JPH07220635A - 有機光伝導体を使用する陰極線管の電子写真スクリーニング方法 - Google Patents
有機光伝導体を使用する陰極線管の電子写真スクリーニング方法Info
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- JPH07220635A JPH07220635A JP6318770A JP31877094A JPH07220635A JP H07220635 A JPH07220635 A JP H07220635A JP 6318770 A JP6318770 A JP 6318770A JP 31877094 A JP31877094 A JP 31877094A JP H07220635 A JPH07220635 A JP H07220635A
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- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は安全な作業環境でスクリーニング処
理が可能なスクリーン組立体の電子写真的な製造方法の
提供を目的とする。 【構成】 本発明のカラーＣＲＴ１０用フェースプレー
トパネル１２の内側の面にスクリーン組立体２２，２４
を電子写真的に製造する方法は、揮発性伝導性層３２を
形成するため伝導性溶液でパネルの面を順次に被覆して
光受容体を形成し、揮発性光伝導性層３４を形成するた
め適当な樹脂と電子供与体材料と電子受容体材料と界面
活性剤と有機溶媒とを含む有機光伝導性溶液で伝導性層
を被覆する段階からなる。光受容体の光伝導性層は薄膜
化時に耐亀裂性を有し固定時に発光体の接着を増強し実
質的に完全にベーキング除去され５５０ｎｍ以上でスペ
クトル感度は実質的に無いので、新規の光伝導性層で覆
れたパネルに害を及ぼすことなく、暗所ではなく、安全
な作業環境を提供する黄色の光でスクリーニング処理し
得る。
理が可能なスクリーン組立体の電子写真的な製造方法の
提供を目的とする。 【構成】 本発明のカラーＣＲＴ１０用フェースプレー
トパネル１２の内側の面にスクリーン組立体２２，２４
を電子写真的に製造する方法は、揮発性伝導性層３２を
形成するため伝導性溶液でパネルの面を順次に被覆して
光受容体を形成し、揮発性光伝導性層３４を形成するた
め適当な樹脂と電子供与体材料と電子受容体材料と界面
活性剤と有機溶媒とを含む有機光伝導性溶液で伝導性層
を被覆する段階からなる。光受容体の光伝導性層は薄膜
化時に耐亀裂性を有し固定時に発光体の接着を増強し実
質的に完全にベーキング除去され５５０ｎｍ以上でスペ
クトル感度は実質的に無いので、新規の光伝導性層で覆
れたパネルに害を及ぼすことなく、暗所ではなく、安全
な作業環境を提供する黄色の光でスクリーニング処理し
得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、陰極線管（ＣＲＴ）用
の発光スクリーン組立体の電子写真的な製造方法に係
り、特に、優れた物理的、電気的特性を有する有機光伝
導性層を設けるために改良された材料を使用する方法に
関する。
の発光スクリーン組立体の電子写真的な製造方法に係
り、特に、優れた物理的、電気的特性を有する有機光伝
導性層を設けるために改良された材料を使用する方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】１９９０年５月１日にダッタ他に発行さ
れた米国特許第４，９２１，７６７号明細書には、適切
に調製され静電的に充電可能な面に沈積した乾燥粉末化
され摩擦電気的に充電されたスクリーン構造体材料を使
用するＣＲＴのフェースプレートの内側の面に発光スク
リーン組立体を電子写真的に製造する方法が記載されて
いる。充電可能な面又は光受容体は、伝導性層の上に重
なる有機光伝導性層よりなり、両方の層はＣＲＴパネル
の内側の面に溶液として順次に沈積される。
れた米国特許第４，９２１，７６７号明細書には、適切
に調製され静電的に充電可能な面に沈積した乾燥粉末化
され摩擦電気的に充電されたスクリーン構造体材料を使
用するＣＲＴのフェースプレートの内側の面に発光スク
リーン組立体を電子写真的に製造する方法が記載されて
いる。充電可能な面又は光受容体は、伝導性層の上に重
なる有機光伝導性層よりなり、両方の層はＣＲＴパネル
の内側の面に溶液として順次に沈積される。
【０００３】上記の特許に記載されている光伝導性層
は、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）のような揮発性
の有機ポリマー材料、或いは、ｎ−エチルカルバゾー
ル、ｎ−ビニルカルバゾール、又は、テトラフェニルブ
タトリエン（ＴＰＢＴ）のような有機モノマーよりな
る。
は、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）のような揮発性
の有機ポリマー材料、或いは、ｎ−エチルカルバゾー
ル、ｎ−ビニルカルバゾール、又は、テトラフェニルブ
タトリエン（ＴＰＢＴ）のような有機モノマーよりな
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記の好ましいＰＶＫ
光伝導性材料の欠点は、それらは被覆時に亀裂を生じる
傾向があり、発光体被覆物は定着中に十分には付着せ
ず、スクリーンのベーキング中に上記層の揮発性の組成
物をベーキング除去するのに長時間を要することであ
る。ＴＰＢＴの欠点は溶解性が低く、結晶化する傾向が
あり、当面関心のある波長、即ち、４００乃至５００ｎ
ｍで相当の感度を有しないことである。上記の結晶化
は、電気的破壊が結晶部位で生じ、かかる部位に発光体
及び／又はマトリクス欠陥を発生するので好ましくな
い。
光伝導性材料の欠点は、それらは被覆時に亀裂を生じる
傾向があり、発光体被覆物は定着中に十分には付着せ
ず、スクリーンのベーキング中に上記層の揮発性の組成
物をベーキング除去するのに長時間を要することであ
る。ＴＰＢＴの欠点は溶解性が低く、結晶化する傾向が
あり、当面関心のある波長、即ち、４００乃至５００ｎ
ｍで相当の感度を有しないことである。上記の結晶化
は、電気的破壊が結晶部位で生じ、かかる部位に発光体
及び／又はマトリクス欠陥を発生するので好ましくな
い。
【０００５】従来の材料の欠点がなく、誘電破壊を伴う
ことなく４００乃至６００ボルトに充電し得る適当な材
料が必要である。その上、上記材料は暗所で殆ど、又
は、全く電荷を散逸することなく、光を照射されると直
ちに放電することが必要である。さらに、安全な製造環
境を提供するために暗所ではなくむしろ黄色光の下でス
クリーニング処理を行えるよう上記材料は５５０ｎｍ以
上でスペクトル感度の無いことが望ましい。
ことなく４００乃至６００ボルトに充電し得る適当な材
料が必要である。その上、上記材料は暗所で殆ど、又
は、全く電荷を散逸することなく、光を照射されると直
ちに放電することが必要である。さらに、安全な製造環
境を提供するために暗所ではなくむしろ黄色光の下でス
クリーニング処理を行えるよう上記材料は５５０ｎｍ以
上でスペクトル感度の無いことが望ましい。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、カラー
ＣＲＴのフェースプレートパネルの内側の面上に発光ス
クリーン組立体を電子写真的に製造する方法は、揮発性
の伝導性層を形成するため上記パネルの面を被覆し、５
５０ｎｍ以上ではスペクトル感度を実質的に有しない揮
発性の有機光伝導性層を形成するために、適当な樹脂
と、電子供与体材料と、電子受容体材料と、界面活性剤
と、有機溶媒とを含む光伝導性溶液で上記伝導性層を被
覆する段階よりなる。
ＣＲＴのフェースプレートパネルの内側の面上に発光ス
クリーン組立体を電子写真的に製造する方法は、揮発性
の伝導性層を形成するため上記パネルの面を被覆し、５
５０ｎｍ以上ではスペクトル感度を実質的に有しない揮
発性の有機光伝導性層を形成するために、適当な樹脂
と、電子供与体材料と、電子受容体材料と、界面活性剤
と、有機溶媒とを含む光伝導性溶液で上記伝導性層を被
覆する段階よりなる。
【０００７】上記光伝導性溶液の樹脂は、ポリスチレン
と、ポリ−α−メチルスチレンと、ポリスチレン−ブタ
ジエン共重合体と、ポリメタクリル酸メチルと、ポリメ
タクリル酸、ポリイソブチレン、及びポリプロピレン炭
酸塩のエステルとよりなる群から選ばれる。上記電子供
与体材料は、１，４−ジ（２，４−メチルフェニル）−
１，４ ジフェニルブタトリエン（２，４−ＤＭＰＢ
Ｔ）と、１，４−ジ（２，５−メチルフェニル）−１，
４ ジフェニルブタトリエン（２，５−ＤＭＰＢＴ）
と、１，４−ジ（３，４−メチルフェニル）−１，４
ジフェニルブタトリエン（３，４−ＤＭＰＢＴ）と、
１，４−ジ（２−メチルフェニル）−１，４ ジフェニ
ルブタトリエン（２−ＤＭＰＢＴ）と、１，４−ジフェ
ニル−１，４ ジフェニルフェニルブタトリエン（２−
ＤＰＢＴ）と、１，４−ジ（４−フルオロフェニル）−
１，４ ジフェニルブタトリエン（４−ＤＦＰＢＴ）
と、１，４−ジ（４−ブロモフェニル）−１，４ ジフ
ェニルブタトリエン（４−ＤＢＰＢＴ）と、１，４−ジ
（４−クロロフェニル）−１，４ ジフェニルブタトリ
エン（４−ＤＣＰＢＴ）と、１，４−ジ（４−トリフル
オロメチルフェニル）−１，４ ジフェニルブタトリエ
ン（４−ＤＴＦＰＢＴ）とよりなる群から選ばれる。
と、ポリ−α−メチルスチレンと、ポリスチレン−ブタ
ジエン共重合体と、ポリメタクリル酸メチルと、ポリメ
タクリル酸、ポリイソブチレン、及びポリプロピレン炭
酸塩のエステルとよりなる群から選ばれる。上記電子供
与体材料は、１，４−ジ（２，４−メチルフェニル）−
１，４ ジフェニルブタトリエン（２，４−ＤＭＰＢ
Ｔ）と、１，４−ジ（２，５−メチルフェニル）−１，
４ ジフェニルブタトリエン（２，５−ＤＭＰＢＴ）
と、１，４−ジ（３，４−メチルフェニル）−１，４
ジフェニルブタトリエン（３，４−ＤＭＰＢＴ）と、
１，４−ジ（２−メチルフェニル）−１，４ ジフェニ
ルブタトリエン（２−ＤＭＰＢＴ）と、１，４−ジフェ
ニル−１，４ ジフェニルフェニルブタトリエン（２−
ＤＰＢＴ）と、１，４−ジ（４−フルオロフェニル）−
１，４ ジフェニルブタトリエン（４−ＤＦＰＢＴ）
と、１，４−ジ（４−ブロモフェニル）−１，４ ジフ
ェニルブタトリエン（４−ＤＢＰＢＴ）と、１，４−ジ
