JPH07208784A - クリーンルーム - Google Patents
クリーンルームInfo
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- JPH07208784A JPH07208784A JP6003412A JP341294A JPH07208784A JP H07208784 A JPH07208784 A JP H07208784A JP 6003412 A JP6003412 A JP 6003412A JP 341294 A JP341294 A JP 341294A JP H07208784 A JPH07208784 A JP H07208784A
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- Japan
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- clean room
- room
- chamber
- entrance
- chemical
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Abstract
(57)【要約】
【目的】入室する人間又は持ち込もうとする物体に付着
若しくは吸着している塵埃の侵入のみならず、前記人間
又は物体に付着若しくは吸着している化学汚染物質の侵
入を防ぎ、製品の品質向上をはかることのできる信頼性
の高いクリーンルームを提供するにある。 【構成】クリーンルームと塵埃除去室との間に形成され
た化学汚染物質除去室に、クリーンルーム内に入室する
人間又は持ち込もうとする物体に付着若しくは吸着して
いる化学汚染物質の濃度を計測する第１の手段と、該第
１の手段の結果によりクリーンルームへの入室又は持ち
込みを制限する第２の手段を設けた。 【効果】入室する人間又は持ち込もうとする物体に付着
若しくは吸着している塵埃の侵入のみならず、前記人間
又は物体に付着若しくは吸着している化学汚染物質の侵
入を防ぎ、製品の品質向上をはかることのできる信頼性
の高いクリーンルームを提供することができる。
若しくは吸着している塵埃の侵入のみならず、前記人間
又は物体に付着若しくは吸着している化学汚染物質の侵
入を防ぎ、製品の品質向上をはかることのできる信頼性
の高いクリーンルームを提供するにある。 【構成】クリーンルームと塵埃除去室との間に形成され
た化学汚染物質除去室に、クリーンルーム内に入室する
人間又は持ち込もうとする物体に付着若しくは吸着して
いる化学汚染物質の濃度を計測する第１の手段と、該第
１の手段の結果によりクリーンルームへの入室又は持ち
込みを制限する第２の手段を設けた。 【効果】入室する人間又は持ち込もうとする物体に付着
若しくは吸着している塵埃の侵入のみならず、前記人間
又は物体に付着若しくは吸着している化学汚染物質の侵
入を防ぎ、製品の品質向上をはかることのできる信頼性
の高いクリーンルームを提供することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の製造等に
用いられるクリーンルームに係り、特に、クリーンルー
ムに入室する人間又は持ち込もうとする物体に付着若し
くは吸着した化学汚染物質の侵入を防止する手段を備え
たクリーンルームに関する。
用いられるクリーンルームに係り、特に、クリーンルー
ムに入室する人間又は持ち込もうとする物体に付着若し
くは吸着した化学汚染物質の侵入を防止する手段を備え
たクリーンルームに関する。
【０００２】
【従来の技術】クリーンルームにおいては、清浄高圧空
気を予め設定した時間（例えば１０秒乃至３０秒間）ク
リーンルームに入室する人間又は持ち込もうとする物体
に吹き付け、人間又は持ち込もうとする物体に付着若し
くは吸着している塵埃を除去するエアシャワー装置を備
えたものが知られている。このエアシャワー装置は、ク
リーンルームに入室する人間又は持ち込もうとする物体
の汚染状態に関係無く、前記設定した時間高圧ジェット
空気を吹き付けて塵埃を除去しようとするものであっ
た。このようなクリーンルームとしては、従来、クリー
ンルームへの入室前の洗浄を確実に行い、入室条件を満
たそうとするものや、エアシャワー内の塵埃数を計測
し、この計測値が一定値以下になるまで清浄高圧空気を
送風するものが提案されている。尚、上記従来技術のう
ち、前者のものは特開平1−219439 号，後者のものは特
開昭62−237982号等が知られている。
気を予め設定した時間（例えば１０秒乃至３０秒間）ク
リーンルームに入室する人間又は持ち込もうとする物体
