JPH0722068B2 - Capacitor manufacturing method - Google Patents

Capacitor manufacturing method

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JPH0722068B2
JPH0722068B2 JP20218290A JP20218290A JPH0722068B2 JP H0722068 B2 JPH0722068 B2 JP H0722068B2 JP 20218290 A JP20218290 A JP 20218290A JP 20218290 A JP20218290 A JP 20218290A JP H0722068 B2 JPH0722068 B2 JP H0722068B2
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信行 久米
賢一 橋詰
秀雄 山本
功 伊佐
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、多孔質化した導電体表面上にポリイミド被膜
を形成し、これを誘電体層とするコンデンサの製造方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a capacitor in which a polyimide coating is formed on the surface of a porous conductor and used as a dielectric layer.

従来の技術 フィルムコンデンサは、通常、ポリエステルフィルムや
ポリプロピレンフィルムなどを誘電体として、アルミニ
ウム箔などの金属と共に巻回したり、あるいは片面又は
両面に金属を真空蒸着したのち巻回又は積層して製造さ
れている。
2. Description of the Related Art Film capacitors are usually manufactured by winding polyester or polypropylene film as a dielectric with metal such as aluminum foil, or by vacuum-depositing metal on one or both sides and then winding or laminating. There is.

発明が解決しようとする課題 一般に大容量のフィルムコンデンサを得るためには、片
面又は両面に金属を真空蒸着したプラスチックフィルム
を巻回したり積層した状態で使用しているが、プラスチ
ックフィルムの誘電率は2〜3と小さく、更に、フィル
ムの取扱上薄膜化にも限界があるため大容量のフィルム
コンデンサは得にくく、回路への実使用上、数マイクロ
ファラドが限界であった。
Problems to be Solved by the Invention Generally, in order to obtain a large-capacity film capacitor, a plastic film obtained by vacuum-depositing metal on one side or both sides is used in a wound or laminated state, but the dielectric constant of the plastic film is It is as small as a few, and it is difficult to obtain a large-capacity film capacitor because there is a limit in thinning the film, and a practical use in a circuit is limited to several microfarads.

大容量のコンデンサを得るためには誘電体の表面積を大
きくすると良いことから、電極となる導電体の表面を多
孔質化して、その表面に誘電体を形成すると良い。そこ
でエッチングしたアルミニウム箔のように粗面化処理を
施し、表面積を拡大させた導電体表面にポリイミドを形
成させるため、ポリアミック酸を含む溶液中に浸漬し細
孔内に十分ポリアミック酸を充填した後、加熱脱水して
ポリイミド化すると細孔がすべて埋まってしまい、拡大
させた表面積を有効利用できず期待したほどの容量を得
ることは困難であった。
Since it is preferable to increase the surface area of the dielectric in order to obtain a large-capacity capacitor, it is preferable to make the surface of the conductor serving as an electrode porous and form the dielectric on the surface. Therefore, after roughening treatment like an etched aluminum foil, in order to form a polyimide on the surface of the conductor whose surface area has been enlarged, after dipping in a solution containing polyamic acid and sufficiently filling the pores with polyamic acid However, when heat-dehydrated to form a polyimide, all the pores were filled, and the expanded surface area could not be used effectively, and it was difficult to obtain the expected capacity.

一方、アルミニウム,タンタルなどの弁作用金属表面に
誘電体として酸化被膜を形成した構造の電解コンデンサ
では、酸化被膜を非常に薄くできるため、小型で大容量
のコンデンサを得ることができるが、その反面、誘電体
酸化被膜は脆いので機械的なストレスや衝撃に弱いなど
の欠陥が多いため、漏れ電流が大きい。また、弁作用金
属の誘電体酸化被膜は整流作用を持っているため無極性
のコンデンサを形成するのは困難であった。
On the other hand, with an electrolytic capacitor having a structure in which an oxide film is formed as a dielectric on the surface of a valve metal such as aluminum or tantalum, the oxide film can be made very thin, so a small capacitor with a large capacity can be obtained. Since the dielectric oxide film is fragile, it has many defects such as weakness against mechanical stress and impact, resulting in a large leakage current. Further, since the dielectric oxide film of the valve metal has a rectifying action, it is difficult to form a nonpolar capacitor.

