JPH07235263A - 有機伝導体を使用する陰極線管の電子写真スクリーニング方法 - Google Patents
有機伝導体を使用する陰極線管の電子写真スクリーニング方法Info
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- JPH07235263A JPH07235263A JP6318771A JP31877194A JPH07235263A JP H07235263 A JPH07235263 A JP H07235263A JP 6318771 A JP6318771 A JP 6318771A JP 31877194 A JP31877194 A JP 31877194A JP H07235263 A JPH07235263 A JP H07235263A
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Abstract
良されたカラーCRT用フェースプレートパネルのスク
リーン組立体の電子写真的な製造方法の提供を目的とす
る。 【構成】 本発明のカラーCRT(10)用フェースプ
レートパネル(12)の内側の面にスクリーン組立体
(22,24)を電子写真的に製造する方法は、揮発性
有機伝導性層(32)を形成するため伝導性溶液でパネ
ルの面を順次に被覆し、揮発性有機光伝導性層(34)
を形成するため光伝導性溶液で伝導性層を被覆する段階
からなる。第4級アンモニウム高分子電解質と界面活性
剤とからなる伝導性層は、光伝導性層に電極を設け、従
来の伝導性層と比べて改良された電気的、物理的特性を
有する。
Description
の発光スクリーン組立体の電子写真的な製造方法に係
り、特に、上に重なる光伝導性層の電極として機能する
有機伝導性層を設けるために改良された材料を使用する
方法に関する。上記改良された伝導性材料は、従来の伝
導性層と比べて優れた物理的、電気的特性を有する。
れた米国特許第4,921,767号明細書には、適切
に調製され静電的に充電可能な面に沈積した乾燥粉末化
され摩擦電気的に充電されたスクリーン構造体材料を使
用するCRTのフェースプレートの内側の面に発光スク
リーン組立体を電子写真的に製造する方法が記載されて
いる。充電可能な面又は光受容体は、伝導性層の上に重
なる有機光伝導性層よりなり、両方の層はCRTパネル
の内側の面に溶液として順次に沈積される。
酸化スズ、酸化インジウム又はインジウム−スズの混合
物の酸化物のような無機伝導体、或いは、ウィスコンシ
ン州ミルウォーキのアルドリッチケミカル社より入手可
能なポリブレンとして商業的に周知の高分子電解質を含
む揮発性有機伝導性材料の何れかよりなる。
高い表面抵抗率(>1011オーム/スクエア)を有し、
これにより、低い相対湿度(<50%RH(相対湿
度))で上に重なる光伝導性層の緩慢な不均一な充電が
生ずることである。その上、上記材料は薄膜化中に亀裂
を生じ、かつ、結晶化する傾向があり、スクリーン組立
体に欠陥が生じる。
価ではなく、光伝導性層に適合する適当な材料が必要で
ある。
CRTのフェースプレートパネルの内側の面上に発光ス
クリーン組立体を電子写真的に製造する方法は、揮発性
の有機伝導性層を形成するため第4級アンモニウム高分
子電解質と界面活性剤とからなる伝導性溶液で上記パネ
ルの面を被覆し、揮発性の有機光伝導性層を形成するた
め、光伝導性溶液で上記有機伝導性層を保護する段階よ
りなる。
ポリ(ジメチル−ジアリル−塩化アンモニウム)と;ポ
リ(3,4−ジメチレン−N−ジメチル−塩化ピロリジ
ウム)(3,4−DNDP塩化物)と;ポリ(3,4−
ジメチレン−N−ジメチル−ピロリジウム硝酸塩)
(3,4−DNDP硝酸塩)と;ポリ(3,4−ジメチ
レン−N−ジメチル−ピロリジウム燐酸塩)(3,4−
DNDP燐酸塩)と、ビニルイミダゾリウムメト硫酸塩
とビニルピロリドンの共重合体よりなる群から選ばれ
る。
と、矩形状ファンネル15により接続された管状ネック
14とよりなるガラスエンベロープ11を有するCRT
10のようなカラーディスプレイ装置を示す。ファンネ
ル15は、アノードボタン16と接触しネック14に延
在する内部伝導性皮膜(図示せず)を有する。パネル1
2はビューイングフェースプレート又はサブストレート
18と、ガラスフリット21によりファンネル15にシ
ールされた周辺側のフランジ又は側壁20とからなる。
3色発光スクリーン22は、フェースプレート18の内
側の面に支持される。図2に示すスクリーン22は、好