（４−クロロフェニル）−１，４ ジフェニルブタトリ
エン（４−ＤＣＰＢＴ）と、１，４−ジ（４−トリフル
オロメチルフェニル）−１，４ ジフェニルブタトリエ
ン（４−ＤＴＦＰＢＴ）とよりなる群から選ばれる。
【０００８】上記電子受容体材料は、９−フルオレノン
（９−Ｆ）と、３−ニトロ−９−フルオレノン（３−Ｎ
Ｆ）と、２，７−ジニトロ−９−フルオレノン（２，７
−ＤＮＦ）と、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレ
ノン（２，４，７−ＴＮＦ）と、２，４，７−トリニト
ロ−９−フルオレニリデン マロノニトリル（２，４，
７−ＴＮＦＭＮ）と、アントロキノン（ＡＱ）と、２−
エチルアントロキノン（２−ＥＡＱ）と、１−クロロア
ントロキノン（１−ＣＡＱ）と、２−メチルアントロキ
ノン（２−ＭＡＱ）と、２，１−ジクロロ−１，４ ナ
フタキノン（２，１−ＤＣＡＱ）とよりなる群から選ば
れる。
（９−Ｆ）と、３−ニトロ−９−フルオレノン（３−Ｎ
Ｆ）と、２，７−ジニトロ−９−フルオレノン（２，７
−ＤＮＦ）と、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレ
ノン（２，４，７−ＴＮＦ）と、２，４，７−トリニト
ロ−９−フルオレニリデン マロノニトリル（２，４，
７−ＴＮＦＭＮ）と、アントロキノン（ＡＱ）と、２−
エチルアントロキノン（２−ＥＡＱ）と、１−クロロア
ントロキノン（１−ＣＡＱ）と、２−メチルアントロキ
ノン（２−ＭＡＱ）と、２，１−ジクロロ−１，４ ナ
フタキノン（２，１−ＤＣＡＱ）とよりなる群から選ば
れる。
【０００９】
【実施例】図１に矩形状フェースプレートパネル１２
と、矩形状ファンネル１５により接続された管状ネック
１４とよりなるガラスエンベロープ１１を有するＣＲＴ
１０のようなカラーディスプレイ装置を示す。ファンネ
ル１５は、アノードボタン１６と接触しネック１４に延
在する内部伝導性皮膜（図示せず）を有する。パネル１
２はビューイングフェースプレート又はサブストレート
１８と、ガラスフリット２１によりファンネル１５にシ
ールされた周辺側のフランジ又は側壁２０とからなる。
３色発光スクリーン２２は、フェースプレート１８の内
側の面に支持される。図２に示すスクリーン２２は、好
ましくは、色のグループに配置された赤色放出性、緑色
放出性、及び青色放出性の発光体の縞、Ｒ、Ｇ、及びＢ
夫々の多数のスクリーン素子、或いは、衝突する電子ビ
ームが発生する平面に略垂直な方向に延在し、循環的に
並ぶ３本の縞、又は、トライアッド（３色の組）のピク
チャー素子を含むライン形スクリーンである。かかる実
施例に対し通常のビューイング位置において発光体の縞
は垂直方向に延在する。好ましくは、上記発光体の縞
は、従来より周知の光吸収性マトリクス材料２３により
互いに隔離される。或いは、スクリーンはドット形スク
リーンでも良い。好ましくはアルミニウム製である薄い
伝導性層２４は、スクリーン２２の上に重ねられ、発光
体素子から放出されフェースプレート１８を通過する光
を反射すると共にスクリーンに均一の電位を印加する手
段を提供する。スクリーン２２と上に重なるアルミニウ
ム層２４は、スクリーン組立体を構成する。
と、矩形状ファンネル１５により接続された管状ネック
１４とよりなるガラスエンベロープ１１を有するＣＲＴ
１０のようなカラーディスプレイ装置を示す。ファンネ
ル１５は、アノードボタン１６と接触しネック１４に延
在する内部伝導性皮膜（図示せず）を有する。パネル１
２はビューイングフェースプレート又はサブストレート
１８と、ガラスフリット２１によりファンネル１５にシ
ールされた周辺側のフランジ又は側壁２０とからなる。
３色発光スクリーン２２は、フェースプレート１８の内
側の面に支持される。図２に示すスクリーン２２は、好
ましくは、色のグループに配置された赤色放出性、緑色
放出性、及び青色放出性の発光体の縞、Ｒ、Ｇ、及びＢ
夫々の多数のスクリーン素子、或いは、衝突する電子ビ
ームが発生する平面に略垂直な方向に延在し、循環的に
並ぶ３本の縞、又は、トライアッド（３色の組）のピク
チャー素子を含むライン形スクリーンである。かかる実
施例に対し通常のビューイング位置において発光体の縞
は垂直方向に延在する。好ましくは、上記発光体の縞
は、従来より周知の光吸収性マトリクス材料２３により
互いに隔離される。或いは、スクリーンはドット形スク
リーンでも良い。好ましくはアルミニウム製である薄い
伝導性層２４は、スクリーン２２の上に重ねられ、発光
体素子から放出されフェースプレート１８を通過する光
を反射すると共にスクリーンに均一の電位を印加する手
段を提供する。スクリーン２２と上に重なるアルミニウ
ム層２４は、スクリーン組立体を構成する。
【００１０】図１を再び参照するに、多開口形のカラー
選択電極、又は、シャドーマスク２５は、スクリーン組
立体に所定の間隔のある関係で従来の手段によって取外
し自在に取付けられる。図１に点線で概略的に示される
電子銃２６は、３本の電子ビーム２８を発生し、マスク
２５の開口部を介しコンバージェンスパスに沿ってスク
リーン２２に当てるためネック１４の中心側に取付けら
れる。銃２６は、例えば、１９８６年１０月２８日にモ
レル他に発行された米国特許第４，６２０，１３３号明
細書に記載される形の双電位式電子銃、又は、他のあら
ゆる適当な銃からなる。
選択電極、又は、シャドーマスク２５は、スクリーン組
立体に所定の間隔のある関係で従来の手段によって取外
し自在に取付けられる。図１に点線で概略的に示される
電子銃２６は、３本の電子ビーム２８を発生し、マスク
２５の開口部を介しコンバージェンスパスに沿ってスク
リーン２２に当てるためネック１４の中心側に取付けら
れる。銃２６は、例えば、１９８６年１０月２８日にモ
レル他に発行された米国特許第４，６２０，１３３号明
細書に記載される形の双電位式電子銃、又は、他のあら
ゆる適当な銃からなる。
【００１１】管１０は、ファンネルとネックの結合部の
領域にあるヨーク３０のような外部磁気偏向ヨークと共
に使用するよう設計される。ヨーク３０は作動すると、
スクリーン２２上で矩形状のラスタ内で水平方向及び垂
直方向にビームを走査させる磁界を３本のビーム２８に
印加する。最初の偏向面（ゼロ偏向の箇所）は図１に線
Ｐ−Ｐでヨーク３０の中央付近に示される。説明の便宜
上、偏向区域における偏向ビームパスの実際の曲率は示
さない。
領域にあるヨーク３０のような外部磁気偏向ヨークと共
に使用するよう設計される。ヨーク３０は作動すると、
スクリーン２２上で矩形状のラスタ内で水平方向及び垂
直方向にビームを走査させる磁界を３本のビーム２８に
印加する。最初の偏向面（ゼロ偏向の箇所）は図１に線
Ｐ−Ｐでヨーク３０の中央付近に示される。説明の便宜
上、偏向区域における偏向ビームパスの実際の曲率は示
さない。
【００１２】スクリーン２２は、先に引用した米国特許
第４，９２１，７６７号明細書に記載され、図３のブロ
ック図に示す電子写真的スクリーニング（ＥＰＳ）工程
により製造される。最初に、パネル１２は、従来より周
知の如く、苛性溶液で洗浄され、水で洗い流され、緩衝
化されたフッ化水素酸でエッチングされ、再び水で洗い
流される。ビューイングフェースプレート１８の内部に
は、好ましくは、上に重なる有機光伝導性（ＯＰＣ）層
３４に電極を提供する有機伝導性（ＯＣ）材料からなる
適当な層３２よりなる光受容体が設けられる。上記ＯＣ
層３２及びＯＰＣ層３４を図４に示す。
第４，９２１，７６７号明細書に記載され、図３のブロ
ック図に示す電子写真的スクリーニング（ＥＰＳ）工程
により製造される。最初に、パネル１２は、従来より周
知の如く、苛性溶液で洗浄され、水で洗い流され、緩衝
化されたフッ化水素酸でエッチングされ、再び水で洗い
流される。ビューイングフェースプレート１８の内部に
は、好ましくは、上に重なる有機光伝導性（ＯＰＣ）層
３４に電極を提供する有機伝導性（ＯＣ）材料からなる
適当な層３２よりなる光受容体が設けられる。上記ＯＣ
層３２及びＯＰＣ層３４を図４に示す。
【００１３】ＥＰＳ工程によりマトリクスを形成するた
め、ＯＰＣ層３４は、１９９２年１月２８日にダッタ他
に発行された米国特許第５，０８３，９５９号明細書に
記載される形のコロナ充電を使用して、＋２００ボルト
から＋７００ボルトの範囲内の適当な電位に充電され
る。シャドーマスク２５はパネル１２に挿入され、正に
充電されたＯＰＣ層３４は、シャドーマスク２５を介し
て、従来のスリーインワン形の照明具に配置されたキセ
ノンフラッシュランプからの光のような化学線が照射さ
れる。各照射の後に、ランプは、電子銃からの電子ビー
ムの入射角を２倍にするため別の位置に動かされる。光
放出発光体がスクリーン２２を形成するために、引続き
沈積されるＯＰＣ層の領域を放電するために、３ヵ所の
別個のランプ位置から３回の露光が必要である。露光段
階後に、シャドーマスク２５はパネル１２から取り除か
れ、パネルは、１９９３年１０月６日に出願された米国
特許出願第１３２，２６３号明細書に記載されるような
第１の現像装置に移される。かかる現像装置は、光吸収
性の黒色マトリクススクリーン構造体材料の適切に調製
された乾燥粉末状の微粉を含む。上記マトリクス材料は
現像装置によって摩擦電気的に負に充電される。負に充
電されたマトリクス材料は、先に引用した米国特許第
４，９２１，７６７号明細書に記載される如く、１段階
だけで直接に沈積させるか、或いは、１９９３年７月２
０日にリドル他に発行された米国特許第５，２２９，２
３４号明細書に記載される如く２段階で直接に沈積させ
ることが可能である。上記「２段階」マトリクス沈積処
理は、得られるマトリクスの不透明度を増加させる。光
放出発光体材料は、先に引用した米国特許第４，９２
１，７６７号明細書に記載される方法で沈積させられ
る。
め、ＯＰＣ層３４は、１９９２年１月２８日にダッタ他
に発行された米国特許第５，０８３，９５９号明細書に
記載される形のコロナ充電を使用して、＋２００ボルト
から＋７００ボルトの範囲内の適当な電位に充電され
る。シャドーマスク２５はパネル１２に挿入され、正に
充電されたＯＰＣ層３４は、シャドーマスク２５を介し
て、従来のスリーインワン形の照明具に配置されたキセ
ノンフラッシュランプからの光のような化学線が照射さ
れる。各照射の後に、ランプは、電子銃からの電子ビー
ムの入射角を２倍にするため別の位置に動かされる。光
放出発光体がスクリーン２２を形成するために、引続き