に吹き付け、人間又は持ち込もうとする物体に付着若し
くは吸着している塵埃を除去するエアシャワー装置を備
えたものが知られている。このエアシャワー装置は、ク
リーンルームに入室する人間又は持ち込もうとする物体
の汚染状態に関係無く、前記設定した時間高圧ジェット
空気を吹き付けて塵埃を除去しようとするものであっ
た。このようなクリーンルームとしては、従来、クリー
ンルームへの入室前の洗浄を確実に行い、入室条件を満
たそうとするものや、エアシャワー内の塵埃数を計測
し、この計測値が一定値以下になるまで清浄高圧空気を
送風するものが提案されている。尚、上記従来技術のう
ち、前者のものは特開平1−219439 号，後者のものは特
開昭62−237982号等が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】クリーンルーム内で
は、例えば半導体の微細加工作業が行われているが、こ
のクリーンルーム内に外から化学汚染物質、例えば、弗
酸，硝酸，硫酸，塩酸といった強酸性の化学成分を有す
るものや、これらの強酸性物質が水と反応して生成され
るガスの持込みがあると、水分中の化学成分を精密に制
御した水を使用して半導体装置製造用材料基板の洗浄か
らこれを乾燥させる工程の間に、前記化学汚染物質が半
導体装置製造用材料基板の水分に吸収され、乾燥作業中
にこの吸収された化学汚染物質が濃縮される。その結
果、半導体装置製造用材料基板表面の腐食や、反応物結
晶生成による異物付着といったような不良が生じ得る。
この現象は、酸性物質のみならず、アルカリ性物質や有
機性物質であっても同様に生じ得る。また、この現象
は、半導体装置製造分野以外の微細加工分野、例えば、
液晶表示基板，カラーフィルター，フォトマスク等クリ
ーンルームを使用する場合においても同様に生じ得る。
は、例えば半導体の微細加工作業が行われているが、こ
のクリーンルーム内に外から化学汚染物質、例えば、弗
酸，硝酸，硫酸，塩酸といった強酸性の化学成分を有す
るものや、これらの強酸性物質が水と反応して生成され
るガスの持込みがあると、水分中の化学成分を精密に制
御した水を使用して半導体装置製造用材料基板の洗浄か
らこれを乾燥させる工程の間に、前記化学汚染物質が半
導体装置製造用材料基板の水分に吸収され、乾燥作業中
にこの吸収された化学汚染物質が濃縮される。その結
果、半導体装置製造用材料基板表面の腐食や、反応物結
晶生成による異物付着といったような不良が生じ得る。
この現象は、酸性物質のみならず、アルカリ性物質や有
機性物質であっても同様に生じ得る。また、この現象
は、半導体装置製造分野以外の微細加工分野、例えば、
液晶表示基板，カラーフィルター，フォトマスク等クリ
ーンルームを使用する場合においても同様に生じ得る。
【０００４】しかしながら、前述した従来例では、クリ
ーンルームに入室する人間又は持ち込もうとする物体、
例えば、材料，装置，治具等に付着若しくは吸着してい
る塵埃は除去可能であるが、化学汚染物質まで除去する
ことは困難であり、クリーンルームへの化学汚染物質の
侵入を防ぐことは困難であった。
ーンルームに入室する人間又は持ち込もうとする物体、
例えば、材料，装置，治具等に付着若しくは吸着してい
る塵埃は除去可能であるが、化学汚染物質まで除去する
ことは困難であり、クリーンルームへの化学汚染物質の
侵入を防ぐことは困難であった。
【０００５】例えば、物体を製造場所から使用場所まで
輸送する経路において、前記物体に付着若しくは吸着す
るトラックなどの排気ガスによる再揮発汚染，薬品の包
装不備による汚染、例えば、薬品ビンの破損における薬
品の蒸発による汚染等を防ぐことが困難であった。
輸送する経路において、前記物体に付着若しくは吸着す
るトラックなどの排気ガスによる再揮発汚染，薬品の包
装不備による汚染、例えば、薬品ビンの破損における薬
品の蒸発による汚染等を防ぐことが困難であった。
【０００６】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
であって、その目的とするところは、クリーンルーム内
に入室する人間又は持ち込もうとする物体に付着若しく
は吸着している塵埃の侵入のみならず、前記人間又は物
体に付着若しくは吸着している化学汚染物質の侵入を防
ぐことができ、製品の品質向上をはかることができる信
頼性の高いクリーンルームを提供するにある。
であって、その目的とするところは、クリーンルーム内
に入室する人間又は持ち込もうとする物体に付着若しく
は吸着している塵埃の侵入のみならず、前記人間又は物
体に付着若しくは吸着している化学汚染物質の侵入を防
