JPH0722546A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPH0722546A
JPH0722546A JP5166654A JP16665493A JPH0722546A JP H0722546 A JPH0722546 A JP H0722546A JP 5166654 A JP5166654 A JP 5166654A JP 16665493 A JP16665493 A JP 16665493A JP H0722546 A JPH0722546 A JP H0722546A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
semiconductor
heat
semiconductor pellet
heat radiation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP5166654A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuji Obara
哲治 小原
Hideyuki Hosoe
英之 細江
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi ULSI Engineering Corp, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi ULSI Engineering Corp
Priority to JP5166654A priority Critical patent/JPH0722546A/ja
Publication of JPH0722546A publication Critical patent/JPH0722546A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1015Shape
    • H01L2924/10155Shape being other than a cuboid

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体素子自体が放熱効果を有する構造に
し、別部品による放熱手段を不要にできるようにする。 【構成】 半導体ペレット1の片面に基板5への接続を
行うためのはんだバンプ2が設けられた半導体装置であ
って、はんだバンプ2の設けられていない面(裏面)
に、メタル層3,4を蒸着等により形成し、これを放熱
器として用い、放熱効果を高める。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子に対する放熱
技術、特に、CCB(Controlled Collapse Bonding)電
極方式の半導体装置の放熱に用いて効果のある技術に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】電力用の半導体装置、或いは大型コンピ
ュータ用のLSIなどにおいては、半導体素子から出る
熱を防止するために放熱手段を設けている。この放熱手
段は、電気書院発行、森末道忠著「LSI設計製作技
術」P430〜433に記載のように、放熱フィンによ
る空冷や液体冷却などがある。
【0003】なお、放熱フィンや液体冷却を必要としな
い場合、本発明者らは、半導体チップを封止するキャッ
プを半導体ペレットの一部に当接(または接合)させ、
キャップを放熱部材に兼用している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明者の検討によれ
ば、放熱フィンや液体冷却による放熱手段は、放熱が有
効に行われるものの、半導体装置全体が大型化するとい
う問題がある。また、放熱フィンや強制冷却は必要とし
ないものの、素子自体で或る程度の放熱効果が得らるこ
とを要求される場合もある。
【0005】そこで、本発明の目的は、半導体素子自体
が放熱効果を有する構造にし、別部品による放熱手段を
不要にできる技術を提供することにある。
【0006】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかにな
るであろう。
【0007】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下の通りである。
【0008】すなわち、半導体ペレットの片面に基板等
への接続を行うためのCCB電極が設けられる半導体装
置であって、前記CCB電極の設けられていない面に、
放熱用の金属膜または金属板を設けるようにしている。
【0009】
【作用】上記した手段によれば、半導体ペレットの裏面
に(CCB電極の設けられていない面)熱伝導率の良い
金属膜または金属板を設けることにより、何も設けられ
ていない場合に比べて表面積を大きくでき、ペレットサ
イズを大きくした場合と同等の効果が得られる。この結
果、放熱面積が増えた分だけ放熱性が向上するほか、放
熱効果が本発明の適用前と同一でよければ集積度を上げ
ることも可能になる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら詳細に説明する。
【0011】(実施例1)図1は本発明による半導体装
置の一実施例を示す正面図である。また、図2は図1の
主要部の部分拡大図である。
【0012】半導体ペレット1の下面には、電極パッド
(不図示)が設けられており、この電極パッドの各々に
は、CCB電極としてのはんだバンプ2が設けられてい
る。また、半導体ペレット1の上面(裏面)には、第1
のメタル層3が設けられている。さらに、このメタル層
3上にはバー状の第2のメタル層4が平行かつ一定間隔
に設けられ、これら相互間に複数の溝が形成されるよう
にする。メタル層3,4の形成手段としては、蒸着、メ
ッキ、スパッタ等の技術を用い、数十μ程度の厚みにす
る。
【0013】この例では、メタル層4によって平行溝を
形成するものとしたが、溝を縦、横に設けて格子状の凸
部が多数形成されるようにしてもよい。
【0014】以上の構成により、半導体ペレット1が動
作することによって生じた熱は、メタル層3及びメタル
層4に伝熱される。このとき、メタル層3,4は放熱板
として機能し、かつ、表面には凹凸が設けられているこ
とから放熱面積を広くでき、放熱は効果的に行われる。