沈積されるＯＰＣ層の領域を放電するために、３ヵ所の
別個のランプ位置から３回の露光が必要である。露光段
階後に、シャドーマスク２５はパネル１２から取り除か
れ、パネルは、１９９３年１０月６日に出願された米国
特許出願第１３２，２６３号明細書に記載されるような
第１の現像装置に移される。かかる現像装置は、光吸収
性の黒色マトリクススクリーン構造体材料の適切に調製
された乾燥粉末状の微粉を含む。上記マトリクス材料は
現像装置によって摩擦電気的に負に充電される。負に充
電されたマトリクス材料は、先に引用した米国特許第
４，９２１，７６７号明細書に記載される如く、１段階
だけで直接に沈積させるか、或いは、１９９３年７月２
０日にリドル他に発行された米国特許第５，２２９，２
３４号明細書に記載される如く２段階で直接に沈積させ
ることが可能である。上記「２段階」マトリクス沈積処
理は、得られるマトリクスの不透明度を増加させる。光
放出発光体材料は、先に引用した米国特許第４，９２
１，７６７号明細書に記載される方法で沈積させられ
る。
【００１４】さらに、従来より周知であり、例えば、１
９７１年１月２６日にメイアウドに発行された米国特許
第３，５５８，３１０号明細書に記載された従来の湿式
マトリクス処理を使用してマトリクスを形成することが
可能である。マトリクスが湿式処理により形成される場
合に、光受容体はマトリクス上に形成され、発光体材料
は先に引用した米国特許第４，９２１，７６７号明細書
に記載される方法で沈積される。
９７１年１月２６日にメイアウドに発行された米国特許
第３，５５８，３１０号明細書に記載された従来の湿式
マトリクス処理を使用してマトリクスを形成することが
可能である。マトリクスが湿式処理により形成される場
合に、光受容体はマトリクス上に形成され、発光体材料
は先に引用した米国特許第４，９２１，７６７号明細書
に記載される方法で沈積される。
【００１５】上記の「先にマトリクス形」の２通りの工
程の他に、ＥＰＳ工程により発光体を沈積した後にマト
リクス１２３を電子写真的に形成することが可能であ
る。この「後にマトリクス形」の工程は、１９９３年８
月３１日にエーマン ジュニアに発行された米国特許第
５，２４０，７９８号明細書に記載される。図５には、
スクリーン１２２と、上に重なるアルミニウム層１２４
とからなり、米国特許第５，２４０，７９８号明細書に
記載の「後にマトリクス形」の工程に従って製造された
スクリーン組立体が示される。
程の他に、ＥＰＳ工程により発光体を沈積した後にマト
リクス１２３を電子写真的に形成することが可能であ
る。この「後にマトリクス形」の工程は、１９９３年８
月３１日にエーマン ジュニアに発行された米国特許第
５，２４０，７９８号明細書に記載される。図５には、
スクリーン１２２と、上に重なるアルミニウム層１２４
とからなり、米国特許第５，２４０，７９８号明細書に
記載の「後にマトリクス形」の工程に従って製造された
スクリーン組立体が示される。
【００１６】「後にマトリクス形」の工程において、赤
色−、青色−、及び緑色−放出発光体素子、Ｒ、Ｂ、及
びＧは、夫々、摩擦電気的に正に充電された発光体スク
リーン構造体材料の微粉を光受容体の正に充電されたＯ
ＰＣ層３４に順次に沈積させることにより形成される。
充電処理は、先に引用した米国特許第５，０８３，９５
９号明細書に記載されるのと同じである。３つの発光体
が沈積された後に、ＯＰＣ層３４は再び正の電位に均一
に充電され、先に沈積された発光体を含むパネルは、摩
擦電気的に負の電荷をマトリクス構造体材料に与えるマ
トリクス現像装置で沈積させられる。発光体スクリーン
素子を隔離する光伝導性層の正に充電された開いた領域
は、マトリクス１２３を形成するために、負に充電され
たマトリクス材料を上記開いた領域に沈積させることに
より直接現像される。かかる処理は「直接」現像と呼ば
れる。次いで、スクリーン構造体材料は、先に引用した
米国特許第４，９２１，７６７号明細書に記載される如
く、定着され薄膜化される。アルミニウム層１２４は、
層２４を設ける際に説明した目的のためスクリーン１２
２上に設けられる。アルミニウム処理されたスクリーン
組立体を有するフェースプレートパネルは、スクリーン
組立体の組成物を揮発させるため約４２５°Ｃでベーキ
ングされる。上記のスクリーン製造工程は、上記のスク
リーン組立体と構造的に同一のスクリーン組立体を実現
するために、ＯＰＣ層３４に設けられた電荷の極性と、
スクリーン構造体材料に誘導された摩擦電気的電荷の極
性の両方を反転させることによって変形することが可能
である。
色−、青色−、及び緑色−放出発光体素子、Ｒ、Ｂ、及
びＧは、夫々、摩擦電気的に正に充電された発光体スク
リーン構造体材料の微粉を光受容体の正に充電されたＯ
ＰＣ層３４に順次に沈積させることにより形成される。
充電処理は、先に引用した米国特許第５，０８３，９５
９号明細書に記載されるのと同じである。３つの発光体
が沈積された後に、ＯＰＣ層３４は再び正の電位に均一
に充電され、先に沈積された発光体を含むパネルは、摩
擦電気的に負の電荷をマトリクス構造体材料に与えるマ
トリクス現像装置で沈積させられる。発光体スクリーン
素子を隔離する光伝導性層の正に充電された開いた領域
は、マトリクス１２３を形成するために、負に充電され
たマトリクス材料を上記開いた領域に沈積させることに
より直接現像される。かかる処理は「直接」現像と呼ば
れる。次いで、スクリーン構造体材料は、先に引用した
米国特許第４，９２１，７６７号明細書に記載される如
く、定着され薄膜化される。アルミニウム層１２４は、
層２４を設ける際に説明した目的のためスクリーン１２
２上に設けられる。アルミニウム処理されたスクリーン
組立体を有するフェースプレートパネルは、スクリーン
組立体の組成物を揮発させるため約４２５°Ｃでベーキ
ングされる。上記のスクリーン製造工程は、上記のスク
リーン組立体と構造的に同一のスクリーン組立体を実現
するために、ＯＰＣ層３４に設けられた電荷の極性と、
スクリーン構造体材料に誘導された摩擦電気的電荷の極
性の両方を反転させることによって変形することが可能
である。
【００１７】図４を再び参照するに、ＯＣ層３２は、２
乃至６重量パーセントの第４級アンモニウム高分子電解
質と、約０．００１乃至０．１重量パーセント、好まし
くは、約０．０１重量パーセントの適当な界面活性剤
と、約０．５乃至２重量パーセント、又は、それ未満の
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と、バランス脱イオン
水とを含む水性有機伝導性溶液でパネル１２の内側の面
を覆うことにより形成される。第４級アンモニウム高分
子電解質は、ポリ（ジメチル−ジアリル−塩化アンモニ
ウム）と、ポリ（３，４−ジメチレン−Ｎ−ジメチル−
塩化ピロリジウム）（３，４−ＤＮＤＰ塩化物）と、ポ
リ（３，４−ジメチレン−Ｎ−ジメチル−ピロリジウム
硝酸塩）（３，４−ＤＮＤＰ硝酸塩）と、ポリ（３，４
−ジメチレン−Ｎ−ジメチル−ピロリジウム燐酸塩）
（３，４−ＤＮＤＰ燐酸塩）とよりなる群から選ばれる
ホモポリマーである。或いは、ビニルイミダゾリウム
メト硫酸塩（ＶＩＭ）、又は、ビニルピロリドン（Ｖ
Ｐ）のような適当な共重合体を伝導性溶液に使用しても
よい。
乃至６重量パーセントの第４級アンモニウム高分子電解
質と、約０．００１乃至０．１重量パーセント、好まし
くは、約０．０１重量パーセントの適当な界面活性剤
と、約０．５乃至２重量パーセント、又は、それ未満の
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と、バランス脱イオン
水とを含む水性有機伝導性溶液でパネル１２の内側の面
を覆うことにより形成される。第４級アンモニウム高分
子電解質は、ポリ（ジメチル−ジアリル−塩化アンモニ
ウム）と、ポリ（３，４−ジメチレン−Ｎ−ジメチル−
塩化ピロリジウム）（３，４−ＤＮＤＰ塩化物）と、ポ
リ（３，４−ジメチレン−Ｎ−ジメチル−ピロリジウム
硝酸塩）（３，４−ＤＮＤＰ硝酸塩）と、ポリ（３，４
−ジメチレン−Ｎ−ジメチル−ピロリジウム燐酸塩）
（３，４−ＤＮＤＰ燐酸塩）とよりなる群から選ばれる
ホモポリマーである。或いは、ビニルイミダゾリウム
メト硫酸塩（ＶＩＭ）、又は、ビニルピロリドン（Ｖ
Ｐ）のような適当な共重合体を伝導性溶液に使用しても
よい。
【００１８】ポリ（ジメチル−ジアリル−塩化アンモニ
ウム）は、ペンシルベニア州ピッツバーグのカルゴン社
よりＣａｔ−Ｆｌｏｃ−Ｃ又はＣａｔ−Ｆｌｏｃ−Ｔ−
２として商業的に入手可能であり、ＶＩＭとＶＰの共重
合体はニュージャージ州パーシパニーのＢＡＳＦ社より
ＭＯＳ−９０５として入手可能である。商業的に入手可
能なＣａｔ−Ｆｌｏｃ材料は、０．６重量パーセントの
高分子電解質と、０．３重量パーセントのポリビニルピ
ロリドンと、約９９重量パーセントのメチルアルコール
と、パネルのベーキング後に完全にはベーキング除去さ
れないＮａＣｌ（塩化ナトリウム）及びＫ2 ＳＯ4 （硫
酸カリウム）のような無機塩を含む。塩化物イオンは、
有機伝導体の製造に使用する前に、入手した材料から除
去するか、或いは、少なくとも濃度を低下させる必要が
ある。商業的に入手可能な材料は１００グラム当たり約
０．２０米ドル、或いは、１パネル当たり約０．００２
米ドルを要する。
ウム）は、ペンシルベニア州ピッツバーグのカルゴン社
よりＣａｔ−Ｆｌｏｃ−Ｃ又はＣａｔ−Ｆｌｏｃ−Ｔ−
２として商業的に入手可能であり、ＶＩＭとＶＰの共重
合体はニュージャージ州パーシパニーのＢＡＳＦ社より
ＭＯＳ−９０５として入手可能である。商業的に入手可
能なＣａｔ−Ｆｌｏｃ材料は、０．６重量パーセントの
高分子電解質と、０．３重量パーセントのポリビニルピ
ロリドンと、約９９重量パーセントのメチルアルコール
と、パネルのベーキング後に完全にはベーキング除去さ
れないＮａＣｌ（塩化ナトリウム）及びＫ2 ＳＯ4 （硫
酸カリウム）のような無機塩を含む。塩化物イオンは、
有機伝導体の製造に使用する前に、入手した材料から除
去するか、或いは、少なくとも濃度を低下させる必要が
ある。商業的に入手可能な材料は１００グラム当たり約
０．２０米ドル、或いは、１パネル当たり約０．００２
米ドルを要する。
【００１９】Ｃａｔ−Ｆｌｏｃ材料の有機ポリマー鎖に
結合された塩化物を除去するために、Ｃａｔ−Ｆｌｏｃ
の１０％溶液は、２時間に亘り３倍の蒸留水に溶解さ
れ、１０％の固体陽イオン交換ビードと混合される。混