ぐことができ、製品の品質向上をはかることができる信
頼性の高いクリーンルームを提供するにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的は、クリーンル
ームと外部との間に形成され、前記クリーンルームに入
室する人間又は持ち込もうとする物体に付着若しくは吸
着している塵埃を除去する塵埃除去室を有するクリーン
ルームにおいて、前記クリーンルームと前記塵埃除去室
との間に化学汚染物質除去室を形成し、該化学汚染物質
除去室には前記クリーンルームに入室する人間又は持ち
込もうとする物体に付着若しくは吸着している化学汚染
物質の濃度を計測する第１の手段と、該第１の手段の結
果により前記クリーンルームへの入室又は持ち込みを制
限する第２の手段とを備えることにより達成される。
ームと外部との間に形成され、前記クリーンルームに入
室する人間又は持ち込もうとする物体に付着若しくは吸
着している塵埃を除去する塵埃除去室を有するクリーン
ルームにおいて、前記クリーンルームと前記塵埃除去室
との間に化学汚染物質除去室を形成し、該化学汚染物質
除去室には前記クリーンルームに入室する人間又は持ち
込もうとする物体に付着若しくは吸着している化学汚染
物質の濃度を計測する第１の手段と、該第１の手段の結
果により前記クリーンルームへの入室又は持ち込みを制
限する第２の手段とを備えることにより達成される。
【０００８】
【作用】クリーンルームに入室する人間又は持ち込もう
とする物体は、塵埃除去室で付着又は吸着した塵埃を除
去する。その後、化学汚染物質除去室で付着又は吸着し
た化学汚染物質の濃度が第１の手段によって測定され、
その結果が一定値以下、即ちクリーンルーム内に侵入し
ても支障をきたさない成分値であれば、クリーンルーム
内への入室が許可される。他方、第１の手段によって測
定された結果が一定値以上、即ちクリーンルーム内に侵
入したら支障をきたす成分値であれば、第２の手段によ
りクリーンルーム内への入室が制限される。これによ
り、クリーンルームへの化学汚染物質の侵入を防ぐこと
ができる。
とする物体は、塵埃除去室で付着又は吸着した塵埃を除
去する。その後、化学汚染物質除去室で付着又は吸着し
た化学汚染物質の濃度が第１の手段によって測定され、
その結果が一定値以下、即ちクリーンルーム内に侵入し
ても支障をきたさない成分値であれば、クリーンルーム
内への入室が許可される。他方、第１の手段によって測
定された結果が一定値以上、即ちクリーンルーム内に侵
入したら支障をきたす成分値であれば、第２の手段によ
りクリーンルーム内への入室が制限される。これによ
り、クリーンルームへの化学汚染物質の侵入を防ぐこと
ができる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。
する。
【００１０】図１は、本実施例の概略図であり、クリー
ンルームの平面図である。図において、１は半導体基板
等の微細加工作業が実施されるクリーンルームであり、
通常、このクリーンルーム１に入室する人間は、更衣室
４で着替えた後、エアシャワー室３で衣類又はクリーン
ルーム１に持ち込もうとする物体に付着若しくは吸着し
ている塵埃を除去してクリーンルーム１に入る。しかし
ながら、このエアシャワー室３では、衣類又は物体に付
着若しくは吸着している塵埃を除去し、クリーンルーム
への侵入を防止することは可能であるが、衣類又は物体
に付着若しくは吸着している化学汚染物質、例えば、弗
酸，硝酸，硫酸，塩酸といった強酸性の化学成分を有す
るものや、これらの強酸性物質が水と反応して生成され
るガス等のクリーンルームへの侵入を防止することまで
は不可能であった。このため、本実施例においては、エ
アシャワー室３とクリーンルーム１の間に新たに入室管
理室２を設けたものであり、ここに特徴を有するもので
ある。なお、本実施例においてはこの入室管理室２をエ
アシャワー室３とクリーンルーム１の間に設けている
が、更衣室４とエアシャワー室３の間に設けてもよい。
この入室管理室２には、空気中の成分の定量分析を行う
定量分析装置５と、この定量分析装置５の測定結果に応
じてクリーンルーム１への入室を制限するための表示装
置１２が設けられている。なお、本実施例においては入
室を制限するために表示装置１２を用いているが、本発
明ではこれに限定されず、例えば扉９の施錠を電気錠と
してクリーンルームへの入室を制限したり、定量分析装
置５で測定した結果により人が入室の可否を判断しクリ
ーンルームへの入室を制限するというように、人手を介
在し間接的に行うこともできる。
ンルームの平面図である。図において、１は半導体基板
