの波長を
有する紫外線の吸光度が可視光吸光度より事実上低いこ
とを特徴とするブラックマトリクス基板の製造方法。 【効果】均一性が高く、立体形状の形成が可能であるブ
ラックマトリクス基板の製造方法を提供する。
する紫外線硬化型樹脂を主成分とする塗工層を設ける塗
工工程、該塗工層を目的のパターンを有するフォトマス
クを介して露光し部分的に硬化させる露光工程、該露光
工程後未硬化部分を現像液により溶解させる現像工程よ
りなるブラックマトリクス基板の製造方法において、該
遮光性機能を有する物質は３００〜４００ｎｍの波長を
有する紫外線の吸光度が可視光吸光度より事実上低いこ
とを特徴とするブラックマトリクス基板の製造方法。 【効果】均一性が高く、立体形状の形成が可能であるブ
ラックマトリクス基板の製造方法を提供する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ブラックマトリクス基
板の製造方法およびブラックマトリクス基板形成用樹脂
に関するものである。詳しくは、均一性が高く、立体形
状の形成が可能であるブラックマトリクス基板の製造方
法に関するものである。
板の製造方法およびブラックマトリクス基板形成用樹脂
に関するものである。詳しくは、均一性が高く、立体形
状の形成が可能であるブラックマトリクス基板の製造方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】パーソナルコンピューター、ワードプロ
セッサー、テレビ受像機などに使用される表示素子（デ
ィスプレイ）は、従来よりＣＲＴ（ブラウン管）方式が
多用されてきたが、近年これらの電子機器の小型化、薄
型化、軽量化の要求に従い平面型表示素子が多く用いら
れるようになってきた。このような傾向のもと、いくつ
かの方式の平面型表示素子が開発されているが、この中
でも液晶表示素子は低消費電力などの利点を持つので広
く用いられるようになった。
セッサー、テレビ受像機などに使用される表示素子（デ
ィスプレイ）は、従来よりＣＲＴ（ブラウン管）方式が
多用されてきたが、近年これらの電子機器の小型化、薄
型化、軽量化の要求に従い平面型表示素子が多く用いら
れるようになってきた。このような傾向のもと、いくつ
かの方式の平面型表示素子が開発されているが、この中
でも液晶表示素子は低消費電力などの利点を持つので広
く用いられるようになった。
【０００３】またこの液晶表示素子は、カラーフィルタ
ーとバックライトを加えることにより比較的容易にカラ
ー化することが可能であり、小型から大型まで広い範囲
で対応できる。ここでいうカラーフィルターの画素配列
としては、ストライプ状、三角状、モザイク状などがあ
り、Ｒ、Ｇ、Ｂ着色層をガラスなどの基板に形成させる
ものである。また、このカラーフィルターのほとんど全
てに、トランジスタ部の遮光と画素間の光の漏れを防止
するためブラックマトリクスが設けられており、コント
ラストおよび純度の低下を防止している。
ーとバックライトを加えることにより比較的容易にカラ
ー化することが可能であり、小型から大型まで広い範囲
で対応できる。ここでいうカラーフィルターの画素配列
としては、ストライプ状、三角状、モザイク状などがあ
り、Ｒ、Ｇ、Ｂ着色層をガラスなどの基板に形成させる
ものである。また、このカラーフィルターのほとんど全
てに、トランジスタ部の遮光と画素間の光の漏れを防止
するためブラックマトリクスが設けられており、コント
ラストおよび純度の低下を防止している。
【０００４】このようなブラックマトリクスは、液晶表
示素子に使用されるカラーフィルターのみならず、ＣＣ
Ｄなどのイメージャー、最近では背面投射型スクリーン
に使用されるレンチキュラーレンズなどにも多く採用さ
れている。
示素子に使用されるカラーフィルターのみならず、ＣＣ
Ｄなどのイメージャー、最近では背面投射型スクリーン
に使用されるレンチキュラーレンズなどにも多く採用さ
れている。
【０００５】このブラックマトリクスを構成する材料
は、現在のところ薄い金属膜で形成している方法や、紫
外線硬化型樹脂等の感光性樹脂にカーボンブラック等の
顔料を分散させた塗材を基板上に塗布し、それをフォト
マスクなどを介して露光する方法などが知られている。
は、現在のところ薄い金属膜で形成している方法や、紫
外線硬化型樹脂等の感光性樹脂にカーボンブラック等の
