JPH07205025A - Grinding method and device for electrolytic inprocess dressing - Google Patents

Grinding method and device for electrolytic inprocess dressing

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JPH07205025A
JPH07205025A JP35254593A JP35254593A JPH07205025A JP H07205025 A JPH07205025 A JP H07205025A JP 35254593 A JP35254593 A JP 35254593A JP 35254593 A JP35254593 A JP 35254593A JP H07205025 A JPH07205025 A JP H07205025A
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JP
Japan
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grinding tool
tool
chamfering
electrode
grinding
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP35254593A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiya Akita
俊哉 秋田
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
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Publication of JPH07205025A publication Critical patent/JPH07205025A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

PURPOSE:To keep the form of a grinding tool and to prevent damages due to transfer of fallen grinding particle by diffusing electrolytic effect owing to chamfering of the outer peripheral edge part of an electrically conductive grinding tool, and adjusting a chamfering amount according to the wear of the grinding tool. CONSTITUTION:The positive electrode of a power supply device 8 is connected to a rotary electrically conductive grinding tool 1. The negative electrode of the power supply device 8 is connected to ring-formed electrode 5 for holding a member 4 to be processed while keeping a certain distance from the processing surface of the grinding tool 1. The member 4 to be processed is relatively rocked along the processing surface of the grinding tool 1. Processing is made by supplying coolant 7 from a coolant nozzle 6 across the grinding tool 1 and the electrode 5. In this case, by chamfering the outer peripheral edge part of the grinding tool 1, electrolytic effect is diffused and the elution of bond is reduced. A chambering tool 2 is attached to the chamfering part via an adjusting member 3 and chamfering is continuously performed according to the wear of the grinding tool 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はレンズ等の被加工部材を
電解インプロセスドレッシング方法により研削する方法
およびその装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for grinding a workpiece such as a lens by an electrolytic in-process dressing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、レンズ等の被加工部材の研削加
工は、研削工具を回転するとともに、被加工部材を研削
工具上で揺動して行っている。しかし、研削工具が目詰
まりを起こして研削能力が低下し、研削に長時間を要す
る問題があった。
2. Description of the Related Art In general, a workpiece such as a lens is ground by rotating a grinding tool and swinging the workpiece on the grinding tool. However, there is a problem in that the grinding tool is clogged and the grinding ability is reduced, which requires a long time for grinding.

【0003】そこで、上記問題を解決するため、従来で
は、特開平5−16064号公報に記載されるように電
解ドレッシングしつつ研削加工を行っている。図14お
よび図15はこの研削装置を示す。不図示の駆動装置と
連結した回転軸101の先端には導電性を有する研削工
具102が一体に形成されている。研削工具102はダ
イヤモンド粉末等の砥粒を導電性のボンドで結合したも
ので、その先端は半球形状の加工面103に形成されて
おり、加工面103には対応する形状の被加工面を有し
た被加工部材(ワーク)104が当接されている。被加
工部材104は保持皿105により保持されている。
Therefore, in order to solve the above problem, conventionally, as described in Japanese Patent Laid-Open No. 5-16064, grinding is performed while electrolytically dressing. 14 and 15 show this grinding apparatus. An electrically conductive grinding tool 102 is integrally formed at the tip of a rotary shaft 101 connected to a drive device (not shown). The grinding tool 102 is formed by bonding abrasive grains such as diamond powder with a conductive bond, and its tip is formed on a hemispherical processed surface 103, and the processed surface 103 has a corresponding processed surface. The processed member (workpiece) 104 is abutted. The member to be processed 104 is held by the holding tray 105.

【0004】保持皿105の上面中央部には凹部が形成
され、凹部には略棒形状でその先端が球形をした球心1
06aを有するカンザシ106が係合している。カンザ
シ106の上端は加圧装置107に接続されており、加
圧装置107は揺動駆動装置108に連結されている。
A concave portion is formed in the central portion of the upper surface of the holding plate 105, and the concave portion has a substantially rod-like shape with a spherical tip at its center 1.
The knapsack 106 having 06a is engaged. The upper end of the kanzashi 106 is connected to the pressure device 107, and the pressure device 107 is connected to the swing drive device 108.

【0005】保持皿105の外周壁には被加工部材10
4を囲繞するリング形状の電極109が垂設されてお
り、電極109の電解面109aは研削工具102の加
工面103と僅かな隙間Lを有する様に設けられてい
る。
The outer peripheral wall of the holding tray 105 has a member 10 to be processed.
A ring-shaped electrode 109 surrounding 4 is vertically provided, and the electrolytic surface 109a of the electrode 109 is provided so as to have a slight gap L with the processing surface 103 of the grinding tool 102.

