JPH07230615A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH07230615A JPH07230615A JP2087794A JP2087794A JPH07230615A JP H07230615 A JPH07230615 A JP H07230615A JP 2087794 A JP2087794 A JP 2087794A JP 2087794 A JP2087794 A JP 2087794A JP H07230615 A JPH07230615 A JP H07230615A
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- head
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Abstract
(57)【要約】
【目的】ヘッド素子を搭載した薄膜磁気ヘッドにおい
て、浮上量変動に対して磁気ディスクと摺動する頻度を
低減するとともに、熱によるノイズを防止し、かつヘッ
ド素子と磁気ディスク間の放電を防止することで、高信
頼性を有する薄膜磁気ヘッドを得る。 【構成】スライダ浮上面のヘッド素子部に生じる加工段
差のみに、酸化シリコン膜やカ−ボン膜などの保護膜を
スパッタリングにより成膜した薄膜磁気ヘッド。 【効果】スライダの浮上マ−ジンを確保できるので、極
低浮上時の浮上量変動に対して磁気ディスクとの摺動頻
度を低減することができる。またＣＳＳ時に問題となる
熱によるノイズやヘッド素子と磁気ディスク間の放電を
防止できる。
て、浮上量変動に対して磁気ディスクと摺動する頻度を
低減するとともに、熱によるノイズを防止し、かつヘッ
ド素子と磁気ディスク間の放電を防止することで、高信
頼性を有する薄膜磁気ヘッドを得る。 【構成】スライダ浮上面のヘッド素子部に生じる加工段
差のみに、酸化シリコン膜やカ−ボン膜などの保護膜を
スパッタリングにより成膜した薄膜磁気ヘッド。 【効果】スライダの浮上マ−ジンを確保できるので、極
低浮上時の浮上量変動に対して磁気ディスクとの摺動頻
度を低減することができる。またＣＳＳ時に問題となる
熱によるノイズやヘッド素子と磁気ディスク間の放電を
防止できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ワ−クステイションや
コンピュ−タなどの外部記憶装置として用いられる磁気
記録装置の主要部品である磁気ヘッドに係るもので、特
に高記録密度を達成するための磁気抵抗効果を利用した
ＭＲヘッド素子を搭載した薄膜磁気ヘッドに関する。
コンピュ−タなどの外部記憶装置として用いられる磁気
記録装置の主要部品である磁気ヘッドに係るもので、特
に高記録密度を達成するための磁気抵抗効果を利用した
ＭＲヘッド素子を搭載した薄膜磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の薄膜磁気ヘッドは基板上に記録／
再生素子（以下ヘッド素子という）を形成し、これを機
械加工により記録媒体対向面を研磨することによりヘッ
ド素子を露出させる。磁気ディスク装置では、装置の起
動時または停止時にＣＳＳ（コンタクト・スタ−ト・ス
トップ）して、この露出したヘッド素子とスライダの浮
上面が磁気ディスクと摺動する。ＣＳＳによるスライダ
と磁気ディスクの摺動により発生する摩耗粉は、スライ
ダの安定的な浮上を妨げデ−タ破壊を起こすディスク・
クラッシュの原因となる。
再生素子（以下ヘッド素子という）を形成し、これを機
械加工により記録媒体対向面を研磨することによりヘッ
ド素子を露出させる。磁気ディスク装置では、装置の起
動時または停止時にＣＳＳ（コンタクト・スタ−ト・ス
トップ）して、この露出したヘッド素子とスライダの浮
上面が磁気ディスクと摺動する。ＣＳＳによるスライダ
と磁気ディスクの摺動により発生する摩耗粉は、スライ
ダの安定的な浮上を妨げデ−タ破壊を起こすディスク・
クラッシュの原因となる。
【０００３】このＣＳＳによるスライダと磁気ディスク
の摺動による摩耗を少くしディスク・クラッシュを防止
するためにスライダ浮上面に保護膜を設けるものが提案
されている。図３は従来のスライダの浮上面に保護膜を
