JPH07235545A - 半導体製造用熱処理炉のキャップ固定構造 - Google Patents
半導体製造用熱処理炉のキャップ固定構造Info
- Publication number
- JPH07235545A JPH07235545A JP4793694A JP4793694A JPH07235545A JP H07235545 A JPH07235545 A JP H07235545A JP 4793694 A JP4793694 A JP 4793694A JP 4793694 A JP4793694 A JP 4793694A JP H07235545 A JPH07235545 A JP H07235545A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cap
- manifold
- lever
- heat
- latch lever
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 半導体製造用熱処理炉の石英チュ−ブ内で、
爆発性ガスが万一爆発した場合に、高圧高温の爆風が熱
処理炉のキャップの連結部などを破壊し、下方または床
面に向かって噴出し、設備、器具及び作業員などに危害
を及ぼすのを阻止し、被害を軽微に止めるキャップ固定
構造を提供する。 【構成】 半導体製造用熱処理炉のマニホ−ルド3の下
部側壁に枢動可能に設けられた掛金レバ−14と、この
掛金レバ−を枢動させるエアシリンダ16と、前記掛金
レバ−をエアシリンダと反対方向に押圧するばね17
と、熱処理炉のキャップ4の裏面などに装着され前記の
掛金レバ−14と係合し、掛金レバ−がエアシリンダ1
6によりキャップを開くように作動されぬ限りキャップ
を閉の状態に固定する複数個のロック機構を含む構成で
ある。
爆発性ガスが万一爆発した場合に、高圧高温の爆風が熱
処理炉のキャップの連結部などを破壊し、下方または床
面に向かって噴出し、設備、器具及び作業員などに危害
を及ぼすのを阻止し、被害を軽微に止めるキャップ固定
構造を提供する。 【構成】 半導体製造用熱処理炉のマニホ−ルド3の下
部側壁に枢動可能に設けられた掛金レバ−14と、この
掛金レバ−を枢動させるエアシリンダ16と、前記掛金
レバ−をエアシリンダと反対方向に押圧するばね17
と、熱処理炉のキャップ4の裏面などに装着され前記の
掛金レバ−14と係合し、掛金レバ−がエアシリンダ1
6によりキャップを開くように作動されぬ限りキャップ
を閉の状態に固定する複数個のロック機構を含む構成で
ある。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はシリコン等の半導体用ウ
ェ−ハの表面に熱処理、化学処理などを行う熱処理炉や
CVD装置における反応炉に関し、特に爆発の際反応炉
内の爆発ガスが反応炉の下方へ噴出するのを阻止する反
応炉のキャップ固定構造に関する。
ェ−ハの表面に熱処理、化学処理などを行う熱処理炉や
CVD装置における反応炉に関し、特に爆発の際反応炉
内の爆発ガスが反応炉の下方へ噴出するのを阻止する反
応炉のキャップ固定構造に関する。
【0002】
【従来の技術】図4は従来の半導体製造用熱処理炉の縦
断面図である。炉壁1に囲まれて上端が封じられた石英
チュ−ブ2の下部にマニホ−ルド3が備えられ、このマ
ニホ−ルド3の下部の開口部3aはキャップ4で閉じて
いる。このキャップ4には支持軸6により揺動可能に支
持されるア−ム5が取り付けられ、支持軸6は図示しな
い昇降装置と回転装置7により僅かに下降され、キャッ
プ4がマニホ−ルド3から離された後、水平に揺動され
てキャップ4をマニホ−ルド3の直下から側方に移動さ
せ、マニホ−ルド3の開口部3aを大きく開く。この状
態で図示しない昇降装置によって、ボ−トに積載された
ウェ−ハが開口部3aの下方から上方に移動されて石英
チュ−ブ2内に装入される。装入が終わるとキャップ4
は前記と逆に動作して、マニホ−ルド3の開口部3aを
閉じ石英チュ−ブ内は気密に保たれ、石英チュ−ブ2の
内部はヒ−タにより加熱され、さらに各種の反応ガスが
マニホ−ルド3の側方に設けられた図示しない口金から
導入されて、石英チュ−ブ内での反応処理雰囲気が整え
られる。
断面図である。炉壁1に囲まれて上端が封じられた石英
チュ−ブ2の下部にマニホ−ルド3が備えられ、このマ
ニホ−ルド3の下部の開口部3aはキャップ4で閉じて
いる。このキャップ4には支持軸6により揺動可能に支
持されるア−ム5が取り付けられ、支持軸6は図示しな
い昇降装置と回転装置7により僅かに下降され、キャッ
プ4がマニホ−ルド3から離された後、水平に揺動され
てキャップ4をマニホ−ルド3の直下から側方に移動さ
せ、マニホ−ルド3の開口部3aを大きく開く。この状
態で図示しない昇降装置によって、ボ−トに積載された