【0006】保持皿105の近傍には放電加工用のパル
ス電圧を発生する直流電源110が設置されている。直
流電源110の(+)極は回転軸101の外周面と接触
するブラシ111を介して研削工具102に印加されて
いる。また、直流電源110の(−)極はカンザシ10
6に接続されており、保持皿105を介して電極109
に印加されている。
A DC power supply 110 for generating a pulse voltage for electric discharge machining is installed near the holding tray 105. The (+) pole of the DC power supply 110 is applied to the grinding tool 102 via the brush 111 that contacts the outer peripheral surface of the rotating shaft 101. Further, the (-) pole of the DC power supply 110 is
6 and is connected to the electrode 109 via the holding pan 105.
Is being applied to.

【0007】直流電源110と前記揺動駆動装置108
とは制御装置112に接続されて制御される。電極10
9の近傍には不図示の給水装置と連結したパイプ113
が設けられており、電極109と研削工具102との隙
間Lにクーラント(冷却媒体)114が供給される。
DC power supply 110 and the swing drive device 108
Are connected to and controlled by the controller 112. Electrode 10
In the vicinity of 9, a pipe 113 connected to a water supply device (not shown)
Is provided, and the coolant (cooling medium) 114 is supplied to the gap L between the electrode 109 and the grinding tool 102.

【0008】図14において、カンザシ106が中立位
置にある時、電極109の電解面109aに対向する研
削工具102の加工面103上の位置をO、加工面10
3の回転中心をC、研削工具102の外周点をeとす
る。一方、揺動により被加工部材104が右側に最も傾
いた時、電解面109aと対向する加工面103上の位
置をPとする。これに対し揺動により被加工部材104
が左側に最も傾いた時、電解面109aと対向する加工
面103上の位置をQとする。被加工部材104の揺動
の中心(曲率の中心)をAとする。
In FIG. 14, the position on the machined surface 103 of the grinding tool 102 facing the electrolytic surface 109a of the electrode 109 is O, and the machined surface 10 is when the connector 106 is in the neutral position.
The rotation center of 3 is C, and the outer peripheral point of the grinding tool 102 is e. On the other hand, when the member 104 to be processed is tilted most to the right due to the swing, the position on the processed surface 103 facing the electrolytic surface 109a is P. On the other hand, by swinging, the workpiece 104
When Q is most inclined to the left, the position on the processed surface 103 that faces the electrolytic surface 109a is Q. The center of swing (center of curvature) of the workpiece 104 is A.

【0009】∠QAOはカンザシ106の揺動角2θの
半角θ、∠CAQは被加工部材104が中立位置から半
角θ揺動したときの電解面109aに対向する加工面1
03上の位置Qから加工面103の回転中心Cとのなす
角であり、δとする。
∠QAO is a half-angle θ of the swing angle 2θ of the Kanzashi 106, and ∠CAQ is a working surface 1 facing the electrolytic surface 109a when the workpiece 104 is swung by the half-angle θ from the neutral position.
The angle between the position Q on 03 and the rotation center C of the machined surface 103 is δ.

【0010】以上の構成から成る研削装置を用いたレン
ズ研削は、保持皿104の揺動駆動と研削工具102の
回転駆動と同時に、研削工具102の加工面103と電
極109の電解面109aとの隙間Lにクーラント11
4を供給する。そして、直流電源110により研削工具
102と電極109とに印加した電圧によって、研削工
具102の加工面(砥粒面)103に電解が生じ、研削
工具102がドレッシングされる。
In the lens grinding using the grinding apparatus having the above-mentioned structure, the holding plate 104 is driven to swing and the grinding tool 102 is rotated, and at the same time, the machining surface 103 of the grinding tool 102 and the electrolytic surface 109a of the electrode 109 are moved. Coolant 11 in the gap L
Supply 4. Then, the voltage applied to the grinding tool 102 and the electrode 109 by the DC power supply 110 causes electrolysis on the processing surface (abrasive grain surface) 103 of the grinding tool 102 to dress the grinding tool 102.

【0011】研削加工中の揺動は制御装置112によっ
て行われ、直流電源110による電圧の印加のタイミン
グも制御装置112によって行われる。カンザシ106
の球心106aは、図14の状態から揺動を開始(図中
右側に移動)してやがて+θまで達する。次に球心10
6aは反対方向に揺動(図中左側に移動)して−θに達
する。さらに、球心106aの揺動は、電極109の電
解面109aと研削工具102の回転中心Cとが重なる
−(θ+δ)へと進む。そして、研削工具102が少な
くとも1回転以上回転する時間滞留するとともに電圧が
印加され、再びO°へと揺動する。これら一連の揺動を
所定の回数くりかえし行い加工は終了する。
Oscillation during grinding is performed by the controller 112, and the timing of voltage application by the DC power source 110 is also controlled by the controller 112. Kanzashi 106
The ball center 106a of No. 1 starts swinging (moves to the right side in the drawing) from the state of FIG. 14 and eventually reaches + θ. Next is the ball center 10
6a swings in the opposite direction (moves to the left in the figure) and reaches -θ. Further, the swing of the spherical center 106a proceeds to − (θ + δ) where the electrolytic surface 109a of the electrode 109 and the rotation center C of the grinding tool 102 overlap. Then, the grinding tool 102 stays for at least one rotation, and a voltage is applied, and the grinding tool 102 swings again to O °. This series of swings is repeated a predetermined number of times to complete the processing.

