JPH07235264A - 電子写真的にスクリーニング処理された陰極線管のベーキングとシーリングを組合せた製造方法 - Google Patents
電子写真的にスクリーニング処理された陰極線管のベーキングとシーリングを組合せた製造方法Info
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- JPH07235264A JPH07235264A JP6318772A JP31877294A JPH07235264A JP H07235264 A JPH07235264 A JP H07235264A JP 6318772 A JP6318772 A JP 6318772A JP 31877294 A JP31877294 A JP 31877294A JP H07235264 A JPH07235264 A JP H07235264A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
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- H01J9/2276—Development of latent electrostatic images
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、パネルをファンネルにフリットシ
ールする前にパネルを巧妙にベーキングする必要のない
カラーＣＲＴ用の発光スクーン組立体の電子写真的な製
造方法の提供を目的とする。 【構成】 本発明のカラーＣＲＴ（１０）用発光スクリ
ーン組立体（２２，２４）の電子写真的な製造方法は、
揮発性構成物を実質的に完全にベーキング除去し、同じ
段階でフェースプレートパネル（１２）を管状エンベロ
ープ（１１）のファンネル（１５）にフリットシールす
る段階よりなる。
ールする前にパネルを巧妙にベーキングする必要のない
カラーＣＲＴ用の発光スクーン組立体の電子写真的な製
造方法の提供を目的とする。 【構成】 本発明のカラーＣＲＴ（１０）用発光スクリ
ーン組立体（２２，２４）の電子写真的な製造方法は、
揮発性構成物を実質的に完全にベーキング除去し、同じ
段階でフェースプレートパネル（１２）を管状エンベロ
ープ（１１）のファンネル（１５）にフリットシールす
る段階よりなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真的スクリーニ
ング（ＥＰＳ）工程による陰極線管（ＣＲＴ）用のスク
リーン組立体の製造方法に係り、ここで、フェースプレ
ートパネル上の部分的に完成されたスクリーン組立体は
ベーキング除去され、同時に、ＣＲＴのファンネルにシ
ーリングされる。
ング（ＥＰＳ）工程による陰極線管（ＣＲＴ）用のスク
リーン組立体の製造方法に係り、ここで、フェースプレ
ートパネル上の部分的に完成されたスクリーン組立体は
ベーキング除去され、同時に、ＣＲＴのファンネルにシ
ーリングされる。
【０００２】
【従来の技術】カラーテレビジョン画像受像管のような
ＣＲＴは、ＥＰＳ工程で製造される場合に、通常、
（ａ）上に重なる光伝導性層と共に伝導性層を含む揮発
性光受容体をフェースプレートパネルの内側の面に設
け；（ｂ）実質的に均一な静電荷を光受容体に定着さ
せ；（ｃ）その上の電荷分布に影響を与えるため光受容
体の選択された領域を化学線放射にさらし；（ｄ）少な
くとも一の乾燥粉末化され、光放出性であり、摩擦電気
的に充電されたスクリーン構造体材料で光受容体を現像
し；（ｅ）スクリーン構造体材料を定着させ、薄膜化
し、アルミニウム処理を行い；（ｆ）スクリーン組立体
を形成するために、光受容体と、スクリーン構造体と、
薄膜化材料の揮発性構成物を除去するため空気中でフェ
ースプレートパネルをベーキングする段階で調製され
る。上記の初期ベーキング段階の後に、その内側の面に
スクリーン組立体を備え、そこにカラー選択電極が取付
けられ、スクリーン組立体と離間しているフェースプレ
ートパネルは、ＣＲＴエンベロープを形成するためにフ
ァンネルにフリットシールされる。
ＣＲＴは、ＥＰＳ工程で製造される場合に、通常、
（ａ）上に重なる光伝導性層と共に伝導性層を含む揮発
性光受容体をフェースプレートパネルの内側の面に設
け；（ｂ）実質的に均一な静電荷を光受容体に定着さ
せ；（ｃ）その上の電荷分布に影響を与えるため光受容
体の選択された領域を化学線放射にさらし；（ｄ）少な
くとも一の乾燥粉末化され、光放出性であり、摩擦電気
的に充電されたスクリーン構造体材料で光受容体を現像
し；（ｅ）スクリーン構造体材料を定着させ、薄膜化
し、アルミニウム処理を行い；（ｆ）スクリーン組立体
を形成するために、光受容体と、スクリーン構造体と、
薄膜化材料の揮発性構成物を除去するため空気中でフェ
ースプレートパネルをベーキングする段階で調製され
る。上記の初期ベーキング段階の後に、その内側の面に
スクリーン組立体を備え、そこにカラー選択電極が取付
けられ、スクリーン組立体と離間しているフェースプレ
ートパネルは、ＣＲＴエンベロープを形成するためにフ
ァンネルにフリットシールされる。
【０００３】上記の工程の製造効率を向上させることが
望まれる。例えば、１９７２年１月２６日にメイアウド
に発行された米国特許第３，５５８，３１０号明細書に
記載されている如く、スクリーンとマトリクスが所謂
「湿式処理」で形成される従来のスクリーン製造技術に
おいて、パネルのベーキング除去段階をフリットシール
段階と組み合わせることは周知である。このような組み
合わされた工程は、１９８５年１月１５日にピアシンス
キー他に発行された米国特許第４，４９３，６６８号明
細書と；１９９２年９月８日にパテル他に発行された米
国特許第５，１４５，５１１号明細書に記載されてい
る。
望まれる。例えば、１９７２年１月２６日にメイアウド
に発行された米国特許第３，５５８，３１０号明細書に
記載されている如く、スクリーンとマトリクスが所謂
「湿式処理」で形成される従来のスクリーン製造技術に
おいて、パネルのベーキング除去段階をフリットシール
段階と組み合わせることは周知である。このような組み
合わされた工程は、１９８５年１月１５日にピアシンス
キー他に発行された米国特許第４，４９３，６６８号明
細書と；１９９２年９月８日にパテル他に発行された米
国特許第５，１４５，５１１号明細書に記載されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、湿式処理にお
ける揮発性スクリーン構成物の数はＥＰＳ工程よりも少
ない。その理由は、湿式処理において、マトリクスの形
式でフェースプレートパネルに最初に沈積される光感受
性材料の層は現像段階中に部分的に洗浄され、光感受性
材料の残りの部分はエッチング液で除去されるからであ
る。従って、従来のスクリーンの揮発性構成物は、マト
リクス及び発光スクリーン構造体材料と、スクリーン構
造体材料とアルミニウム層の間に設けられた薄膜化材料
だけを含む。これに対しＥＰＳで製造されたスクリーン
は、揮発性の２層の光受容体と、マトリクス材料と、発
光体材料と、薄膜化樹脂とを含む。従って、製造工程に
おける効率化を実現するには、従来の別個のパネルのベ
ーキング段階を削除するために、より容易に揮発する光
受容体を設ける必要がある。
ける揮発性スクリーン構成物の数はＥＰＳ工程よりも少
ない。その理由は、湿式処理において、マトリクスの形
式でフェースプレートパネルに最初に沈積される光感受
性材料の層は現像段階中に部分的に洗浄され、光感受性
材料の残りの部分はエッチング液で除去されるからであ
る。従って、従来のスクリーンの揮発性構成物は、マト
リクス及び発光スクリーン構造体材料と、スクリーン構
造体材料とアルミニウム層の間に設けられた薄膜化材料
だけを含む。これに対しＥＰＳで製造されたスクリーン
は、揮発性の２層の光受容体と、マトリクス材料と、発
光体材料と、薄膜化樹脂とを含む。従って、製造工程に
おける効率化を実現するには、従来の別個のパネルのベ
ーキング段階を削除するために、より容易に揮発する光
受容体を設ける必要がある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、シールエッジ
を有するファンネルにシールされたシールエッジを備え
たフェースプレートパネルを有するカラーＣＲＴの発光
スクリーン組立体の製造方法を提供する。本発明の方法
は、上記フェースプレートパネルの内側の面に揮発性光
受容体を設ける段階よりなる。上器光受容体は、伝導性
層と光伝導性層とを含む。伝導性層は有機伝導性溶液に
より形成される。光伝導性層は、適当な樹脂と、電子供
与体材料と、少なくとも一の電子受容体材料と、界面活
性剤と、有機溶媒とからなる溶液で上記伝導性層を被覆
することにより形成される。
を有するファンネルにシールされたシールエッジを備え
たフェースプレートパネルを有するカラーＣＲＴの発光
スクリーン組立体の製造方法を提供する。本発明の方法
は、上記フェースプレートパネルの内側の面に揮発性光
受容体を設ける段階よりなる。上器光受容体は、伝導性
層と光伝導性層とを含む。伝導性層は有機伝導性溶液に
より形成される。光伝導性層は、適当な樹脂と、電子供