ウェ−ハが開口部3aの下方から上方に移動されて石英
チュ−ブ2内に装入される。装入が終わるとキャップ4
は前記と逆に動作して、マニホ−ルド3の開口部3aを
閉じ石英チュ−ブ内は気密に保たれ、石英チュ−ブ2の
内部はヒ−タにより加熱され、さらに各種の反応ガスが
マニホ−ルド3の側方に設けられた図示しない口金から
導入されて、石英チュ−ブ内での反応処理雰囲気が整え
られる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】熱処理炉内に導入する
反応ガスとして、爆発性の高いガスを使用する場合があ
り、何らかの操作ミスにより石英チュ−ブ2の内部に空
気が流入すると爆発限界に達し爆発の可能性が生じる。
爆発により高温高圧の爆風が発生して四方に噴出する
が、爆風の噴出する可能性が最も高いのは、爆圧がキャ
ップ4のマニホ−ルド3への取付部を破壊し、爆風が下
方及び床面に沿って四方へ噴出することである。このた
め、床面付近の器物を破損したり、作業者などの人体に
も危害を及ぼす可能性があるので、爆発が発生しても少
なくともこのキャップ4が外れないように固定すること
が本発明の解決しようとする課題である。
反応ガスとして、爆発性の高いガスを使用する場合があ
り、何らかの操作ミスにより石英チュ−ブ2の内部に空
気が流入すると爆発限界に達し爆発の可能性が生じる。
爆発により高温高圧の爆風が発生して四方に噴出する
が、爆風の噴出する可能性が最も高いのは、爆圧がキャ
ップ4のマニホ−ルド3への取付部を破壊し、爆風が下
方及び床面に沿って四方へ噴出することである。このた
め、床面付近の器物を破損したり、作業者などの人体に
も危害を及ぼす可能性があるので、爆発が発生しても少
なくともこのキャップ4が外れないように固定すること
が本発明の解決しようとする課題である。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は小型エアシリン
ダと、該エアシリンダで作動される掛金レバ−と、掛金
レバ−をエアシリンダの作動方向と逆に押圧する圧縮コ
イルばねと、前記の掛金レバ−と係合する掛金受とを含
むロック機構の複数個を、キャップとマニホ−ルドとの
係合部分に配設するキャップの固定構造により上記の課
題を解決した。
ダと、該エアシリンダで作動される掛金レバ−と、掛金
レバ−をエアシリンダの作動方向と逆に押圧する圧縮コ
イルばねと、前記の掛金レバ−と係合する掛金受とを含
むロック機構の複数個を、キャップとマニホ−ルドとの
係合部分に配設するキャップの固定構造により上記の課
題を解決した。
【0005】
【作用】反応炉の石英チュ−ブ内で爆発性ガスにより万
一爆発が生じた場合は、本発明によるロック機構により
マニホ−ルドのキャップが固くマニホ−ルドの開口部を
閉じているので、爆発により発生した高圧高温のガスは
石英チュ−ブを破損して上方及び側方へ噴出し、少なく
とも下方への噴出を阻止し床面上の器物の破損や作業者
への危害を軽微に食い止めることができる。
一爆発が生じた場合は、本発明によるロック機構により
マニホ−ルドのキャップが固くマニホ−ルドの開口部を
閉じているので、爆発により発生した高圧高温のガスは
石英チュ−ブを破損して上方及び側方へ噴出し、少なく
とも下方への噴出を阻止し床面上の器物の破損や作業者
への危害を軽微に食い止めることができる。
【0006】
【実施例】図1は本発明によるキャップ固定構造として
のロック機構を備えた半導体製造用熱処理炉の縦断立面
図であり、図1のA矢視拡大部分底面図を図2に、また
図1のB部拡大側面図を図3にそれぞれ示す。これらの
図において図4と同じ部品には同じ符号を付し、異なる
点のみを以下に説明する。本発明の固定構造におけるロ
ック機構10は、マニホ−ルド3とキャップ4との環状
係合部11に沿った円周方向の複数箇所に、本実施例で
は3箇所に設置され、これら3箇所のロック機構10は
それぞれ下記の4つの部材により構成される。 1)マニホ−ルド3の側壁3bに取り付けられるコの字
形ブラケット12に、軸13を介して枢動可能に支持さ
れる掛金レバ−14と、 2)板金製の取付ブラケット15を介してマニホ−ルド
3の側壁3bに保持され、掛金レバ−14の一端部を押
す小型のエアシリンダ16と、 3)掛金レバ−14に対しエアシリンダ16の反対側に
位置し、エアシリンダ16とは逆方向に掛金レバ−14
を弾性的に押圧する圧縮コイルばね17と、 4)キャップ4の外周面4aに溶接又はボルト止めなど
で固定され、Z字形断面を有して掛金レバ−14と係合
する掛金受18と、 である。
のロック機構を備えた半導体製造用熱処理炉の縦断立面
図であり、図1のA矢視拡大部分底面図を図2に、また
図1のB部拡大側面図を図3にそれぞれ示す。これらの
図において図4と同じ部品には同じ符号を付し、異なる
点のみを以下に説明する。本発明の固定構造におけるロ