顔料を分散させた塗材を基板上に塗布し、それをフォト
マスクなどを介して露光する方法などが知られている。
【０００６】また近年では、立体形状すなわち厚み（高
さ）方向の形状コントロールが可能であるブラックマト
リクス基板が、液晶表示素子等に使用されるマイクロレ
ンズアレイ等に応用されつつある。
さ）方向の形状コントロールが可能であるブラックマト
リクス基板が、液晶表示素子等に使用されるマイクロレ
ンズアレイ等に応用されつつある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな薄い金属膜で形成されるブラックマトリクスは、遮
光性としては非常に高いものであるが、厚み（高さ）方
向の立体形状の形成が、事実上不可能である。
うな薄い金属膜で形成されるブラックマトリクスは、遮
光性としては非常に高いものであるが、厚み（高さ）方
向の立体形状の形成が、事実上不可能である。
【０００８】また、感光性樹脂にカーボンブラック等の
顔料を分散させた塗材を使用する方法では、顔料自身の
高い紫外線遮光性のため、厚み（高さ）の形状コントロ
ールには限度がある。
顔料を分散させた塗材を使用する方法では、顔料自身の
高い紫外線遮光性のため、厚み（高さ）の形状コントロ
ールには限度がある。
【０００９】本発明の目的は、均一性が高く、立体形状
の形成が可能なブラックマトリクス基板の製造方法を提
供することにある。
の形成が可能なブラックマトリクス基板の製造方法を提
供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は透明基板上に、
遮光性機能を有する物質を含有する紫外線硬化型樹脂を
主成分とする塗工層を設ける塗工工程、該塗工層を目的
のパターンを有するフォトマスクを介して露光し部分的
に硬化させる露光工程、該露光工程後未硬化部分を現像
液により溶解させる現像工程よりなるブラックマトリク
ス基板の製造方法において、該遮光性機能を有する物質
は３００〜４００ｎｍの波長を有する紫外線の吸光度が
可視光吸光度より事実上低いことを特徴とするブラック
マトリクス基板の製造方法を要旨とするものである。
遮光性機能を有する物質を含有する紫外線硬化型樹脂を
主成分とする塗工層を設ける塗工工程、該塗工層を目的
のパターンを有するフォトマスクを介して露光し部分的
に硬化させる露光工程、該露光工程後未硬化部分を現像
液により溶解させる現像工程よりなるブラックマトリク
ス基板の製造方法において、該遮光性機能を有する物質
は３００〜４００ｎｍの波長を有する紫外線の吸光度が
可視光吸光度より事実上低いことを特徴とするブラック
マトリクス基板の製造方法を要旨とするものである。
【００１１】本発明におけるブラックマトリクスとは、
透明な基板上に遮光性機能を有する遮光性被膜を配列し
たものであり、使用用途によってその配列状態を調整す
るものである。この配列状態を例示するならば、図６に
示した様なストライプ状のもの、図７に示した格子状の
ものなどが挙げられる。
透明な基板上に遮光性機能を有する遮光性被膜を配列し
たものであり、使用用途によってその配列状態を調整す
るものである。この配列状態を例示するならば、図６に
示した様なストライプ状のもの、図７に示した格子状の
ものなどが挙げられる。
【００１２】ここでいう遮光性被膜とは、少なくとも可
視光を遮光する機能を有する被膜であり、さらに本発明
の場合可視光全域にわたって遮光するという意味から、
基本的に黒色であることが好ましい。この遮光性被膜の
遮光性を表すパラメーターは、ＯＤ値（光学濃度）によ
っておおよそ判断することができる。本発明を構成する
遮光性被膜のＯＤ値は、０．３以上であることが好まし
く、さらに好ましくは０．５以上であることが遮光性被
膜の遮光性の点から好ましい。
視光を遮光する機能を有する被膜であり、さらに本発明
の場合可視光全域にわたって遮光するという意味から、
基本的に黒色であることが好ましい。この遮光性被膜の
遮光性を表すパラメーターは、ＯＤ値（光学濃度）によ
っておおよそ判断することができる。本発明を構成する
遮光性被膜のＯＤ値は、０．３以上であることが好まし
く、さらに好ましくは０．５以上であることが遮光性被
膜の遮光性の点から好ましい。
【００１３】本発明でいうブラックマトリクスの均一性
（精度）とは、後記する露光工程−現像工程後の遮光性