与体材料と、少なくとも一の電子受容体材料と、界面活
性剤と、有機溶媒とからなる溶液で上記伝導性層を被覆
することにより形成される。
【０００６】上記の工程は、上記光伝導性層に実質的に
均一な静電荷を定着させ；その上の上記電荷を作用させ
るため上記光伝導性層の選択された領域を化学線放射に
さらし；少なくとも一の乾燥性、光放出性、摩擦電気的
に充電されたスクリーン構造体材料で上記光伝導性層を
現像し；上記スクリーン構造体材料の変位を最小限に抑
えるため上記スクリーン構造体材料を上記光伝導性層に
固定し；上記スクリーン構造体材料を適当な薄膜化材料
で薄膜化し；上記薄膜化されたスクリーン構造体材料を
アルミニウム処理し；上記パネル内にカラー選択電極を
設置し；上記シールエッジの一方にフリット材料のビー
ドを設け、上記シールエッジを整列して上記パネルを上
記ファンネルに置き；上記ファンネル及び上記パネルを
適当な窯に支持し；上記フリット材料を固め、同時に、
上記光受容体と、上記スクリーン構造体材料と上記薄膜
化材料の揮発性構成物とを揮発させるのに十分な時間的
間隔で上記ファンネル及び上記パネルを上記フリット材
料の凝固温度を上回る温度に加熱する段階を更に有す
る。
均一な静電荷を定着させ；その上の上記電荷を作用させ
るため上記光伝導性層の選択された領域を化学線放射に
さらし；少なくとも一の乾燥性、光放出性、摩擦電気的
に充電されたスクリーン構造体材料で上記光伝導性層を
現像し；上記スクリーン構造体材料の変位を最小限に抑
えるため上記スクリーン構造体材料を上記光伝導性層に
固定し；上記スクリーン構造体材料を適当な薄膜化材料
で薄膜化し；上記薄膜化されたスクリーン構造体材料を
アルミニウム処理し；上記パネル内にカラー選択電極を
設置し；上記シールエッジの一方にフリット材料のビー
ドを設け、上記シールエッジを整列して上記パネルを上
記ファンネルに置き；上記ファンネル及び上記パネルを
適当な窯に支持し；上記フリット材料を固め、同時に、
上記光受容体と、上記スクリーン構造体材料と上記薄膜
化材料の揮発性構成物とを揮発させるのに十分な時間的
間隔で上記ファンネル及び上記パネルを上記フリット材
料の凝固温度を上回る温度に加熱する段階を更に有す
る。
【０００７】上記工程は、上記フリットの凝固温度を下
回る温度で実質的に完全に分解される光受容体の光伝導
性層に電子供与体材料を利用することにより改善され、
これにより、従来のパネルのベーキング除去段階を本発
明のフリットシール段階に組み入れることが容易にな
る。
回る温度で実質的に完全に分解される光受容体の光伝導
性層に電子供与体材料を利用することにより改善され、
これにより、従来のパネルのベーキング除去段階を本発
明のフリットシール段階に組み入れることが容易にな
る。
【０００８】
【実施例】図１に矩形状フェースプレートパネル１２
と、矩形状ファンネル１５により接続された管状ネック
１４とよりなるガラスエンベロープ１１を有するＣＲＴ
１０のようなカラーディスプレイ装置を示す。ファンネ
ル１５は、アノードボタン１６と接触しネック１４に延
在する内部伝導性皮膜（図示せず）を有する。パネル１
２はビューイングフェースプレート又はサブストレート
１８と、ガラスフリット２１によりファンネル１５にシ
ールされた周辺側のフランジ又は側壁２０とからなる。
３色発光スクリーン２２は、フェースプレート１８の内
側の面に支持される。図２に示すスクリーン２２は、好
ましくは、色のグループに配置された赤色放出性、緑色
放出性、及び青色放出性の発光体の縞、Ｒ、Ｇ、及びＢ
夫々の多数のスクリーン素子、或いは、衝突する電子ビ
ームが発生する平面に略垂直な方向に延在し、循環的に
並ぶ３本の縞、又は、トライアッド（３色の組）のピク
チャー素子を含むライン形スクリーンである。かかる実
施例に対し通常のビューイング位置において発光体の縞
は垂直方向に延在する。好ましくは、上記発光体の縞
は、従来より周知の光吸収性マトリクス材料２３により
互いに隔離される。或いは、スクリーンはドット形スク
リーンでも良い。好ましくはアルミニウム製である薄い
伝導性層２４は、スクリーン２２の上に重ねられ、発光
体素子から放射されフェースプレート１８を通過する光
を反射すると共にスクリーンに均一の電位を印加する手
段を提供する。スクリーン２２と上に重なるアルミニウ
ム層２４は、スクリーン組立体を構成する。
と、矩形状ファンネル１５により接続された管状ネック
１４とよりなるガラスエンベロープ１１を有するＣＲＴ
１０のようなカラーディスプレイ装置を示す。ファンネ
ル１５は、アノードボタン１６と接触しネック１４に延
在する内部伝導性皮膜（図示せず）を有する。パネル１
２はビューイングフェースプレート又はサブストレート
１８と、ガラスフリット２１によりファンネル１５にシ
ールされた周辺側のフランジ又は側壁２０とからなる。
３色発光スクリーン２２は、フェースプレート１８の内
側の面に支持される。図２に示すスクリーン２２は、好
ましくは、色のグループに配置された赤色放出性、緑色
放出性、及び青色放出性の発光体の縞、Ｒ、Ｇ、及びＢ
夫々の多数のスクリーン素子、或いは、衝突する電子ビ
ームが発生する平面に略垂直な方向に延在し、循環的に
並ぶ３本の縞、又は、トライアッド（３色の組）のピク
チャー素子を含むライン形スクリーンである。かかる実
施例に対し通常のビューイング位置において発光体の縞
は垂直方向に延在する。好ましくは、上記発光体の縞
は、従来より周知の光吸収性マトリクス材料２３により
互いに隔離される。或いは、スクリーンはドット形スク
リーンでも良い。好ましくはアルミニウム製である薄い
伝導性層２４は、スクリーン２２の上に重ねられ、発光
体素子から放射されフェースプレート１８を通過する光
を反射すると共にスクリーンに均一の電位を印加する手
段を提供する。スクリーン２２と上に重なるアルミニウ
ム層２４は、スクリーン組立体を構成する。
【０００９】図１を再び参照するに、多開口形のカラー
選択電極、又は、シャドーマスク２５は、スクリーン組
立体に所定の間隔のある関係で従来の手段によって取外
し自在に取付けられる。図１に点線で概略的に示される
電子銃２６は、３本の電子ビーム２８を発生し、マスク
２５の開口部を介しコンバージェンスパスに沿ってスク
リーン２２に当てるためネック１４の中心側に取付けら
れる。銃２６は、例えば、１９８６年１０月２８日にモ
レル他に発行された米国特許第４，６２０，１３３号明
細書に記載される形の双電位式電子銃、又は、他のあら
ゆる適当な銃からなる。
選択電極、又は、シャドーマスク２５は、スクリーン組
立体に所定の間隔のある関係で従来の手段によって取外
し自在に取付けられる。図１に点線で概略的に示される
電子銃２６は、３本の電子ビーム２８を発生し、マスク
２５の開口部を介しコンバージェンスパスに沿ってスク
リーン２２に当てるためネック１４の中心側に取付けら
れる。銃２６は、例えば、１９８６年１０月２８日にモ
レル他に発行された米国特許第４，６２０，１３３号明
細書に記載される形の双電位式電子銃、又は、他のあら
ゆる適当な銃からなる。
【００１０】管１０は、ファンネルとネックの結合部の
領域にあるヨーク３０のような外部磁気偏向ヨークと共
に使用するよう設計される。ヨーク３０は作動すると、
スクリーン２２上で矩形状のラスタ内で水平方向及び垂
直方向にビームを走査させる磁界を３本のビーム２８に
印加する。最初の偏向面（ゼロ偏向の箇所）は図１に線
Ｐ−Ｐでヨーク３０の中央付近に示される。説明の便宜
上、偏向区域における偏向ビームパスの実際の曲率は示
さない。
領域にあるヨーク３０のような外部磁気偏向ヨークと共
に使用するよう設計される。ヨーク３０は作動すると、
スクリーン２２上で矩形状のラスタ内で水平方向及び垂
直方向にビームを走査させる磁界を３本のビーム２８に
印加する。最初の偏向面（ゼロ偏向の箇所）は図１に線
Ｐ−Ｐでヨーク３０の中央付近に示される。説明の便宜
上、偏向区域における偏向ビームパスの実際の曲率は示
さない。
【００１１】スクリーン２２は、先に引用した米国特許
第４，９２１，７６７号明細書に記載され、図３のブロ
ック図に示す電子写真的スクリーニング（ＥＰＳ）工程
により製造される。最初に、パネル１２は、従来より周
知の如く、苛性溶液で洗浄され、水で洗い流され、緩衝
化されたフッ化水素酸でエッチングされ、再び水で洗い
流される。ビューイングフェースプレート１８の内部に
は、好ましくは、上に重なる有機光伝導性（ＯＰＣ）層
３４に電極を提供する有機伝導性（ＯＣ）材料からなる
適当な層３２よりなる光受容体が設けられる。上記ＯＣ
層３２及びＯＰＣ層３４を図４に示す。
第４，９２１，７６７号明細書に記載され、図３のブロ
ック図に示す電子写真的スクリーニング（ＥＰＳ）工程
により製造される。最初に、パネル１２は、従来より周
知の如く、苛性溶液で洗浄され、水で洗い流され、緩衝
化されたフッ化水素酸でエッチングされ、再び水で洗い
流される。ビューイングフェースプレート１８の内部に
は、好ましくは、上に重なる有機光伝導性（ＯＰＣ）層
３４に電極を提供する有機伝導性（ＯＣ）材料からなる
適当な層３２よりなる光受容体が設けられる。上記ＯＣ
層３２及びＯＰＣ層３４を図４に示す。
【００１２】ＥＰＳ工程によりマトリクスを形成するた