【0012】以上の動作では揺動が−(θ+δ)の時、
即ち研削工具102の加工面103の中央に電極109
の電解面109aがある時、電解面109aによって研
削工具102の加工面103面がまんべんなくドレッシ
ングされる。なお、揺動駆動装置108を制御し、複数
往復(1往復を4θとする)の割合でカンザシ106を
δだけさらに揺動させ、このδのときにドレッシングを
行ってもよく、またカンザシ106の1往復(4θ+2
δ)毎にドレッシングしてもよい。
In the above operation, when the swing is − (θ + δ),
That is, the electrode 109 is formed at the center of the processing surface 103 of the grinding tool 102.
When there is the electrolytic surface 109a, the electrolytic surface 109a uniformly dresses the processed surface 103 of the grinding tool 102. The rocking drive device 108 may be controlled to further rock the kanzashi 106 by δ at a rate of a plurality of reciprocations (one reciprocation is 4θ), and dressing may be performed at this δ. 1 round trip (4θ + 2
You may dress every δ).

【0013】また、電極109の電解面109aが研削
工具102の加工面103の中央にあるときだけ電圧を
印加しているが、加工面103の中央にある時に効果的
なドレッシングが行われているように通電し、加工面1
03の中央より外れた時は弱い通電が行われる(ドレッ
シングがほとんど行われない)ようにしてもよい。
Further, the voltage is applied only when the electrolytic surface 109a of the electrode 109 is in the center of the machined surface 103 of the grinding tool 102, but effective dressing is performed when it is in the center of the machined surface 103. To energize the machined surface 1
When it is out of the center of 03, weak energization may be performed (dressing is hardly performed).

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術においては、図16に示すリング状の電極109
と研削工具102との部分断面図に示すように、クーラ
ント114は従属回転する電極109との連れまわり、
研削工具102による遠心力、あるいは表面張力によっ
て加工面103の外周エッジ部(図中K点)より外側ま
で介在する。電解作用は最短距離にある通電部に集中
し、また、突起部に集中する。
However, in the above-mentioned prior art, the ring-shaped electrode 109 shown in FIG. 16 is used.
As shown in the partial cross-sectional view of the grinding tool 102 and the grinding tool 102, the coolant 114 is rotated along with the electrode 109 that is driven to rotate,
The outer peripheral edge portion (point K in the figure) of the machined surface 103 intervenes outside due to centrifugal force or surface tension of the grinding tool 102. The electrolytic action concentrates on the current-carrying part at the shortest distance, and also concentrates on the protrusion.

【0015】このため、曲率中心O1 とK点を結んだ直
線の延長上の電極109の交点Gより中側では、それに
対応する加工面103に電解作用が分散する。しかし、
電極109のG点からH点(回転軸101と垂直で、K
点を通る直線の電極109との交点をH点とする)まで
の間で発生する電解作用は、最短距離にあり、かつ、突
起になっている研削工具102のエッジ部(K点)に集
中する。さらに、クーラント114の連れまわりによっ
てはH点よりも外側との間からも集中する。
Therefore, the electrolytic action is dispersed on the processing surface 103 corresponding to the inside of the intersection G of the electrode 109 on the extension of the straight line connecting the center of curvature O 1 and the point K. But,
Point G to H of electrode 109 (perpendicular to rotation axis 101, K
The electrolytic action generated up to the point H where the intersection of the straight line passing through the point and the electrode 109 is located) is concentrated on the edge portion (point K) of the grinding tool 102 which is the shortest distance and is a protrusion. To do. Further, depending on the circulation of the coolant 114, the coolant 114 also concentrates from the outside of the point H.

【0016】従って、研削工具102のエッジ部(K
点)はその中側の加工面よりもボンド溶出が促進され
る。ボンド溶出が盛んになると、研削工具102の外周
から形状が崩れ、研削工具102の工具径が減る。一般
に、ならい研削加工では被加工部材104と研削工具1
02との相対運動により研削加工が進行するとともに、
その相対運動を調整することにより安定条件を設定す
る。これによって被加工部材104の形状精度が維持さ
れる。しかしながら上述のように、工具径が徐々に減る
と、その安定条件が変化し、被加工部材104の形状精
度が低下するという問題が発生する。
Therefore, the edge portion (K
In the point), bond elution is promoted more than the processed surface on the inner side. When bond elution becomes active, the shape of the grinding tool 102 collapses from the outer periphery, and the tool diameter of the grinding tool 102 decreases. Generally, in the profile grinding, the workpiece 104 and the grinding tool 1
As the grinding process progresses due to the relative motion with 02,
The stability condition is set by adjusting the relative motion. This maintains the shape accuracy of the workpiece 104. However, as described above, when the tool diameter gradually decreases, the stability condition changes, and the shape accuracy of the workpiece 104 deteriorates.