被膜のパターニング性を意味するものであり、ここでは
露光エネルギーに対する遮光性機能を有する物質を含有
する紫外線硬化型樹脂の感度を表す。この均一性は、そ
れが低い場合ブラックマトリクスの遮光部と非遮光部
（光線透過部）の界面があいまいになり、ブラックマト
リクス基板としての機能が極端に低下するばかりか、開
口率が激減し全光線透過性が低下する。
（精度）とは、後記する露光工程−現像工程後の遮光性
被膜のパターニング性を意味するものであり、ここでは
露光エネルギーに対する遮光性機能を有する物質を含有
する紫外線硬化型樹脂の感度を表す。この均一性は、そ
れが低い場合ブラックマトリクスの遮光部と非遮光部
（光線透過部）の界面があいまいになり、ブラックマト
リクス基板としての機能が極端に低下するばかりか、開
口率が激減し全光線透過性が低下する。
【００１４】また、本発明のブラックマトリクスの製造
方法における大きな特徴は、該遮光性被膜の立体形状形
成が可能であるということである。ここでいう立体形状
の形成とは、遮光性被膜の厚み（高さ）方向の形状コン
トロールが可能であるという意味であり、その厚み（高
さ）は使用用途、目的によって異なるが、本発明によれ
ば、従来の金属薄膜形成によるブラックマトリクス基板
の製造方法では事実上不可能であった、３μｍ以上さら
には１０μｍ以上の遮光性被膜の形成が可能となる。さ
らにまたここでいう形状は、特に限定されるものではな
いが、代表例を例示するなら、図１〜図４に示した様な
三角断面状、四角断面状、半円断面状、半楕円断面状の
ものなどがある。
方法における大きな特徴は、該遮光性被膜の立体形状形
成が可能であるということである。ここでいう立体形状
の形成とは、遮光性被膜の厚み（高さ）方向の形状コン
トロールが可能であるという意味であり、その厚み（高
さ）は使用用途、目的によって異なるが、本発明によれ
ば、従来の金属薄膜形成によるブラックマトリクス基板
の製造方法では事実上不可能であった、３μｍ以上さら
には１０μｍ以上の遮光性被膜の形成が可能となる。さ
らにまたここでいう形状は、特に限定されるものではな
いが、代表例を例示するなら、図１〜図４に示した様な
三角断面状、四角断面状、半円断面状、半楕円断面状の
ものなどがある。
【００１５】次に、本発明のブラックマトリクス基板の
製造方法について、具体的に説明する。
製造方法について、具体的に説明する。
【００１６】［塗工工程］本発明でいう塗工工程とは、
遮光性機能を有する物質を含有する紫外線硬化型樹脂を
主成分とする塗工層を透明基板状に塗布する工程であ
る。
遮光性機能を有する物質を含有する紫外線硬化型樹脂を
主成分とする塗工層を透明基板状に塗布する工程であ
る。
【００１７】ここでいう透明基板は特に限定されるもの
ではないが、例示するならばガラス基板、プラスチック
基板、プラスチックフィルムなどが挙げられる。中でも
プラスチックフィルムは作業性の点から好ましく、プラ
スチックフィルムとしては、公知のものを選んで使用で
きるが、代表例を挙げるならポリプロピレンフィルム、
ポリカーボネートフィルム、ポリエステルフィルム等が
挙げられる。
ではないが、例示するならばガラス基板、プラスチック
基板、プラスチックフィルムなどが挙げられる。中でも
プラスチックフィルムは作業性の点から好ましく、プラ
スチックフィルムとしては、公知のものを選んで使用で
きるが、代表例を挙げるならポリプロピレンフィルム、
ポリカーボネートフィルム、ポリエステルフィルム等が
挙げられる。
【００１８】また、本発明に使用される遮光性機能を有
する物質としては、３００〜４００ｎｍの波長を有する
紫外線の吸光度が、可視光吸光度より事実上低い物質を
使用することが、立体形状形成の点から必要である。
する物質としては、３００〜４００ｎｍの波長を有する
紫外線の吸光度が、可視光吸光度より事実上低い物質を
使用することが、立体形状形成の点から必要である。
【００１９】この３００〜４００ｎｍの波長というの
は、後記する本発明に好ましく使用される光開始剤の吸
収波長すなわち、光開始剤がラジカルを発生し、ラジカ
ル重合が起こりうる波長である。
は、後記する本発明に好ましく使用される光開始剤の吸
収波長すなわち、光開始剤がラジカルを発生し、ラジカ
ル重合が起こりうる波長である。
【００２０】またここでいう紫外線吸光度は０．７以
下、好ましくは０．６５以下であることが、遮光性被膜