有する薄膜磁気ヘッドの断面図である。スライダ1の材
質としてAl2O3・TiC（アルミナ・チタンカーバイト）、
ヘッド素子部2の材質としてAl2O3（酸化アルミニウム）
を用いた場合、材質の硬度の差により両者の境に５〜１
５nmの加工段差5が生じるが、保護膜8はスライダ1の浮
上面6とその延長線上のヘッド素子部の浮上面側7の両方
の上に形成されている。耐摺動性を向上させるための保
護膜の材質として、ダイヤモンド薄膜、酸化セシウム、
フッ化マグネシウムなどがある。これに関するものとし
ては、特開昭６０−１９３１１２号、特開昭６３−５８
６１３号、特開昭６３−２２２３１４号、特開平４−１
８２９１６号、特開平５−４１０５１号などが挙げられ
る。
の摺動による摩耗を少くしディスク・クラッシュを防止
するためにスライダ浮上面に保護膜を設けるものが提案
されている。図３は従来のスライダの浮上面に保護膜を
有する薄膜磁気ヘッドの断面図である。スライダ1の材
質としてAl2O3・TiC（アルミナ・チタンカーバイト）、
ヘッド素子部2の材質としてAl2O3（酸化アルミニウム）
を用いた場合、材質の硬度の差により両者の境に５〜１
５nmの加工段差5が生じるが、保護膜8はスライダ1の浮
上面6とその延長線上のヘッド素子部の浮上面側7の両方
の上に形成されている。耐摺動性を向上させるための保
護膜の材質として、ダイヤモンド薄膜、酸化セシウム、
フッ化マグネシウムなどがある。これに関するものとし
ては、特開昭６０−１９３１１２号、特開昭６３−５８
６１３号、特開昭６３−２２２３１４号、特開平４−１
８２９１６号、特開平５−４１０５１号などが挙げられ
る。
【０００４】一方、高記録密度を達成するために磁気抵
抗効果を利用したＭＲヘッド素子を搭載したスライダの
製造が進められており、ＭＲヘッド素子を製造プロセス
中などの腐食から防止し耐摺動性を向上するために浮上
面側ヘッド素子部を含むスライダ浮上面に保護膜を設け
るものが提案されている。ＭＲヘッド素子を製造プロセ
ス中などの腐食から防止し耐摺動性を向上させるための
保護膜としては、アモルファス・シリコンやアモルファ
ス・カ−ボンからなる少なくとも２層、または３層から
なる保護膜が提案されている。これに関するものとして
は、特開平４−２７６３６７号、特開平４−３６４２１
７号などが挙げられる。
抗効果を利用したＭＲヘッド素子を搭載したスライダの
製造が進められており、ＭＲヘッド素子を製造プロセス
中などの腐食から防止し耐摺動性を向上するために浮上
面側ヘッド素子部を含むスライダ浮上面に保護膜を設け
るものが提案されている。ＭＲヘッド素子を製造プロセ
ス中などの腐食から防止し耐摺動性を向上させるための
保護膜としては、アモルファス・シリコンやアモルファ
ス・カ−ボンからなる少なくとも２層、または３層から
なる保護膜が提案されている。これに関するものとして
は、特開平４−２７６３６７号、特開平４−３６４２１
７号などが挙げられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近年、高磁気記録密度
を達成するためにスライダのギャップ浮上量は１００nm
以下になってきており、今後もスライダの浮上量はます
ます狭小化すると考えられる。そのため浮上面側ヘッド
素子部を含むスライダ浮上面に５〜５０nmの保護膜を設
けると、ギャップ浮上量はスライダ浮上量に保護膜５〜
５０nmの厚みに相当する量だけ浮上量が大きくなること
になる。同一のギャップ浮上量の浮上面側ヘッド素子部
を含むスライダ浮上面に保護膜を設けたスライダと保護
膜を設けていないスライダを比べた場合、浮上面側ヘッ
ド素子部を含むスライダ浮上面に保護膜を設けたスライ
ダは保護膜を設けていないスライダよりもシ−ク時の浮
上低下などの浮上量変動に対して磁気ディスクと摺動し
やすい等の欠点がある。本発明の第一の目的は、薄膜磁
気ヘッドと磁気ディスクの間の浮上マ−ジンを確保し、
極低浮上時に浮上量変動に対して磁気ディスクとの摺動
頻度を低減することである。
を達成するためにスライダのギャップ浮上量は１００nm
以下になってきており、今後もスライダの浮上量はます
ます狭小化すると考えられる。そのため浮上面側ヘッド
素子部を含むスライダ浮上面に５〜５０nmの保護膜を設