ましくは、色のグループに配置された赤色放出性、緑色
放出性、及び青色放出性の発光体の縞、R、G、及びB
夫々の多数のスクリーン素子、或いは、衝突する電子ビ
ームが発生する平面に略垂直な方向に延在し、循環的に
並ぶ3本の縞、又は、トライアッド(3色の組)のピク
チャー素子を含むライン形スクリーンである。かかる実
施例に対し通常のビューイング位置において発光体の縞
は垂直方向に延在する。好ましくは、上記発光体の縞
は、従来より周知の光吸収性マトリクス材料23により
互いに隔離される。或いは、スクリーンはドット形スク
リーンでも良い。好ましくはアルミニウム製である薄い
伝導性層24は、スクリーン22の上に重ねられ、発光
体素子から放出されフェースプレート18を通過する光
を反射すると共にスクリーンに均一の電位を印加する手
段を提供する。スクリーン22と上に重なるアルミニウ
ム層24は、スクリーン組立体を構成する。
選択電極、又は、シャドーマスク25は、スクリーン組
立体に所定の間隔のある関係で従来の手段によって取外
し自在に取付けられる。図1に点線で概略的に示される
電子銃26は、3本の電子ビーム28を発生し、マスク
25の開口部を介しコンバージェンスパスに沿ってスク
リーン22に当てるためネック14の中心側に取付けら
れる。銃26は、例えば、1986年10月28日にモ
レル他に発行された米国特許第4,620,133号明
細書に記載される形の双電位式電子銃、又は、他のあら
ゆる適当な銃からなる。
領域にあるヨーク30のような外部磁気偏向ヨークと共
に使用するよう設計される。ヨーク30は作動すると、
スクリーン22上で矩形状のラスタ内で水平方向及び垂
直方向にビームを走査させる磁界を3本のビーム28に
印加する。最初の偏向面(ゼロ偏向の箇所)は図1に線
P−Pでヨーク30の中央付近に示される。説明の便宜
上、偏向区域における偏向ビームパスの実際の曲率は示
さない。
第4,921,767号明細書に記載され、図3のブロ
ック図に示す電子写真的スクリーニング(EPS)工程
により製造される。最初に、パネル12は、従来より周
知の如く、苛性溶液で洗浄され、水で洗い流され、緩衝
化されたフッ化水素酸でエッチングされ、再び水で洗い
流される。ビューイングフェースプレート18の内部に
は、好ましくは、上に重なる有機光伝導性(OPC)層
34に電極を提供する有機伝導性(OC)材料からなる
適当な層32よりなる光受容体が設けられる。上記OC
層32及びOPC層34を図4に示す。
め、OPC層34は、1992年1月28日にダッタ他
に発行された米国特許第5,083,959号明細書に
記載される形のコロナ充電を使用して、+200ボルト
から+700ボルトの範囲内の適当な電位に充電され
る。シャドーマスク25はパネル12に挿入され、正に
充電されたOPC層34は、シャドーマスク25を介し
て、従来のスリーインワン形の照明具に配置されたキセ
ノンフラッシュランプからの光のような化学線が照射さ
れる。各照射の後に、ランプは、電子銃からの電子ビー
ムの入射角を2倍にするため別の位置に動かされる。光
放出発光体がスクリーン22を形成するために、引続き
沈積されるOPC層の領域を放電するために、3ヵ所の
別個のランプ位置から3回の露光が必要である。露光段
階後に、シャドーマスク25はパネル12から取り除か
れ、パネルは、1993年10月6日に出願された米国
特許出願第132,263号明細書に記載されるような
第1の現像装置に移される。かかる現像装置は、光吸収
性の黒色マトリクススクリーン構造体材料の適切に調製
された乾燥粉末状の微粉を含む。上記マトリクス材料は
現像装置によって摩擦電気的に負に充電される。負に充
電されたマトリクス材料は、先に引用した米国特許第
4,921,767号明細書に記載される如く、1段階
だけで直接に沈積させるか、或いは、1993年7月2
0日にリドル他に発行された米国特許第5,229,2
34号明細書に記載される如く2段階で直接に沈積させ
ることが可能である。上記「2段階」マトリクス沈積処
理は、得られるマトリクスの不透明度を増加させる。光
放出発光体材料は、先に引用した米国特許第4,92
1,767号明細書に記載される方法で沈積させられ
る。
971年1月26日にメイアウドに発行された米国特許
第3,558,310号明細書に記載された従来の湿式
マトリクス処理を使用してマトリクスを形成することが
可能である。マトリクスが湿式処理により形成される場
合に、光受容体はマトリクス上に形成され、発光体材料
は先に引用した米国特許第4,921,767号明細書