め、ＯＰＣ層３４は、１９９２年１月２８日にダッタ他
に発行された米国特許第５，０８３，９５９号明細書に
記載される形のコロナ充電を使用して、＋２００ボルト
から＋７００ボルトの範囲内の適当な電位に充電され
る。シャドーマスク２５はパネル１２に挿入され、正に
充電されたＯＰＣ層３４は、シャドーマスク２５を介し
て、従来のスリーインワン形の照明具に配置されたキセ
ノンフラッシュランプからの光のような化学線が照射さ
れる。各照射の後に、ランプは、電子銃からの電子ビー
ムの入射角を２倍にするため別の位置に動かされる。光
放出発光体がスクリーン２２を形成するために、引続き
沈積されるＯＰＣ層の領域を放電するために、３ヵ所の
別個のランプ位置から３回の露光が必要である。露光段
階後に、シャドーマスク２５はパネル１２から取り除か
れ、パネルは、１９９３年１０月６日に出願された米国
特許出願第１３２，２６３号明細書に記載されるような
第１の現像装置に移される。かかる現像装置は、光吸収
性の黒色マトリクススクリーン構造体材料の適切に調製
された乾燥粉末状の微粉を含む。上記マトリクス材料は
現像装置によって摩擦電気的に負に充電される。負に充
電されたマトリクス材料は、先に引用した米国特許第
４，９２１，７６７号明細書に記載される如く、１段階
だけで直接に沈積させるか、或いは、１９９３年７月２
０日にリドル他に発行された米国特許第５，２２９，２
３４号明細書に記載される如く２段階で直接に沈積させ
ることが可能である。上記「２段階」マトリクス沈積処
理は、得られるマトリクスの不透明度を増加させる。光
放出発光体材料は、先に引用した米国特許第４，９２
１，７６７号明細書に記載される方法で沈積させられ
る。
め、ＯＰＣ層３４は、１９９２年１月２８日にダッタ他
に発行された米国特許第５，０８３，９５９号明細書に
記載される形のコロナ充電を使用して、＋２００ボルト
から＋７００ボルトの範囲内の適当な電位に充電され
る。シャドーマスク２５はパネル１２に挿入され、正に
充電されたＯＰＣ層３４は、シャドーマスク２５を介し
て、従来のスリーインワン形の照明具に配置されたキセ
ノンフラッシュランプからの光のような化学線が照射さ
れる。各照射の後に、ランプは、電子銃からの電子ビー
ムの入射角を２倍にするため別の位置に動かされる。光
放出発光体がスクリーン２２を形成するために、引続き
沈積されるＯＰＣ層の領域を放電するために、３ヵ所の
別個のランプ位置から３回の露光が必要である。露光段
階後に、シャドーマスク２５はパネル１２から取り除か
れ、パネルは、１９９３年１０月６日に出願された米国
特許出願第１３２，２６３号明細書に記載されるような
第１の現像装置に移される。かかる現像装置は、光吸収
性の黒色マトリクススクリーン構造体材料の適切に調製
された乾燥粉末状の微粉を含む。上記マトリクス材料は
現像装置によって摩擦電気的に負に充電される。負に充
電されたマトリクス材料は、先に引用した米国特許第
４，９２１，７６７号明細書に記載される如く、１段階
だけで直接に沈積させるか、或いは、１９９３年７月２
０日にリドル他に発行された米国特許第５，２２９，２
３４号明細書に記載される如く２段階で直接に沈積させ
ることが可能である。上記「２段階」マトリクス沈積処
理は、得られるマトリクスの不透明度を増加させる。光
放出発光体材料は、先に引用した米国特許第４，９２
１，７６７号明細書に記載される方法で沈積させられ
る。
【００１３】さらに、従来より周知であり、例えば、１
９７１年１月２６日にメイアウドに発行された米国特許
第３，５５８，３１０号明細書に記載された従来の湿式
マトリクス処理を使用してマトリクスを形成することが
可能である。マトリクスが湿式処理により形成される場
合に、光受容体はマトリクス上に形成され、発光体材料
は先に引用した米国特許第４，９２１，７６７号明細書
に記載される方法で沈積される。
９７１年１月２６日にメイアウドに発行された米国特許
第３，５５８，３１０号明細書に記載された従来の湿式
マトリクス処理を使用してマトリクスを形成することが
可能である。マトリクスが湿式処理により形成される場
合に、光受容体はマトリクス上に形成され、発光体材料
は先に引用した米国特許第４，９２１，７６７号明細書
に記載される方法で沈積される。
【００１４】上記の「先にマトリクス形」の２通りの工
程の他に、ＥＰＳ工程により発光体を沈積した後にマト
リクス１２３を電子写真的に形成することが可能であ
る。この「後にマトリクス形」の工程は、１９９３年８
月３１日にエーマン ジュニアに発行された米国特許第
５，２４０，７９８号明細書に記載される。図５には、
スクリーン１２２と、上に重なるアルミニウム層１２４
とからなり、米国特許第５，２４０，７９８号明細書に
記載の「後にマトリクス形」の工程に従って製造された
スクリーン組立体が示される。
程の他に、ＥＰＳ工程により発光体を沈積した後にマト
リクス１２３を電子写真的に形成することが可能であ
る。この「後にマトリクス形」の工程は、１９９３年８
月３１日にエーマン ジュニアに発行された米国特許第
５，２４０，７９８号明細書に記載される。図５には、
スクリーン１２２と、上に重なるアルミニウム層１２４
とからなり、米国特許第５，２４０，７９８号明細書に
記載の「後にマトリクス形」の工程に従って製造された
スクリーン組立体が示される。
【００１５】「後にマトリクス形」の工程において、赤
色−、青色−、及び緑色−放出発光体素子、Ｒ、Ｂ、及
びＧは、夫々、摩擦電気的に正に充電された発光体スク
リーン構造体材料の微粉を光受容体の正に充電されたＯ
ＰＣ層３４に順次に沈積させることにより形成される。
充電処理は、先に引用した米国特許第５，０８３，９５
９号明細書に記載されるのと同じである。３つの発光体
が沈積された後に、ＯＰＣ層３４は再び正の電位に均一
に充電され、先に沈積された発光体を含むパネルは、摩
擦電気的に負の電荷をマトリクス構造体材料に与えるマ
トリクス現像装置で沈積させられる。発光体スクリーン
素子を隔離する光伝導性層の正に充電された開いた領域
は、マトリクス１２３を形成するために、負に充電され
たマトリクス材料を上記開いた領域に沈積させることに
より直接現像される。かかる処理は「直接」現像と呼ば
れる。次いで、スクリーン構造体材料は、先に引用した
米国特許第４，９２１，７６７号明細書に記載される如
く、定着され薄膜化される。アルミニウム層１２４は、
層２４を設ける際に説明した目的のためスクリーン１２
２上に設けられる。上記のスクリーン製造工程は、上記
のスクリーン組立体と構造的に同一のスクリーン組立体
を実現するために、ＯＰＣ層３４に設けられた電荷の極
性と、スクリーン構造体材料に誘導された摩擦電気的電
荷の極性の両方を反転させることによって変形すること
が可能である。
色−、青色−、及び緑色−放出発光体素子、Ｒ、Ｂ、及
びＧは、夫々、摩擦電気的に正に充電された発光体スク
リーン構造体材料の微粉を光受容体の正に充電されたＯ
ＰＣ層３４に順次に沈積させることにより形成される。
充電処理は、先に引用した米国特許第５，０８３，９５
９号明細書に記載されるのと同じである。３つの発光体
が沈積された後に、ＯＰＣ層３４は再び正の電位に均一
に充電され、先に沈積された発光体を含むパネルは、摩
擦電気的に負の電荷をマトリクス構造体材料に与えるマ
トリクス現像装置で沈積させられる。発光体スクリーン
素子を隔離する光伝導性層の正に充電された開いた領域
は、マトリクス１２３を形成するために、負に充電され
たマトリクス材料を上記開いた領域に沈積させることに
より直接現像される。かかる処理は「直接」現像と呼ば
れる。次いで、スクリーン構造体材料は、先に引用した
米国特許第４，９２１，７６７号明細書に記載される如
く、定着され薄膜化される。アルミニウム層１２４は、
層２４を設ける際に説明した目的のためスクリーン１２
２上に設けられる。上記のスクリーン製造工程は、上記
のスクリーン組立体と構造的に同一のスクリーン組立体
を実現するために、ＯＰＣ層３４に設けられた電荷の極
性と、スクリーン構造体材料に誘導された摩擦電気的電
荷の極性の両方を反転させることによって変形すること
が可能である。
【００１６】図４を再び参照するに、ＯＣ層３２は、２
乃至６重量パーセントの第４級アンモニウム高分子電解
質と、約０．００１乃至０．１重量パーセント、好まし
くは、約０．０１重量パーセントの適当な界面活性剤
と、約０．５乃至２重量パーセント、又は、それ未満の
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と、バランス脱イオン
水とを含む水性有機伝導性溶液でパネル１２の内側の面
を覆うことにより形成される。第４級アンモニウム高分
子電解質は、ポリ（ジメチル−ジアリル−塩化アンモニ
ウム）と、ポリ（３，４−ジメチレン−Ｎ−ジメチル−
塩化ピロリジウム）（３，４−ＤＮＤＰ塩化物）と、ポ
リ（３，４−ジメチレン−Ｎ−ジメチル−ピロリジウム
硝酸塩）（３，４−ＤＮＤＰ硝酸塩）と、ポリ（３，４
−ジメチレン−Ｎ−ジメチル−ピロリジウム燐酸塩）
（３，４−ＤＮＤＰ燐酸塩）とよりなる群から選ばれる
ホモポリマーである。或いは、ビニルイミダゾリウム