の立体形状形成の点から好ましい。
下、好ましくは０．６５以下であることが、遮光性被膜
の立体形状形成の点から好ましい。
【００２１】また可視光吸光度は、ブラックマトリクス
基板の遮光性被膜が、可視光を遮光するのに最低限必要
な値であれば、特に限定されるものではないが、可視光
全域にわたって、吸光度が０．７以上であることが、遮
光性被膜の遮光性の点から最も好ましい。ここでいう可
視光とは、本発明の場合４００〜７００ｎｍの波長を有
する光を指す。
基板の遮光性被膜が、可視光を遮光するのに最低限必要
な値であれば、特に限定されるものではないが、可視光
全域にわたって、吸光度が０．７以上であることが、遮
光性被膜の遮光性の点から最も好ましい。ここでいう可
視光とは、本発明の場合４００〜７００ｎｍの波長を有
する光を指す。
【００２２】ここでいう吸光度とは、分光光度計により
測定される値である。具体的には、与えられた物質ここ
では遮光性機能を有する物質が、光を吸収する度合いを
示す量であり、光が該物質を通過する間に、吸収によっ
てその強さがＩ0 からＩになったときの吸光度（Ａ）は
下記式によって求められる。
測定される値である。具体的には、与えられた物質ここ
では遮光性機能を有する物質が、光を吸収する度合いを
示す量であり、光が該物質を通過する間に、吸収によっ
てその強さがＩ0 からＩになったときの吸光度（Ａ）は
下記式によって求められる。
【００２３】Ａ＝ｌｏｇ10（Ｉ0 ／Ｉ）
【００２４】本発明において、この吸光度は遮光性機能
を有する物質の２重量％のメチルエチルケトン溶液また
は分散液の吸光度を示すものである。
を有する物質の２重量％のメチルエチルケトン溶液また
は分散液の吸光度を示すものである。
【００２５】また、波長によって吸光度Ａが異なる場合
は、本発明の場合、最大値すなわちその波長域での最大
吸光度を表わす。
は、本発明の場合、最大値すなわちその波長域での最大
吸光度を表わす。
【００２６】本発明でいう紫外線硬化型樹脂とは、１価
〜多価アクリロイル基を含有するのモノマおよび／また
はオリゴマと光開始剤を基本組成とするものである。モ
ノマ成分、オリゴマ成分は公知のものから選んで使用で
き、特に限定されるものではない。また、光開始剤も同
様に公知のものから選んで使用できるが、前記遮光性機
能を有する物質を含有するため、紫外線域において比較
的高い波長（本発明の場合３２０〜３８０ｎｍ付近）に
吸収を有する光開始剤が硬化性の点で最も好ましい。こ
のような光開始剤はチオキサントン系、リン系で代表さ
れるものであり、チオキサントン系の光開始剤として
は、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチ
オキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオチオキ
サントンなどがあり、リン系の光開始剤としては、２，
４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィン
オキサイドなどで代表されるものである。
〜多価アクリロイル基を含有するのモノマおよび／また
はオリゴマと光開始剤を基本組成とするものである。モ
ノマ成分、オリゴマ成分は公知のものから選んで使用で
き、特に限定されるものではない。また、光開始剤も同
様に公知のものから選んで使用できるが、前記遮光性機
能を有する物質を含有するため、紫外線域において比較
的高い波長（本発明の場合３２０〜３８０ｎｍ付近）に
吸収を有する光開始剤が硬化性の点で最も好ましい。こ
のような光開始剤はチオキサントン系、リン系で代表さ
れるものであり、チオキサントン系の光開始剤として
は、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチ
オキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオチオキ
サントンなどがあり、リン系の光開始剤としては、２，
４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィン
オキサイドなどで代表されるものである。
【００２７】本発明の場合、上記紫外線硬化型樹脂の硬
化性をより高いものとするために、光重合促進剤なるも
のを含有せしめてもよい。ここでいう光重合促進剤と