に記載される方法で沈積される。
程の他に、EPS工程により発光体を沈積した後にマト
リクス123を電子写真的に形成することが可能であ
る。この「後にマトリクス形」の工程は、1993年8
月31日にエーマン ジュニアに発行された米国特許第
5,240,798号明細書に記載される。図5には、
スクリーン122と、上に重なるアルミニウム層124
とからなり、米国特許第5,240,798号明細書に
記載の.後にマトリクス形」の工程に従って製造された
スクリーン組立体が示される。
色−、青色−、及び緑色−放出発光体素子、R、B、及
びGは、夫々、摩擦電気的に正に充電された発光体スク
リーン構造体材料の微粉を光受容体の正に充電されたO
PC層34に順次に沈積させることにより形成される。
充電処理は、先に引用した米国特許第5,083,95
9号明細書に記載されるのと同じである。3つの発光体
が沈積された後に、OPC層34は再び正の電位に均一
に充電され、先に沈積された発光体を含むパネルは、摩
擦電気的に負の電荷をマトリクス構造体材料に与えるマ
トリクス現像装置で沈積させられる。発光体スクリーン
素子を隔離する光伝導性層の正に充電された開いた領域
は、マトリクス123を形成するために、負に充電され
たマトリクス材料を上記開いた領域に沈積させることに
より直接現像される。かかる処理は「直接」現像と呼ば
れる。次いで、スクリーン構造体材料は、先に引用した
米国特許第4,921,767号明細書に記載される如
く、定着され薄膜化される。アルミニウム層124は、
層24を設ける際に説明した目的のためスクリーン12
2上に設けられる。アルミニウム処理されたスクリーン
組立体を有するフェースプレートパネルは、スクリーン
組立体の組成物を揮発させるため約425°Cでベーキ
ングされる。上記のスクリーン製造工程は、上記のスク
リーン組立体と構造的に同一のスクリーン組立体を実現
するために、OPC層34に設けられた電荷の極性と、
スクリーン構造体材料に誘導された摩擦電気的電荷の極
性の両方を反転させることによって変形することが可能
である。
乃至6重量パーセントの第4級アンモニウム高分子電解
質と、約0.001乃至0.1重量パーセント、好まし
くは、約0.01重量パーセントの適当な界面活性剤
と、約0.5乃至2重量パーセント、又は、それ未満の
ポリビニルアルコール(PVA)と、バランス脱イオン
水とを含む水性有機伝導性溶液でパネル12の内側の面
を覆うことにより形成される。第4級アンモニウム高分
子電解質は、ポリ(ジメチル−ジアリル−塩化アンモニ
ウム)と、ポリ(3,4−ジメチレン−N−ジメチル−
塩化ピロリジウム)(3,4−DNDP塩化物)と、ポ
リ(3,4−ジメチレン−N−ジメチル−ピロリジウム
硝酸塩)(3,4−DNDP硝酸塩)と、ポリ(3,4
−ジメチレン−N−ジメチル−ピロリジウム燐酸塩)
(3,4−DNDP燐酸塩)とよりなる群から選ばれる
ホモポリマー(単独重合体)である。或いは、ビニルイ
ミダゾリウム メト硫酸塩(VIM)及びビニルピロリ
ドン(VP)のような適当な共重合体を伝導性溶液に使
用してもよい。
ウム)は、ペンシルベニア州ピッツバーグのカルゴン社
よりCat−Floc−C又はCat−Floc−T−
2として商業的に入手可能であり、VIMとVPの共重
合体はニュージャージ州パーシパニーのBASF社より
MOS−905として入手可能である。商業的に入手可
能なCat−Floc材料は、0.6重量パーセントの
高分子電解質と、0.3重量パーセントのポリビニルピ
ロリドンと、約99重量パーセントのメチルアルコール
と、パネルのベーキング後に完全にはベーキング除去さ
れないNaCl(塩化ナトリウム)及びK2 SO4 (硫
酸カリウム)のような無機塩を含む。塩化物イオンは、
有機伝導体の製造に使用する前に、入手した材料から除
去するか、或いは、少なくとも濃度を低下させる必要が
ある。商業的に入手可能な材料は100グラム当たり約
0.20米ドル、或いは、1パネル当たり約0.002
米ドルを要する。
結合された塩化物を除去するために、Cat−Floc
の10%溶液は、2時間に亘り3倍の蒸留水に溶解さ
れ、10%の固体陽イオン交換ビードと混合される。混
合物は5μの圧力フィルタを通して濾過され、イオン交
換によるCat−Flocはアセトンと共に溶液から沈
殿する。沈殿物は、その比が80:20のアセトン:水
で洗浄され、50重量パーセントのCat−Flocを
含む水溶液を生成するため水に溶解される。塩化物遊離