合物は５μの圧力フィルタを通して濾過され、イオン交
換によるＣａｔ−Ｆｌｏｃはアセトンと共に溶液から沈
殿する。沈殿物は、その比が８０：２０のアセトン：水
で洗浄され、５０重量パーセントのＣａｔ−Ｆｌｏｃを
含む水溶液を生成するため水に溶解される。塩化物遊離
Ｃａｔ−ＦｌｏｃのｐＨは、１２乃至１３の範囲内にあ
る。このｐＨは、０．１％ＨＮＯ3 （硝酸）又は０．１
％のＨ3 ＰＯ4 （燐酸）で滴定することによりｐＨ４に
調整される。
結合された塩化物を除去するために、Ｃａｔ−Ｆｌｏｃ
の１０％溶液は、２時間に亘り３倍の蒸留水に溶解さ
れ、１０％の固体陽イオン交換ビードと混合される。混
合物は５μの圧力フィルタを通して濾過され、イオン交
換によるＣａｔ−Ｆｌｏｃはアセトンと共に溶液から沈
殿する。沈殿物は、その比が８０：２０のアセトン：水
で洗浄され、５０重量パーセントのＣａｔ−Ｆｌｏｃを
含む水溶液を生成するため水に溶解される。塩化物遊離
Ｃａｔ−ＦｌｏｃのｐＨは、１２乃至１３の範囲内にあ
る。このｐＨは、０．１％ＨＮＯ3 （硝酸）又は０．１
％のＨ3 ＰＯ4 （燐酸）で滴定することによりｐＨ４に
調整される。
【００２０】以下に、この例に限定されることなく、Ｏ
Ｃ層３２を詳細に説明する例を示す。 ＯＣ 例１ 有機伝導性溶液は、以下の成分を１時間に亘り混合し、
その溶液を１μ（ミクロン）のフィルタで濾過すること
により形成される。溶液の粘度は２．６センチポイズ
（ｃＰ）である。
Ｃ層３２を詳細に説明する例を示す。 ＯＣ 例１ 有機伝導性溶液は、以下の成分を１時間に亘り混合し、
その溶液を１μ（ミクロン）のフィルタで濾過すること
により形成される。溶液の粘度は２．６センチポイズ
（ｃＰ）である。
【００２１】ポリ（ジメチル−ジアリル−塩化アンモニ
ウム）の水に対する５０％溶液 １００ｇ（５重量％） プルロニックＬ−７２（５０：５０の水：メタノールに
５％）（ニュージャージ州パーシパニーのＢＡＳＦ社か
ら入手可能）のような界面活性剤 ２ｇ（０．０１重量
％） （バランス）脱イオン水 ９００ｇ ＯＣ 例２ 第２の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は５ｃＰである。
ウム）の水に対する５０％溶液 １００ｇ（５重量％） プルロニックＬ−７２（５０：５０の水：メタノールに
５％）（ニュージャージ州パーシパニーのＢＡＳＦ社か
ら入手可能）のような界面活性剤 ２ｇ（０．０１重量
％） （バランス）脱イオン水 ９００ｇ ＯＣ 例２ 第２の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は５ｃＰである。
【００２２】ポリ（ジメチル−ジアリル−塩化アンモニ
ウム）の水に対する５０％溶液 ６０ｇ（３．２重量
％） ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の水に対する１０％溶
液 ９０ｇ（０．９６重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ７７８ｇ ＯＣ 例３ 第３の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は３ｃＰである。
ウム）の水に対する５０％溶液 ６０ｇ（３．２重量
％） ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の水に対する１０％溶
液 ９０ｇ（０．９６重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ７７８ｇ ＯＣ 例３ 第３の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は３ｃＰである。
【００２３】ポリ（３，４−ＤＮＤＰ塩化物）の水に対
する５０％溶液 １００ｇ（５．３重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ７７８ｇ 上記の溶液においてポリ（３，４−ＤＮＤＰ塩化物）を
同量のポリ（３，４−ＤＮＤＰ硝酸塩）又はポリ（３，
４−ＤＮＤＰ燐酸塩）に置き換えても良い。 ＯＣ 例４ 第４の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は１．９ｃＰである。
する５０％溶液 １００ｇ（５．３重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ７７８ｇ 上記の溶液においてポリ（３，４−ＤＮＤＰ塩化物）を
同量のポリ（３，４−ＤＮＤＰ硝酸塩）又はポリ（３，
４−ＤＮＤＰ燐酸塩）に置き換えても良い。 ＯＣ 例４ 第４の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は１．９ｃＰである。
【００２４】Ｃａｔ−Ｆｌｏｃ−Ｃの水に対する５０％
溶液 １００ｇ（５重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ９００ｇ ＯＣ 例５ 第５の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は２．６ｃＰである。
溶液 １００ｇ（５重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ９００ｇ ＯＣ 例５ 第５の有機伝導性溶液は、以下の成分をＯＣの例１に記
載の方法で混合、濾過することにより形成される。溶液
の粘度は２．６ｃＰである。
【００２５】Ｃａｔ−Ｆｌｏｃ−Ｃの水に対する５０％
溶液 ６０ｇ（３．２重量％） ＰＶＡの水に対する１０％溶液 ９０ｇ（０．９６重量
％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ７７８ｇ ＯＣ 例６ 先に引用した米国特許第４，９２１，７６７号明細書に
記載される以下の有機伝導性溶液はコントロールとして
利用する。溶液の粘度は２．２ｃＰである。
溶液 ６０ｇ（３．２重量％） ＰＶＡの水に対する１０％溶液 ９０ｇ（０．９６重量
％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液２ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ７７８ｇ ＯＣ 例６ 先に引用した米国特許第４，９２１，７６７号明細書に
記載される以下の有機伝導性溶液はコントロールとして
利用する。溶液の粘度は２．２ｃＰである。
【００２６】イオネンポリマー １，５−ジメチル−
１，５−ジメチルジアゾ−ウンデカ−メチレン−ポリメ
トブロマイド（ウィスコンシン州ミルウォーキのアルド
リッチ化学社からポリブレンとして入手可能） ６０ｇ
（３重量％） ポリアクリル酸（ＰＡＡ）の水に対する２５％水溶液
１２０ｇ（１．５重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液１．５ｇ（０．００４重量％） （バランス）脱イオン水 １８１２ｇ ＯＣ 例７ ビニルイミダゾリウム メト硫酸塩（ＶＩＭ）とビニル
ピロリドン（ＶＰ）の共重合体ＭＳ−９０５ １００ｇ
（５重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液３ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ９００ｇ 上記のＯＣの例に対し相対湿度百分率の関数として抵抗
率を判定した。溶液でガラス製スライドを被覆した。
０．５μと、１μと、２μの厚さの皮膜を作成し、伝導
性薄膜の直流電流量及び表面抵抗を測定するためにＡＳ
ＴＭ−Ｄ ２５７形の表面抵抗測定プローブを使用し
た。被覆されたガラス製スライドは、５、２０、３０、
５０、６０及び９０パーセントの相対湿度で２４時間保
存された。全薄膜サンプルの表面抵抗率は、薄膜の厚さ
とは無関係であるが、相対湿度に依存することが分かっ
た。表１は、５０％のＲＨ（相対湿度）における６個の
ＯＣ薄膜の例から作られた薄膜の抵抗率をオーム／スク
エアの単位で示す。 表１ ＯＣ 識別名 抵抗率 オーム／スクエア 例１ ５ × １０7 例２ ６ × １０8 例３ １．８× １０7 例４ ４ × １０7 例５ ３ × １０8 例６ ５ × １０10 例７ ２ × １０7 例３、５及び６に対する結果を図６のグラフに示す。例
３は最低の抵抗率を有し、例５は現在のＥＰＳ工程にお
ける好ましいＯＣの典型例である。従来のＯＣである例
６の５０％の相対湿度以下における抵抗率は高すぎるの
でＥＰＳ工程には使用できない。
１，５−ジメチルジアゾ−ウンデカ−メチレン−ポリメ
トブロマイド（ウィスコンシン州ミルウォーキのアルド
リッチ化学社からポリブレンとして入手可能） ６０ｇ
（３重量％） ポリアクリル酸（ＰＡＡ）の水に対する２５％水溶液
１２０ｇ（１．５重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液１．５ｇ（０．００４重量％） （バランス）脱イオン水 １８１２ｇ ＯＣ 例７ ビニルイミダゾリウム メト硫酸塩（ＶＩＭ）とビニル
ピロリドン（ＶＰ）の共重合体ＭＳ−９０５ １００ｇ
（５重量％） プルロニックＬ−７２のメタノール（５０）：水（５
０）に対する５％溶液３ｇ（０．０１重量％） （バランス）脱イオン水 ９００ｇ 上記のＯＣの例に対し相対湿度百分率の関数として抵抗
率を判定した。溶液でガラス製スライドを被覆した。
０．５μと、１μと、２μの厚さの皮膜を作成し、伝導
性薄膜の直流電流量及び表面抵抗を測定するためにＡＳ
ＴＭ−Ｄ ２５７形の表面抵抗測定プローブを使用し
た。被覆されたガラス製スライドは、５、２０、３０、
５０、６０及び９０パーセントの相対湿度で２４時間保
存された。全薄膜サンプルの表面抵抗率は、薄膜の厚さ
とは無関係であるが、相対湿度に依存することが分かっ
た。表１は、５０％のＲＨ（相対湿度）における６個の
ＯＣ薄膜の例から作られた薄膜の抵抗率をオーム／スク
エアの単位で示す。 表１ ＯＣ 識別名 抵抗率 オーム／スクエア 例１ ５ × １０7 例２ ６ × １０8 例３ １．８× １０7 例４ ４ × １０7 例５ ３ × １０8 例６ ５ × １０10 例７ ２ × １０7 例３、５及び６に対する結果を図６のグラフに示す。例
３は最低の抵抗率を有し、例５は現在のＥＰＳ工程にお
ける好ましいＯＣの典型例である。従来のＯＣである例