は、上記チオキサントン系のような水素引き抜き型光重
合開始剤と併用することにより、硬化速度を飛躍的に上
げる物質であり公知のものから選んで使用できるが、臭
気などの問題から、芳香族系の第３級アミンが最も好ま
しく使用される。
化性をより高いものとするために、光重合促進剤なるも
のを含有せしめてもよい。ここでいう光重合促進剤と
は、上記チオキサントン系のような水素引き抜き型光重
合開始剤と併用することにより、硬化速度を飛躍的に上
げる物質であり公知のものから選んで使用できるが、臭
気などの問題から、芳香族系の第３級アミンが最も好ま
しく使用される。
【００２８】このような、遮光性機能を有する物質と紫
外線硬化型樹脂を主成分とする塗材を下記塗工方法によ
って塗工する。ここでいう「主成分」とは、塗材全体に
３０重量％以上、好ましくは４０％以上含まれる成分を
示すものである。
外線硬化型樹脂を主成分とする塗材を下記塗工方法によ
って塗工する。ここでいう「主成分」とは、塗材全体に
３０重量％以上、好ましくは４０％以上含まれる成分を
示すものである。
【００２９】本発明のブラックマトリクス基板の製造方
法に適用される塗工方式については、リバースコート
法、グラビアコート法、メタリングバーコート法、スピ
ンコート法などの公知の塗工方式を採用できる。
法に適用される塗工方式については、リバースコート
法、グラビアコート法、メタリングバーコート法、スピ
ンコート法などの公知の塗工方式を採用できる。
【００３０】［露光工程］本発明でいう露光工程とは、
上記塗工工程により塗布された遮光性機能を有する物質
を含有する紫外線硬化型樹脂を主成分とする塗工層を、
目的のパターンを有するフォトマスクを介して露光し部
分的に硬化させる工程である。
上記塗工工程により塗布された遮光性機能を有する物質
を含有する紫外線硬化型樹脂を主成分とする塗工層を、
目的のパターンを有するフォトマスクを介して露光し部
分的に硬化させる工程である。
【００３１】ここでいう露光とは、前記樹脂を硬化させ
るのに必要なエネルギーを有する光線、具体的には前記
樹脂中の光開始剤が、ラジカルを発するのに必要なエネ
ルギーを有する光線を照射することを意味する。このよ
うな光線は紫外線（ＵＶ）、電子線（ＥＢ）などがある
が、作業性、コスト等の面から紫外線が最も好ましい。
るのに必要なエネルギーを有する光線、具体的には前記
樹脂中の光開始剤が、ラジカルを発するのに必要なエネ
ルギーを有する光線を照射することを意味する。このよ
うな光線は紫外線（ＵＶ）、電子線（ＥＢ）などがある
が、作業性、コスト等の面から紫外線が最も好ましい。
【００３２】本発明に使用されるフォトマスクは、公知
のものを使用してよく、目的とするブラックマトリクス
の配列状態により選択され、例示するならば、ストライ
プ状のブラックマトリクスを得るためには、図５のよう
なフォトマスクが使用される。
のものを使用してよく、目的とするブラックマトリクス
の配列状態により選択され、例示するならば、ストライ
プ状のブラックマトリクスを得るためには、図５のよう
なフォトマスクが使用される。
【００３３】本発明の場合フォトマスクは、塗布物のタ
ック、ブラックマトリクスと基板との密着、厚み（深
さ）方向の形状コントロール性を考慮し、前記塗工工程
により塗布された遮光性機能を有する物質を含有する紫
外線硬化型樹脂の背面に設置し、その上から光線を照射
することが好ましい。
ック、ブラックマトリクスと基板との密着、厚み（深
さ）方向の形状コントロール性を考慮し、前記塗工工程
により塗布された遮光性機能を有する物質を含有する紫
外線硬化型樹脂の背面に設置し、その上から光線を照射
することが好ましい。
【００３４】［現像工程］本発明における現像工程と
は、前記露光工程により、遮光性機能を有する物質を含
有する紫外線硬化型樹脂の硬化部分は溶解しないが、そ
れ以外すなわち未硬化部分は溶解する液体（現像液）に
より現像する工程である。
は、前記露光工程により、遮光性機能を有する物質を含
有する紫外線硬化型樹脂の硬化部分は溶解しないが、そ
れ以外すなわち未硬化部分は溶解する液体（現像液）に
より現像する工程である。
【００３５】また、上記製造工程により製造されたブラ
ックマトリクス基板においては、必要に応じて遮光性被
膜表面および／またはその反対面に公知の表面処理、例
えば帯電防止処理、ハードコート処理、ノングレア処理