Cat−FlocのpHは、12乃至13の範囲内にあ
る。このpHは、0.1%HNO3 (硝酸)又は0.1
%のH3 PO4 (燐酸)で滴定することによりpH4に
調整される。
C層32を詳細に説明する例を示す。 OC 例1 有機伝導性溶液は、以下の成分を1時間に亘り混合し、
その溶液を1μ(ミクロン)のフィルタで濾過すること
により形成される。溶液の粘度は2.6センチポイズ
(cP)である。
ウム)の水に対する50%溶液 100g(5重量%) プルロニックL−72(50:50の水:メタノールに
5%)(ニュージャージ州パーシパニーのBASF社か
ら入手可能)のような界面活性剤 2g(0.01重量
%) (バランス)脱イオン水 900g OC 例2 第2の有機伝導性溶液は、以下の成分をOCの例1に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は5cPである。
ウム)の水に対する50%溶液 60g(3.2重量
%) ポリビニルアルコール(PVA)の水に対する10%溶
液 90g(0.96重量%) プルロニックL−72のメタノール(50):水(5
0)に対する5%溶液2g(0.01重量%) (バランス)脱イオン水 778g OC 例3 第3の有機伝導性溶液は、以下の成分をOCの例1に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は3cPである。
する50%溶液 100g(5.3重量%) プルロニックL−72のメタノール(50):水(5
0)に対する5%溶液2g(0.01重量%) (バランス)脱イオン水 778g 上記の溶液においてポリ(3,4−DNDP塩化物)を
同量のポリ(3,4−DNDP硝酸塩)又はポリ(3,
4−DNDP燐酸塩)に置き換えても良い。 OC 例4 第4の有機伝導性溶液は、以下の成分をOCの例1に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は1.9cPである。
溶液 100g(5重量%) プルロニックL−72のメタノール(50):水(5
0)に対する5%溶液2g(0.01重量%) (バランス)脱イオン水 900g OC 例5 第5の有機伝導性溶液は、以下の成分をOCの例1に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は2.6cPである。
溶液 60g(3.2重量%) PVAの水に対する10%溶液 90g(0.96重量
%) プルロニックL−72のメタノール(50):水(5
0)に対する5%溶液2g(0.01重量%) (バランス)脱イオン水 778g OC 例6 先に引用した米国特許第4,921,767号明細書に
記載される以下の有機伝導性溶液はコントロールとして
利用する。溶液の粘度は2.2cPである。
1,5−ジメチルジアゾ−ウンデカ−メチレン−ポリメ
トブロマイド(ウィスコンシン州ミルウォーキのアルド
リッチケミカル社からポリブレンとして入手可能) 6
0g(3重量%) ポリアクリル酸(PAA)の水に対する25%水溶液
120g(1.5重量%) プルロニックL−72のメタノール(50):水(5
0)に対する5%溶液1.5g(0.004重量%) (バランス)脱イオン水 1812g OC 例7 ビニルイミダゾリウム メト硫酸塩(VIM)とビニル
ピロリドン(VP)の共重合体MS−905 100g
(5重量%) プルロニックL−72のメタノール(50):水(5
0)に対する5%溶液3g(0.01重量%) (バランス)脱イオン水 900g 上記のOCの例に対し相対湿度百分率の関数として抵抗
率を判定した。溶液でガラス製スライドを被覆した。
0.5μと、1μと、2μの厚さの皮膜を作成し、伝導
性薄膜の直流電流量及び表面抵抗を測定するためにAS
TM−D 257形の表面抵抗測定プローブを使用し
た。被覆されたガラス製スライドは、5、20、30、
50、60及び90パーセントの相対湿度で24時間保
存された。全薄膜サンプルの表面抵抗率は、薄膜の厚さ
とは無関係であるが、相対湿度に依存することが分かっ
た。表1は、50%のRH(相対湿度)における6個の
OC薄膜の例から作られた薄膜の抵抗率をオーム/スク
エアの単位で示す。 表1 OC 識別名 抵抗率 オーム/スクエア 例1 5 × 107 例2 6 × 108 例3 1.8× 107 例4 4 × 107 例5 3 × 108 例6 5 × 1010 例7 2 × 107 例3、5及び6に対する結果を図6のグラフに示す。例