メト硫酸塩（ＶＩＭ）、又は、ビニルピロリドン（Ｖ
Ｐ）のような適当な共重合体を伝導性溶液に使用しても
よい。
乃至６重量パーセントの第４級アンモニウム高分子電解
質と、約０．００１乃至０．１重量パーセント、好まし
くは、約０．０１重量パーセントの適当な界面活性剤
と、約０．５乃至２重量パーセント、又は、それ未満の
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と、バランス脱イオン
水とを含む水性有機伝導性溶液でパネル１２の内側の面
を覆うことにより形成される。第４級アンモニウム高分
子電解質は、ポリ（ジメチル−ジアリル−塩化アンモニ
ウム）と、ポリ（３，４−ジメチレン−Ｎ−ジメチル−
塩化ピロリジウム）（３，４−ＤＮＤＰ塩化物）と、ポ
リ（３，４−ジメチレン−Ｎ−ジメチル−ピロリジウム
硝酸塩）（３，４−ＤＮＤＰ硝酸塩）と、ポリ（３，４
−ジメチレン−Ｎ−ジメチル−ピロリジウム燐酸塩）
（３，４−ＤＮＤＰ燐酸塩）とよりなる群から選ばれる
ホモポリマーである。或いは、ビニルイミダゾリウム
メト硫酸塩（ＶＩＭ）、又は、ビニルピロリドン（Ｖ
Ｐ）のような適当な共重合体を伝導性溶液に使用しても
よい。
【００１７】ポリ（ジメチル−ジアリル−塩化アンモニ
ウム）は、ペンシルベニア州ピッツバーグのカルゴン社
よりＣａｔ−Ｆｌｏｃ−Ｃ又はＣａｔ−Ｆｌｏｃ−Ｔ−
２として商業的に入手可能であり、ＶＩＭとＶＰの共重
合体はニュージャージ州パーシパニーのＢＡＳＦ社より
ＭＯＳ−９０５として入手可能である。商業的に入手可
能なＣａｔ−Ｆｌｏｃ材料は、０．６重量パーセントの
高分子電解質と、０．３重量パーセントのポリビニルピ
ロリドンと、約９９重量パーセントのメチルアルコール
と、パネルのベーキング後に完全にはベーキング除去さ
れないＮａＣｌ（塩化ナトリウム）及びＫ2 ＳＯ4 （硫
酸カリウム）のような無機塩を含む。塩化物イオンは、
有機伝導体の製造に使用する前に、入手した材料から除
去するか、或いは、少なくとも濃度を低下させる必要が
ある。商業的に入手可能な材料は１００グラム当たり約
０．２０米ドル、或いは、１パネル当たり約０．００２
米ドルを要する。
ウム）は、ペンシルベニア州ピッツバーグのカルゴン社
よりＣａｔ−Ｆｌｏｃ−Ｃ又はＣａｔ−Ｆｌｏｃ−Ｔ−
２として商業的に入手可能であり、ＶＩＭとＶＰの共重
合体はニュージャージ州パーシパニーのＢＡＳＦ社より
ＭＯＳ−９０５として入手可能である。商業的に入手可
能なＣａｔ−Ｆｌｏｃ材料は、０．６重量パーセントの
高分子電解質と、０．３重量パーセントのポリビニルピ
ロリドンと、約９９重量パーセントのメチルアルコール
と、パネルのベーキング後に完全にはベーキング除去さ
れないＮａＣｌ（塩化ナトリウム）及びＫ2 ＳＯ4 （硫
酸カリウム）のような無機塩を含む。塩化物イオンは、
有機伝導体の製造に使用する前に、入手した材料から除
去するか、或いは、少なくとも濃度を低下させる必要が
ある。商業的に入手可能な材料は１００グラム当たり約
０．２０米ドル、或いは、１パネル当たり約０．００２
米ドルを要する。
【００１８】Ｃａｔ−Ｆｌｏｃ材料の有機ポリマー鎖に
結合された塩化物を除去するために、Ｃａｔ−Ｆｌｏｃ
の１０％溶液は、２時間に亘り３倍の蒸留水に溶解さ
れ、１０％の固体陽イオン交換ビードと混合される。混
合物は５μの圧力フィルタを通して濾過され、イオン交
換によるＣａｔ−Ｆｌｏｃはアセトンと共に溶液から沈
殿する。沈殿物は、その比が８０：２０のアセトン：水
で洗浄され、５０重量パーセントのＣａｔ−Ｆｌｏｃを
含む水溶液を生成するため水に溶解される。塩化物遊離
Ｃａｔ−ＦｌｏｃのｐＨは、１２乃至１３の範囲内にあ
る。このｐＨは、０．１％ＨＮＯ3 （硝酸）又は０．１
％のＨ3 ＰＯ4 （燐酸）で滴定することによりｐＨ４に
調整される。
結合された塩化物を除去するために、Ｃａｔ−Ｆｌｏｃ
の１０％溶液は、２時間に亘り３倍の蒸留水に溶解さ
れ、１０％の固体陽イオン交換ビードと混合される。混
合物は５μの圧力フィルタを通して濾過され、イオン交
換によるＣａｔ−Ｆｌｏｃはアセトンと共に溶液から沈
殿する。沈殿物は、その比が８０：２０のアセトン：水
で洗浄され、５０重量パーセントのＣａｔ−Ｆｌｏｃを
含む水溶液を生成するため水に溶解される。塩化物遊離
Ｃａｔ−ＦｌｏｃのｐＨは、１２乃至１３の範囲内にあ
る。このｐＨは、０．１％ＨＮＯ3 （硝酸）又は０．１
％のＨ3 ＰＯ4 （燐酸）で滴定することによりｐＨ４に
調整される。
【００１９】以下に、この例に限定されることなく、Ｏ
Ｃ層３２を詳細に説明する例を示す。 ＯＣ 例１ 有機伝導性溶液は、以下の成分を１時間に亘り混合し、
その溶液を１μ（ミクロン）のフィルタで濾過すること
により形成される。溶液の粘度は２．６センチポイズ
（ｃＰ）である。
Ｃ層３２を詳細に説明する例を示す。 ＯＣ 例１ 有機伝導性溶液は、以下の成分を１時間に亘り混合し、
その溶液を１μ（ミクロン）のフィルタで濾過すること
により形成される。溶液の粘度は２．６センチポイズ
（ｃＰ）である。
【００２０】ポリ（ジメチル−ジアリル−塩化アンモニ
ウム）の水に対する５０％溶液 １００ｇ（５重量％） プルロニックＬ−７２（５０：５０の水：メタノールに
５％）（ニュージャージ州パーシパニーのＢＡＳＦ社か
ら入手可能）のような界面活性剤 ２ｇ（０．０１重量
％） （バランス）脱イオン水 ９００ｇ ＯＣ 例２ 第２の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は５ｃＰである。
ウム）の水に対する５０％溶液 １００ｇ（５重量％） プルロニックＬ−７２（５０：５０の水：メタノールに
５％）（ニュージャージ州パーシパニーのＢＡＳＦ社か
ら入手可能）のような界面活性剤 ２ｇ（０．０１重量
％） （バランス）脱イオン水 ９００ｇ ＯＣ 例２ 第２の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は５ｃＰである。
【００２１】ポリ（ジメチル−ジアリル−塩化アンモニ
ウム）の水に対する５０％溶液 ６０ｇ（３．２重量
％） ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の水に対する１０％溶
液 ９０ｇ（０．９６重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ７７８ｇ ＯＣ 例３ 第３の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は３ｃＰである。
ウム）の水に対する５０％溶液 ６０ｇ（３．２重量
％） ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の水に対する１０％溶
液 ９０ｇ（０．９６重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ７７８ｇ ＯＣ 例３ 第３の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は３ｃＰである。
【００２２】ポリ（３，４−ＤＮＤＰ塩化物）の水に対
する５０％溶液 １００ｇ（５．３重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ７７８ｇ 上記の溶液においてポリ（３，４−ＤＮＤＰ塩化物）を
同量のポリ（３，４−ＤＮＤＰ硝酸塩）又はポリ（３，
４−ＤＮＤＰ燐酸塩）に置き換えても良い。 ＯＣ 例４ 第４の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は１．９ｃＰである。
する５０％溶液 １００ｇ（５．３重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ７７８ｇ 上記の溶液においてポリ（３，４−ＤＮＤＰ塩化物）を
同量のポリ（３，４−ＤＮＤＰ硝酸塩）又はポリ（３，
４−ＤＮＤＰ燐酸塩）に置き換えても良い。 ＯＣ 例４ 第４の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は１．９ｃＰである。
【００２３】Ｃａｔ−Ｆｌｏｃ−Ｃの水に対する５０％
溶液 １００ｇ（５重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ９００ｇ ＯＣ 例５ 第５の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は２．６ｃＰである。
溶液 １００ｇ（５重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ９００ｇ ＯＣ 例５ 第５の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は２．６ｃＰである。
【００２４】Ｃａｔ−Ｆｌｏｃ−Ｃの水に対する５０％
溶液 ６０ｇ（３．２重量％） ＰＶＡの水に対する１０％溶液 ９０ｇ（０．９６重量
％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ７７８ｇ ＯＣ 例６ 先に引用した米国特許第４，９２１，７６７号明細書に