本発明の目的とするところは、多孔質化した導電体表面
上に誘電体としてポリイミド被膜を形成させ、該ポリイ
ミド被膜上に対極を形成せしめた構造のコンデンサにお
いて、多孔質化した導電体表面の形状に応じて追従性の
良いポリイミド被膜を形成せしめ、大容量で優れた特性
を有するコンデンサの製造方法を提供することである。
The purpose of the present invention is to form a polyimide coating as a dielectric on the porous conductor surface, in a capacitor having a structure in which a counter electrode is formed on the polyimide coating, the porous conductor surface of the It is an object of the present invention to provide a method for producing a capacitor having a large capacity and excellent characteristics by forming a polyimide coating film having good followability according to the shape.

課題を解決するための手段 本発明者らは、鋭意研究の結果、上記目的を達成し得る
コンデンサの製造方法を発明するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of earnest research, the present inventors have invented a method for manufacturing a capacitor that can achieve the above object.

すなわち、多孔質化した導電体表面上にポリイミド被膜
からなる誘導体層を形成し、さらに該ポリイミド被膜表
面上に対極となる誘導体層を形成したコンデンサの製造
方法において、ポリアミック酸塩を含む溶液を電着液と
して電着を行い、ポリアミック酸の薄膜を多孔質化した
誘導体表面上に形成した後、ポリアミック酸を加熱脱水
することによってポリイミド被膜を形成することを特徴
とするコンデンサの製造方法である。
That is, in a method for producing a capacitor in which a derivative layer made of a polyimide coating is formed on the surface of a porous conductor, and a derivative layer serving as a counter electrode is further formed on the surface of the polyimide coating, a solution containing a polyamic acid salt is charged. The method for producing a capacitor is characterized in that a polyamic acid thin film is formed on a surface of a porous derivative by electrodeposition as a liquid to be deposited, and then a polyimide film is formed by heating and dehydrating the polyamic acid.

多孔質化した導電体としては、多孔質化の容易性、電導
度及び安定性から、アルミニウム,タンタル,ニッケ
ル,チタン,ステンレス,銅またはカーボンが好まし
い。また、これらの導電体の多孔質化の方法としては、
例えば、電気化学的エッチング、酸やアルカリなどを用
いた化学的エッチング、イオンビームやスパッタリング
などによる粗面化、サンドブラストや表面研削による粗
面化、導電体微粉の焼結による多孔質化などが挙げられ
るが、本発明の多孔質化した導電体はこれらの例によっ
て何等限定されない。
As the porous conductor, aluminum, tantalum, nickel, titanium, stainless steel, copper or carbon is preferable from the viewpoint of easy porosity, electric conductivity and stability. Further, as a method of making these conductors porous,
Examples include electrochemical etching, chemical etching using acid or alkali, roughening by ion beam or sputtering, roughening by sandblasting or surface grinding, and porosity by sintering fine conductor powder. However, the porous conductor of the present invention is not limited to these examples.

電着に用いるポリアミック酸塩は、テトラカルボン酸無
水物とジアミンとを反応させて、ポリアミック酸とした
後、有機溶媒に溶解し塩基を加えて、ポリアミック酸の
カルボキシル基の一部または全部を中和して得る。
The polyamic acid salt used for electrodeposition is obtained by reacting a tetracarboxylic acid anhydride with a diamine to form a polyamic acid, and then adding a base dissolved in an organic solvent to partially or entirely dissolve the carboxyl group of the polyamic acid. I get it in harmony.

テトラカルボン酸無水物としては特に限定されないが、
例えば以下の(1)〜(6)に示すような化合物を使用
することができる。
The tetracarboxylic acid anhydride is not particularly limited,
For example, compounds as shown in the following (1) to (6) can be used.

ジミアンとしては、特に限定されないが例えば以下の
(7)〜(10)に示すような化合物を使用することがで
きる(式中、XはO,CH2,SO2,C(CH3)2,C(CF3)2を表わ
す)。
The dimian is not particularly limited, but for example, the following compounds (7) to (10) can be used (in the formula, X is O, CH 2 , SO 2 , C (CH 3 ) 2 , Represents C (CF 3 ) 2 .