3は最低の抵抗率を有し、例5は現在のEPS工程にお
ける好ましいOCの典型例である。従来のOCである例
6の50%の相対湿度以下における抵抗率は高すぎるの
でEPS工程には使用できない。
に好ましい。例7、即ち、VIMとVPよりなる上述の
MS−905は、塩化物を含まず、約90重量%のVI
Mと10重量%のVPとからなる。MS−905の抵抗
率は、60%及び30%の相対湿度夫々において、3×
106 オーム/スクエア及び3×108 オーム/スクエ
アである。
体材料と、電子受容体材料と、界面活性剤と、有機溶媒
とからなる有機光伝導性溶液でOC層32を保護するこ
とにより形成される。乾燥すると、上記溶液は揮発性の
有機光伝導性層を形成する。上記光伝導性溶液に利用さ
れる樹脂は、ポリスチレンと、ポリ−α−メチルスチレ
ンと、ポリスチレン−ブタジエン共重合体と、ポリメタ
クリル酸メチルと、ポリメタクリル酸、ポリイソブチレ
ン、及びポリプロピレン炭酸塩のエステルとよりなる群
から選ばれる。
4−メチルフェニル)−1,4 ジフェニルブタトリエ
ン(2,4−DMPBT)と、1,4−ジ(2,5−メ
チルフェニル)−1,4 ジフェニルブタトリエン
(2,5−DMPBT)と、1,4−ジ(3,4−メチ
ルフェニル)−1,4 ジフェニルブタトリエン(3,
4−DMPBT)と、1,4−ジ(2−メチルフェニ
ル)−1,4 ジフェニルブタトリエン(2−DMPB
T)と、1,4−ジフェニル−1,4 ジフェニルフェ
ニルブタトリエン(2−DPBT)と、1,4−ジ(4
−フルオロフェニル)−1,4 ジフェニルブタトリエ
ン(4−DFPBT)と、1,4−ジ(4−ブロモフェ
ニル)−1,4 ジフェニルブタトリエン(4−DBP
BT)と、1,4−ジ(4−クロロフェニル)−1,4
ジフェニルブタトリエン(4−DCPBT)と、1,
4−ジ(4−トリフルオロメチルフェニル)−1,4
ジフェニルブタトリエン(4−DTFPBT)とよりな
る群から選ばれる。
(9−F)と、3−ニトロ−9−フルオレノン(3−N
F)と、2,7−ジニトロ−9−フルオレノン(2,7
−DNF)と、2,4,7−トリニトロ−9−フルオレ
ノン(2,4,7−TNF)と、2,4,7−トリニト
ロ−9−フルオレニリデン マロノニトリル(2,4,
7−TNFMN)と、アントロキノン(AQ)と、2−
エチルアントロキノン(2−EAQ)と、1−クロロア
ントロキノン(1−CAQ)と、2−メチルアントロキ
ノン(2−MAQ)と、2,1−ジクロロ−1,4 ナ
フタキノン(2,1−DCAQ)とよりなる群から選ば
れる。
ベリーのユニオンカーバイド社より入手可能なシリコン
U−7602、又は、ニューヨーク州ウォーターフォー
ドのゼネラルエレクトリック社より入手可能なシリコン
シラー−100の何れでも良く、溶媒はトルエン又は
キシレンの何れでも構わない。以下に、この例に限定さ
れることなく、OPC層34を詳細に説明する例を示
す。 OPC 例1 オハイオ州アクロンのグッドイヤータイヤアンドラバー
社から入手可能なプライトン(Plitone)−10
35のようなポリスチレン−ブタジエン共重合体樹脂3
00g(10重量%)を2648g(約88重量%)の
トルエンに添加し、プライントが完全に溶解するまで攪
拌する。次いで、テトラフェニルブタトリエン(TPB
T)のような電子供与体材料50g(1.66重量%)
と、2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン(TN
F)のような電子受容体材料2.5g(0.083重量
%)を上記溶液に添加し、全てのTNFが溶解するまで
攪拌する。溶液を攪拌する際に、シリコン シラー−1
00のような界面活性剤0.15g(0.005重量
%)を添加する。全ての組成物が溶解されたときに、得
られた溶液を10μ乃至0.5μのサイズ範囲の開口を
有する順次のカスケードフィルタで濾過する。濾過され
た光伝導性溶液の粘度は6cPである。この溶液は先に
引用した米国特許第4,921,767号明細書に記載
の溶液と同一であり、コントロールとして使用する。 OPC 例2 OPCの例2の溶液はOPCの例1に記載の方法で生成
され、以下の成分を含む: プライトン−1035 300g(10重量%) 2,4−DMPBT 50g(1.66重量%) TNF 2.5g(0.083重量%) シリコン シラー−100 0.15g(0.005重
量%) (バランス)トルエン 2648g 混合及びカスケード化されたフィルタによる濾過後に、