記載される以下の有機伝導性溶液はコントロールとして
利用する。溶液の粘度は２．２ｃＰである。
溶液 ６０ｇ（３．２重量％） ＰＶＡの水に対する１０％溶液 ９０ｇ（０．９６重量
％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ７７８ｇ ＯＣ 例６ 先に引用した米国特許第４，９２１，７６７号明細書に
記載される以下の有機伝導性溶液はコントロールとして
利用する。溶液の粘度は２．２ｃＰである。
【００２５】イオネンポリマー １，５−ジメチル−
１，５−ジメチルジアゾ−ウンデカ−メチレン−ポリメ
トブロマイド（ウィスコンシン州ミルウォーキのアルド
リッチ化学社からポリブレンとして入手可能） ６０ｇ
（３重量％） ポリアクリル酸（ＰＡＡ）の水に対する２５％水溶液
１２０ｇ（１．５重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液１．５ｇ（０．００４重量％） （バランス）脱イオン水 １８１２ｇ ＯＣ 例７ ビニルイミダゾリウム メト硫酸塩（ＶＩＭ）とビニル
ピロリドン（ＶＰ）の共重合体ＭＳ−９０５ １００ｇ
（５重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液３ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ９００ｇ 上記のＯＣの例に対し相対湿度百分率の関数として抵抗
率を判定した。溶液でガラス製スライドを被覆した。
０．５μと、１μと、２μの厚さの皮膜を作成し、伝導
性薄膜の直流電流量及び表面抵抗を測定するためにＡＳ
ＴＭ−Ｄ ２５７形の表面抵抗測定プローブを使用し
た。被覆されたガラス製スライドは、５、２０、３０、
５０、６０及び９０パーセントの相対湿度で２４時間保
存された。全薄膜サンプルの表面抵抗率は、薄膜の厚さ
とは無関係であるが、相対湿度に依存することが分かっ
た。表１は、５０％のＲＨ（相対湿度）における６個の
ＯＣ薄膜の例から作られた薄膜の抵抗率をオーム／スク
エアの単位で示す。 表１ ＯＣ 識別名 抵抗率 オーム／スクエア 例１ ５ × １０7 例２ ６ × １０8 例３ １．８× １０7 例４ ４ × １０7 例５ ３ × １０8 例６ ５ × １０10 例７ ２ × １０7 例３、５及び６に対する結果を図６のグラフに示す。例
３は最低の抵抗率を有し、例５は現在のＥＰＳ工程にお
ける好ましいＯＣの典型例である。従来のＯＣである例
６の５０％の相対湿度以下における抵抗率は高すぎるの
でＥＰＳ工程には使用できない。
１，５−ジメチルジアゾ−ウンデカ−メチレン−ポリメ
トブロマイド（ウィスコンシン州ミルウォーキのアルド
リッチ化学社からポリブレンとして入手可能） ６０ｇ
（３重量％） ポリアクリル酸（ＰＡＡ）の水に対する２５％水溶液
１２０ｇ（１．５重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液１．５ｇ（０．００４重量％） （バランス）脱イオン水 １８１２ｇ ＯＣ 例７ ビニルイミダゾリウム メト硫酸塩（ＶＩＭ）とビニル
ピロリドン（ＶＰ）の共重合体ＭＳ−９０５ １００ｇ
（５重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液３ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ９００ｇ 上記のＯＣの例に対し相対湿度百分率の関数として抵抗
率を判定した。溶液でガラス製スライドを被覆した。
０．５μと、１μと、２μの厚さの皮膜を作成し、伝導
性薄膜の直流電流量及び表面抵抗を測定するためにＡＳ
ＴＭ−Ｄ ２５７形の表面抵抗測定プローブを使用し
た。被覆されたガラス製スライドは、５、２０、３０、
５０、６０及び９０パーセントの相対湿度で２４時間保
存された。全薄膜サンプルの表面抵抗率は、薄膜の厚さ
とは無関係であるが、相対湿度に依存することが分かっ
た。表１は、５０％のＲＨ（相対湿度）における６個の
ＯＣ薄膜の例から作られた薄膜の抵抗率をオーム／スク
エアの単位で示す。 表１ ＯＣ 識別名 抵抗率 オーム／スクエア 例１ ５ × １０7 例２ ６ × １０8 例３ １．８× １０7 例４ ４ × １０7 例５ ３ × １０8 例６ ５ × １０10 例７ ２ × １０7 例３、５及び６に対する結果を図６のグラフに示す。例
３は最低の抵抗率を有し、例５は現在のＥＰＳ工程にお
ける好ましいＯＣの典型例である。従来のＯＣである例
６の５０％の相対湿度以下における抵抗率は高すぎるの
でＥＰＳ工程には使用できない。
【００２６】塩化物遊離材料はＣＲＴ応用のＯＣ層３２
に好ましい。例７において、ＶＩＭとＶＰよりなる上述
のＭＳ−９０５は、塩化物を含まず、約９０重量％のＶ
ＩＭと１０重量％のＶＰとからなる。ＭＳ−９０５の抵
抗率は、６０％及び３０％の相対湿度夫々において、３
×１０6 オーム／スクエア及び３×１０8 オーム／スク
エアである。
に好ましい。例７において、ＶＩＭとＶＰよりなる上述
のＭＳ−９０５は、塩化物を含まず、約９０重量％のＶ
ＩＭと１０重量％のＶＰとからなる。ＭＳ−９０５の抵
抗率は、６０％及び３０％の相対湿度夫々において、３
×１０6 オーム／スクエア及び３×１０8 オーム／スク
エアである。
【００２７】ＯＰＣ層３４は、適当な樹脂と、電子供与
体材料と、電子受容体材料と、界面活性剤と、有機溶媒
とからなる有機光伝導性溶液でＯＣ層３２を保護するこ
とにより形成される。乾燥すると、上記溶液は揮発性の
有機光伝導性層を形成する。上記光伝導性溶液に利用さ
れる樹脂は、（アモコ １Ｒ３Ｐ７及びＧ３、ドウスチ
ロン ６６６Ｄ及び６１５ ＡＰＲのような）ポリスチ
レンと、（アモコ レシン−１８−２１０のような）ポ
リ−α−メチルスチレンと、ポリメタクリル酸メチル
と、（デュポン エルバサイト−２０１３及び２０１６
のような）ポリメタクリル酸及びポリイソブチレンのエ
ステルとよりなる群から選ばれる。上記電子供与体材料
は、テトラフェニルエチレン（ＴＰＥ）と、トリフェニ
ルエチレン（ＴＰＥ−２）と、アズレンとよりなる群か
ら選ばれ、上記電子受容体材料は、２，４，７−トリニ
トロ−９−フルオレノン（ＴＮＦ）と、２−エチルアン
トロキノン（２−ＥＡＱ）とよりなる群から選ばれる。
上記界面活性剤は、ニューヨーク州ウォーターフォード
のゼネラルエレクトリック社より入手可能なシリコンシ
ラー−１００であり、溶媒はトルエンである。
体材料と、電子受容体材料と、界面活性剤と、有機溶媒
とからなる有機光伝導性溶液でＯＣ層３２を保護するこ
とにより形成される。乾燥すると、上記溶液は揮発性の
有機光伝導性層を形成する。上記光伝導性溶液に利用さ
れる樹脂は、（アモコ １Ｒ３Ｐ７及びＧ３、ドウスチ
ロン ６６６Ｄ及び６１５ ＡＰＲのような）ポリスチ
レンと、（アモコ レシン−１８−２１０のような）ポ
リ−α−メチルスチレンと、ポリメタクリル酸メチル
と、（デュポン エルバサイト−２０１３及び２０１６
のような）ポリメタクリル酸及びポリイソブチレンのエ
ステルとよりなる群から選ばれる。上記電子供与体材料
は、テトラフェニルエチレン（ＴＰＥ）と、トリフェニ
ルエチレン（ＴＰＥ−２）と、アズレンとよりなる群か
ら選ばれ、上記電子受容体材料は、２，４，７−トリニ
トロ−９−フルオレノン（ＴＮＦ）と、２−エチルアン
トロキノン（２−ＥＡＱ）とよりなる群から選ばれる。
上記界面活性剤は、ニューヨーク州ウォーターフォード
のゼネラルエレクトリック社より入手可能なシリコンシ
ラー−１００であり、溶媒はトルエンである。
【００２８】以下に、この例に限定されることなく、Ｏ
ＰＣ層３４を詳細に説明する例を示す。 ＯＰＣ 例１ イリノイ州シカゴのアモコケミカル社から入手可能なア
モコ１Ｒ３Ｐ７のようなポリスチレン共重合体樹脂３０
０ｇ（１０重量％）を２６４８ｇ（約８７重量％）のト
ルエンに添加し、アモコ１Ｒ３Ｐ７が完全に溶解するま
で攪拌する。次いで、テトラフェニルエチレン（ＴＰ
Ｅ）のような電子供与体材料７５ｇ（２．５重量％）
と、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン（ＴＮ
Ｆ）のような第１の電子受容体材料７．５ｇ（０．２５
重量％）と、２−エチルアントロキノン（２−ＥＡＱ）
のような第２の電子受容体材料１１．２５ｇ（０．３７
重量％）を上記溶液に添加し、全てのＴＮＦとＥＡＱが
溶解するまで攪拌する。溶液を攪拌する際に、シリコン
シラー−１００のような界面活性剤０．１５ｇ（０．
００５重量％）を添加する。全ての組成物が溶解された
ときに、得られた溶液を１０μ乃至０．５μのサイズ範
囲の開口を有する順次のカスケードフィルタで濾過す
る。濾過された光伝導性溶液の粘度は３２ｃＰである。
この溶液は、１９９３年１２月２２日に出願された米国
特許出願第１６８，４８６号明細書に記載の溶液と同一
である。 ＯＰＣ 例２ ＯＰＣの例２の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、以下の成分を含む： アモコ レシン−１８−２１０ ３００ｇ（１０重量