６の５０％の相対湿度以下における抵抗率は高すぎるの
でＥＰＳ工程には使用できない。
【００２７】塩化物遊離材料はＣＲＴ応用のＯＣ層３２
に好ましい。例７、即ち、ＶＩＭとＶＰよりなる上述の
ＭＳ−９０５は、塩化物を含まず、約９０重量％のＶＩ
Ｍと１０重量％のＶＰとからなる。ＭＳ−９０５の抵抗
率は、６０％及び３０％の相対湿度夫々において、３×
１０6 オーム／スクエア及び３×１０8 オーム／スクエ
アである。
に好ましい。例７、即ち、ＶＩＭとＶＰよりなる上述の
ＭＳ−９０５は、塩化物を含まず、約９０重量％のＶＩ
Ｍと１０重量％のＶＰとからなる。ＭＳ−９０５の抵抗
率は、６０％及び３０％の相対湿度夫々において、３×
１０6 オーム／スクエア及び３×１０8 オーム／スクエ
アである。
【００２８】ＯＰＣ層３４は、適当な樹脂と、電子供与
体材料と、電子受容体材料と、界面活性剤と、有機溶媒
とからなる有機光伝導性溶液でＯＣ層３２を保護するこ
とにより形成される。乾燥すると、上記溶液は揮発性の
有機光伝導性層を形成する。上記光伝導性溶液に利用さ
れる樹脂は、ポリスチレンと、ポリ−α−メチルスチレ
ンと、ポリスチレン−ブタジエン共重合体と、ポリメタ
クリル酸メチルと、ポリメタクリル酸、ポリイソブチレ
ン、及びポリプロピレン炭酸塩のエステルとよりなる群
から選ばれる。
体材料と、電子受容体材料と、界面活性剤と、有機溶媒
とからなる有機光伝導性溶液でＯＣ層３２を保護するこ
とにより形成される。乾燥すると、上記溶液は揮発性の
有機光伝導性層を形成する。上記光伝導性溶液に利用さ
れる樹脂は、ポリスチレンと、ポリ−α−メチルスチレ
ンと、ポリスチレン−ブタジエン共重合体と、ポリメタ
クリル酸メチルと、ポリメタクリル酸、ポリイソブチレ
ン、及びポリプロピレン炭酸塩のエステルとよりなる群
から選ばれる。
【００２９】上記電子供与体材料は、１，４−ジ（２，
４−メチルフェニル）−１，４ ジフェニルブタトリエ
ン（２，４−ＤＭＰＢＴ）と、１，４−ジ（２，５−メ
チルフェニル）−１，４ ジフェニルブタトリエン
（２，５−ＤＭＰＢＴ）と、１，４−ジ（３，４−メチ
ルフェニル）−１，４ ジフェニルブタトリエン（３，
４−ＤＭＰＢＴ）と、１，４−ジ（２−メチルフェニ
ル）−１，４ ジフェニルブタトリエン（２−ＤＭＰＢ
Ｔ）と、１，４−ジフェニル−１，４ ジフェニルフェ
ニルブタトリエン（２−ＤＰＢＴ）と、１，４−ジ（４
−フルオロフェニル）−１，４ ジフェニルブタトリエ
ン（４−ＤＦＰＢＴ）と、１，４−ジ（４−ブロモフェ
ニル）−１，４ ジフェニルブタトリエン（４−ＤＢＰ
ＢＴ）と、１，４−ジ（４−クロロフェニル）−１，４
ジフェニルブタトリエン（４−ＤＣＰＢＴ）と、１，
４−ジ（４−トリフルオロメチルフェニル）−１，４
ジフェニルブタトリエン（４−ＤＴＦＰＢＴ）とよりな
る群から選ばれる。
４−メチルフェニル）−１，４ ジフェニルブタトリエ
ン（２，４−ＤＭＰＢＴ）と、１，４−ジ（２，５−メ
チルフェニル）−１，４ ジフェニルブタトリエン
（２，５−ＤＭＰＢＴ）と、１，４−ジ（３，４−メチ
ルフェニル）−１，４ ジフェニルブタトリエン（３，
４−ＤＭＰＢＴ）と、１，４−ジ（２−メチルフェニ
ル）−１，４ ジフェニルブタトリエン（２−ＤＭＰＢ
Ｔ）と、１，４−ジフェニル−１，４ ジフェニルフェ
ニルブタトリエン（２−ＤＰＢＴ）と、１，４−ジ（４
−フルオロフェニル）−１，４ ジフェニルブタトリエ
ン（４−ＤＦＰＢＴ）と、１，４−ジ（４−ブロモフェ
ニル）−１，４ ジフェニルブタトリエン（４−ＤＢＰ
ＢＴ）と、１，４−ジ（４−クロロフェニル）−１，４
ジフェニルブタトリエン（４−ＤＣＰＢＴ）と、１，
４−ジ（４−トリフルオロメチルフェニル）−１，４
ジフェニルブタトリエン（４−ＤＴＦＰＢＴ）とよりな
る群から選ばれる。
【００３０】上記電子受容体材料は、９−フルオレノン
（９−Ｆ）と、３−ニトロ−９−フルオレノン（３−Ｎ
Ｆ）と、２，７−ジニトロ−９−フルオレノン（２，７
−ＤＮＦ）と、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレ
ノン（２，４，７−ＴＮＦ）と、２，４，７−トリニト
ロ−９−フルオレニリデン マロノニトリル（２，４，
７−ＴＮＦＭＮ）と、アントロキノン（ＡＱ）と、２−
エチルアントロキノン（２−ＥＡＱ）と、１−クロロア
ントロキノン（１−ＣＡＱ）と、２−メチルアントロキ
ノン（２−ＭＡＱ）と、２，１−ジクロロ−１，４ ナ
フタキノン（２，１−ＤＣＡＱ）とよりなる群から選ば
れる。
（９−Ｆ）と、３−ニトロ−９−フルオレノン（３−Ｎ
Ｆ）と、２，７−ジニトロ−９−フルオレノン（２，７
−ＤＮＦ）と、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレ
ノン（２，４，７−ＴＮＦ）と、２，４，７−トリニト
ロ−９−フルオレニリデン マロノニトリル（２，４，
７−ＴＮＦＭＮ）と、アントロキノン（ＡＱ）と、２−
エチルアントロキノン（２−ＥＡＱ）と、１−クロロア
ントロキノン（１−ＣＡＱ）と、２−メチルアントロキ
ノン（２−ＭＡＱ）と、２，１−ジクロロ−１，４ ナ
フタキノン（２，１−ＤＣＡＱ）とよりなる群から選ば
れる。
【００３１】上記界面活性剤は、コネティカット州ダン
ベリーのユニオンカーバイド社より入手可能なシリコン
Ｕ−７６０２、又は、ニューヨーク州ウォーターフォー
ドのゼネラルエレクトリック社より入手可能なシリコン
シラー−１００の何れでも良く、溶媒はトルエン又は
キシレンの何れでも構わない。以下に、この例に限定さ
れることなく、ＯＰＣ層３４を詳細に説明する例を示
す。 ＯＰＣ 例１ オハイオ州アクロンのグッドイヤータイヤアンドラバー
社から入手可能なプライトン（Ｐｌｉｔｏｎｅ）−１０
３５のようなポリスチレン−ブタジエン共重合体樹脂３
００ｇ（１０重量％）を２６４８ｇ（約８８重量％）の
トルエンに添加し、プライントが完全に溶解するまで攪
拌する。次いで、テトラフェニルブタトリエン（ＴＰＢ
Ｔ）のような電子供与体材料５０ｇ（１．６６重量％）
と、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン（ＴＮ
Ｆ）のような電子受容体材料２．５ｇ（０．０８３重量
％）を上記溶液に添加し、全てのＴＮＦが溶解するまで
攪拌する。溶液を攪拌する際に、シリコン シラー−１
００のような界面活性剤０．１５ｇ（０．００５重量
％）を添加する。全ての組成物が溶解されたときに、得
られた溶液を１０μ乃至０．５μのサイズ範囲の開口を
有する順次のカスケードフィルタで濾過する。濾過され
た光伝導性溶液の粘度は６ｃＰである。この溶液は先に
引用した米国特許第４，９２１，７６７号明細書に記載
の溶液と同一であり、コントロールとして使用する。 ＯＰＣ 例２ ＯＰＣの例２の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、以下の成分を含む： プライトン−１０３５ ３００ｇ（１０重量％） ２，４−ＤＭＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） シリコン シラー−１００ ０．１５ｇ（０．００５重
量％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ 混合及びカスケード化されたフィルタによる濾過後に、
溶液の粘度は７ｃＰである。 ＯＰＣ 例３ ＯＰＣの例３の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、以下の成分を含む： プライトン−１０３５ ４５０ｇ（１４重量％） ２，４−ＤＭＰＢＴ ７５ｇ（２．３６重量％） ＴＮＦ ３．７ｇ（０．１２重量％） シリコン シラー−１００ ０．１５ｇ（０．００５重
量％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ 例３の溶液の粘度は１３ｃＰである。 ＯＰＣ 例４ ＯＰＣの例４の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、３０±２ｃＰの粘度を有する。この粘度はコーテ
ィング処理に適した溶媒を添加することにより調整され
る。ＯＰＣの例４の成分は以下の通りである： ポリスチレン（イリノイ州シカゴのアモコ社からアモコ
１Ｒ３Ｐ７として入手可能） ３００ｇ（１０重量％） ２，５−ＤＭＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） シリコン シラー−１００ ０．１５ｇ（０．００５重
量％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ ＯＰＣ 例４ ＯＰＣの例５の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、２８ｃＰの粘度を有する。ＯＰＣの例４の成分は
以下の通りである： ポリスチレン ３００ｇ（１０重量％） ２−ＤＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） シリコン シラー−１００ ０．１５ｇ（０．００５重
量％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ ＯＰＣ 例５ ＯＰＣの例５の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、２８ｃＰの粘度を有する。ＯＰＣの例５の成分は
以下の通りである： ポリスチレン ３００ｇ（１０重量％） ２−ＤＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） シリコン シラー−１００ ０．１５ｇ（０．００５重
量％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ ＯＰＣ 例６ ＯＰＣの例６の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、３０ｃＰの粘度を有する。溶液は以下の成分を含
む： ポリスチレン ３００ｇ（１０重量％） ２，４−ＤＭＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） シリコンＵ−７６０２ ０．１５ｇ（０．００５重量