また、これらの他にもエチレンジアミン,ヘキサメチレ
ンジアミンなどの脂肪族ジアミン類も使用することがで
きる。
Besides these, aliphatic diamines such as ethylenediamine and hexamethylenediamine can also be used.

有機溶媒としては、用いるポリアミック酸を溶解するも
のであれば、特に限定されないが、N,N−ジメチルアセ
トアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメトキシエ
タン,N−メチルピロリドン、N−メチルカプロラクタ
ム、ジメチルスルホキシドなどの高極性溶媒が好適であ
る。また、塩基としては、特に限定されないが水酸化ナ
トリウムなどの無機水酸化物,炭酸ナトリウムなどの無
機塩基性塩,トリメチルアミン,トリエチルアミンなど
のアルキルアミン類,ピリジン,キノリン,イソキノリ
ンなどの含窒素複素芳香族化合物などがある。
The organic solvent is not particularly limited as long as it dissolves the polyamic acid used, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethoxyethane, N-methylpyrrolidone, N-methylcaprolactam, dimethyl sulfoxide. Highly polar solvents such as The base is not particularly limited, but inorganic hydroxides such as sodium hydroxide, inorganic basic salts such as sodium carbonate, alkylamines such as trimethylamine and triethylamine, nitrogen-containing heteroaromatics such as pyridine, quinoline and isoquinoline. There are compounds, etc.

以上のようにして調製されたポリアミック酸塩溶液をそ
のまま電着液とするか、または、ポリアミック酸の貧溶
媒を適宜加えて電着液とする。このとき用いるポリアミ
ック酸の貧溶媒は用いるポリアミック酸により異なる
が、一般的には、メタノール,エタノール,エチレング
リコール,プロピレングリコール,グリセリンなどのア
ルコール類,アセトン,メチルエチルケトン,シクロヘ
キサノンなどのケトン類,ベンゼン,トルエン,キシレ
ンなどの芳香族炭化水素,四塩化炭素,クロロホルムな
どの有機塩素化合物、ニトロメタンなどの有機窒素化合
物などが用いられる。
The polyamic acid salt solution prepared as described above is used as the electrodeposition liquid as it is, or a poor solvent for the polyamic acid is appropriately added to form the electrodeposition liquid. The poor solvent for the polyamic acid used at this time varies depending on the polyamic acid used, but in general, alcohols such as methanol, ethanol, ethylene glycol, propylene glycol, and glycerin, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, benzene, and toluene. Aromatic hydrocarbons such as xylene, carbon tetrachloride, organic chlorine compounds such as chloroform, and organic nitrogen compounds such as nitromethane are used.

次に多孔質化した導電体表面上にポリアミック酸被膜を
形成させるには、多孔質化した導電体を陽極として上記
電着液に浸漬し、外部陰極との間に1〜300Vの電圧を印
加して電着を行う。
Next, in order to form a polyamic acid coating on the surface of the porous conductor, the porous conductor is immersed in the above electrodeposition solution as an anode, and a voltage of 1 to 300 V is applied between the outer cathode and the outer cathode. And electrodeposition.

このようにして、多孔質化した導電体表面上に形成され
たポリアミック酸被膜を加熱脱水してポリイミド被膜と
する。
In this way, the polyamic acid film formed on the surface of the porous conductor is heated and dehydrated to form a polyimide film.