％） ＴＰＥ ７５ｇ（２．５重量％） ＴＮＦ ７．５ｇ（０．２５重量％） ２−ＥＡＱ １１．２５ｇ（０．３７重量％） シリコン シラー−１００ ０．１５ｇ（０．００５重
量％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ 混合及びカスケード化されたフィルタによる濾過後に、
溶液の粘度は１２ｃＰである。 ＯＰＣ 例３ ＯＰＣの例３の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、以下の成分を含む： ドイツ国ウイルミントンのデュポン社から入手可能なエ
ルバサイト ３００ｇ（１０重量％） ＴＰＥ ７５ｇ（２．５重量％） ＴＮＦ ７．５ｇ（０．２５重量％） ２−ＥＡＱ １１．２５ｇ（０．３７重量％） シリコン シラー−１００ ０．１５ｇ（０．００５重
量％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ 混合及びカスケード化されたフィルタによる濾過後に、
溶液の粘度は２１ｃＰである。
ＰＣ層３４を詳細に説明する例を示す。 ＯＰＣ 例１ イリノイ州シカゴのアモコケミカル社から入手可能なア
モコ１Ｒ３Ｐ７のようなポリスチレン共重合体樹脂３０
０ｇ（１０重量％）を２６４８ｇ（約８７重量％）のト
ルエンに添加し、アモコ１Ｒ３Ｐ７が完全に溶解するま
で攪拌する。次いで、テトラフェニルエチレン（ＴＰ
Ｅ）のような電子供与体材料７５ｇ（２．５重量％）
と、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン（ＴＮ
Ｆ）のような第１の電子受容体材料７．５ｇ（０．２５
重量％）と、２−エチルアントロキノン（２−ＥＡＱ）
のような第２の電子受容体材料１１．２５ｇ（０．３７
重量％）を上記溶液に添加し、全てのＴＮＦとＥＡＱが
溶解するまで攪拌する。溶液を攪拌する際に、シリコン
シラー−１００のような界面活性剤０．１５ｇ（０．
００５重量％）を添加する。全ての組成物が溶解された
ときに、得られた溶液を１０μ乃至０．５μのサイズ範
囲の開口を有する順次のカスケードフィルタで濾過す
る。濾過された光伝導性溶液の粘度は３２ｃＰである。
この溶液は、１９９３年１２月２２日に出願された米国
特許出願第１６８，４８６号明細書に記載の溶液と同一
である。 ＯＰＣ 例２ ＯＰＣの例２の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、以下の成分を含む： アモコ レシン−１８−２１０ ３００ｇ（１０重量
％） ＴＰＥ ７５ｇ（２．５重量％） ＴＮＦ ７．５ｇ（０．２５重量％） ２−ＥＡＱ １１．２５ｇ（０．３７重量％） シリコン シラー−１００ ０．１５ｇ（０．００５重
量％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ 混合及びカスケード化されたフィルタによる濾過後に、
溶液の粘度は１２ｃＰである。 ＯＰＣ 例３ ＯＰＣの例３の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、以下の成分を含む： ドイツ国ウイルミントンのデュポン社から入手可能なエ
ルバサイト ３００ｇ（１０重量％） ＴＰＥ ７５ｇ（２．５重量％） ＴＮＦ ７．５ｇ（０．２５重量％） ２−ＥＡＱ １１．２５ｇ（０．３７重量％） シリコン シラー−１００ ０．１５ｇ（０．００５重
量％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ 混合及びカスケード化されたフィルタによる濾過後に、
溶液の粘度は２１ｃＰである。
【００２９】掲記の３通りのＯＰＣ溶液の例は、４重量
部の樹脂に対し１重量部の電子供与体材料を利用してい
るが、かかる重量比は、８重量部の樹脂に対し１重量部
の電子供与体材料から２重量部の樹脂に対し１重量部の
電子供与体材料の範囲で変えることが可能であることが
分かった。８：１の比では溶液の光伝導性は低下し、
２：１の比において、上記の処方は不安定になる傾向が
あり、電子供与体材料を溶液から沈殿させ始める。溶液
の感度と、そこから生成されるＯＰＣ層の性能を最適化
するために、樹脂と電子供与体材料の比は４：１から
６：１の範囲内であることが好ましい。２つの電子受容
体材料の全体は、溶液の全重量の０．０５乃至１．５重
量％の範囲内であるべきことが分かった。ＯＰＣ溶液の
全体は、１２及び３２ｃＰの粘度を有するサンプルを得
るためトルエンによって希釈された。９ｃＰの粘度を有
する適当なＯＣ層で先に被覆された２０Ｖ形（対角線寸
法は２０インチ）のフェースプレートパネルを上記ＯＰ
Ｃ溶液で被覆した。好ましい被覆方法は、多量の材料を
沈積し、溶液を均一に分散させ実質的に均一な厚さの層
を形成するためにパネルを回転することによる「スピン
コート法」である。ＯＰＣの厚さは、１２及び３２ｃＰ
の粘度に対し、夫々、４μ及び１０μであった。
部の樹脂に対し１重量部の電子供与体材料を利用してい
るが、かかる重量比は、８重量部の樹脂に対し１重量部
の電子供与体材料から２重量部の樹脂に対し１重量部の
電子供与体材料の範囲で変えることが可能であることが
分かった。８：１の比では溶液の光伝導性は低下し、
２：１の比において、上記の処方は不安定になる傾向が
あり、電子供与体材料を溶液から沈殿させ始める。溶液
の感度と、そこから生成されるＯＰＣ層の性能を最適化
するために、樹脂と電子供与体材料の比は４：１から
６：１の範囲内であることが好ましい。２つの電子受容
体材料の全体は、溶液の全重量の０．０５乃至１．５重
量％の範囲内であるべきことが分かった。ＯＰＣ溶液の
全体は、１２及び３２ｃＰの粘度を有するサンプルを得
るためトルエンによって希釈された。９ｃＰの粘度を有
する適当なＯＣ層で先に被覆された２０Ｖ形（対角線寸
法は２０インチ）のフェースプレートパネルを上記ＯＰ
Ｃ溶液で被覆した。好ましい被覆方法は、多量の材料を
沈積し、溶液を均一に分散させ実質的に均一な厚さの層
を形成するためにパネルを回転することによる「スピン
コート法」である。ＯＰＣの厚さは、１２及び３２ｃＰ
の粘度に対し、夫々、４μ及び１０μであった。
【００３０】上記３通りのＯＰＣ処方の中で、例２のＯ
ＰＣは、ポリ−α−メチル−スチレン樹脂のアモコ レ
シン−１８−２１０が実質的に完全にベーキング除去さ
れるので、本発明によるベークアウトとフリットシール
を組み合わせた工程に好ましい。電子受容体であるＴＰ
Ｅと、ＴＰＥ−２と、アズレンは、３００°Ｃ未満の温
度で昇華する。ＴＰＥを使用して生成されたＯＰＣは、
先に引用した米国特許出願第１６８，４８６号明細書に
記載される２，４−ＤＭＰＢＴと同一の光伝導性特性を
有する。
ＰＣは、ポリ−α−メチル−スチレン樹脂のアモコ レ
シン−１８−２１０が実質的に完全にベーキング除去さ
れるので、本発明によるベークアウトとフリットシール
を組み合わせた工程に好ましい。電子受容体であるＴＰ
Ｅと、ＴＰＥ−２と、アズレンは、３００°Ｃ未満の温
度で昇華する。ＴＰＥを使用して生成されたＯＰＣは、
先に引用した米国特許出願第１６８，４８６号明細書に
記載される２，４−ＤＭＰＢＴと同一の光伝導性特性を
有する。
【００３１】本発明のＯＰＣの例１乃至３に記載される
溶液を使用して形成された全てのＯＰＣ層は、熱重量分
析器（ＴＧＥ）を用いて４４０°Ｃで等温的に分析され
た。ＯＰＣ層の重量損失はサンプルの温度を室温（約２
３°Ｃ）から毎分１０°Ｃの割合で４４０°Ｃの温度に
達するまで上昇させることにより判定される。かかるサ
ンプルは４４０°Ｃで１８０分間放置される。ＯＰＣ層
の熱分解は２２５°Ｃで始まり、上記層の重量の９９％
が、３５０°Ｃ、即ち、サンプルの温度が４４０°Ｃに
達する１２．５分前に分解するよう急速に進行する。本
発明のＯＰＣのかかる急速な分解は、先に引用した米国
特許出願第１６８，４８６号明細書に記載される１，４
−ジ（２，４−メチルフェニル）−１，４ジフェニルブ
タトリエン（２，４−ＤＭＰＴＢ）；（２，５−ＤＭＰ
ＢＴ）；（３，４−ＤＭＰＢＴ）；（２−ＤＭＰＴ
Ｂ）；（２−ＤＰＢＴ）；（４−ＤＦＰＢＴ）；（４−
ＤＢＰＢＴ）；（４−ＤＣＰＢＴ）又は（４−ＤＴＦＰ
ＢＴ）のような電子供与体材料を利用するＯＰＣの分解
と対照すべきである。米国特許出願第１６８，４８６号
明細書に記載される電子供与体材料を利用するＯＰＣ
は、２２５°Ｃで熱分解を開始し、３０分間に４２５°
Ｃでその重量の９６％まで急速に分解するが、更に８０
分間に４４０°Ｃでその重量の９９．５％まで緩慢な割
合で分解する。比較のために、先に引用した米国特許第
３，５５８，３１０号で使用されるような従来のＰＶＡ
／重クロム酸塩のフォトレジストは、１５０°Ｃで分解
を始め、２０分間に３５０°Ｃで９３％の重量を損失す
る。しかし、残りの７％の材料は、１８０分間のベーキ
ングの後に４４０°Ｃで残存する。従来のフォトレジス
トにおける残留物は無機重クロム酸塩である。上記のテ
ストにより、本発明のＯＰＣの処方に使用される電子供
与体材料ＴＰＥは、従来の材料、或いは、上記の米国特
許出願第１６８，４８６号明細書に記載される材料の何
れよりも、完全かつ低い温度でベーキング除去される。
その上、本発明のＯＰＣに使用される樹脂は、ＴＰＥの
