JPH0722372A - ウェット処理方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 振動による処理槽の破損を防止したウェット
処理方法及び装置を提供する。 【構成】 方法は、処理液を貯留した処理槽1内に被処
理物を浸漬してウェット処理するにあたり、処理槽1内
に耐蝕性振動板15を被処理物と共に浸漬して処理液を振
動させ、被処理物を超音波洗浄する。装置は、処理液を
貯留した処理槽1と、被処理物を把持するチャック部8を
有すると共に、横及び上下に移動し、処理槽1まで被処
理物を搬送して上方から処理槽1内に浸漬させる搬送機1
4と、搬送機14にチャック部8と並べて設けられ、被処理
物を把持したチャック部8と共に処理槽1内に浸漬されて
処理液を振動させる耐蝕性振動板15とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、処理槽内に貯留した処
理液を振動させ、その中に浸漬している被処理物を超音
波洗浄するウェット処理方法及び装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】例えば、半導体装置の製造において半導
体ウェーハを液処理する際、洗浄やエッチングで超音波
洗浄を用いる場合があり、そのウェット処理装置の一例
を図２（ａ）（ｂ）及び図３を参照して次に示す。まず
図２（ａ）において（１）は処理槽、（２）は搬送機で
ある。上記処理槽（１）は処理液（３）を貯留した石英
槽で、図示しないが、それを複数個、用意して処理工程
順に連続的に並べてそれぞれに酸、アルカリ液或いは純
水等の異なる処理液（３）…（例えば、温純水、アンモ
ニア水と過酸化水素水と水の混合液、硫酸と過酸化水素
水の混合液等）を貯留し、且つ、超音波洗浄を要する特
定の幾つかの処理槽（１）の外底部に、超音波発振器
（４）に接続した超音波洗浄用振動子（５）（５）を直
接、貼り付けている。更に、図示しないが、処理槽
（１）の外周囲に石英製オーバフロー槽を設けて処理液
（３）を循環させるようにした２重槽もある。尚、超音
波洗浄用振動子の取り付け構造の開示例として他に、特
開昭６１−２１０６３７号公報や特開平３−１９０１３
１号公報に見られるように洗浄槽の底部に振動子を設け
たものがある。

【０００３】搬送機（２）は雰囲気毎に個別に設けら
れ、各々、図３に示すように、水平動ブロック（６）と
上下動ブロック（７）とチャック部（８）を具備し、水
平動ブロック（６）は搬送レール（９）に摺動自在に保
持され、矢印（Ｘ）方向に沿って水平に往復移動する。
上下動ブロック（７）は背側面に下方に延びた鉤型支持
棒（7a）を一体に有し、且つ、正側面に前方に向かって
チャック部（８）を導出してなり、支持棒（7a）を水平
動ブロック（６）に植立・保持して矢印（Ｙ）方向に沿
って上下駆動される。チャック部（８）はテフロン製等
で、下方に開口したコ字状把持片（8a）の下端部及び一
方の肩部にそれぞれ把持用爪部（8b）…とアーム部（8
c）を一体成形したものを一対、爪部（8b）…を対向さ
せて水平ブロック（７）の正側面から前方に導出してな
り、対向する爪部（8b）…を互いに反対方向に振子動さ
せてチャックを開閉制御する。

【０００４】上記構成において、まずチャック部（８）
の爪部（8b）…を開き、図２（ａ）に示す半導体ウェー
ハ（10）を収納したキャリア（11）を爪部（8b）…にて
チャックして上下動ブロック（７）を上昇させる。そこ
で、キャリア（11）をチャックしたまま水平ブロック
（６）を水平移動させて処理槽（１）の上方まで搬送す
ると、上下動ブロック（７）を下降させ、図２（ａ）に
示すように、キャリア（11）を処理槽（１）内に浸漬し
て所定の液処理をする。同時に、振動子（５）を有する
槽では、それを発振させて処理液（１）を超音波振動さ
せ、半導体ウェーハ（10）に付着している異物を超音波
洗浄により洗浄除去する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】解決しようとする課題
は、石英製処理槽（１）の外底部に振動子（５）を直
接、貼り付けているため、処理槽（１）が振動によりひ
びが入ったり、或いはひびが割れて破損し易い点であ
る。そこで、従来、図２（ｂ）に示すように、振動伝達
用純水（12）を貯留したステンレス製外槽（13）内に処
理槽（１）を内槽として収納し、外槽（13）の外底部に
振動子（５）（５）を貼り付けたもの（例えば特開平３
−２４４１２４号公報）もあるが、この場合、外槽（1
3）及び純水（12）を介して間接的に処理液（３）に振
動が伝達するため、振動効率が低下して振動に要する出
力が倍増し、エネルギー浪費が増大するという不具合が
生じる。又、超音波洗浄を必要とする処理槽（１）が複
数個ある場合、その全てに振動子（５）を貼り付ける必
要があるため、コスト増を招くという不具合もある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、方法として、
処理液を貯留した処理槽内に被処理物を浸漬してウェッ
ト処理するにあたり、上記処理槽内に耐蝕性振動板を被
処理物と共に浸漬して処理液を振動させ、被処理物を超
音波洗浄することを特徴とし、