以上のようにして、多孔質化した導電体表面上にポリイ
ミド被膜を形成させた後、該ポリイミド被膜上に対極を
形成させる。対極を形成させる方法としては、インジウ
ムスズオキサイドや二酸化マンガンなどの金属酸化物か
らなる導電体層を設けて対極とする方法、カーボンや
銀,金,銅などを用いた導電性ペーストや浸漬や塗布し
て導電体層を形成する方法,TCNQ錯体などの有機導電材
料を溶媒含浸や溶液塗布などを行って導電体層を形成す
るなどの方法、化学酸化重合による導電性分子膜、電解
重合による導電性高分子膜を順次積層して対極を形成す
る方法等がある。ポリイミド被膜に対する密着性や、導
電度の点などから考慮すると、化学酸化重合による導電
性高分子膜と電解重合による導電性高分子膜を順次積層
して対極とするのがよい。該方法を用いるとポリイミド
被膜の表面形状に応じた対極を形成でき、また、誘電体
被膜に欠陥があっても漏れ電流の小さいコンデンサとな
る。
As described above, after the polyimide coating film is formed on the porous conductor surface, the counter electrode is formed on the polyimide coating film. As a method of forming a counter electrode, a method of forming a counter electrode by providing a conductor layer made of a metal oxide such as indium tin oxide or manganese dioxide, a conductive paste using carbon, silver, gold, copper or the like, dipping or coating To form a conductor layer, a method of forming a conductor layer by solvent impregnation or solution coating of an organic conductive material such as TCNQ complex, conductive molecular film by chemical oxidative polymerization, conductive by electrolytic polymerization There is a method of forming a counter electrode by sequentially laminating conductive polymer films. Considering the adhesion to the polyimide coating, the conductivity, and the like, it is preferable to sequentially stack a conductive polymer film formed by chemical oxidative polymerization and a conductive polymer film formed by electrolytic polymerization to form a counter electrode. By using this method, a counter electrode corresponding to the surface shape of the polyimide coating can be formed, and even if the dielectric coating has a defect, the capacitor has a small leakage current.

以下にポリイミド被覆上に化学酸化重合による導電性高
分子膜、電解重合による導電性高分子膜層を順次積層さ
せて対極を形成する方法を説明する。
A method for forming a counter electrode by sequentially stacking a conductive polymer film formed by chemical oxidative polymerization and a conductive polymer film formed by electrolytic polymerization on the polyimide coating will be described below.

多孔質化した導電体表面上に形成したポリイミド被膜上
に導電性高分子モノマーを少なくとも0.01mol/l含む溶
液を均一に分散させた後、酸化剤を0.001mol/l〜2mol/l
含む溶液と接触させるか、または逆に酸化剤を均一に分
散させた後、導電性高分子モノマー溶液と接触させる方
法により化学酸化重合した導電性高分子膜を形成し、表
面を導電化する。
After uniformly dispersing a solution containing at least 0.01 mol / l of a conductive polymer monomer on a polyimide coating formed on the surface of a porous conductor, 0.001 mol / l to 2 mol / l of an oxidizer was used.
The surface is made electrically conductive by forming a conductive polymer film chemically oxidized and polymerized by a method of contacting with a solution containing the same or, conversely, uniformly dispersing an oxidizing agent, and then contacting with a solution of a conductive polymer monomer.

化学酸化重合に用いられる酸化剤は、ヨウ素,臭素,ヨ
ウ化臭素などのハロゲン,5フッ化ヒ素,五フッ化アンチ
モン,四フッ化ケイ素,五塩化リン,塩化アルミニウ
ム,塩化モリブデンなどの金属ハロゲン化物、硫酸,硝
酸,フルオロ硫酸,トリフルオロメタン硫酸,クロロ硫
酸などのプロトン酸,三酸化イオウ,二酸化窒素などの
含酸素化合物,過硫酸ナトリウム,過硫酸アンモニウム
などの過硫酸塩,過酸化水素,過酢酸などの過酸化物な
どである。
Oxidizing agents used for chemical oxidative polymerization include halogens such as iodine, bromine and bromine iodide, arsenic pentafluoride, antimony pentafluoride, silicon tetrafluoride, phosphorus pentachloride, aluminum chloride, molybdenum chloride and other metal halides. , Sulfuric acid, nitric acid, fluorosulfuric acid, trifluoromethane sulfuric acid, chlorosulfuric acid and other protic acids, sulfur trioxide, nitrogen dioxide and other oxygen-containing compounds, sodium persulfate, persulfate such as ammonium persulfate, hydrogen peroxide, peracetic acid, etc. For example, peroxide.

導電性高分子としてはポリピロール,ポリチオフェン,
ポリフランを用い、安定性の点から特に好ましくはポリ
ピロールを用いる。
Conductive polymers include polypyrrole, polythiophene,
Polyfuran is used, and from the viewpoint of stability, polypyrrole is particularly preferably used.