【0017】また、過剰なボンド溶出により、砥粒の脱
落も増え、脱落した砥粒が被加工部材104と研削工具
102との隙間に介在する。さらに、ボンドが水酸化
物、酸化物となり、このかたまり(砥粒を含む)が被加
工部材104との接触によって砕けたように剥がれる。
このとき、その砕けたクズが被加工部材104と研削工
具102との間に介在する。
Further, due to excessive bond elution, abrasive grains are more likely to fall off, and the dropped abrasive grains are present in the gap between the workpiece 104 and the grinding tool 102. Further, the bond becomes a hydroxide or an oxide, and this lump (including abrasive grains) is peeled off as if crushed by the contact with the workpiece 104.
At this time, the broken pieces are interposed between the workpiece 104 and the grinding tool 102.

【0018】研削工具102は砥粒をメタルボンドで保
持しているところから硬く、介在した砥粒等に対して研
削工具102は弾性力による有効なクッション作用を有
していない。そのため、被加工部材104に砥粒等が押
し付けられることになり、深い傷ができるという問題が
発生する。
The grinding tool 102 is hard because it holds the abrasive grains with a metal bond, and the grinding tool 102 does not have an effective cushioning action due to the elastic force against the intervening abrasive grains and the like. Therefore, abrasive grains or the like are pressed against the member 104 to be processed, which causes a problem of deep scratches.

【0019】本発明は、上記従来技術の問題に鑑みてな
されたもので、研削工具のエッジ部に電解が集中するこ
とを防止することにより、研削工具の形状を維持し、脱
落した砥粒、クズの転動による傷発生を防止することが
できる電解インプロセスドレッシング研削方法および装
置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and prevents the concentration of electrolysis on the edge portion of the grinding tool to maintain the shape of the grinding tool and remove the abrasive grains, An object of the present invention is to provide an electrolytic in-process dressing grinding method and apparatus capable of preventing the occurrence of scratches caused by rolling of scraps.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段および作用】図1は本発明
の基本構成を示し、回転する導電性研削工具1に電源装
置8の陽極を接続し、導電性研削工具1の加工面と一定
の距離を保ち、かつ被加工部材4を保持するリング形状
の電極5に電源装置8の陰極を接続する。また、導電性
研削工具1の加工面に沿って被加工部材4を相対的に揺
動させるとともに、導電性研削工具1と電極5との間に
クーラント7をクーラントノズル6より供給しつつ加工
し、電極5の電解面と導電性研削工具1の加工面の中央
とが重なっているときに、電極5と導電性研削工具1と
に電圧を印加しつつ導電性研削工具1を少なくとも1回
転させる。
FIG. 1 shows the basic structure of the present invention, in which the rotating conductive grinding tool 1 is connected to the anode of a power supply device 8 and is fixed to the machined surface of the conductive grinding tool 1. The cathode of the power supply device 8 is connected to the ring-shaped electrode 5 that maintains the distance and holds the workpiece 4. Further, the workpiece 4 is relatively swung along the machining surface of the conductive grinding tool 1, and the coolant 7 is supplied from the coolant nozzle 6 between the conductive grinding tool 1 and the electrode 5 for machining. When the electrolytic surface of the electrode 5 and the center of the processed surface of the conductive grinding tool 1 overlap, the conductive grinding tool 1 is rotated at least once while applying a voltage to the electrode 5 and the conductive grinding tool 1. .

【0021】導電性研削工具1を加工に必要な加工面よ
りも大きい直径に設定し、この研削工具の外周部エッジ
部(必要な加工面を得るための直径より外側)を面取り
し、面取り工具2をこの面取りした面に導電性研削工具
1の回転軸方向から当て付け、面取り工具2を保持した
軟質性の調整部材3がこの位置で研削工具の加工面に接
触する。
The electroconductive grinding tool 1 is set to have a diameter larger than the machining surface required for machining, and the peripheral edge portion (outside the diameter for obtaining the necessary machining surface) of this grinding tool is chamfered to obtain a chamfering tool. 2 is applied to this chamfered surface from the direction of the rotation axis of the conductive grinding tool 1, and the soft adjusting member 3 holding the chamfering tool 2 contacts the machined surface of the grinding tool at this position.

【0022】上記のように構成された研削装置によれ
ば、導電性研削工具1の外周エッジ部を面取りすること
により、エッジ部に集中していた電解作用が面取り部に
分散される。これにより、ボンド溶出が減少する。
According to the grinding apparatus configured as described above, by chamfering the outer peripheral edge portion of the conductive grinding tool 1, the electrolytic action concentrated in the edge portion is dispersed in the chamfered portion. This reduces bond elution.