等を施してもよい。
ックマトリクス基板においては、必要に応じて遮光性被
膜表面および／またはその反対面に公知の表面処理、例
えば帯電防止処理、ハードコート処理、ノングレア処理
等を施してもよい。
【００３６】
【特性の測定法】本発明における各種特性の測定法につ
いて説明する。
いて説明する。
【００３７】（１）吸光度 分光光度計により、３００〜７００ｎｍの波長での吸光
度を測定した。
度を測定した。
【００３８】（２）均一性 ブラックマトリクス基板の表面を光学顕微鏡により観察
し、遮光部と非遮光部の界面があいまいで、開口率が低
いものを不良とした。
し、遮光部と非遮光部の界面があいまいで、開口率が低
いものを不良とした。
【００３９】
【実施例】次に本発明の内容を実施例により、具体的に
説明する。
説明する。
【００４０】実施例 遮光性機能を有する物質として、アゾ系黒色染料１０重
量部をメチルエチルケトンに３０％溶解した。この染料
の吸光特性を調べたところ、３００〜４００ｎｍの波長
での最大吸光度は０．５１であり、可視光最大吸光度は
１．１５であった。ついでこの溶液に、アクリル系モノ
マ“ライトアクリレート”ＤＣＰ−Ａ（共栄社油脂）５
０重量部、ポリエステルアクリレート系オリゴマ“ＫＡ
ＹＡＲＡＤ”ＨＸ−２２０（日本化薬）５０重量部、チ
オキサントン系光重合開始剤“ＫＡＹＡＣＵＲＥ”ＤＥ
ＴＸ−Ｓ（日本化薬製）１５重量部、芳香第３級アミン
系光重合促進剤“ＫＡＹＡＣＵＲＥ”ＥＰＡ（日本化薬
製）１０重量部を混合し、光重合開始剤および重合促進
剤が溶解するまで撹拌した。
量部をメチルエチルケトンに３０％溶解した。この染料
の吸光特性を調べたところ、３００〜４００ｎｍの波長
での最大吸光度は０．５１であり、可視光最大吸光度は
１．１５であった。ついでこの溶液に、アクリル系モノ
マ“ライトアクリレート”ＤＣＰ−Ａ（共栄社油脂）５
０重量部、ポリエステルアクリレート系オリゴマ“ＫＡ
ＹＡＲＡＤ”ＨＸ−２２０（日本化薬）５０重量部、チ
オキサントン系光重合開始剤“ＫＡＹＡＣＵＲＥ”ＤＥ
ＴＸ−Ｓ（日本化薬製）１５重量部、芳香第３級アミン
系光重合促進剤“ＫＡＹＡＣＵＲＥ”ＥＰＡ（日本化薬
製）１０重量部を混合し、光重合開始剤および重合促進
剤が溶解するまで撹拌した。
【００４１】比較例 実施例の塗材において、カーボンブラックに変更したほ
かは、同一手法により、塗材を作成した。なお、このカ
ーボンブラックの３００〜４００ｎｍの波長での吸光度
と可視光吸光度は、全て１．２０以上であった。
かは、同一手法により、塗材を作成した。なお、このカ
ーボンブラックの３００〜４００ｎｍの波長での吸光度
と可視光吸光度は、全て１．２０以上であった。
【００４２】上記実施例および比較例で作成した塗材
を、ポリエチレンテレフタレートフィルム“ルミラー”
（東レ製）に、メタリングバーによって１５μｍ塗布し
た。ついで、その裏面に図５のようなフォトマスクを設
置し、その上から紫外線を照射し、ＭＩＢＫにより現像
し、目的とするストライプ状のブラックマトリクス基板
を得た。
を、ポリエチレンテレフタレートフィルム“ルミラー”
（東レ製）に、メタリングバーによって１５μｍ塗布し
た。ついで、その裏面に図５のようなフォトマスクを設
置し、その上から紫外線を照射し、ＭＩＢＫにより現像
し、目的とするストライプ状のブラックマトリクス基板
を得た。
【００４３】ブラックマトリクス基板の製造方法におい
て、紫外線の露光エネルギーと遮光性被膜の断面形状の
関係を表１に示した。ここで、遮光性機能膜の断面は光
学顕微鏡により観察した。
て、紫外線の露光エネルギーと遮光性被膜の断面形状の
関係を表１に示した。ここで、遮光性機能膜の断面は光
学顕微鏡により観察した。
【００４４】本発明によれば紫外線（光線）の露光エネ
ルギーを変えることで、比較的容易に遮光性被膜の立体
形状の形成が可能となり、均一性が高いことがわかる。
ルギーを変えることで、比較的容易に遮光性被膜の立体
形状の形成が可能となり、均一性が高いことがわかる。
【００４５】
【表１】
【００４６】
【発明の効果】本発明のブラックマトリクス基板の製造
方法は、均一性が高く、なおかつ遮光性被膜の立体形状
の形成が可能であるという特長を持つ。
方法は、均一性が高く、なおかつ遮光性被膜の立体形状
の形成が可能であるという特長を持つ。