ック機構10は、マニホ−ルド3とキャップ4との環状
係合部11に沿った円周方向の複数箇所に、本実施例で
は3箇所に設置され、これら3箇所のロック機構10は
それぞれ下記の4つの部材により構成される。 1)マニホ−ルド3の側壁3bに取り付けられるコの字
形ブラケット12に、軸13を介して枢動可能に支持さ
れる掛金レバ−14と、 2)板金製の取付ブラケット15を介してマニホ−ルド
3の側壁3bに保持され、掛金レバ−14の一端部を押
す小型のエアシリンダ16と、 3)掛金レバ−14に対しエアシリンダ16の反対側に
位置し、エアシリンダ16とは逆方向に掛金レバ−14
を弾性的に押圧する圧縮コイルばね17と、 4)キャップ4の外周面4aに溶接又はボルト止めなど
で固定され、Z字形断面を有して掛金レバ−14と係合
する掛金受18と、 である。
【0007】上記構造によるロック機構10の作用を図
3を参照して以下に説明する。エアシリンダ16に圧縮
空気が供給されない場合は、図の実線のようにピストン
ロッド16aは後退位置にあり、圧縮コイルばね17の
押圧力により掛金レバ−14は軸13の周りに反時計方
向に回転して掛金受18と係合し、キャップ4とマニホ
−ルド3は固くロックされる。これにより、石英チュ−
ブ内で処理中に爆発が発生してもキャップとマニホ−ル
ドの係合が解除されることはなく、爆風が下方に吹き出
ることにはならない。ウェ−ハボ−トを石英チュ−ブ内
へ装入あるいは処理後の搬出が必要な場合には、エアシ
リンダ16に圧縮空気が送られ、ピストンロッド16a
が前進して掛金レバ−14を図3で二点鎖線で示したよ
うに時計方向に回転させ、掛金受18との係合が解除さ
れ、図示しない昇降装置及び回転装置7によりキャップ
4を移動してウェ−ハボ−トの装入あるいは搬出が従来
と同様に実施できる。本願では半導体製造用の熱処理炉
について述べたが、CVD装置などに適用できることは
勿論である。
3を参照して以下に説明する。エアシリンダ16に圧縮
空気が供給されない場合は、図の実線のようにピストン
ロッド16aは後退位置にあり、圧縮コイルばね17の
押圧力により掛金レバ−14は軸13の周りに反時計方
向に回転して掛金受18と係合し、キャップ4とマニホ
−ルド3は固くロックされる。これにより、石英チュ−
ブ内で処理中に爆発が発生してもキャップとマニホ−ル
ドの係合が解除されることはなく、爆風が下方に吹き出
ることにはならない。ウェ−ハボ−トを石英チュ−ブ内
へ装入あるいは処理後の搬出が必要な場合には、エアシ
リンダ16に圧縮空気が送られ、ピストンロッド16a
が前進して掛金レバ−14を図3で二点鎖線で示したよ
うに時計方向に回転させ、掛金受18との係合が解除さ
れ、図示しない昇降装置及び回転装置7によりキャップ
4を移動してウェ−ハボ−トの装入あるいは搬出が従来
と同様に実施できる。本願では半導体製造用の熱処理炉
について述べたが、CVD装置などに適用できることは
勿論である。
【0008】
【発明の効果】構造が簡単で容易に操作可能なロック機
構を付設するだけで、キャップをマニホ−ルドに固く固
定して、万一石英チュ−ブ内で爆発が発生しても高温高
圧の爆風の下方への噴出を防止し、被害を軽微に食い止
めることが可能になる。
構を付設するだけで、キャップをマニホ−ルドに固く固
定して、万一石英チュ−ブ内で爆発が発生しても高温高
圧の爆風の下方への噴出を防止し、被害を軽微に食い止
めることが可能になる。
【図1】本発明によるロック機構を備えた半導体製造用
熱処理炉の縦断立面図である。
熱処理炉の縦断立面図である。
【図2】図1のA矢視拡大部分底面図である。
【図3】図1のB部拡大側面図である。
【図4】従来の半導体製造用熱処理炉の縦断面図であ
る。
る。
2 石英チュ−ブ 3 マニホ−ルド 4 キャップ 10 ロック機構 14 掛金レバ− 16 エアシリンダ 17 圧縮コイルばね 18 掛金受
Claims (1)
- 【請求項1】 炉壁に囲まれ上端が封じられた石英チュ
−ブの下部にマニホ−ルドが備えられ、このマニホ−ル
ドの下部の開口部を開閉するキャップを支持軸により揺
動可能に支持するア−ムと、前記支持軸を上下動させる
昇降装置及び回転装置とにより前記キャップをマニホ−
ルドから離して半導体用ウェ−ハを装入して高温下で処
理し、処理済みウェ−ハを取り出すようにされた半導体
製造用熱処理炉において、 前記マニホ−ルドの下端近くの側壁に枢動可能に装着さ
れる掛金レバ−と、この掛金レバ−を枢動させるエアシ
リンダと、この掛金レバ−を前記エアシリンダが押す方
向と反対方向に常時は押圧するばねと、前記キャップに
固定されて前記掛金レバ−と係合する掛金受とを含んで
成り、前記キャップはエアシリンダにより作動される以
外は閉の状態に確保される複数個のロック機構を備え、 前記石英チュ−ブ内で発生する爆発によっても前記キャ
ップが開かれるのを防止し、爆風が熱処理炉の下方へ噴