結晶化を阻止するためＴＰＥと共に固溶体を形成し、３
乃至５μの範囲の厚さでＯＰＣ層の電気的破壊等を除去
する。予備的調査により、ＴＰＥで生成されるＯＰＣに
対する電気的破壊電圧は、米国特許出願第１６８，４８
６号明細書に記載される材料よりも５０乃至１００ボル
ト高いので、ＴＰＥを含む場合にマトリクス或い発光体
ラインの何れにおいても僅少の破壊しか生じない。
溶液を使用して形成された全てのＯＰＣ層は、熱重量分
析器（ＴＧＥ）を用いて４４０°Ｃで等温的に分析され
た。ＯＰＣ層の重量損失はサンプルの温度を室温（約２
３°Ｃ）から毎分１０°Ｃの割合で４４０°Ｃの温度に
達するまで上昇させることにより判定される。かかるサ
ンプルは４４０°Ｃで１８０分間放置される。ＯＰＣ層
の熱分解は２２５°Ｃで始まり、上記層の重量の９９％
が、３５０°Ｃ、即ち、サンプルの温度が４４０°Ｃに
達する１２．５分前に分解するよう急速に進行する。本
発明のＯＰＣのかかる急速な分解は、先に引用した米国
特許出願第１６８，４８６号明細書に記載される１，４
−ジ（２，４−メチルフェニル）−１，４ジフェニルブ
タトリエン（２，４−ＤＭＰＴＢ）；（２，５−ＤＭＰ
ＢＴ）；（３，４−ＤＭＰＢＴ）；（２−ＤＭＰＴ
Ｂ）；（２−ＤＰＢＴ）；（４−ＤＦＰＢＴ）；（４−
ＤＢＰＢＴ）；（４−ＤＣＰＢＴ）又は（４−ＤＴＦＰ
ＢＴ）のような電子供与体材料を利用するＯＰＣの分解
と対照すべきである。米国特許出願第１６８，４８６号
明細書に記載される電子供与体材料を利用するＯＰＣ
は、２２５°Ｃで熱分解を開始し、３０分間に４２５°
Ｃでその重量の９６％まで急速に分解するが、更に８０
分間に４４０°Ｃでその重量の９９．５％まで緩慢な割
合で分解する。比較のために、先に引用した米国特許第
３，５５８，３１０号で使用されるような従来のＰＶＡ
／重クロム酸塩のフォトレジストは、１５０°Ｃで分解
を始め、２０分間に３５０°Ｃで９３％の重量を損失す
る。しかし、残りの７％の材料は、１８０分間のベーキ
ングの後に４４０°Ｃで残存する。従来のフォトレジス
トにおける残留物は無機重クロム酸塩である。上記のテ
ストにより、本発明のＯＰＣの処方に使用される電子供
与体材料ＴＰＥは、従来の材料、或いは、上記の米国特
許出願第１６８，４８６号明細書に記載される材料の何
れよりも、完全かつ低い温度でベーキング除去される。
その上、本発明のＯＰＣに使用される樹脂は、ＴＰＥの
結晶化を阻止するためＴＰＥと共に固溶体を形成し、３
乃至５μの範囲の厚さでＯＰＣ層の電気的破壊等を除去
する。予備的調査により、ＴＰＥで生成されるＯＰＣに
対する電気的破壊電圧は、米国特許出願第１６８，４８
６号明細書に記載される材料よりも５０乃至１００ボル
ト高いので、ＴＰＥを含む場合にマトリクス或い発光体
ラインの何れにおいても僅少の破壊しか生じない。
【００３２】多数の２０Ｖ形（対角寸法２０インチ）の
フェースプレートパネルは、Ｃａｔ−Ｆｌｏｃと、ＰＶ
Ａと、少量の界面活性剤の水溶液を含むＯＣ層を形成す
るよう被覆された。このＯＣ溶液は例５のＯＣと同一で
ある。例５のＯＣ層は、上に例１のＯＰＣ層で被覆され
た。パネルの厚さを夫々４μと１０μにするために１２
と３２ｃＰの粘度を有するサンプルが生成された。
フェースプレートパネルは、Ｃａｔ−Ｆｌｏｃと、ＰＶ
Ａと、少量の界面活性剤の水溶液を含むＯＣ層を形成す
るよう被覆された。このＯＣ溶液は例５のＯＣと同一で
ある。例５のＯＣ層は、上に例１のＯＰＣ層で被覆され
た。パネルの厚さを夫々４μと１０μにするために１２
と３２ｃＰの粘度を有するサンプルが生成された。
【００３３】厚さ４μのＯＰＣ層は５０５ボルトまでコ
ロナ充電され、９０秒間暗所に放置されると、電圧は４
１５ボルトに減衰した（以下では暗所電位と呼ぶ）。次
いで、４μのＯＰＣ層は、シャドーマスクを介してキセ
ノンランプを含む照明具からの１０回のフラッシュ照射
にさらされた。露光後の表面電位は、１９０ボルトに低
下した。
ロナ充電され、９０秒間暗所に放置されると、電圧は４
１５ボルトに減衰した（以下では暗所電位と呼ぶ）。次
いで、４μのＯＰＣ層は、シャドーマスクを介してキセ
ノンランプを含む照明具からの１０回のフラッシュ照射
にさらされた。露光後の表面電位は、１９０ボルトに低
下した。
【００３４】１０μのＯＰＣ層は、７４０ボルトに充電
され、９０分後に暗所電位は６８７ボルトに減衰した。
シャドーマスクを介して２０回のフラッシュ照射後に、
この厚みのある方のＯＰＣ層の表面電位は２５０ボルト
に低下した。厚みのある方のＯＰＣ層は、薄い方のＯＰ
Ｃ層よりも高い残留電圧を有する。４μのＯＰＣ層を用
いるパネルは、先に引用した米国特許第４，９２１，７
６７号明細書に記載された方法に従って、５００ボルト
まで再充電され、青色の発光体を用いて現像された。発
光体ラインは、バックグランドを用いることなく、即
ち、他の色放出性発光体又はマトリクスライン用に確保
されたＯＰＣの領域に発光体を沈積させることなく、良
好に画成される。米国特許第４，９２１，７６７号に記
載の方法で３つの色放出性発光体のすべてを沈積させる
ことにより更に４台の２０Ｖ形パネルをスクリーニング
した。パネルは薄膜化され、アルミニウム処理され、４
４０°Ｃでの１時間を含む４時間１０分に亘りベーキン
グされた。ＯＣ及びＯＰＣの両方は、褐色の炭素状残留
物を残すことなく完全にベーキング除去された。
され、９０分後に暗所電位は６８７ボルトに減衰した。
シャドーマスクを介して２０回のフラッシュ照射後に、
この厚みのある方のＯＰＣ層の表面電位は２５０ボルト
に低下した。厚みのある方のＯＰＣ層は、薄い方のＯＰ
Ｃ層よりも高い残留電圧を有する。４μのＯＰＣ層を用
いるパネルは、先に引用した米国特許第４，９２１，７
６７号明細書に記載された方法に従って、５００ボルト
まで再充電され、青色の発光体を用いて現像された。発
光体ラインは、バックグランドを用いることなく、即
ち、他の色放出性発光体又はマトリクスライン用に確保
されたＯＰＣの領域に発光体を沈積させることなく、良
好に画成される。米国特許第４，９２１，７６７号に記
載の方法で３つの色放出性発光体のすべてを沈積させる
ことにより更に４台の２０Ｖ形パネルをスクリーニング
した。パネルは薄膜化され、アルミニウム処理され、４
４０°Ｃでの１時間を含む４時間１０分に亘りベーキン
グされた。ＯＣ及びＯＰＣの両方は、褐色の炭素状残留
物を残すことなく完全にベーキング除去された。
【００３５】例２及び３に従って生成されたＯＰＣは、
ガラス製スライド上でベーキング除去の特性が評価され
た。両方のサンプルは４４０°Ｃで残留物を残すことな
くベーキング除去された。本発明のＯＰＣ処方物は４０
０乃至４５０ｎｍで非常に透明性が高く、色素の添加に
よって、透明度と、サンプルに幻像を誘起したガラス基
板からの反射とが低減される利点が得られる。透過率の
逆数の対数として定められるＯＰＣの光吸収作用を図７
に示す。図７に更に示す本発明のＯＰＣ層のスペクトル
感度は、５００乃至５５０ｎｍで急激な減少を示し、５
５０ｎｍ以上でスペクトル感度は実質的に存在しないの
で、ＯＰＣ層は、略５７７乃至５９７ｎｍの波長を有す
る黄色の光の下での処理に適している。このことは、Ｏ
ＰＣ層が５５０ｎｍ以上で実質的に感度が低い程、暗
所、又は、抑制された光で処理する必要はなく、従っ
て、製造環境においてＥＰＳ工程の安全性が得られるこ
とを示す。
ガラス製スライド上でベーキング除去の特性が評価され
た。両方のサンプルは４４０°Ｃで残留物を残すことな
くベーキング除去された。本発明のＯＰＣ処方物は４０
０乃至４５０ｎｍで非常に透明性が高く、色素の添加に
よって、透明度と、サンプルに幻像を誘起したガラス基
板からの反射とが低減される利点が得られる。透過率の
逆数の対数として定められるＯＰＣの光吸収作用を図７
に示す。図７に更に示す本発明のＯＰＣ層のスペクトル
感度は、５００乃至５５０ｎｍで急激な減少を示し、５
５０ｎｍ以上でスペクトル感度は実質的に存在しないの
で、ＯＰＣ層は、略５７７乃至５９７ｎｍの波長を有す
る黄色の光の下での処理に適している。このことは、Ｏ
ＰＣ層が５５０ｎｍ以上で実質的に感度が低い程、暗
所、又は、抑制された光で処理する必要はなく、従っ
て、製造環境においてＥＰＳ工程の安全性が得られるこ
とを示す。
【００３６】本発明の例１乃至３のＯＰＣを使用して生
成されたスクリーンは、パネルのベーキング除去とフリ
ットシールとを組み合わせた処理に適している。マトリ
クスと発光体よりなるスクリーン構造体材料が光受容体
に沈積し、定着し、薄膜化され、アルミニウム処理され
た後に、シャドーマスク２５はパネル内に設置され、フ
リット材料のビードがパネル１２又はファンネル１５の
いずれかのシールエッジに塗布される。パネルはシール
エッジが整列されるようファンネル上に置かれ、ファン
ネルとパネルは適当な窯の中に支持される。窯は、フリ
ットを固め、同時に、少なくとも光受容体と、スクリー
ン構造体及び薄膜化材料の揮発性構成物とを揮発させる
のに十分な時間的間隔に亘り、ファンネルとパネルを４
４０°Ｃの温度に加熱する。
成されたスクリーンは、パネルのベーキング除去とフリ
ットシールとを組み合わせた処理に適している。マトリ
クスと発光体よりなるスクリーン構造体材料が光受容体