溶液の粘度は7cPである。 OPC 例3 OPCの例3の溶液はOPCの例1に記載の方法で生成
され、以下の成分を含む: プライトン−1035 450g(14重量%) 2,4−DMPBT 75g(2.36重量%) TNF 3.7g(0.12重量%) シリコン シラー−100 0.15g(0.005重
量%) (バランス)トルエン 2648g 例3の溶液の粘度は13cPである。 OPC 例4 OPCの例4の溶液はOPCの例1に記載の方法で生成
され、30±2cPの粘度を有する。この粘度はコーテ
ィング処理に適した溶媒を添加することにより調整され
る。OPCの例4の成分は以下の通りである: ポリスチレン(イリノイ州シカゴのアモコ社からアモコ
1R3P7として入手可能) 300g(10重量%) 2,5−DMPBT 50g(1.66重量%) TNF 2.5g(0.083重量%) シリコン シラー−100 0.15g(0.005重
量%) (バランス)トルエン 2648g OPC 例4 OPCの例5の溶液はOPCの例1に記載の方法で生成
され、28cPの粘度を有する。OPCの例4の成分は
以下の通りである: ポリスチレン 300g(10重量%) 2−DPBT 50g(1.66重量%) TNF 2.5g(0.083重量%) シリコン シラー−100 0.15g(0.005重
量%) (バランス)トルエン 2648g OPC 例5 OPCの例5の溶液はOPCの例1に記載の方法で生成
され、28cPの粘度を有する。OPCの例5の成分は
以下の通りである: ポリスチレン 300g(10重量%) 2−DPBT 50g(1.66重量%) TNF 2.5g(0.083重量%) シリコン シラー−100 0.15g(0.005重
量%) (バランス)トルエン 2648g OPC 例6 OPCの例6の溶液はOPCの例1に記載の方法で生成
され、30cPの粘度を有する。溶液は以下の成分を含
む: ポリスチレン 300g(10重量%) 2,4−DMPBT 50g(1.66重量%) TNF 2.5g(0.083重量%) シリコンU−7602 0.15g(0.005重量
%) (バランス)トルエン 2648g OPC 例7 OPCの例7の溶液はOPCの例1に記載の方法で生成
され、31cPの粘度を有する。溶液は以下の成分を含
む: ポリスチレン 300g(10重量%) 2,4−DMPBT 50g(1.66重量%) 2−EAQ 7.5g(0.25重量%) シリコンU−7602 0.15g(0.005重量
%) (バランス)トルエン 2648g OPC 例8 OPCの例8の溶液はOPCの例1に記載の方法で生成
され、30cPの粘度を有する。溶液は以下の成分を含
む: ポリスチレン 300g(10重量%) 2,4−DMPBT 50g(1.66重量%) TNF 2.5g(0.083重量%) 2−EAQ 7.5g(0.25重量%) シリコンU−7602 0.15g(0.005重量
%) (バランス)トルエン 2648g OPC 例9 OPCの例9の溶液はOPCの例1に記載の方法で生成
され、29cPの粘度を有する。溶液は以下の成分を含
む: ポリスチレン 300g(10重量%) 2,4−DMPBT 50g(1.66重量%) TNF 2.5g(0.083重量%) 1−CAQ 7.5g(0.25重量%) シリコンU−7602 0.15g(0.005重量
%) (バランス)トルエン 2648g OPC 例10 OPCの例10の溶液はOPCの例1に記載の方法で生
成され、28cPの粘度を有する。溶液の成分は以下の
通りである: ポリスチレン 300g(10重量%) 2,4−DMPBT 50g(1.66重量%) 2−EAQ 7.5g(0.25重量%) TNF 2.5g(0.083重量%) シリコンU−7602 0.15g(0.005重量
%) (バランス)キシレン 2648g 掲記の10通りのOPC溶液の例は、6重量部の樹脂に
対し1重量部の電子供与体材料を利用しているが、かか
る重量比は、8重量部の樹脂に対し1重量部の電子供与
体材料から2重量部の樹脂に対し1重量部の電子供与体
材料の範囲で変えることが可能であることが分かった。
8:1の比では溶液の光伝導性は低下し、2:1の比に
おいて、上記の処方は不安定になる傾向があり、電子供
与体材料を溶液から沈殿させ始める。溶液の感度と、そ
こから生成されるOPC層の性能を最適化するために、
樹脂と電子供与体材料の比は4:1から6:1の範囲内
であることが好ましい。電子受容体材料は、溶液の全重
量の0.05乃至1.5重量%の範囲内で良いことが分