【０００７】又、装置として、処理液を貯留した処理槽
と、被処理物を把持するチャック部を有すると共に、横
及び上下に移動し、上記処理槽まで被処理物を搬送して
上方から処理槽内に浸漬させる搬送機と、上記搬送機に
チャック部と並べて設けられ、被処理物を把持したチャ
ック部と共に上記処理槽内に浸漬されて処理液を振動さ
せる耐蝕性振動板とを具備したことを特徴とする

【０００８】

【作用】上記技術的手段によれば、処理槽内に耐蝕性振
動板を被処理物と共に浸漬して処理液を超音波振動さ
せ、被処理物を超音波洗浄して異物を洗浄除去する。

【０００９】

【実施例】本発明に係るウェット処理方法及び装置の実
施例を図１を参照して以下に説明する。図３に示す部分
と同一部分には同一参照符号を付してその説明を省略す
る。相違する点は、搬送機（14）の上下動ブロック
（７）にチャック部（８）と並べて耐蝕性振動板（15）
…を設けたことで、振動板（15）は矩形状石英板（15
a）の肩部にアーム部（15b）を一体形成し、且つ、石英
板（15a）の上部に振動子（５）を貼り付けたもので、
アーム部（15b）はステンレスにテフロンをコーティン
グしたり、或いはテフロン角筒材にステンレス丸棒を挿
入してなる。又、搬送機（14）は従来同様、雰囲気毎に
個別に設ける。

【００１０】上記構成に基づき本発明の動作（方法）を
次に説明する。まず従来と同様、チャック部（８）によ
り半導体ウェーハ（11）等の被処理物をチャックする
と、そのまま処理槽（１）（但し、処理液を図示省略）
の上方まで搬送する。次に、チャック部（８）を下降さ
せて処理槽（１）内に浸漬すると、同時に振動板（14）
…も処理槽（１）内に浸漬される。そこで、超音波洗浄
を要する任意の槽では振動板（14）を振動させて処理液
（３）を振動させ、半導体ウェーハ（11）に付着してい
る異物を超音波洗浄して洗浄除去する。

【００１１】又、本発明は半導体ウェーハの他の被処理
物の洗浄やエッチング等にも適用出来る。

【００１２】

【発明の効果】本発明によれば、処理槽内に耐蝕性振動
板を被処理物と共に浸漬して処理液を超音波振動させ、
被処理物を超音波洗浄して異物を洗浄除去したから、振
動による処理槽の破損を防止出来る。又、振動を要する
処理槽が複数個あってもその全てに振動子を貼り付ける
必要がなく、更に、任意の槽内で超音波洗浄が可能とな
るため、コスト低減を図ることが出来る。。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るウェット処理装置の実施例を示す
斜視図である。

【図２】（ａ）は従来のウェット処理装置の一例を示す
一部断面概略正面図である。（ｂ）は従来のウェット処
理装置の他の一例を示す処理槽の側断面図である。

【図３】従来のウェット処理装置の一例を示す斜視図で
ある。

【符号の説明】

１ 処理槽 ８ チャック部 14 搬送機 15 振動板

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理液を貯留した処理槽内に被処理物を
   浸漬してウェット処理するにあたり、上記処理槽内に耐
   蝕性振動板を被処理物と共に浸漬して処理液を振動さ
   せ、被処理物を超音波洗浄することを特徴とするウェッ
   ト処理方法。
2. 【請求項２】 処理液を貯留した処理槽と、被処理物を
   把持するチャック部を有すると共に、横及び上下に移動
   し、上記処理槽まで被処理物を搬送して上方から処理槽
   内に浸漬させる搬送機と、上記搬送機にチャック部と並
   べて設けられ、被処理物を把持したチャック部と共に上
   記処理槽内に浸漬されて処理液を振動させる耐蝕性振動
   板とを具備したことを特徴とするウェット処理装置。
3. 【請求項３】 振動板は石英からなることを特徴とする
   請求項２記載のウェット処理装置。