％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ ＯＰＣ 例７ ＯＰＣの例７の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、３１ｃＰの粘度を有する。溶液は以下の成分を含
む： ポリスチレン ３００ｇ（１０重量％） ２，４−ＤＭＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ２−ＥＡＱ ７．５ｇ（０．２５重量％） シリコンＵ−７６０２ ０．１５ｇ（０．００５重量
％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ ＯＰＣ 例８ ＯＰＣの例８の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、３０ｃＰの粘度を有する。溶液は以下の成分を含
む： ポリスチレン ３００ｇ（１０重量％） ２，４−ＤＭＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） ２−ＥＡＱ ７．５ｇ（０．２５重量％） シリコンＵ−７６０２ ０．１５ｇ（０．００５重量
％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ ＯＰＣ 例９ ＯＰＣの例９の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、２９ｃＰの粘度を有する。溶液は以下の成分を含
む： ポリスチレン ３００ｇ（１０重量％） ２，４−ＤＭＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） １−ＣＡＱ ７．５ｇ（０．２５重量％） シリコンＵ−７６０２ ０．１５ｇ（０．００５重量
％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ ＯＰＣ 例１０ ＯＰＣの例１０の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生
成され、２８ｃＰの粘度を有する。溶液の成分は以下の
通りである： ポリスチレン ３００ｇ（１０重量％） ２，４−ＤＭＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ２−ＥＡＱ ７．５ｇ（０．２５重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） シリコンＵ−７６０２ ０．１５ｇ（０．００５重量
％） （バランス）キシレン ２６４８ｇ 掲記の１０通りのＯＰＣ溶液の例は、６重量部の樹脂に
対し１重量部の電子供与体材料を利用しているが、かか
る重量比は、８重量部の樹脂に対し１重量部の電子供与
体材料から２重量部の樹脂に対し１重量部の電子供与体
材料の範囲で変えることが可能であることが分かった。
８：１の比では溶液の光伝導性は低下し、２：１の比に
おいて、上記の処方は不安定になる傾向があり、電子供
与体材料を溶液から沈殿させ始める。溶液の感度と、そ
こから生成されるＯＰＣ層の性能を最適化するために、
樹脂と電子供与体材料の比は４：１から６：１の範囲内
であることが好ましい。電子受容体材料は、溶液の全重
量の０．０５乃至１．５重量％の範囲内で良いことが分
かった。ＯＰＣ溶液の全体は、１２．５、１７．７、２
４、及び２８ｃＰの粘度を有するサンプルを得るため
に、上記溶液の処方に使用される溶媒に依存してトルエ
ン又はキシレンの何れかによって希釈された。適当なＯ
Ｃ層で先に被覆された２０Ｖ形（対角線寸法は２０イン
チ）のフェースプレートパネルをこれらのＯＰＣ溶液で
被覆した。ＯＣ層３２及びＯＣＰ層３４の両方を形成す
る好ましい被覆方法は、多量の材料を沈積し、溶液を均
一に分散させ実質的に均一な厚さの層を形成するために
パネルを回転することによる「スピンコート法」であ
る。典型的には、ＯＣ層３２は約１μの厚さを有し、Ｏ
ＰＣ層３４はＯＰＣ溶液の粘度に依存する厚さを有す
る。例えば、ＯＰＣ層の厚さは、１２．５、１７．７、
２４、及び２８ｃＰの粘度に対し、夫々４μ、６μ、８
μ、及び１１μで変化した。最適的なＯＰＣ層の厚さ
は、１５乃至２０ｃＰの範囲内の粘度に対応する５乃至
６μであることが分かった。ＯＰＣ薄膜にプライトン−
１０３５のブタジエン領域に起因する可能性のある欠陥
を生じた例１及び例３を除き、全てのＯＰＣは良好な層
を生成した。
ベリーのユニオンカーバイド社より入手可能なシリコン
Ｕ−７６０２、又は、ニューヨーク州ウォーターフォー
ドのゼネラルエレクトリック社より入手可能なシリコン
シラー−１００の何れでも良く、溶媒はトルエン又は
キシレンの何れでも構わない。以下に、この例に限定さ
れることなく、ＯＰＣ層３４を詳細に説明する例を示
す。 ＯＰＣ 例１ オハイオ州アクロンのグッドイヤータイヤアンドラバー
社から入手可能なプライトン（Ｐｌｉｔｏｎｅ）−１０
３５のようなポリスチレン−ブタジエン共重合体樹脂３
００ｇ（１０重量％）を２６４８ｇ（約８８重量％）の
トルエンに添加し、プライントが完全に溶解するまで攪
拌する。次いで、テトラフェニルブタトリエン（ＴＰＢ
Ｔ）のような電子供与体材料５０ｇ（１．６６重量％）
と、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン（ＴＮ
Ｆ）のような電子受容体材料２．５ｇ（０．０８３重量
％）を上記溶液に添加し、全てのＴＮＦが溶解するまで
攪拌する。溶液を攪拌する際に、シリコン シラー−１
００のような界面活性剤０．１５ｇ（０．００５重量
％）を添加する。全ての組成物が溶解されたときに、得
られた溶液を１０μ乃至０．５μのサイズ範囲の開口を
有する順次のカスケードフィルタで濾過する。濾過され
た光伝導性溶液の粘度は６ｃＰである。この溶液は先に
引用した米国特許第４，９２１，７６７号明細書に記載
の溶液と同一であり、コントロールとして使用する。 ＯＰＣ 例２ ＯＰＣの例２の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、以下の成分を含む： プライトン−１０３５ ３００ｇ（１０重量％） ２，４−ＤＭＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） シリコン シラー−１００ ０．１５ｇ（０．００５重
量％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ 混合及びカスケード化されたフィルタによる濾過後に、
溶液の粘度は７ｃＰである。 ＯＰＣ 例３ ＯＰＣの例３の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、以下の成分を含む： プライトン−１０３５ ４５０ｇ（１４重量％） ２，４−ＤＭＰＢＴ ７５ｇ（２．３６重量％） ＴＮＦ ３．７ｇ（０．１２重量％） シリコン シラー−１００ ０．１５ｇ（０．００５重
量％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ 例３の溶液の粘度は１３ｃＰである。 ＯＰＣ 例４ ＯＰＣの例４の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、３０±２ｃＰの粘度を有する。この粘度はコーテ
ィング処理に適した溶媒を添加することにより調整され
る。ＯＰＣの例４の成分は以下の通りである： ポリスチレン（イリノイ州シカゴのアモコ社からアモコ
１Ｒ３Ｐ７として入手可能） ３００ｇ（１０重量％） ２，５−ＤＭＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） シリコン シラー−１００ ０．１５ｇ（０．００５重
量％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ ＯＰＣ 例４ ＯＰＣの例５の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、２８ｃＰの粘度を有する。ＯＰＣの例４の成分は
以下の通りである： ポリスチレン ３００ｇ（１０重量％） ２−ＤＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） シリコン シラー−１００ ０．１５ｇ（０．００５重
量％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ ＯＰＣ 例５ ＯＰＣの例５の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、２８ｃＰの粘度を有する。ＯＰＣの例５の成分は
以下の通りである： ポリスチレン ３００ｇ（１０重量％） ２−ＤＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） シリコン シラー−１００ ０．１５ｇ（０．００５重
量％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ ＯＰＣ 例６ ＯＰＣの例６の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、３０ｃＰの粘度を有する。溶液は以下の成分を含
む： ポリスチレン ３００ｇ（１０重量％） ２，４−ＤＭＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） シリコンＵ−７６０２ ０．１５ｇ（０．００５重量
％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ ＯＰＣ 例７ ＯＰＣの例７の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、３１ｃＰの粘度を有する。溶液は以下の成分を含
む： ポリスチレン ３００ｇ（１０重量％） ２，４−ＤＭＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ２−ＥＡＱ ７．５ｇ（０．２５重量％） シリコンＵ−７６０２ ０．１５ｇ（０．００５重量
％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ ＯＰＣ 例８ ＯＰＣの例８の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、３０ｃＰの粘度を有する。溶液は以下の成分を含