【００４７】以上のようにして得られたブラックマトリ
クスは、液晶表材素子に使用されるカラーフィルター、
ＣＣＤなどのイメージャー、さらには背面投射型スクリ
ーン、などに使用されるレンチキュラーレンズや液晶表
示素子に使用されるマイクロレンズアレイなどに好まし
く使用される。
クスは、液晶表材素子に使用されるカラーフィルター、
ＣＣＤなどのイメージャー、さらには背面投射型スクリ
ーン、などに使用されるレンチキュラーレンズや液晶表
示素子に使用されるマイクロレンズアレイなどに好まし
く使用される。
【図１】本発明のブラックマトリクス基板の製造方法に
よって得られるブラックマトリクスの断面形状の一例を
示した概略図である。
よって得られるブラックマトリクスの断面形状の一例を
示した概略図である。
【図２】本発明のブラックマトリクス基板の製造方法に
よって得られるブラックマトリクスの断面形状の一例を
示した概略図である。
よって得られるブラックマトリクスの断面形状の一例を
示した概略図である。
【図３】本発明のブラックマトリクス基板の製造方法に
よって得られるブラックマトリクスの断面形状の一例を
示した概略図である。
よって得られるブラックマトリクスの断面形状の一例を
示した概略図である。
【図４】本発明のブラックマトリクス基板の製造方法に
よって得られるブラックマトリクスの断面形状の一例を
示した概略図である。
よって得られるブラックマトリクスの断面形状の一例を
示した概略図である。
【図５】本発明の製造工程で使用されるフォトマスクの
一例を示した概略図である。
一例を示した概略図である。
【図６】ブラックマトリクスの一部分を拡大した一例を
示した概略図である。
示した概略図である。
【図７】ブラックマトリクスの一部分を拡大した一例を
示した概略図である。
示した概略図である。
１：遮光性被膜
Claims (4)
- 【請求項１】 透明基板上に、遮光性機能を有する物質
を含有する紫外線硬化型樹脂を主成分とする塗工層を設
ける塗工工程、該塗工層を目的のパターンを有するフォ
トマスクを介して露光し部分的に硬化させる露光工程、
該露光工程後未硬化部分を現像液により溶解させる現像
工程よりなるブラックマトリクス基板の製造方法におい
て、該遮光性機能を有する物質は３００〜４００ｎｍの
波長を有する紫外線の吸光度が可視光吸光度より事実上
低いことを特徴とするブラックマトリクス基板の製造方
法。 - 【請求項２】 遮光性機能を有する物質は３００〜４０
０ｎｍの波長を有する紫外線の吸光度が０．７以下であ
ることを特徴とする請求項１に記載のブラックマトリク
ス基板の製造方法 - 【請求項３】 露光工程において、透明基板上の塗工層
の背面から、露光することを特徴とする請求項１または
請求項２に記載のブラックマトリクス基板の製造方法。 - 【請求項４】 遮光性機能を有する物質を含有する紫外
線硬化型樹脂を主成分とし、該遮光性機能を有する物質
は３００〜４００ｎｍの波長を有する紫外線の吸光度が
可視光吸光度より事実上低いことを特徴とするブラック
マトリクス基板形成用樹脂。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3244494A JPH07244213A (ja) | 1994-03-02 | 1994-03-02 | ブラックマトリクス基板の製造方法およびブラックマトリクス基板形成用樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3244494A JPH07244213A (ja) | 1994-03-02 | 1994-03-02 | ブラックマトリクス基板の製造方法およびブラックマトリクス基板形成用樹脂 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07244213A true JPH07244213A (ja) | 1995-09-19 |
Family