その後、支持電解質0.01mol/l〜2mol/lおよび導電性高
分子モノマー0.01mol/l〜5mol/lを含む電解液中で、化
学酸化重合による導電性高分子膜を陽極として電解重合
を行うと化学酸化重合した導電性高分子膜上に均一な電
解重合導電性高分子膜が形成される。
After that, in an electrolytic solution containing a supporting electrolyte 0.01 mol / l to 2 mol / l and a conductive polymer monomer 0.01 mol / l to 5 mol / l, electrolytic polymerization is performed using a conductive polymer film by chemical oxidative polymerization as an anode. A uniform electrolytically polymerized conductive polymer film is formed on the chemically oxidatively polymerized conductive polymer film.

本発明の電解重合に用いられる支持電解質は、陰イオン
がヘキサフロロリン,ヘキサフロロヒ素,テトラフロロ
ホウ素などのハロゲン化物アニオン,ヨウ素,臭素,塩
素などのハロゲンアニオン、過塩素酸アニオン,ベンゼ
ンスルホン酸,アルキルベンゼンスルホン酸などのスル
ホン酸アニオンであり、又、陽イオンがリチウム,カリ
ウム,ナトリウムなどのアルカリ金属カチオン、アンモ
ニウム,テトラアルキルアンモニウムなどの4級アンモ
ニウムカチオンである。化合物としてはLiPF6,LiAs
F6,LiClO4,LiBF4,KI,NaPF6,NaClO4,トルエンスルホ
ン酸ナトリウム,トルエンスルホン酸テトラブチルアン
モニウムなどが挙げられる。
In the supporting electrolyte used in the electropolymerization of the present invention, anions are halide anions such as hexafluoroline, hexafluoroarsenic and tetrafluoroboron, halogen anions such as iodine, bromine and chlorine, perchlorate anion, benzenesulfonic acid, It is a sulfonate anion such as alkylbenzene sulfonic acid, and the cation is an alkali metal cation such as lithium, potassium or sodium, or a quaternary ammonium cation such as ammonium or tetraalkylammonium. LiPF 6 and LiAs as compounds
Examples include F 6 , LiClO 4 , LiBF 4 , KI, NaPF 6 , NaClO 4 , sodium toluenesulfonate, and tetrabutylammonium toluenesulfonate.

以上のようにして、対極を形成した後、対極の一部より
リードを取り出し、樹脂モールドまたは外装ケースに密
封するなどの方法により本発明のコンデンサを提供する
ことが出来る。
After forming the counter electrode as described above, the lead of the counter electrode is taken out from a part of the counter electrode and sealed with a resin mold or an outer case to provide the capacitor of the present invention.

作用 本発明によるコンデンサの製造方法では、多孔質化した
導電体表面に薄膜状のポリイミド被膜を表面の形状に応
じて形成できるため、表面積を有効に利用でき小型で大
容量のコンデンサを得ることができ、また、無極性のコ
ンデンサとなる。
Effect In the method for producing a capacitor according to the present invention, a thin film polyimide film can be formed on the surface of a porous conductor according to the shape of the surface, so that the surface area can be effectively used and a small capacitor having a large capacity can be obtained. It is possible and it becomes a non-polar capacitor.

実施例 以下、実施例により本発明を詳細に説明する。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples.

なお、実施例および比較例中の部とは、重量部を表わ
す。
In addition, the part in an Example and a comparative example represents a weight part.

(実施例1) 高純度アルミニウム箔の表面を電解エッチングにより50
倍に粗面化し、10mm×3mmに切断した後、かしめ付けに
よりリードを取り付けて金属電極を得た。
(Example 1) The surface of a high-purity aluminum foil was electrolytically etched to 50
After roughening the surface twice and cutting it to 10 mm x 3 mm, a lead was attached by caulking to obtain a metal electrode.

一方、p−フエニレンジアミン(化合物7)3.3部をN,N
−ジメチルホルムアイド90部に溶解しピロメリット酸二
無水物(化合物1)6.7部を加えて室温で12時間反応さ
せてポリアミック酸溶液としたのち、トリメチルアミン
1.8部を加え40℃で30分間反応させて、ポリアミック酸
のカルボキシル基の一部を中和してポリアミック酸塩溶
液とした。この溶液60部にメタノール40部を加え電着液
とした。
On the other hand, 3.3 parts of p-phenylenediamine (Compound 7) was added to N, N
-Dissolve in 90 parts of dimethylformide, add 6.7 parts of pyromellitic dianhydride (Compound 1) and react at room temperature for 12 hours to prepare a polyamic acid solution, then add trimethylamine
1.8 parts of the polyamic acid was added and reacted at 40 ° C. for 30 minutes to neutralize a part of the carboxyl groups of the polyamic acid to obtain a polyamic acid salt solution. To 60 parts of this solution, 40 parts of methanol was added to prepare an electrodeposition liquid.