けると、ギャップ浮上量はスライダ浮上量に保護膜５〜
５０nmの厚みに相当する量だけ浮上量が大きくなること
になる。同一のギャップ浮上量の浮上面側ヘッド素子部
を含むスライダ浮上面に保護膜を設けたスライダと保護
膜を設けていないスライダを比べた場合、浮上面側ヘッ
ド素子部を含むスライダ浮上面に保護膜を設けたスライ
ダは保護膜を設けていないスライダよりもシ−ク時の浮
上低下などの浮上量変動に対して磁気ディスクと摺動し
やすい等の欠点がある。本発明の第一の目的は、薄膜磁
気ヘッドと磁気ディスクの間の浮上マ−ジンを確保し、
極低浮上時に浮上量変動に対して磁気ディスクとの摺動
頻度を低減することである。
【０００６】また、磁気抵抗効果を利用したＭＲヘッド
素子を搭載した薄膜磁気ヘッドは、ＭＲヘッド素子に電
圧を印加しているため、薄膜磁気ヘッドと磁気ディスク
の間に２Ｖ以上の電位差があると、ＭＲヘッド素子と磁
気ディスクの間で放電を起こしＭＲヘッド素子が破壊さ
れるという問題がある。
素子を搭載した薄膜磁気ヘッドは、ＭＲヘッド素子に電
圧を印加しているため、薄膜磁気ヘッドと磁気ディスク
の間に２Ｖ以上の電位差があると、ＭＲヘッド素子と磁
気ディスクの間で放電を起こしＭＲヘッド素子が破壊さ
れるという問題がある。
【０００７】さらに、磁気抵抗効果を利用したＭＲヘッ
ド素子を搭載した薄膜磁気ヘッドは、ＣＳＳによる摩擦
熱やスライダとディスクとの間に塵埃が介在することに
よって生じる熱が磁気抵抗を変化させ再生信号にノイズ
が生じる等の問題がある。
ド素子を搭載した薄膜磁気ヘッドは、ＣＳＳによる摩擦
熱やスライダとディスクとの間に塵埃が介在することに
よって生じる熱が磁気抵抗を変化させ再生信号にノイズ
が生じる等の問題がある。
【０００８】従って、本発明の第二の目的は、薄膜磁気
ヘッドにおいて、このヘッド素子と磁気ディスクの間で
起こる放電を防止し、あるいはノイズを最小限にするこ
とにより、高信頼性を有する薄膜磁気ヘッドを実現する
ことである。
ヘッドにおいて、このヘッド素子と磁気ディスクの間で
起こる放電を防止し、あるいはノイズを最小限にするこ
とにより、高信頼性を有する薄膜磁気ヘッドを実現する
ことである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は第１の目的を達
成するため、浮上面側ヘッド素子部を含むスライダ浮上
面を研磨により平滑化する際、ヘッド素子部とスライダ
の硬度の差によりヘッド素子部はスライダよりも５〜１
５nm凹み段差が生じるが、この凹み段差のみに保護膜を
設ける。
成するため、浮上面側ヘッド素子部を含むスライダ浮上
面を研磨により平滑化する際、ヘッド素子部とスライダ
の硬度の差によりヘッド素子部はスライダよりも５〜１
５nm凹み段差が生じるが、この凹み段差のみに保護膜を
設ける。
【００１０】また、第２の目的を達成するために、保護
膜として、酸化シリコン膜或いはカーボン膜を設ける。
膜として、酸化シリコン膜或いはカーボン膜を設ける。
【００１１】
【作用】スライダ浮上面を研磨により平滑化する際、ヘ
ッド素子部の酸化アルミニウム膜とスライダのアルミナ
・チタンカーバイド膜との硬度の差により生じる加工段
差のみに上記のような膜を形成することにより、従来の
スライダのようにスライダ浮上面の全てを保護膜で覆っ
てしまうのに比べて浮上量変動などに対して、磁気ディ
スクと摺動する頻度を低減できる。
ッド素子部の酸化アルミニウム膜とスライダのアルミナ
・チタンカーバイド膜との硬度の差により生じる加工段
差のみに上記のような膜を形成することにより、従来の
スライダのようにスライダ浮上面の全てを保護膜で覆っ
てしまうのに比べて浮上量変動などに対して、磁気ディ
スクと摺動する頻度を低減できる。
【００１２】また、磁気ディスクと対向する浮上面側ヘ
ッド素子部にカーボン等の絶縁抵抗の高い膜を成膜する
ことにより、ヘッド素子と磁気ディスク間の放電を防止
し、ヘッド素子と磁気ディスクが破壊されることを防
ぐ。
ッド素子部にカーボン等の絶縁抵抗の高い膜を成膜する
ことにより、ヘッド素子と磁気ディスク間の放電を防止
し、ヘッド素子と磁気ディスクが破壊されることを防
ぐ。
【００１３】さらに、ＣＳＳによる摩擦熱やスライダと
ディスクとの間に塵埃が介在することによって熱が生じ