また、放熱が良好に行えるようになることで、半導体ペ
レットの集積度を上げることも可能になる。
【0015】なお、メタル層3,4が設けられた半導体
ペレット1は、はんだバンプ2を介して基板5に接続さ
れる。はんだバンプ2は予め半導体ペレット1の電極パ
ッドに仮接続されており、基板5上に位置決めした後で
リフローすることにより、はんだバンプ2と電極パッド
及び基板5の配線パターンの双方に溶着されることで、
はんだバンプ2を介して基板5の配線パターンと電極パ
ッドが接続される。
【0016】(実施例2)図3は本発明の他の実施例を
示す部分正面図である。
【0017】本実施例は、半導体ペレット1の裏面(上
面)にメタル層のような別部材を設けず、表面積を拡大
するための溝6(ここでは平行溝にしているが、格子状
の溝、さらには多数の凹凸にしてもよい)を半導体ペレ
ット1の上面のシリコン部分に直接設けるようにしても
よい。
【0018】この実施例によれば、金属層や金属板を設
ける場合に比べ、多少放熱効果は低下するが、溝または
凹凸により半導体ペレット1の上面の表面積が拡大さ
れ、これによって放熱効果を上げることができる。
【0019】なお、図3のような大きな溝に代え、図4
に示すように、小さな凹凸による疵7を半導体ペレット
1の上面の全域に設けてもよい。このようにして半導体
ペレット1の上面の表面積を拡大することにより、図3
の実施例と同様な放熱効果を上げることができる。
【0020】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。
【0021】この他、メタル層3,4の表面に冷却液を
導いて液冷とし、冷却力を高めるようにしてもよい。
【0022】また、金属性の凹凸板を接着材を用いて半
導体ペレット1に貼着し、または共晶接続を行ってメタ
ル層3,4の代替を行ってもよい。
【0023】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
【0024】(1).すなわち、半導体ペレットの片面に基
板等への接続を行うためのCCB電極が設けられる半導
体装置であって、前記CCB電極の設けられていない面
に、放熱用の金属膜または金属板を設けるようにしたの
で、放熱面積が増えた分だけ放熱性が向上する。
【0025】(2).また、放熱効果が本発明の適用前と同
一でよい半導体装置については、逆に集積度を上げるこ
とが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による半導体装置の一実施例を示す正面
図である。
【図2】図1の主要部の部分拡大図である。
【図3】本発明の他の実施例を示す部分正面図である。
【図4】図3の実施例の変形例を示す部分正面図であ
る。
【符号の説明】
1 半導体ペレット 2 はんだバンプ 3,4 メタル層 5 基板 6 溝 7 疵
フロントページの続き (72)発明者 細江 英之 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ペレットの片面に基板等への接続
    を行うためのCCB電極が設けられる半導体装置であっ
    て、前記CCB電極の設けられていない面に、放熱用の
    金属膜または金属板を設けることを特徴とする半導体装
    置。
  2. 【請求項2】 前記金属膜または金属板は、その表面が
    溝または凹凸を有することを特徴とする請求項1記載の
    半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記金属膜は、スパッタ、蒸着もしくは
    メッキを用いて形成することを特徴とする請求項1また
    は請求項2記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 半導体ペレットの片面に基板等への接続
    を行うためのCCB電極が設けられる半導体装置であっ
    て、前記CCB電極の設けられていない面に、溝または
    凹凸を設けることを特徴とする半導体装置。
JP5166654A 1993-07-06 1993-07-06 半導体装置 Withdrawn JPH0722546A (ja)

Priority Applications (1)

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JP5166654A JPH0722546A (ja) 1993-07-06 1993-07-06 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP5166654A JPH0722546A (ja) 1993-07-06 1993-07-06 半導体装置

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JPH0722546A true JPH0722546A (ja) 1995-01-24

Family

ID=15835278

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5166654A Withdrawn JPH0722546A (ja) 1993-07-06 1993-07-06 半導体装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6527666B1 (en) 1999-09-27 2003-03-04 Nissan Motor Co., Ltd. Toroidal type continuously variable transmission and method for manufacturing trunnion

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6527666B1 (en) 1999-09-27 2003-03-04 Nissan Motor Co., Ltd. Toroidal type continuously variable transmission and method for manufacturing trunnion

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Effective date: 20001003