かった。OPC溶液の全体は、12.5、17.7、2
4、及び28cPの粘度を有するサンプルを得るため
に、上記溶液の処方に使用される溶媒に依存してトルエ
ン又はキシレンの何れかによって希釈された。適当なO
C層で先に被覆された20V形(対角線寸法は20イン
チ)のフェースプレートパネルをこれらのOPC溶液で
被覆した。OC層32及びOCP層34の両方を形成す
る好ましい被覆方法は、多量の材料を沈積し、溶液を均
一に分散させ実質的に均一な厚さの層を形成するために
パネルを回転することによる「スピンコート法」であ
る。典型的には、OC層32は約1μの厚さを有し、O
PC層34はOPC溶液の粘度に依存する厚さを有す
る。例えば、OPC層の厚さは、12.5、17.7、
24、及び28cPの粘度に対し、夫々4μ、6μ、8
μ、及び11μで変化した。最適的なOPC層の厚さ
は、15乃至20cPの範囲内の粘度に対応する5乃至
6μであることが分かった。OPC薄膜にプライトン−
1035のブタジエン領域に起因する可能性のある欠陥
を生じた例1及び例3を除き、全てのOPCは良好な層
を生成した。
を使用して生成されたOC層32は、光受容体を形成す
るためのOPC層34で被覆することにより評価され
た。例8のOPCに従って生成されたOPC層は、以下
の理由で上記テストの基準として選ばれた。上記理由
は、電子供与体材料(2,4−DMPBT)は、テスト
された中で最も光感度の高い供与体材料であり、10回
の光のフラッシュ後に残存する電圧は低く、即ち、極め
て良好な光放電特性を有するからである。その上、2,
4−DMPBT−ポリスチレン薄膜は、425°Cで2
0分間に略完全にベーキング除去し、これはスクリーン
から出力される光を最大限にするために必要である。最
後に、例8のOPCに使用される電子受容体(2−EA
Q)は、トルエンに優れた溶解性を有し、無毒である。
OCの例1乃至7の各々を使用するサンプルのスライド
は、相対湿度50%、温度23°Cで、例8のOPCに
よって被覆し、適当な充電器を使用してコロナ充電し
た。サンプルのスライドは、ボルト/秒単位のコロナ充
電レートと、ボルト/秒単位の暗放電のレートと、キセ
ノンフラッシュランプからの1回、5回及び10回のフ
ラッシュ照射後に光受容体に残存する電圧とが測定され
た。暗放電はコロナ充電の停止後に90秒間暗所に放置
した後の光受容体の表面電位として定められる。上記の
テスト結果を表2に掲載する。 表2 充電レート 暗放電レート フラッシュ回数毎の露光電圧 WOC識別名 ボルト/秒 ボルト/秒 1回 5回 10回 例1 18.5 1.5 217 128 73 例2 17 1.3 230 139 77 例3 20.2 1.1 200 110 54 例4 17.5 1.5 220 130 78 例5 16.6 1.5 240 148 85 例6 7.5 1.0 180 160 100 例7 22 1.0 240 120 50 次いで、その各々は上記の溶液、即ち、例8のOPCを
使用して形成される上に重なるOPC層用の伝導性層を
提供し、上記のOC溶液を利用する多数の光受容体に対
しスクリーンの沈積特性が判定される。上記テストにお
いて、OC及びOPC層よりなる光受容体は、先に引用
した米国特許第5,083,959号明細書に記載の充
電装置を使用してコロナ充電された20V形フェースプ
レートパネルの内側の面に形成された。電子写真的に沈
積されたスクリーン構造体材料に対する光受容体の沈積
特性と共に、光受容体の電気特性は、表3に掲載され
る。表3において、Viで示される光受容体の充電受容
量は、30秒のコロナ放電後に光受容体の表面で測定さ
れた電圧である。暗所表面電位Vdは暗所に90秒間放
置された後の表面の電圧である。露光電圧Vexは、光
受容体を有するパネルが照明器内に設置されたキセノン
ランプの5回のフラッシュにシャドーマスクを通して露
光された後の光受容体の表面電位である。
用した米国特許出願第132,263号明細書に記載の
方法で適当な黒色スクリーン構造体材料で現像される。
マトリクスの形成後、光伝導性層は再充電され、光受容
体は3つの別個の色放出性発光体の中の第1のものを沈
積させるために露光される。かかる処理は各々の光放出
性発光体に対し繰り返される。この結果は、主観的では