るが、ヘッド素子を熱伝導率が小さい材質の膜で覆うこ
とによりヘッド素子に熱を伝わりにくくすることがで
き、熱によるノイズを防止することができる。熱伝導率
の小さい材質の膜として酸化シリコン膜が考えられる
が、酸化シリコン膜は、耐摺動性能を向上させることが
既に知られており、磁気記録装置の信頼性に係わる耐摺
動性は問題がない。
ディスクとの間に塵埃が介在することによって熱が生じ
るが、ヘッド素子を熱伝導率が小さい材質の膜で覆うこ
とによりヘッド素子に熱を伝わりにくくすることがで
き、熱によるノイズを防止することができる。熱伝導率
の小さい材質の膜として酸化シリコン膜が考えられる
が、酸化シリコン膜は、耐摺動性能を向上させることが
既に知られており、磁気記録装置の信頼性に係わる耐摺
動性は問題がない。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
説明する。
説明する。
【００１５】図１は本発明の一実施例による薄膜磁気ヘ
ッドの断面図である。本発明の薄膜磁気ヘッドは、スラ
イダ1とヘッド素子部2と浮上面6と加工段差5とこれに積
層した酸化シリコンなどのスパッタ膜4,3から構成され
ている。
ッドの断面図である。本発明の薄膜磁気ヘッドは、スラ
イダ1とヘッド素子部2と浮上面6と加工段差5とこれに積
層した酸化シリコンなどのスパッタ膜4,3から構成され
ている。
【００１６】図２に示すように、スライダ1の浮上面6を
平滑化するために浮上面6をラップすると、スライダ1の
材質であるAl2O3・TiCとヘッド素子部2の浮上面側7の材
質であるAl2O3の硬度の差により、両者の境に５〜１５n
mの加工段差5が生じる。この加工段差5は、ラップ砥粒
などのラップ条件により任意の高さを設定できる。
平滑化するために浮上面6をラップすると、スライダ1の
材質であるAl2O3・TiCとヘッド素子部2の浮上面側7の材
質であるAl2O3の硬度の差により、両者の境に５〜１５n
mの加工段差5が生じる。この加工段差5は、ラップ砥粒
などのラップ条件により任意の高さを設定できる。
【００１７】薄膜磁気ヘッドに生じる加工段差5に保護
膜を形成する第１の方法としては、図４に示すようにス
ライダ1の浮上面6とこの延長線上のヘッド素子部の浮上
面側7を含む全面に、酸化シリコン膜4とカ−ボン膜3を
スパッタリングにより成膜する。次に、機械加工または
イオンミリングにより任意のスライダ浮上面形状を形成
した後にスライダ1の浮上面6を適切な荷重をかけてラッ
プすることにより、スライダ１の浮上面6の膜を除去
し、図１に示すようにヘッド素子部の浮上面側7のみに
成膜した膜を残すことができる。
膜を形成する第１の方法としては、図４に示すようにス
ライダ1の浮上面6とこの延長線上のヘッド素子部の浮上
面側7を含む全面に、酸化シリコン膜4とカ−ボン膜3を
スパッタリングにより成膜する。次に、機械加工または
イオンミリングにより任意のスライダ浮上面形状を形成
した後にスライダ1の浮上面6を適切な荷重をかけてラッ
プすることにより、スライダ１の浮上面6の膜を除去
し、図１に示すようにヘッド素子部の浮上面側7のみに
成膜した膜を残すことができる。
【００１８】また、第２の方法としては、機械加工また
はイオンミリングにより任意のスライダ浮上面形状を形
成する前に、図５に示すようにスライダ1の浮上面6とこ
の延長線上のヘッド素子部の浮上面側7を含む全面に感
光性有機膜9を形成し、ヘッド素子部の浮上面側7のみを
感光させて感光性有機膜9を取り除く。次に、スライダ1
の浮上面6とこの延長線上のヘッド素子部の浮上面側7を
含む全面に酸化シリコン膜4とカ−ボン膜3をスパッタリ
ングにより成膜する。そして、残りの感光性有機膜9を
溶剤で溶かして浮上面のスパッタ膜を取り除き浮上面側
のヘッド素子部2のみに保護膜が形成される。このとき
の、成膜する酸化シリコン膜4とカ−ボン膜3の膜厚はス
パッタリングの時間により制御する。
はイオンミリングにより任意のスライダ浮上面形状を形
成する前に、図５に示すようにスライダ1の浮上面6とこ
の延長線上のヘッド素子部の浮上面側7を含む全面に感
光性有機膜9を形成し、ヘッド素子部の浮上面側7のみを
感光させて感光性有機膜9を取り除く。次に、スライダ1
の浮上面6とこの延長線上のヘッド素子部の浮上面側7を