該電着液をステンレス製容器に入れ、粗面化した金属電
極を浸漬して陽極となし、ステンレス製容器を陰極とし
て、150Vの電圧を3分間印加し、該金属電極表面にポリ
アミック酸の薄膜を形成させた。次に、該金属電極を容
器より取り出し、250℃で2時間加熱して表面にポリイ
ミド被膜を形成した素子を得た。
The electrodeposition liquid was placed in a stainless steel container, and the roughened metal electrode was immersed to form an anode. A voltage of 150 V was applied for 3 minutes using the stainless steel container as a cathode, and a thin film of polyamic acid was applied to the surface of the metal electrode. Was formed. Next, the metal electrode was taken out of the container and heated at 250 ° C. for 2 hours to obtain an element having a polyimide coating formed on its surface.

この素子を2mol/l、ピロエール/エタノール溶液に5分
間浸漬した後、更に0.5mol/l過硫酸アンモニウム水溶液
に5分間浸漬して化学酸化重合によるポリピロール膜を
形成した。更にこの素子をピロールモノマー1mol/l及び
支持電解質としてパラトルエンスルホン酸テトラエチル
アンモニウム1mol/lを含むアセトニトリル溶液中に浸漬
し、化学酸化重合したポリピロールを陽極とし、外部電
極との間に定電流電解重合(1mA/cm2、30分)を行い、
電解重合によるポリピロール膜を形成した。この素子を
コロイダルカーボンに浸漬し、更に銀ペーストを塗布し
て導電性塗膜を形成し、その一部から対極を取り出して
コンデンサを完成した。得られたコンデンサの特性を第
1表に示す。
This device was dipped in a 2 mol / l solution of pyrole / ethanol for 5 minutes and then dipped in a 0.5 mol / l ammonium persulfate aqueous solution for 5 minutes to form a polypyrrole film by chemical oxidative polymerization. Furthermore, this element was immersed in an acetonitrile solution containing 1 mol / l of pyrrole monomer and 1 mol / l of tetraethylammonium paratoluenesulfonate as a supporting electrolyte, and polypyrrole chemically oxidized and polymerized was used as an anode, and constant current electropolymerization was performed between it and an external electrode. (1mA / cm 2 , 30 minutes)
A polypyrrole film was formed by electrolytic polymerization. This element was dipped in colloidal carbon, and a silver paste was further applied to form a conductive coating film, and a counter electrode was taken out from a part thereof to complete a capacitor. The characteristics of the obtained capacitor are shown in Table 1.

(実施例2) 実施例1において、メタノール40部を加えない以外は実
施例1に準じてコンデンサを完成した。得られたコンデ
ンサの特性を第1表に示す。
Example 2 A capacitor was completed according to Example 1 except that 40 parts of methanol was not added. The characteristics of the obtained capacitor are shown in Table 1.

(実施例3〜5) 実施例1においてアルミエッチング箔の代りに、焼結を
行って50倍に多孔質化したタンタル焼結体(実施例
3)、実効表面積の倍率が30倍のスポンジニッケル(実
施例4)、実効表面積が30倍のスポンジステンレス(SU
S304)(実施例5)、を用いた以外は実施例1に準じ
た。得られたコンデンサの特性を第1表に示す。
(Examples 3 to 5) Instead of the aluminum etching foil in Example 1, a tantalum sintered body (Example 3) which was sintered to be 50 times porous, and a sponge nickel having an effective surface area of 30 times was used. (Example 4), sponge stainless steel with an effective surface area of 30 times (SU
S304) (Example 5) was used, but the procedure was the same as in Example 1. The characteristics of the obtained capacitor are shown in Table 1.