【0023】加工が進行すると、導電性研削工具1の磨
耗が徐々に進行し、面取り部が減少する。面取り部が減
少すると、エッジ部への電解作用の集中が発生する。こ
れを防止するために、面取り工具2を当て付け、導電性
研削工具1が磨耗しても継続的に面取りを行う。さら
に、調整部材3を加工面に接触させることにより面取り
工具2による面取り量の調整が可能となる。したがっ
て、導電性研削工具1の磨耗に関わらず、面取り部を一
定量に維持でき、電解作用を分散することができる。
As the machining progresses, the abrasion of the conductive grinding tool 1 gradually progresses and the chamfered portion decreases. When the chamfered portion is reduced, the electrolytic action is concentrated on the edge portion. In order to prevent this, the chamfering tool 2 is applied and chamfering is continuously performed even if the conductive grinding tool 1 is worn. Further, the chamfering amount can be adjusted by the chamfering tool 2 by bringing the adjusting member 3 into contact with the processing surface. Therefore, the chamfered portion can be maintained at a constant amount and the electrolytic action can be dispersed regardless of wear of the conductive grinding tool 1.

【0024】[0024]

【実施例1】図2は本発明の実施例1を示す。本実施例
は図示省略した駆動源装置と連結した回転自在な回転軸
11の先端に、導電性を有し、その上面、即ち加工面が
球面形状に形成された研削工具12が一体形成されてい
る。研削工具12はダイヤモンド粉末等の砥粒を導電性
のボンドで結合したもので、その先端は半球形状の加工
面13に形成されている。また、研削工具の外周部には
面取り部12aを設けてある。前記加工面13には対応
する形状の被加工面を有した被加工部材(ワーク)14
が当接されている。この被加工部材14は保持皿15に
よって保持されている。保持皿15の上面中央部には凹
部が形成され、凹部には棒形状でその先端が球形をした
球心16aを有するカンザシ16が係合している。カン
ザシ16の上端は加圧装置17に接続されており、加圧
装置17は揺動駆動装置18に連結保持されている。
Embodiment 1 FIG. 2 shows Embodiment 1 of the present invention. In this embodiment, a grinding tool 12 having conductivity and having a spherical upper surface, that is, a machined surface, is integrally formed at the tip of a rotatable rotary shaft 11 connected to a drive source device (not shown). There is. The grinding tool 12 is formed by bonding abrasive grains such as diamond powder with a conductive bond, and its tip is formed on a hemispherical processed surface 13. Further, a chamfered portion 12a is provided on the outer peripheral portion of the grinding tool. A processed member (work) 14 having a processed surface having a corresponding shape on the processed surface 13.
Are abutted. The member to be processed 14 is held by a holding tray 15. A recess is formed in the center of the upper surface of the holding plate 15, and a hook 16 having a spherical center 16a with a rod-shaped tip is engaged with the recess. The upper end of the kanzashi 16 is connected to the pressurizing device 17, and the pressurizing device 17 is connected and held to the swing drive device 18.

【0025】保持皿15の外周壁にはリング形状の電極
19が垂設されており、電極19の電解面19aは研削
工具12の加工面13と僅かな隙間dを有するように設
けられている。
A ring-shaped electrode 19 is vertically provided on the outer peripheral wall of the holding plate 15, and the electrolytic surface 19a of the electrode 19 is provided so as to have a slight gap d with the processing surface 13 of the grinding tool 12. .

【0026】保持皿15の近傍にはパルス電流を発生す
る直流電源20が配設されている。直流電源20の陽極
は回転軸11の外周面と接触するブラシ21を介して研
削工具12に印加されている。また、直流電源20の陰
極はカンザシ16に接続されており、保持皿15を介し
て電極19に印加されている。
A DC power source 20 for generating a pulse current is arranged near the holding plate 15. The anode of the DC power supply 20 is applied to the grinding tool 12 via a brush 21 that contacts the outer peripheral surface of the rotary shaft 11. Further, the cathode of the DC power supply 20 is connected to the kanzashi 16, and is applied to the electrode 19 via the holding dish 15.

【0027】直流電源20と前記揺動駆動装置18とは
制御装置22に接続されて、電解のON,OFFが制御
される。電極19の近傍には不図示の給水装置と連結し
たパイプ23が設けられており、電極19と研削工具1
2との隙間dにクーラント24が供給される。研削工具
の面取り部12aの被加工部材14と干渉しない側(図
中右側)には、面取り工具27が当て付けられている。
面取り工具27はダイヤモンド等の粉末の砥粒をボンド
で結合したものである。
The DC power source 20 and the swing drive device 18 are connected to a control device 22 to control ON / OFF of electrolysis. A pipe 23 connected to a water supply device (not shown) is provided near the electrode 19, and the electrode 19 and the grinding tool 1 are provided.
The coolant 24 is supplied to the gap d between the coolant 24 and the coolant. A chamfering tool 27 is applied to the side of the chamfered portion 12a of the grinding tool that does not interfere with the workpiece 14 (right side in the drawing).
The chamfering tool 27 is formed by bonding abrasive grains of powder such as diamond with a bond.