出するのが阻止されることを特徴とする半導体製造用熱
処理炉のキャップ固定構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4793694A JPH07235545A (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 半導体製造用熱処理炉のキャップ固定構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4793694A JPH07235545A (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 半導体製造用熱処理炉のキャップ固定構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07235545A true JPH07235545A (ja) | 1995-09-05 |
Family
ID=12789266
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4793694A Pending JPH07235545A (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 半導体製造用熱処理炉のキャップ固定構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07235545A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005093987A (ja) * | 2003-08-08 | 2005-04-07 | Tsubaki Seiko:Kk | テープ接着装置およびテープ接着方法 |
JP2009117534A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-05-28 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2011176262A (ja) * | 2010-01-27 | 2011-09-08 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
CN102328142A (zh) * | 2011-07-28 | 2012-01-25 | 无锡四方集团真空炉业有限公司 | 钎焊炉炉门锁紧装置 |
JP2015167194A (ja) * | 2014-03-04 | 2015-09-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置 |
CN109000153A (zh) * | 2018-09-26 | 2018-12-14 | 江苏爵格工业设备有限公司 | 抑制爆炸装置及抑制爆炸系统 |
-
1994
- 1994-02-23 JP JP4793694A patent/JPH07235545A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005093987A (ja) * | 2003-08-08 | 2005-04-07 | Tsubaki Seiko:Kk | テープ接着装置およびテープ接着方法 |
JP2009117534A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-05-28 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2011176262A (ja) * | 2010-01-27 | 2011-09-08 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
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JP2015167194A (ja) * | 2014-03-04 | 2015-09-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置 |
TWI632630B (zh) * | 2014-03-04 | 2018-08-11 | 東京威力科創股份有限公司 | 立式熱處理裝置 |
CN109000153A (zh) * | 2018-09-26 | 2018-12-14 | 江苏爵格工业设备有限公司 | 抑制爆炸装置及抑制爆炸系统 |
CN109000153B (zh) * | 2018-09-26 | 2024-05-24 | 江苏爵格工业集团有限公司 | 抑制爆炸装置及抑制爆炸系统 |
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