含む全面に酸化シリコン膜4とカ−ボン膜3をスパッタリ
ングにより成膜する。そして、残りの感光性有機膜9を
溶剤で溶かして浮上面のスパッタ膜を取り除き浮上面側
のヘッド素子部2のみに保護膜が形成される。このとき
の、成膜する酸化シリコン膜4とカ−ボン膜3の膜厚はス
パッタリングの時間により制御する。
【００１９】また、浮上面側の素子部に付けた保護膜は
スライダ浮上面と同じ高さにすべきであり、スライダ浮
上面よりも凸になることはない。
スライダ浮上面と同じ高さにすべきであり、スライダ浮
上面よりも凸になることはない。
【００２０】以上の実施例では、ヘッド素子部2に酸化
シリコン膜4とカーボン膜3を積層した例であるが、目的
に応じていずれかの膜を1層としてもよい。
シリコン膜4とカーボン膜3を積層した例であるが、目的
に応じていずれかの膜を1層としてもよい。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、ヘッド素子を搭載した
薄膜磁気ヘッドにおいて、浮上面全体を保護膜で覆った
従来のスライダに比べギャップ浮上量を同一にしたと
き、本発明によるスライダのほうが浮上量変動に関して
有利である。また、ヘッド素子部を保護膜で覆うことに
より磁気ディスクとの間の放電を防止し、薄膜磁気ヘッ
ドと磁気ディスクの破壊を防ぐことが可能である。さら
に、薄膜磁気ヘッドのＣＳＳ時に問題となる熱によるノ
イズを防止することができる。
薄膜磁気ヘッドにおいて、浮上面全体を保護膜で覆った
従来のスライダに比べギャップ浮上量を同一にしたと
き、本発明によるスライダのほうが浮上量変動に関して
有利である。また、ヘッド素子部を保護膜で覆うことに
より磁気ディスクとの間の放電を防止し、薄膜磁気ヘッ
ドと磁気ディスクの破壊を防ぐことが可能である。さら
に、薄膜磁気ヘッドのＣＳＳ時に問題となる熱によるノ
イズを防止することができる。
【図１】本発明の一実施例である薄膜磁気ヘッドの断面
図。
図。
【図２】本発明の一実施例における保護膜を成膜する前
の薄膜ヘッドの断面図。
の薄膜ヘッドの断面図。
【図３】従来の薄膜ヘッドの断面図。
【図４】本発明の一実施例による薄膜ヘッドのヘッド素
子部に保護膜を形成する方法を説明するための図。
子部に保護膜を形成する方法を説明するための図。
【図５】本発明の一実施例による薄膜ヘッドのヘッド素
子部に保護膜を形成する方法を説明するための図。
子部に保護膜を形成する方法を説明するための図。
１…スライダ ２…素子部 ３…カ−ボン膜 ４…酸化
シリコン ５…加工段差 ６…浮上面 ７…素子部の浮上面側 ８
…保護膜 ９…感光性有機膜
シリコン ５…加工段差 ６…浮上面 ７…素子部の浮上面側 ８
…保護膜 ９…感光性有機膜
Claims (4)
- 【請求項１】スライダにヘッド素子を搭載した薄膜磁気
ヘッドにおいて、記録媒体面と対向する前記ヘッド素子
を含むスライダ浮上面の加工時に、前記スライダとヘッ
ド素子の境界に生じる凹み部に前記スライダ浮上面が平
坦になるように絶縁膜を設けたことを特徴とする薄膜磁
気ヘッド。 - 【請求項２】前記凹み部に酸化シリコン膜を設けたこと
を特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項３】前記凹み部にカーボン膜を設けたことを特
徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項４】前記凹み部に酸化シリコン膜とカーボン膜
を積層したことを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘ
ッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2087794A JPH07230615A (ja) | 1994-02-18 | 1994-02-18 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2087794A JPH07230615A (ja) | 1994-02-18 | 1994-02-18 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07230615A true JPH07230615A (ja) | 1995-08-29 |