(実施例6) 実施例1においてポリアミック酸溶液にトリメチルアミ
ンを加えた後、メタノールのかわりにアセトン40部を加
えたほかは、実施例1に準じた。得られたコンデンサの
特性を第1表に示す。
(Example 6) The procedure of Example 1 was repeated except that trimethylamine was added to the polyamic acid solution in Example 1 and then 40 parts of acetone was added instead of methanol. The characteristics of the obtained capacitor are shown in Table 1.

(実施例7) 実施例1において、p−フエニレンジアミン3.3部を4,
4′−ジアミノジフェニルエーテル(化合物9)4.0部
に、またピロメリット酸二無水物6.7部をビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物(化合物2)6.0部に替えたほ
かは実施例1に準じた。得られたコンデンサの特性を第
1表に示す。
Example 7 In Example 1, 3.3 parts of p-phenylenediamine was added to 4,
Example 1 was repeated except that 4.0 parts of 4'-diaminodiphenyl ether (Compound 9) and 6.7 parts of pyromellitic dianhydride were replaced with 6.0 parts of biphenyltetracarboxylic dianhydride (Compound 2). The characteristics of the obtained capacitor are shown in Table 1.

発明の効果 本発明の方法によれば、多孔質化した導電体の細孔内部
までポリイミド被膜を薄く形成できるので小型,大容
量,高耐熱性で更に無極性である優れたコンデンサを実
現できるものである。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the method of the present invention, a thin polyimide film can be formed inside the pores of a porous conductor, so that an excellent capacitor having a small size, a large capacity, high heat resistance, and nonpolarity can be realized. Is.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01G 4/33 (72)発明者 久米 信行 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 橋詰 賢一 群馬県渋川市半田2470番地 日本カーリッ ト株式会社中央研究所内 (72)発明者 山本 秀雄 群馬県渋川市半田2470番地 日本カーリッ ト株式会社中央研究所内 (72)発明者 伊佐 功 群馬県渋川市半田2470番地 日本カーリッ ト株式会社中央研究所内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Internal reference number FI Technical indication location H01G 4/33 (72) Inventor Nobuyuki Kume 1006 Kadoma, Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Kenichi Hashizume, 2470, Handa, Shibukawa, Gunma, Japan Central Research Institute (72) Inventor, Hideo Yamamoto, 2470, Handa, Shibukawa, Gunma, Japan, Central Research Institute, Japan (72) Inventor, Isa Gongma 2470, Handa, Shibukawa, Gunma Japan Central Research Institute

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】多孔質化した導電体表面上にポリイミド被
膜からなる誘電体層を形成し、さらに該ポリイミド被膜
表面上に対極となる導電体層を形成したコンデンサの製
造方法において、ポリアミック酸塩を含む溶液を電着液
として電着を行い、ポリアミック酸の薄膜を多孔質化し
た導電体表面上に形成した後、ポリアミック酸を加熱脱
水することによってポリイミド被膜を形成することを特
徴とするコンデンサの製造方法。
1. A method for producing a capacitor, comprising: forming a dielectric layer made of a polyimide coating on the surface of a porous conductor, and further forming a counter conductive layer on the surface of the polyimide coating; Electrodeposition using a solution containing a polyamic acid as the electrodeposition solution, after forming a thin film of polyamic acid on the surface of the porous conductor, a capacitor characterized by forming a polyimide coating by heating dehydration of the polyamic acid Manufacturing method.
【請求項2】ポリアミック酸塩を含む電着液にポリアミ
ック酸の貧溶媒を添加して電着することを特徴とする請
求項1記載のコンデンサの製造方法。
2. The method for producing a capacitor according to claim 1, wherein a poor solvent for polyamic acid is added to an electrodeposition liquid containing a polyamic acid salt for electrodeposition.
【請求項3】対極となる導電体層が、化学酸化重合によ
る導電性高分子膜と電解重合による導電性高分子膜を順
次積層して形成されることを特徴とする請求項1記載の
コンデンサの製造方法。
3. The capacitor according to claim 1, wherein the conductor layer serving as a counter electrode is formed by sequentially laminating a conductive polymer film formed by chemical oxidative polymerization and a conductive polymer film formed by electrolytic polymerization. Manufacturing method.
【請求項4】導電性高分子膜がポリピロールである請求
項1記載のコンデンサの製造方法。
4. The method for producing a capacitor according to claim 1, wherein the conductive polymer film is polypyrrole.
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