ID=12359141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3244494A Pending JPH07244213A (ja) | 1994-03-02 | 1994-03-02 | ブラックマトリクス基板の製造方法およびブラックマトリクス基板形成用樹脂 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07244213A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005088360A1 (ja) * | 2004-03-12 | 2005-09-22 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | カラーフィルタ |
| JP2006085146A (ja) * | 2004-09-15 | 2006-03-30 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 液晶表示装置用カラーフィルター基板及びその製造方法 |
| US7826013B2 (en) | 2004-11-26 | 2010-11-02 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Liquid crystal display device having OCB mode liquid crystal layer and method of fabricating the same |
| WO2010125824A1 (ja) * | 2009-04-30 | 2010-11-04 | 凸版印刷株式会社 | 液晶表示装置 |
-
1994
- 1994-03-02 JP JP3244494A patent/JPH07244213A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005088360A1 (ja) * | 2004-03-12 | 2005-09-22 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | カラーフィルタ |
| CN100399068C (zh) * | 2004-03-12 | 2008-07-02 | 大日本印刷株式会社 | 滤色镜 |
| US7948697B2 (en) | 2004-03-12 | 2011-05-24 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for producing a color filter |
| US8179623B2 (en) | 2004-03-12 | 2012-05-15 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for producing a color filter |
| US8315002B2 (en) | 2004-03-12 | 2012-11-20 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for producing a color filter |
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| US7826013B2 (en) | 2004-11-26 | 2010-11-02 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Liquid crystal display device having OCB mode liquid crystal layer and method of fabricating the same |
| WO2010125824A1 (ja) * | 2009-04-30 | 2010-11-04 | 凸版印刷株式会社 | 液晶表示装置 |
| CN102422208A (zh) * | 2009-04-30 | 2012-04-18 | 凸版印刷株式会社 | 液晶显示装置 |
| JPWO2010125824A1 (ja) * | 2009-04-30 | 2012-10-25 | 凸版印刷株式会社 | 液晶表示装置 |
| US8743322B2 (en) | 2009-04-30 | 2014-06-03 | Toppan Printing Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
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