Family
ID=12039422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2087794A Pending JPH07230615A (ja) | 1994-02-18 | 1994-02-18 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07230615A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6198600B1 (en) * | 1998-06-10 | 2001-03-06 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head and manufacturing method thereof |
| US6470565B1 (en) | 2000-02-22 | 2002-10-29 | Tdk Corporation | Method of manufacturing slider of thin-film magnetic head |
| US6958888B2 (en) | 2001-10-05 | 2005-10-25 | Headway Technologies, Inc. | Slider of thin-film magnetic head and method of manufacturing same |
| US7154710B2 (en) | 2003-02-19 | 2006-12-26 | Fujitsu Limited | Magnetic head slider |
| US8035929B2 (en) | 2007-08-22 | 2011-10-11 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic head assembly and magnetic tape driving apparatus |
-
1994
- 1994-02-18 JP JP2087794A patent/JPH07230615A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6198600B1 (en) * | 1998-06-10 | 2001-03-06 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head and manufacturing method thereof |
| US6470565B1 (en) | 2000-02-22 | 2002-10-29 | Tdk Corporation | Method of manufacturing slider of thin-film magnetic head |
| US6958888B2 (en) | 2001-10-05 | 2005-10-25 | Headway Technologies, Inc. | Slider of thin-film magnetic head and method of manufacturing same |
| US7159301B2 (en) | 2001-10-05 | 2007-01-09 | Headway Technologies, Inc. | Method of manufacturing a slider of a thin-film magnetic head |
| US7154710B2 (en) | 2003-02-19 | 2006-12-26 | Fujitsu Limited | Magnetic head slider |
| US8035929B2 (en) | 2007-08-22 | 2011-10-11 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic head assembly and magnetic tape driving apparatus |
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