等の微細加工作業が実施されるクリーンルームであり、
通常、このクリーンルーム１に入室する人間は、更衣室
４で着替えた後、エアシャワー室３で衣類又はクリーン
ルーム１に持ち込もうとする物体に付着若しくは吸着し
ている塵埃を除去してクリーンルーム１に入る。しかし
ながら、このエアシャワー室３では、衣類又は物体に付
着若しくは吸着している塵埃を除去し、クリーンルーム
への侵入を防止することは可能であるが、衣類又は物体
に付着若しくは吸着している化学汚染物質、例えば、弗
酸，硝酸，硫酸，塩酸といった強酸性の化学成分を有す
るものや、これらの強酸性物質が水と反応して生成され
るガス等のクリーンルームへの侵入を防止することまで
は不可能であった。このため、本実施例においては、エ
アシャワー室３とクリーンルーム１の間に新たに入室管
理室２を設けたものであり、ここに特徴を有するもので
ある。なお、本実施例においてはこの入室管理室２をエ
アシャワー室３とクリーンルーム１の間に設けている
が、更衣室４とエアシャワー室３の間に設けてもよい。
この入室管理室２には、空気中の成分の定量分析を行う
定量分析装置５と、この定量分析装置５の測定結果に応
じてクリーンルーム１への入室を制限するための表示装
置１２が設けられている。なお、本実施例においては入
室を制限するために表示装置１２を用いているが、本発
明ではこれに限定されず、例えば扉９の施錠を電気錠と
してクリーンルームへの入室を制限したり、定量分析装
置５で測定した結果により人が入室の可否を判断しクリ
ーンルームへの入室を制限するというように、人手を介
在し間接的に行うこともできる。
【００１１】又、クリーンルーム１には、クリーンルー
ム内に持ち込もうとする物体のうち、比較的小さい物
体、例えば材料，治具等に付着若しくは吸着している化
学汚染物質の管理を行う入室管理箱６が設けてある。こ
の入室管理箱６にも上記と同様に入室管理箱６の空気中
の成分の定量分析を行う定量分析装置５が設けてある。
次に、上記クリーンルームに入室する場合の動作につい
て説明する。クリーンルーム１に入室する人間は更衣室
４で着替え、エアシャワー室３で衣類又はクリーンルー
ム１に持ち込もうとする物体に付着若しくは吸着してい
る塵埃を除去する。塵埃を除去後、人間又は物体は入室
管理室２に入り、密閉された状態で入室管理室２の空気
中の成分の定量分析を定量分析装置５で行う。そして、
定量分析装置５で測定した結果が予め設定されている成
分値以下である場合は、表示装置１２は入室可能である
表示を行い、クリーンルーム１の入室を許可する。一
方、定量分析装置５で測定した結果が予め設定されてい
る成分値以上である場合は、表示装置１２は入室不可能
である表示を行い、クリーンルーム１の入室を制限す
る。
ム内に持ち込もうとする物体のうち、比較的小さい物
体、例えば材料，治具等に付着若しくは吸着している化
学汚染物質の管理を行う入室管理箱６が設けてある。こ
の入室管理箱６にも上記と同様に入室管理箱６の空気中
の成分の定量分析を行う定量分析装置５が設けてある。
次に、上記クリーンルームに入室する場合の動作につい
て説明する。クリーンルーム１に入室する人間は更衣室
４で着替え、エアシャワー室３で衣類又はクリーンルー
ム１に持ち込もうとする物体に付着若しくは吸着してい
る塵埃を除去する。塵埃を除去後、人間又は物体は入室
管理室２に入り、密閉された状態で入室管理室２の空気
中の成分の定量分析を定量分析装置５で行う。そして、
定量分析装置５で測定した結果が予め設定されている成
分値以下である場合は、表示装置１２は入室可能である
表示を行い、クリーンルーム１の入室を許可する。一
方、定量分析装置５で測定した結果が予め設定されてい
る成分値以上である場合は、表示装置１２は入室不可能
である表示を行い、クリーンルーム１の入室を制限す
る。
【００１２】以上のように、本実施例においては、クリ
ーンルームに入室する人間又は持ち込もうとする物体に
付着若しくは吸着している塵埃のみならず、前記人間又
は物体に付着若しくは吸着している化学汚染物質の侵入
を未然に防ぐことかできるので、製品の品質が向上する
とともに、生産歩留りの向上等を図れる信頼性の高いク
リーンルームを得ることができる。
ーンルームに入室する人間又は持ち込もうとする物体に
付着若しくは吸着している塵埃のみならず、前記人間又
は物体に付着若しくは吸着している化学汚染物質の侵入
を未然に防ぐことかできるので、製品の品質が向上する
とともに、生産歩留りの向上等を図れる信頼性の高いク
リーンルームを得ることができる。
【００１３】図２乃至図５は、上述した入室管理室２及
び入室管理箱６を詳細に示した拡大図であり、図２及び