【0028】面取り工具27の側面はテーブル28を介
して、ガイド29に直線揺動可能に保持され、その揺動
は回転軸11と同方向に配設されている。また、面取り
工具27は一端を本体に固定された引張りバネ30によ
り下方に引っ張られている。さらに、面取り工具27の
被加工部材14側の面には軸25が固定されており、そ
の先端にはローラー26が回転自在に保持されており、
前記引張りバネ30によりローラー26の外周面は加工
面13に当て付けられている。
A side surface of the chamfering tool 27 is linearly swingably held by a guide 29 via a table 28, and the swing is arranged in the same direction as the rotary shaft 11. The chamfering tool 27 has one end pulled downward by a tension spring 30 fixed to the main body. Further, a shaft 25 is fixed to the surface of the chamfering tool 27 on the side of the member to be processed 14, and a roller 26 is rotatably held at its tip,
The outer peripheral surface of the roller 26 is pressed against the processing surface 13 by the tension spring 30.

【0029】上記構成において、保持皿15の揺動駆動
と研削工具12の回転駆動と同時に、研削工具12の加
工面13と電極19の電解面19aとの隙間dにクーラ
ント24を供給する。そして、直流電源20により研削
工具12と電極19とに印加した電圧によって、研削工
具12の加工面13、面取り部12aに電解が生じる。
In the above structure, the coolant 24 is supplied to the gap d between the processing surface 13 of the grinding tool 12 and the electrolytic surface 19a of the electrode 19 at the same time when the holding tray 15 is driven to swing and the grinding tool 12 is driven to rotate. Then, the voltage applied to the grinding tool 12 and the electrode 19 by the DC power supply 20 causes electrolysis on the machined surface 13 of the grinding tool 12 and the chamfered portion 12a.

【0030】研削加工中の揺動は揺動駆動装置18によ
って行われ、直流電源20による電圧の印加のタイミン
グを制御装置22が制御する。印加は、電極19の電解
面19aが研削工具12の回転中心と一致、あるいは、
その近傍のみで行われる。研削工具12の外周には面取
り部12aがあり、その分だけ電解作用の集中量が減少
される。また、引張りバネ30による引張力はローラー
26と面取り工具27をそれぞれ加工面13と面取り部
12aに当接するように作用する。この力の比率は加工
面13の磨耗量に寄与する。加工が進み、研削工具12
の磨耗が進むと、面取り部12aが減るが、この力はロ
ーラー26により面取り工具27にかかり、これにより
面取り加工が行なわれる。このとき、面取りの加工方向
はガイド29に規定され、回転軸11と同一方向に進
む。初期の面取り部12aまで加工が進むにつれて、ロ
ーラー26の方に徐々に力がかかるようになり、面取り
加工がほとんど止まる。
Oscillation during grinding is performed by the oscillation drive device 18, and the control device 22 controls the timing of voltage application by the DC power supply 20. The voltage is applied so that the electrolytic surface 19a of the electrode 19 coincides with the rotation center of the grinding tool 12, or
It is done only in the vicinity. The chamfered portion 12a is provided on the outer periphery of the grinding tool 12, and the amount of concentration of electrolytic action is reduced accordingly. The tension force of the tension spring 30 acts so that the roller 26 and the chamfering tool 27 come into contact with the machined surface 13 and the chamfered portion 12a, respectively. The ratio of this force contributes to the amount of wear of the machined surface 13. Processing progresses, grinding tool 12
The chamfered portion 12a decreases as the wear of the chamfer advances, but this force is applied to the chamfering tool 27 by the roller 26, whereby the chamfering process is performed. At this time, the processing direction of chamfering is defined by the guide 29, and proceeds in the same direction as the rotating shaft 11. As the processing proceeds to the initial chamfered portion 12a, the force is gradually applied to the roller 26, and the chamfering processing almost stops.

【0031】このような動作を継続して行うことによ
り、面取り部12aは研削工具12の寿命まで半永久的
に持続することができる。
By continuously performing such an operation, the chamfered portion 12a can last semi-permanently until the life of the grinding tool 12.

【0032】次に、研削工具12のエッジ部に集中する
電解作用の減少量について述べる。図3は研削工具12
を面取りしないときの研削工具12と電極19の部分断
面図のモデルを示し、図4は研削工具12を面取りした
ときの研削工具12と電極9の部分断面図のモデルを示
す。
Next, the reduction amount of the electrolytic action concentrated on the edge portion of the grinding tool 12 will be described. FIG. 3 shows a grinding tool 12
FIG. 4 shows a model of a partial cross-sectional view of the grinding tool 12 and the electrode 19 when the grinding tool 12 is not chamfered, and FIG. 4 shows a model of a partial cross-sectional view of the grinding tool 12 and the electrode 9 when the grinding tool 12 is chamfered.