む： ポリスチレン ３００ｇ（１０重量％） ２，４−ＤＭＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） ２−ＥＡＱ ７．５ｇ（０．２５重量％） シリコンＵ−７６０２ ０．１５ｇ（０．００５重量
％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ ＯＰＣ 例９ ＯＰＣの例９の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生成
され、２９ｃＰの粘度を有する。溶液は以下の成分を含
む： ポリスチレン ３００ｇ（１０重量％） ２，４−ＤＭＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） １−ＣＡＱ ７．５ｇ（０．２５重量％） シリコンＵ−７６０２ ０．１５ｇ（０．００５重量
％） （バランス）トルエン ２６４８ｇ ＯＰＣ 例１０ ＯＰＣの例１０の溶液はＯＰＣの例１に記載の方法で生
成され、２８ｃＰの粘度を有する。溶液の成分は以下の
通りである： ポリスチレン ３００ｇ（１０重量％） ２，４−ＤＭＰＢＴ ５０ｇ（１．６６重量％） ２−ＥＡＱ ７．５ｇ（０．２５重量％） ＴＮＦ ２．５ｇ（０．０８３重量％） シリコンＵ−７６０２ ０．１５ｇ（０．００５重量
％） （バランス）キシレン ２６４８ｇ 掲記の１０通りのＯＰＣ溶液の例は、６重量部の樹脂に
対し１重量部の電子供与体材料を利用しているが、かか
る重量比は、８重量部の樹脂に対し１重量部の電子供与
体材料から２重量部の樹脂に対し１重量部の電子供与体
材料の範囲で変えることが可能であることが分かった。
８：１の比では溶液の光伝導性は低下し、２：１の比に
おいて、上記の処方は不安定になる傾向があり、電子供
与体材料を溶液から沈殿させ始める。溶液の感度と、そ
こから生成されるＯＰＣ層の性能を最適化するために、
樹脂と電子供与体材料の比は４：１から６：１の範囲内
であることが好ましい。電子受容体材料は、溶液の全重
量の０．０５乃至１．５重量％の範囲内で良いことが分
かった。ＯＰＣ溶液の全体は、１２．５、１７．７、２
４、及び２８ｃＰの粘度を有するサンプルを得るため
に、上記溶液の処方に使用される溶媒に依存してトルエ
ン又はキシレンの何れかによって希釈された。適当なＯ
Ｃ層で先に被覆された２０Ｖ形（対角線寸法は２０イン
チ）のフェースプレートパネルをこれらのＯＰＣ溶液で
被覆した。ＯＣ層３２及びＯＣＰ層３４の両方を形成す
る好ましい被覆方法は、多量の材料を沈積し、溶液を均
一に分散させ実質的に均一な厚さの層を形成するために
パネルを回転することによる「スピンコート法」であ
る。典型的には、ＯＣ層３２は約１μの厚さを有し、Ｏ
ＰＣ層３４はＯＰＣ溶液の粘度に依存する厚さを有す
る。例えば、ＯＰＣ層の厚さは、１２．５、１７．７、
２４、及び２８ｃＰの粘度に対し、夫々４μ、６μ、８
μ、及び１１μで変化した。最適的なＯＰＣ層の厚さ
は、１５乃至２０ｃＰの範囲内の粘度に対応する５乃至
６μであることが分かった。ＯＰＣ薄膜にプライトン−
１０３５のブタジエン領域に起因する可能性のある欠陥
を生じた例１及び例３を除き、全てのＯＰＣは良好な層
を生成した。
【００３２】例１乃至７のＯＣに従って処方された溶液
を使用して生成されたＯＣ層３２は、光受容体を形成す
るためのＯＰＣ層３４で被覆することにより評価され
た。例８のＯＰＣに従って生成されたＯＰＣ層は、以下
の理由で上記テストの基準として選ばれた。その理由
は、電子供与体材料（２，４−ＤＭＰＢＴ）は、テスト
された中で最も光感度の高い供与体材料であり、１０回
の光のフラッシュ後に残存する電圧は低く、即ち、極め
て良好な光放電特性を有するからである。その上、２，
４−ＤＭＰＢＴ−ポリスチレン薄膜は、４２５°Ｃで２
０分間に略完全にベーキング除去し、これはスクリーン
から出力される光を最大限にするために必要である。最
後に、例８のＯＰＣに使用される電子受容体（２−ＥＡ
Ｑ）は、トルエンに優れた溶解性を有し、無毒である。
ＯＣの例１乃至７の各々を使用するサンプルのスライド
は、相対湿度５０％、温度２３°Ｃで、例８のＯＰＣに
よって被覆し、適当な充電器を使用してコロナ充電し
た。サンプルのスライドは、ボルト／秒単位のコロナ充
電レートと、ボルト／秒単位の暗放電のレートと、キセ
ノンフラッシュランプからの１回、５回及び１０回のフ
ラッシュ照射後に光受容体に残存する電圧とが測定され
た。暗放電はコロナ充電の停止後に９０秒間暗所に放置
した後の光受容体の表面電位として定められる。上記の
テスト結果を表２に掲載する。 表２ 充電レート 暗放電レート フラッシュ回数毎の露光電圧 ＷＯＣ識別名 ボルト／秒 ボルト／秒 １回 ５回 １０回 例１ １８．５ １．５ ２１７ １２８ ７３ 例２ １７ １．３ ２３０ １３９ ７７ 例３ ２０．２ １．１ ２００ １１０ ５４ 例４ １７．５ １．５ ２２０ １３０ ７８ 例５ １６．６ １．５ ２４０ １４８ ８５ 例６ ７．５ １．０ １８０ １６０ １００ 例７ ２２ １．０ ２４０ １２０ ５０ 次いで、その各々は上記の溶液、即ち、例８のＯＰＣを
使用して形成される上に重なるＯＰＣ層用の伝導性層が
設けられ、上記のＯＣ溶液を利用する多数の光受容体に
対しスクリーンの沈積特性が判定される。上記テストに
おいて、ＯＣ及びＯＰＣ層よりなる光受容体は、先に引
用した米国特許第５，０８３，９５９号明細書に記載の
充電装置を使用してコロナ充電された２０Ｖ形フェース
プレートパネルの内側の面に形成された。電子写真的に
沈積されたスクリーン構造体材料に対する光受容体の沈
積特性と共に、光受容体の電気特性は、表３に掲載され
る。表３において、Ｖｉで示される光受容体の充電受容
量は、３０秒のコロナ放電後に光受容体の表面で測定さ
れた電圧である。暗所表面電位Ｖｄは暗所に９０秒間放
置された後の表面の電圧である。露光電圧Ｖｅｘは、光
受容体を有するパネルが照明器内に設置されたキセノン
ランプの５回のフラッシュにシャドーマスクを通して露
光された後の光受容体の表面電位である。
を使用して生成されたＯＣ層３２は、光受容体を形成す
るためのＯＰＣ層３４で被覆することにより評価され
た。例８のＯＰＣに従って生成されたＯＰＣ層は、以下
の理由で上記テストの基準として選ばれた。その理由
は、電子供与体材料（２，４−ＤＭＰＢＴ）は、テスト
された中で最も光感度の高い供与体材料であり、１０回
の光のフラッシュ後に残存する電圧は低く、即ち、極め
て良好な光放電特性を有するからである。その上、２，
４−ＤＭＰＢＴ−ポリスチレン薄膜は、４２５°Ｃで２
０分間に略完全にベーキング除去し、これはスクリーン
から出力される光を最大限にするために必要である。最
後に、例８のＯＰＣに使用される電子受容体（２−ＥＡ
Ｑ）は、トルエンに優れた溶解性を有し、無毒である。
ＯＣの例１乃至７の各々を使用するサンプルのスライド
は、相対湿度５０％、温度２３°Ｃで、例８のＯＰＣに
よって被覆し、適当な充電器を使用してコロナ充電し
た。サンプルのスライドは、ボルト／秒単位のコロナ充
電レートと、ボルト／秒単位の暗放電のレートと、キセ
ノンフラッシュランプからの１回、５回及び１０回のフ
ラッシュ照射後に光受容体に残存する電圧とが測定され
た。暗放電はコロナ充電の停止後に９０秒間暗所に放置
した後の光受容体の表面電位として定められる。上記の
テスト結果を表２に掲載する。 表２ 充電レート 暗放電レート フラッシュ回数毎の露光電圧 ＷＯＣ識別名 ボルト／秒 ボルト／秒 １回 ５回 １０回 例１ １８．５ １．５ ２１７ １２８ ７３ 例２ １７ １．３ ２３０ １３９ ７７ 例３ ２０．２ １．１ ２００ １１０ ５４ 例４ １７．５ １．５ ２２０ １３０ ７８ 例５ １６．６ １．５ ２４０ １４８ ８５ 例６ ７．５ １．０ １８０ １６０ １００ 例７ ２２ １．０ ２４０ １２０ ５０ 次いで、その各々は上記の溶液、即ち、例８のＯＰＣを
使用して形成される上に重なるＯＰＣ層用の伝導性層が
設けられ、上記のＯＣ溶液を利用する多数の光受容体に
対しスクリーンの沈積特性が判定される。上記テストに
おいて、ＯＣ及びＯＰＣ層よりなる光受容体は、先に引
用した米国特許第５，０８３，９５９号明細書に記載の
充電装置を使用してコロナ充電された２０Ｖ形フェース
プレートパネルの内側の面に形成された。電子写真的に
沈積されたスクリーン構造体材料に対する光受容体の沈
積特性と共に、光受容体の電気特性は、表３に掲載され
る。表３において、Ｖｉで示される光受容体の充電受容
量は、３０秒のコロナ放電後に光受容体の表面で測定さ
れた電圧である。暗所表面電位Ｖｄは暗所に９０秒間放
置された後の表面の電圧である。露光電圧Ｖｅｘは、光
受容体を有するパネルが照明器内に設置されたキセノン
ランプの５回のフラッシュにシャドーマスクを通して露
光された後の光受容体の表面電位である。
【００３３】露光後に確認される電荷の潜像は、先に引
用した米国特許出願第１３２，２６３号明細書に記載の
方法で適当な黒色スクリーン構造体材料で現像される。
マトリクスの形成後、光伝導性層は再充電され、光受容
体は３つの別個の色放出性発光体の中の第１のものを沈
積させるために露光される。かかる処理は各々の光放出
性発光体に対し繰り返される。この結果は、主観的では
あるが、沈積特性として表３に記録する。 表３ パネル電気特性（ボルト） 沈積特性ＯＣの識別名 Ｖｉ Ｖｄ Ｖｅｘ マトリクス 発光体 欠陥 例１ ４１８ ４００ １９０ 良好 良好 無 例２ ３７０ ３２０ １８０ 良好 良好 少数 例３ ４８０ ４２０ １９０ 良好 優秀 無 例５ ４００ ３６０ １８０ 可 良好 無 例６ １４０ １２５ ４５ 無 劣等 多数 例７ ５００ ４１０ １００ 良好 優秀 無 ガラス製スライドに形成され、例５のＯＣの処方によっ
て生成されたＯＣ層と、例１０のＯＰＣの処方により生
成されたＯＰＣ層とからなる光受容体のスペクトル感度
及び光吸収作用は図７に示す。上記感度は較正されたモ
ノクロメータを使用して種々の波長で判定された。光受
容体の光感度は、露光量により分割された電圧の変化と
して任意に定められる。４５０ｎｍを超える場合に、光
伝導性層の光学的吸収作用は急速に低下し、感度は低下
し始め、５５０ｎｍまでは幾分は観察されるが、それ以
上の波長では観察されない。上記の結果により、上述の
形の光受容体で覆われたパネルに有害な影響を及ぼすこ
となく、安全な作業環境を提供するために低強度の黄色