に沈積し、定着し、薄膜化され、アルミニウム処理され
た後に、シャドーマスク２５はパネル内に設置され、フ
リット材料のビードがパネル１２又はファンネル１５の
いずれかのシールエッジに塗布される。パネルはシール
エッジが整列されるようファンネル上に置かれ、ファン
ネルとパネルは適当な窯の中に支持される。窯は、フリ
ットを固め、同時に、少なくとも光受容体と、スクリー
ン構造体及び薄膜化材料の揮発性構成物とを揮発させる
のに十分な時間的間隔に亘り、ファンネルとパネルを４
４０°Ｃの温度に加熱する。
【図１】本発明により製造されたカラーＣＲＴの軸方向
部分断面の平面図である。
部分断面の平面図である。
【図２】図１に示す陰極線管のスクリーン組立体の断面
図である。
図である。
【図３】電子写真的スクリーニング処理において利用さ
れる処理シーケンスのブロック図である。
れる処理シーケンスのブロック図である。
【図４】本発明の伝導性層の上に重なる光伝導性層を示
すフェースプレートパネルの断面図である。
すフェースプレートパネルの断面図である。
【図５】図１に示す陰極線管のスクリーン組立体の他の
実施例である。
実施例である。
【図６】種々の伝導性層の抵抗率の相対湿度百分率の関
数としてのグラフである。
数としてのグラフである。
【図７】本発明の伝導性層の上に重なる光伝導性層の光
吸収作用とスペクトル感度のグラフである。
吸収作用とスペクトル感度のグラフである。
１０ ＣＲＴ １１ ガラスエンベロープ １２ フェースプレートパネル １４ ネック １５ ファンネル １６ アノードボタン １８ ビューイングフェースプレート ２０ フランジ ２１ ガラスフリット ２２，１２２ スクリーン ２３ 光吸収性マトリクス材料 ２４ 伝導性層 ２５ シャドーマスク ２６ 電子銃 ２８ 電子ビーム ３０ ヨーク ３２ 有機伝導性層 ３４ 有機光伝導性層 １２３ マトリクス １２４ アルミニウム層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ニティン ヴィタルブハイ デサイ アメリカ合衆国 ニュージャージー 08550 プリンストン・ジャンクション アムハースト・ウェイ ７ (72)発明者 ロナルド ノーマン フリエル アメリカ合衆国 ニュージャージー 08690 ハミルトン・スクエア エイカー ズ・ドライヴ 125 (72)発明者 ユージン サミュエル ポリニアク アメリカ合衆国 ニュージャージー 08046 ウィリングボロ グローヴァー・ レーン 13
Claims (2)
- 【請求項１】 シールエッジを備えたファンネルにシー
ルされたシールエッジを有するフェースプレートパネル
を含むカラー陰極線管の発光スクリーン組立体を製造す
る方法であって： ａ） ｉ）揮発性の伝導性層を形成するため水性有機伝
導性溶液で該パネルの内側の面を被覆し； ｉｉ）５５０ｎｍを超える波長でスペクトル感度を実質
的に有しない揮発性の光伝導性層を形成するため、適当
な樹脂と、電子供与体材料と、少なくとも一の電子受容
体材料と、界面活性剤と、有機溶媒とよりなる有機光伝
導性溶液で該伝導性層を被覆することにより；該パネル
の内側の面に揮発性光受容体を設け； ｂ）実質的に均一な静電荷を該光伝導性層に定着させ； ｃ）その上の該電荷を作用させるため該光伝導性層の選
択された領域を化学線放射にさらし； ｄ）少なくとも一の乾燥性、光放出性、摩擦電気的に充
電されたスクリーン構造体材料で該光伝導性層を現像
し； ｅ）該スクリーン構造体材料の変位を最小限に抑えるた
め該スクリーン構造体材料を該光伝導性層に固定し； ｆ）該スクリーン構造体材料を適当な薄膜化材料で薄膜
化し； ｇ）上記薄膜化されたスクリーン構造体材料をアルミニ
ウム処理し； ｈ）該パネル内にカラー選択電極を設置し； ｉ）該シールエッジの一方にフリット材料のビードを設
け、該シールエッジを整列して該パネルを該ファンネル
に置き； ｋ）該ファンネル及び該パネルを適当な窯に支持し； ｌ）該フリット材料を固め、同時に、該光受容体と、該
スクリーン構造体材料と該薄膜化材料の揮発性構成物と
を揮発させるのに十分な時間的間隔で該ファンネル及び
該パネルを該フリット材料の凝固温度を上回る温度に加
熱する段階よりなり：該光伝導性溶液の該樹脂は、ポリ
スチレンと、ポリ−α−メチルスチレンと、ポリメタク
リル酸メチルと、ポリメタクリル酸及びポリイソブチレ
ンのエステルとよりなる群から選ばれ；該電子供与体材
料は、テトラフェニルエチレン（ＴＰＥ）と、トリフェ
ニルエチレン（ＴＰＥ−２）と、アズレンとよりなる群
から選ばれ、該供与体材料は該フリットの凝固温度を下
回る温度で実質的に完全に分解され；該電子受容体は、
２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン（ＴＮＦ）
と、２−エチルアントロキノン（２−ＥＡＱ）とからな
る方法。 - 【請求項２】 シールエッジを備えたファンネルにシー
ルされたシールエッジを有するフェースプレートパネル
の内側の面にカラー陰極線管の発光スクリーン組立体を
製造する方法であって： ａ） ｉ）揮発性の伝導性層を形成するため水性有機伝
導性溶液で該パネルの該内側の面を被覆し； ｉｉ）５５０ｎｍを超える波長でスペクトル感度を実質
的に有しない揮発性の光伝導性層を形成するため、５乃
至１５重量パーセントの適当な樹脂と、約２．５重量パ
ーセントの電子供与体材料と、約０．６重量パーセント
の少なくとも二つの電子受容体材料と、約０．００５重
量パーセントの界面活性剤と、有機溶媒であるバランス
とよりなる有機光伝導性溶液で該伝導性層を被覆するこ
とにより； 該パネルの該内側の面に揮発性光受容体を設け； ｂ）実質的に均一な静電荷を該光伝導性層に定着させ； ｃ）その上の該電荷を作用させるため該光伝導性層の選
択された領域を化学線放射にさらし； ｄ）少なくとも一の乾燥性、光放出性、摩擦電気的に充
電されたスクリーン構造体材料で該光伝導性層を現像
し； ｅ）該スクリーン構造体材料の変位を最小限に抑えるた
め該スクリーン構造体材料を該光伝導性層に固定し； ｆ）該スクリーン構造体材料を薄膜化し； ｇ）上記薄膜化されたスクリーン構造体材料をアルミニ
ウム処理し； ｈ）該パネル内にカラー選択電極を設置し； ｉ）該シールエッジの一方にフリット材料のビードを設
け、該シールエッジを整列して該パネルを該ファンネル
に置き； ｊ）該ファンネル及び該パネルを適当な窯に支持し； ｋ）該フリット材料を固め、同時に、少なくとも該光受
容体と、該スクリーン構造体材料と該薄膜化材料の揮発
性構成物とを揮発させるのに十分な時間的間隔で該ファ
ンネル及び該パネルを４４０°Ｃに加熱する段階よりな
り：該光伝導性溶液の該樹脂は、ポリスチレンと、ポリ
−α−メチルスチレンと、ポリメタクリル酸メチルと、
ポリメタクリル酸及びポリイソブチレンのエステルとよ
りなる群から選ばれ；該電子供与体材料は、テトラフェ
ニルエチレン（ＴＰＥ）と、トリフェニルエチレン（Ｔ
ＰＥ−２）と、アズレンとよりなる群から選ばれ、該供
与体材料は３５０°Ｃの温度で実質的に完全に分解さ
れ；該電子受容体は、２，４，７−トリニトロ−９−フ
ルオレノン（ＴＮＦ）と、２−エチルアントロキノン
（２−ＥＡＱ）とからなる方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/168,487 US5405722A (en) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | Method for combined baking-out and sealing of an electrophotographically processed screen assembly for a cathode-ray tube |
| US168487 | 1993-12-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07235264A true JPH07235264A (ja) | 1995-09-05 |
Family
ID=22611693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6318772A Withdrawn JPH07235264A (ja) | 1993-12-22 | 1994-12-21 | 電子写真的にスクリーニング処理された陰極線管のベーキングとシーリングを組合せた製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5405722A (ja) |
| JP (1) | JPH07235264A (ja) |
| KR (1) | KR0141521B1 (ja) |
| CN (1) | CN1073272C (ja) |
| PL (1) | PL177648B1 (ja) |
| TW (1) | TW279994B (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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