図３は入室管理室２、図４及び図５は入室管理箱６をそ
れぞれ示している。
び入室管理箱６を詳細に示した拡大図であり、図２及び
図３は入室管理室２、図４及び図５は入室管理箱６をそ
れぞれ示している。
【００１４】図２は、ファン１０，高性能フィルタ１１
からなる循環機器を設けた入室管理室２を示したもので
あり、このファン１０，高性能フィルタ１１により、密
閉された入室管理室２の空気の循環を行うものである。
これにより、室内に存在する化学汚染物質の測定の精度
が向上されると共に、室内を高清浄度に保つことができ
る。一方、図３は、前述した循環機器を有していない入
室管理室２を示したものであり、化学汚染物質の拡散に
より化学汚染物質の成分値を測定するものである。そし
て、いずれの場合も、定量分析装置５により化学汚染物
質の成分値を測定し、予め設定されている成分値と比較
し、その結果（クリーンルームへの入室可否）を表示装
置１２に表示するものである。
からなる循環機器を設けた入室管理室２を示したもので
あり、このファン１０，高性能フィルタ１１により、密
閉された入室管理室２の空気の循環を行うものである。
これにより、室内に存在する化学汚染物質の測定の精度
が向上されると共に、室内を高清浄度に保つことができ
る。一方、図３は、前述した循環機器を有していない入
室管理室２を示したものであり、化学汚染物質の拡散に
より化学汚染物質の成分値を測定するものである。そし
て、いずれの場合も、定量分析装置５により化学汚染物
質の成分値を測定し、予め設定されている成分値と比較
し、その結果（クリーンルームへの入室可否）を表示装
置１２に表示するものである。
【００１５】図４，図５も原理は図２，図３と同様であ
り、図４は循環機器を設けた入室管理箱６、図５は循環
機器を有していない入室管理箱６を示したものであり、
いずれも、定量分析装置５により化学汚染物質の成分値
を測定し、予め設定されている成分値と比較し、その結
果（クリーンルームへの入室可否）を表示装置１２に表
示するものである。また、図４のファン１０及び高性能
フィルタ１１を通過する風量を変えることにより、エア
シャワー機能を兼ねることもできる。
り、図４は循環機器を設けた入室管理箱６、図５は循環
機器を有していない入室管理箱６を示したものであり、
いずれも、定量分析装置５により化学汚染物質の成分値
を測定し、予め設定されている成分値と比較し、その結
果（クリーンルームへの入室可否）を表示装置１２に表
示するものである。また、図４のファン１０及び高性能
フィルタ１１を通過する風量を変えることにより、エア
シャワー機能を兼ねることもできる。
【００１６】以上、本実施例ではクリーンルームについ
て述べたが、本装置はこの分野に限らず、種々の分野で
利用可能である。例えば、金庫等のある常時人間の出入
りしない部屋に本装置を設けた場合である。もし、部屋
に人又は動物の出入りがあると、空気中の二酸化炭素，
アルデヒト等といった化学成分値が上昇する。この上昇
を本装置でとらえることにより人又は動物の侵入とみな
し、侵入物ありの表示や、ベル等を連動することにより
防犯装置として活用することもできる。
て述べたが、本装置はこの分野に限らず、種々の分野で
利用可能である。例えば、金庫等のある常時人間の出入
りしない部屋に本装置を設けた場合である。もし、部屋
に人又は動物の出入りがあると、空気中の二酸化炭素，
アルデヒト等といった化学成分値が上昇する。この上昇
を本装置でとらえることにより人又は動物の侵入とみな
し、侵入物ありの表示や、ベル等を連動することにより
防犯装置として活用することもできる。
【００１７】
【発明の効果】本発明は、クリーンルームとエアシャワ
ー室との間に形成された部屋に、クリーンルーム内に入
室する人間又は持ち込もうとする物体に付着若しくは吸
着している化学汚染物質の濃度を計測する第１の手段
と、該第１の手段の結果によりクリーンルームへの入室
又は持ち込みを制限する第２の手段を設けたことによ
り、クリーンルーム内に入室する人間又は持ち込もうと
する物体に付着若しくは吸着している塵埃の侵入のみな
らず、前記人間又は物体に付着若しくは吸着している化
学汚染物質の侵入を防ぐことができ、製品の品質向上を
はかることができる信頼性の高いクリーンルームを提供
することができる。
ー室との間に形成された部屋に、クリーンルーム内に入
室する人間又は持ち込もうとする物体に付着若しくは吸
着している化学汚染物質の濃度を計測する第１の手段
と、該第１の手段の結果によりクリーンルームへの入室
又は持ち込みを制限する第２の手段を設けたことによ
り、クリーンルーム内に入室する人間又は持ち込もうと