のオーバーヘッド形照明（略５７７乃至５９７ｎｍの波
長で動作する）をＥＰＳ製造設備に使用することが可能
である。その上、ＯＣ層３２は、従来の伝導性層と比べ
て優れた電気的及び物理的特性を有することが確認され
た。
用した米国特許出願第１３２，２６３号明細書に記載の
方法で適当な黒色スクリーン構造体材料で現像される。
マトリクスの形成後、光伝導性層は再充電され、光受容
体は３つの別個の色放出性発光体の中の第１のものを沈
積させるために露光される。かかる処理は各々の光放出
性発光体に対し繰り返される。この結果は、主観的では
あるが、沈積特性として表３に記録する。 表３ パネル電気特性（ボルト） 沈積特性ＯＣの識別名 Ｖｉ Ｖｄ Ｖｅｘ マトリクス 発光体 欠陥 例１ ４１８ ４００ １９０ 良好 良好 無 例２ ３７０ ３２０ １８０ 良好 良好 少数 例３ ４８０ ４２０ １９０ 良好 優秀 無 例５ ４００ ３６０ １８０ 可 良好 無 例６ １４０ １２５ ４５ 無 劣等 多数 例７ ５００ ４１０ １００ 良好 優秀 無 ガラス製スライドに形成され、例５のＯＣの処方によっ
て生成されたＯＣ層と、例１０のＯＰＣの処方により生
成されたＯＰＣ層とからなる光受容体のスペクトル感度
及び光吸収作用は図７に示す。上記感度は較正されたモ
ノクロメータを使用して種々の波長で判定された。光受
容体の光感度は、露光量により分割された電圧の変化と
して任意に定められる。４５０ｎｍを超える場合に、光
伝導性層の光学的吸収作用は急速に低下し、感度は低下
し始め、５５０ｎｍまでは幾分は観察されるが、それ以
上の波長では観察されない。上記の結果により、上述の
形の光受容体で覆われたパネルに有害な影響を及ぼすこ
となく、安全な作業環境を提供するために低強度の黄色
のオーバーヘッド形照明（略５７７乃至５９７ｎｍの波
長で動作する）をＥＰＳ製造設備に使用することが可能
である。その上、ＯＣ層３２は、従来の伝導性層と比べ
て優れた電気的及び物理的特性を有することが確認され
た。
【図１】本発明により製造されたカラーＣＲＴの軸方向
部分断面の平面図である。
部分断面の平面図である。
【図２】図１に示す陰極線管のスクリーン組立体の断面
図である。
図である。
【図３】電子写真的スクリーニング処理において利用さ
れる処理シーケンスのブロック図である。
れる処理シーケンスのブロック図である。
【図４】本発明の伝導性層の上に重なる光伝導性層を示
すフェースプレートパネルの断面図である。
すフェースプレートパネルの断面図である。
【図５】図１に示す陰極線管のスクリーン組立体の他の
実施例である。
実施例である。
【図６】種々の伝導性層の抵抗率の相対湿度百分率の関
数としてのグラフである。
数としてのグラフである。
【図７】本発明の伝導性層の上に重なる光伝導性層の光
吸収作用とスペクトル感度のグラフである。
吸収作用とスペクトル感度のグラフである。
１０ ＣＲＴ １１ ガラスエンベロープ １２ フェースプレートパネル １４ ネック １５ ファンネル １６ アノードボタン １８ ビューイングフェースプレート ２０ フランジ ２１ ガラスフリット ２２，１２２ スクリーン ２３ 光吸収性マトリクス材料 ２４ 伝導性層 ２５ シャドーマスク ２６ 電子銃 ２８ 電子ビーム ３０ ヨーク ３２ 有機伝導性層 ３４ 有機光伝導性層 １２３ マトリクス １２４ アルミニウム層
フロントページの続き (72)発明者 ニティン ヴィタルブハイ デサイ アメリカ合衆国 ニュージャージー 08550 プリンストン・ジャンクション アムハースト・ウェイ ７ (72)発明者 ロナルド ノーマン フリエル アメリカ合衆国 ニュージャージー 08690 ハミルトン・スクエア エイカー ズ・ドライヴ 125 (72)発明者 ユージン サミュエル ポリニアク アメリカ合衆国 ニュージャージー 08046 ウィリングボロ グローヴァー・ レーン 13 (72)発明者 ウィルバー クラレンス ステュワート アメリカ合衆国 ニュージャージー 08520 ハイツタウン シャグバーク・レ ーン 11
Claims (5)
- 【請求項１】 カラー陰極線管のフェースプレートパネ
ルの内側の面に発光スクリーン組立体を製造する方法で
あって：揮発性の伝導性層を形成するため該パネルの面
を被覆し；５５０ｎｍ以上でスペクトル感度を実質的に
有しない揮発性の有機光伝導性層を形成するために、適
当な樹脂と、電子供与体材料と、電子受容体材料と、界
面活性剤と、有機溶媒とを含む光伝導性溶液で該伝導性
層を被覆する段階よりなり；該光伝導性溶液の該樹脂
は、ポリスチレンと；ポリ−α−メチルスチレンと；ポ
リスチレン−ブタジエン共重合体と；ポリメタクリル酸
メチルと；ポリメタクリル酸、ポリイソブチレン、及び
ポリプロピレン炭酸塩のエステルとよりなる群から選ば
れ；該電子供与体材料は、１，４−ジ（２，４−メチル
フェニル）−１，４ ジフェニルブタトリエン（２，４
−ＤＭＰＢＴ）と、１，４−ジ（２，５−メチルフェニ
ル）−１，４ ジフェニルブタトリエン（２，５−ＤＭ
ＰＢＴ）と、１，４−ジ（３，４−メチルフェニル）−
１，４ ジフェニルブタトリエン（３，４−ＤＭＰＢ
Ｔ）と、１，４−ジ（２−メチルフェニル）−１，４
ジフェニルブタトリエン（２−ＤＭＰＢＴ）と、１，４
−ジフェニル−１，４ ジフェニルフェニルブタトリエ
ン（２−ＤＰＢＴ）と、１，４−ジ（４−フルオロフェ
ニル）−１，４ ジフェニルブタトリエン（４−ＤＦＰ
ＢＴ）と、１，４−ジ（４−ブロモフェニル）−１，４
ジフェニルブタトリエン（４−ＤＢＰＢＴ）と、１，
４−ジ（４−クロロフェニル）−１，４ ジフェニルブ
タトリエン（４−ＤＣＰＢＴ）と、１，４−ジ（４−ト
リフルオロメチルフェニル）−１，４ ジフェニルブタ
トリエン（４−ＤＴＦＰＢＴ）とよりなる群から選ば
れ；該電子受容体材料は、９−フルオレノン（９−Ｆ）
と、３−ニトロ−９−フルオレノン（３−ＮＦ）と、
２，７−ジニトロ−９−フルオレノン（２，７−ＤＮ
Ｆ）と、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン
（２，４，７−ＴＮＦ）と、２，４，７−トリニトロ−
９−フルオレニリデン マロノニトリル（２，４，７−
ＴＮＦＭＮ）と、アントロキノン（ＡＱ）と、２−エチ
ルアントロキノン（２−ＥＡＱ）と、１−クロロアント
ロキノン（１−ＣＡＱ）と、２−メチルアントロキノン
（２−ＭＡＱ）と、２，１−ジクロロ−１，４ ナフタ
キノン（２，１−ＤＣＡＱ）とよりなる群から選ばれる
方法。 - 【請求項２】 前記樹脂と前記電子供与体材料の重量比
は２：１から８：１の範囲にある請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 前記樹脂と前記電子供与体材料の重量比
は４：１から６：１の範囲にある請求項２記載の方法。 - 【請求項４】 カラー陰極線管のフェースプレートパネ
ルの内側の面に発光スクリーン組立体を製造する方法で
あって： ａ）揮発性の伝導性層を形成するため該パネルの面を被
覆し； ｂ）５５０ｎｍ以上でスペクトル感度を実質的に有しな
い揮発性の有機光伝導性層を形成するために、５乃至２
０重量パーセントの適当な樹脂と、１．５乃至２．５重
量パーセントの電子供与体材料と、０．０５乃至０．３
５重量パーセントの少なくとも一の電子受容体材料と、
約０．００５重量パーセントの界面活性剤と、有機溶媒
のバランスとを含む光伝導性溶液で該伝導性層を被覆
し； ｃ）実質的に均一な静電荷を該光伝導性層に定着させ； ｄ）その上の該電荷を作用させるため該光伝導性層の選
択された領域を化学線放射にさらし； ｅ）少なくとも一の乾燥性、光放出性、摩擦電気的充電
性のスクリーン構造体材料で該光伝導性層を現像し； ｆ）該スクリーン構造体材料の変位を最小限に抑えるた
め該スクリーン構造体材料を該光伝導性層に固定し； ｇ）該スクリーン構造体材料を薄膜化し； ｈ）上記薄膜化されたスクリーン構造体材料をアルミニ
ウム処理し； ｉ）該伝導性層と、該光伝導性層と、上記層及び材料に
存在する溶媒とを含む上記スクリーン組立体の構成物を
揮発させるため、空気中で少なくとも４２５°Ｃの温度
で該フェースプレートパネルをベーキングする段階より
なり；該光伝導性溶液の該樹脂は、ポリスチレンと；ポ
リ−α−メチルスチレンと；ポリスチレン−ブタジエン
共重合体と；ポリメタクリル酸メチルと；ポリメタクリ
ル酸、ポリイソブチレン、及びポリプロピレン炭酸塩の
エステルとよりなる群から選ばれ；該電子供与体材料
は、１，４−ジ（２，４−メチルフェニル）−１，４
ジフェニルブタトリエン（２，４−ＤＭＰＢＴ）と、
１，４−ジ（２，５−メチルフェニル）−１，４ ジフ
ェニルブタトリエン（２，５−ＤＭＰＢＴ）と、１，４
−ジ（３，４−メチルフェニル）−１，４ ジフェニル
ブタトリエン（３，４−ＤＭＰＢＴ）と、１，４−ジ
（２−メチルフェニル）−１，４ ジフェニルブタトリ
エン（２−ＤＭＰＢＴ）と、１，４−ジフェニル−１，
４ ジフェニルフェニルブタトリエン（２−ＤＰＢＴ）
と、１，４−ジ（４−フルオロフェニル）−１，４ ジ
フェニルブタトリエン（４−ＤＦＰＢＴ）と、１，４−
ジ（４−ブロモフェニル）−１，４ ジフェニルブタト
リエン（４−ＤＢＰＢＴ）と、１，４−ジ（４−クロロ
フェニル）−１，４ ジフェニルブタトリエン（４−Ｄ
ＣＰＢＴ）と、１，４−ジ（４−トリフルオロメチルフ
ェニル）−１，４ ジフェニルブタトリエン（４−ＤＴ
ＦＰＢＴ）とよりなる群から選ばれ；該電子受容体材料
は、９−フルオレノン（９−Ｆ）と、３−ニトロ−９−
フルオレノン（３−ＮＦ）と、２，７−ジニトロ−９−
フルオレノン（２，７−ＤＮＦ）と、２，４，７−トリ
ニトロ−９−フルオレノン（２，４，７−ＴＮＦ）と、
２，４，７−トリニトロ−９−フルオレニリデン マロ
ノニトリル（２，４，７−ＴＮＦＭＮ）と、アントロキ
ノン（ＡＱ）と、２−エチルアントロキノン（２−ＥＡ
Ｑ）と、１−クロロアントロキノン（１−ＣＡＱ）と、
２−メチルアントロキノン（２−ＭＡＱ）と、２，１−
ジクロロ−１，４ ナフタキノン（２，１−ＤＣＡＱ）
とよりなる群から選ばれ；該樹脂と該電子供与体材料の
重量比は２：１から８：１の範囲にある方法。 - 【請求項５】 前記樹脂と前記電子供与体材料の重量比
は４：１から６：１の範囲にある請求項４記載の方法。
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