【0033】図3において、研削工具12の加工面13
の曲率半径をR0 、研削工具12の工具径をDとする。
研削工具12の外周エッジ部(K点)の電解作用は電極
19のGH間との間で起こる。電極19上のG点は曲率
中心O1 からK点を通る線分の延長上の交点であり、H
点は回転軸11に対して垂直な線で、K点を通る線分の
延長上の交点である。H点より外側の電解面19aの各
点は研削工具12の外周面が最短距離にある通電部とな
る。しかし、クーラント24はこの間に介在しているこ
とが前提条件であり、クーラント24が介在しない場
合、各点もK点に集中することになる。また、作用して
も隙間が広いこと、作用が分散することにより影響は少
ない。
In FIG. 3, the machined surface 13 of the grinding tool 12
Let R 0 be the radius of curvature, and D be the tool diameter of the grinding tool 12.
The electrolytic action at the outer peripheral edge (point K) of the grinding tool 12 occurs between the GH of the electrode 19. A point G on the electrode 19 is an intersection point on an extension of a line segment passing from the center of curvature O 1 to the point K, and H
The point is a line perpendicular to the rotation axis 11 and is an intersection point on an extension of a line segment passing through the point K. At each point on the electrolytic surface 19a outside the point H, the outer peripheral surface of the grinding tool 12 becomes a current-carrying portion having the shortest distance. However, it is a precondition that the coolant 24 is interposed therebetween, and when the coolant 24 is not interposed, each point is also concentrated at the K point. Further, even if it acts, it is less affected by the wide gap and the action being dispersed.

【0034】GHを算出する。K点から回転軸11に垂
線を下ろし、回転軸11の軸線との交点をT点とし、回
転軸11の軸上の電解面19aとの交点をO2 とした場
合、数1となる。
GH is calculated. When a perpendicular line is drawn from the point K to the rotating shaft 11 and the intersection with the axis of the rotating shaft 11 is T and the intersection with the electrolytic surface 19a on the axis of the rotating shaft 11 is O 2 , the formula 1 is obtained.

【0035】[0035]

【数1】 [Equation 1]

【0036】今、KT=D/2、O1 K=R0 より数1
は数2および数3となる。
Now, from KT = D / 2, O 1 K = R 0 , Equation 1
Becomes equations 2 and 3.

【0037】[0037]

【数2】 [Equation 2]

【0038】[0038]

【数3】 [Equation 3]

【0039】また、数4が成立する。Further, the equation 4 is established.

【0040】[0040]

【数4】 [Equation 4]

【0041】そして、KT=D/2、O1 H=R0 +d
および数3より数4は数5となる。
Then, KT = D / 2, O 1 H = R 0 + d
From Equation 3 and Equation 4, Equation 4 becomes Equation 5.

【0042】[0042]

【数5】 [Equation 5]

【0043】また、HTは数6により算出される。HT is calculated by the equation 6.

【0044】[0044]

【数6】 [Equation 6]

【0045】∠O2 1 H=θ2 、∠O2 1 G=θ1
とすると、数7となる。
∠O 2 O 1 H = θ 2 , ∠O 2 O 1 G = θ 1
Then, Equation 7 is obtained.

【0046】[0046]

【数7】 [Equation 7]

【0047】GH=HO2 −GO2 なので、GHは数8
により算出される。
Since GH = HO 2 −GO 2 , GH is given by
Is calculated by

【0048】[0048]

【数8】 [Equation 8]

【0049】したがって、このGHの長さは曲率半径R
0 と工具径Dおよび電極19と加工面13との隙間dに
よって決まる。次に、研削工具を面取りしたときの電解
作用の集中量について示す。図4は工具径はD+の面取
りしろであり、K点における接線よりθ3 の角度で面取
りしたものである。
Therefore, the length of this GH is the radius of curvature R
It is determined by 0 , the tool diameter D, and the gap d between the electrode 19 and the processing surface 13. Next, the amount of concentration of electrolytic action when the grinding tool is chamfered will be shown. In FIG. 4, the tool diameter is a chamfering margin of D +, which is chamfered at an angle of θ 3 from the tangent line at the point K.

【0050】G点より外側の電解面19aで、K点が最
短距離にある点は、K点より面取りした線(面)に対し
て垂直に延ばしたときの電解面19aとの交点(I点)
である。I点より外側ではK点よりも面取りした線
(面)のほうが最短距離にある。故に、K点に集中する
のはこのGI間の範囲である。
On the electrolytic surface 19a outside the point G, the point at which the point K is at the shortest distance is the intersection point (point I) with the electrolytic surface 19a when it is extended perpendicularly to the chamfered line (plane) from the point K. )
Is. Outside the point I, the chamfered line (face) is at the shortest distance than the point K. Therefore, it is the range between the GIs that concentrates on the K point.