あるが、沈積特性として表3に記録する。 表3 パネル電気特性(ボルト) 沈積特性OCの識別名 Vi Vd Vex マトリクス 発光体 欠陥 例1 418 400 190 良好 良好 無 例2 370 320 180 良好 良好 少数 例3 480 420 190 良好 優秀 無 例5 400 360 180 可 良好 無 例6 140 125 45 無 劣等 多数 例7 500 410 100 良好 優秀 無 ガラス製スライドに形成され、例5のOCの処方によっ
て生成されたOC層と、例10のOPCの処方により生
成されたOPC層とからなる光受容体のスペクトル感度
及び光吸収作用は図7に示す。上記感度は較正されたモ
ノクロメータを使用して種々の波長で判定された。光受
容体の光感度は、露光量により分割された電圧の変化と
して任意に定められる。450nmを超える場合に、光
伝導性層の光学的吸収作用は急速に低下し、感度は低下
し始め、550nmまでは幾分は観察されるが、それ以
上の波長では観察されない。上記の結果により、上述の
形の光受容体で覆われたパネルに有害な影響を及ぼすこ
となく、安全な作業環境を提供するために低強度の黄色
のオーバーヘッド形照明(略577乃至597nmの波
長で動作する)をEPS製造設備に使用することが可能
である。その上、OC層32は、従来の伝導性層と比べ
て優れた電気的及び物理的特性を有することが確認され
た。
部分断面の平面図である。
図である。
れる処理シーケンスのブロック図である。
すフェースプレートパネルの断面図である。
である。
数としてのグラフである。
吸収作用とスペクトル感度のグラフである。
Claims (4)
- 【請求項1】 カラー陰極線管のフェースプレートパネ
ルの内側の面に発光スクリーン組立体を製造する方法で
あって:揮発性の有機伝導性層を形成するため、第4級
アンモニウム高分子電解質と界面活性剤とを含む伝導性
溶液で該パネルの面を被覆し;揮発性の有機光伝導性層
を形成するため、光伝導性溶液で該有機伝導性層を被覆
する段階よりなり;該第4級アンモニウム高分子電解質
は、ポリ(ジメチル−ジアリル−塩化アンモニウム)
と;ポリ(3,4−ジメチレン−N−ジメチル−塩化ピ
ロリジウム)(3,4−DNDP塩化物)と;ポリ
(3,4−ジメチレン−N−ジメチル−ピロリジウム硝
酸塩)(3,4−DNDP硝酸塩)と;ポリ(3,4−
ジメチレン−N−ジメチル−ピロリジウム燐酸塩)
(3,4−DNDP燐酸塩)とよりなる群から選ばれる
単独重合体、又は、ビニルイミダゾリウムメト硫酸塩と
ビニルピロリドンの共重合体である方法。 - 【請求項2】 前記伝導性溶液はポリビニルアルコール
(PVA)を更に含む請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 カラー陰極線管のフェースプレートパネ
ルの内側の面に発光スクリーン組立体を製造する方法で
あって: a)揮発性有機伝導性層を形成するため、2乃至6重量
パーセントの第4級アンモニウム高分子電解質と、約
0.001乃至0.1重量パーセントの界面活性剤とを
含む水性伝導性溶液で該パネルの該面を被覆し; b)揮発性の有機光伝導性層を形成するため、光伝導性
溶液で該有機伝導性層を被覆し; c)実質的に均一な静電荷を該光伝導性層に定着させ; d)その上の該電荷を反応させるため該光伝導性層の選
択された領域を化学線放射にさらし; e)少なくとも一の乾燥粉末化され光放出性のある摩擦
電気的に充電されたスクリーン構造体材料で該光伝導性
層を現像し; f)その変位を最小限に抑えるため該スクリーン構造体
材料を該光伝導性層に固定し; g)該スクリーン構造体材料を薄膜化し; h)上記薄膜化されたスクリーン構造体材料をアルミニ
ウム処理し; i)該伝導性層と、該光伝導性層とを含む上記スクリー
ン組立体の構成物を揮発させるため、空気中で少なくと
も425°Cの温度で該フェースプレートパネルをベー
キングする段階よりなり;該第4級アンモニウム高分子
電解質は、ポリ(ジメチル−ジアリル−塩化アンモニウ
ム)と;ポリ(3,4−ジメチレン−N−ジメチル−塩
化ピロリジウム)(3,4−DNDP塩化物)と;ポリ
(3,4−ジメチレン−N−ジメチル−ピロリジウム硝
酸塩)(3,4−DNDP硝酸塩)と;ポリ(3,4−
ジメチレン−N−ジメチル−ピロリジウム燐酸塩)
(3,4−DNDP燐酸塩)とよりなる群から選ばれる
単独重合体、又は、ビニルイミダゾリウムメト硫酸塩と
ビニルピロリドンの共重合体である方法。 - 【請求項4】 前記伝導性溶液は約0.5乃至3重量パ
ーセント、又は、それより少ないポリビニルアルコール
(PVA)を更に含む請求項3記載の方法。
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