する物体に付着若しくは吸着している塵埃の侵入のみな
らず、前記人間又は物体に付着若しくは吸着している化
学汚染物質の侵入を防ぐことができ、製品の品質向上を
はかることができる信頼性の高いクリーンルームを提供
することができる。
【図１】本実施例の概略図であり、クリーンルームの平
面図。
面図。
【図２】入室管理室の拡大図。
【図３】入室管理室の拡大図。
【図４】入室管理箱の拡大図。
【図５】入室管理箱の拡大図。
１…クリーンルーム、２…入室管理室、３…エアシャワ
ー室、４…更衣室、５…定量分析装置、６…入室管理
箱、７，８，９…扉、１０…ファン、１１…高性能フィ
ルタ、１２…表示装置、１３…非クリーンルーム。
ー室、４…更衣室、５…定量分析装置、６…入室管理
箱、７，８，９…扉、１０…ファン、１１…高性能フィ
ルタ、１２…表示装置、１３…非クリーンルーム。
Claims (1)
- 【請求項１】クリーンルームと外部との間に形成され、
前記クリーンルームに入室する人間又は持ち込もうとす
る物体に付着若しくは吸着している塵埃を除去する塵埃
除去室を有するクリーンルームにおいて、 前記クリーンルームと前記塵埃除去室との間に化学汚染
物質除去室を形成し、該化学汚染物質除去室には前記ク
リーンルームに入室する人間又は持ち込もうとする物体
に付着若しくは吸着している化学汚染物質の濃度を計測
する第１の手段と、該第１の手段の結果により前記クリ
ーンルームへの入室又は持ち込みを制限する第２の手段
とを備えたことを特徴とするクリーンルーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6003412A JPH07208784A (ja) | 1994-01-18 | 1994-01-18 | クリーンルーム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6003412A JPH07208784A (ja) | 1994-01-18 | 1994-01-18 | クリーンルーム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07208784A true JPH07208784A (ja) | 1995-08-11 |
Family
ID=11556674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6003412A Pending JPH07208784A (ja) | 1994-01-18 | 1994-01-18 | クリーンルーム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07208784A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6577750B1 (en) | 1999-05-25 | 2003-06-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Clean garment managing system air shower room and computer readable record medium |
| JP2006183929A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Hokkaido Univ | クリーンユニット−プロセス装置融合システム、クリーンユニットシステム、クリーンユニット、連結クリーンユニット、ポータブルクリーンユニットおよびプロセス方法 |
| JP2008170132A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Hitachi Plant Technologies Ltd | 室圧制御システム及び方法 |
| JP2009204545A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-09-10 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 試料採取装置、この試料採取装置を備える物質分析システムおよびこの物質分析システムを備える検査システム |
-
1994
- 1994-01-18 JP JP6003412A patent/JPH07208784A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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