【0051】隙間dは曲率半径R0 と比較して非常に小
さい。したがって、GIはGI=d×sin(θ3 )に
近似できる。
The gap d is much smaller than the radius of curvature R 0 . Therefore, GI can be approximated to GI = d × sin (θ 3 ).

【0052】例えば、曲率半径R0 =100mm、隙間
d=0.1mm、面取り角θ3 =20度の場合における
外周エッジ部(K点)に集中する電解量と工具径Dとの
関係を図5に示す。この図より面取りを行った場合、面
取りを行わない場合よりも電解の集中量が減少している
のがわかる。この図の中で、実際に工具径Dが50mm
のとき、面取りの有無の比較を行った。その結果、図6
に示すように面取りしていないときは被加工部材14に
深い傷が入っていた。これに対して面取りしたときは図
7に示すように傷がほとんど見られなかった。また、被
加工部材14の形状変化も面取りしていないときに比べ
て少なかった。
For example, when the radius of curvature R 0 = 100 mm, the gap d = 0.1 mm, and the chamfering angle θ 3 = 20 degrees, the relationship between the amount of electrolysis concentrated at the outer peripheral edge (point K) and the tool diameter D is shown. 5 shows. From this figure, it can be seen that the concentration of electrolysis is smaller when chamfering is performed than when chamfering is not performed. In this figure, the tool diameter D is actually 50 mm
At that time, the presence or absence of chamfering was compared. As a result, FIG.
When the chamfering is not performed, the member 14 to be processed had deep scratches as shown in FIG. On the other hand, when chamfered, scars were scarcely seen as shown in FIG. Further, the change in shape of the member to be processed 14 was smaller than that when the member 14 was not chamfered.

【0053】このように、面取りを行うことにより研削
工具の外周に集中する電解作用が減り、形状が維持さ
れ、被加工部材の精度が維持できる。また、砥粒等の脱
落量が減るので、砥粒転動による深い傷が入るのを防止
できる。また、面取り工具27における面取り部12a
との接触面を球面にしても同様な効果が得られる。さら
に、図8に示すように、研削工具12の加工面13が凹
形状のときは面取り工具の傾き(θ)と、ローラー26
を調整することにより同様な効果が得られる。
By chamfering in this manner, the electrolytic action concentrated on the outer periphery of the grinding tool is reduced, the shape is maintained, and the accuracy of the workpiece can be maintained. Further, since the amount of abrasive grains and the like that fall off is reduced, it is possible to prevent deep scratches due to rolling of the abrasive grains. In addition, the chamfered portion 12a of the chamfering tool 27
Even if the contact surface with is spherical, the same effect can be obtained. Further, as shown in FIG. 8, when the processing surface 13 of the grinding tool 12 is concave, the inclination (θ) of the chamfering tool and the roller 26
The same effect can be obtained by adjusting.

【0054】[0054]

【実施例2】図9は実施例2を示す正面図である。本実
施例は、実施例1における面取り工具27を設けること
なく、円盤状のリング工具37を加工面13に当て付け
ている。このリング工具37は軸受38を介して保持具
39に回転自在に保持されている。保持具はテーブル2
8に固定され、また、ローラー26を回転自在に保持し
た軸25を保持具39に固定した点が実施例1と異な
り、他の構成は実施例1と同一の構成部分から成るもの
で同一構成部品には同一番号を付し、その説明を省略す
る。
Second Embodiment FIG. 9 is a front view showing a second embodiment. In this embodiment, the disc-shaped ring tool 37 is applied to the processing surface 13 without providing the chamfering tool 27 in the first embodiment. The ring tool 37 is rotatably held by a holder 39 via a bearing 38. The holder is table 2
8 and is different from the first embodiment in that the shaft 25 holding the roller 26 rotatably is fixed to the holder 39, and the other configurations are the same as those of the first embodiment. The same numbers are given to the parts, and the description thereof is omitted.

【0055】本実施例におけるリング工具37は面取り
部12aとの対向面にダイヤモンド等の粉末をボンドで
結合させたものであり、この面と面取り部12aとの連
れ回りにより面取り加工が行われる。この面取り加工は
ローラー26と加工面との当たり具合により調整さされ
るので、面取り部12aの面積を維持できる。本実施例
1では面取り加工が面取り部12aとリング工具37と
の連れ回りであるため、研削工具12の高速回転時にも
発熱の増加、振動の増加等が防止でき、リング工具37
の寿命が延びる。
The ring tool 37 in this embodiment is formed by bonding powder of diamond or the like to the surface facing the chamfered portion 12a by a bond, and the chamfering process is carried out by rotating the chamfered portion 12a with this surface. This chamfering process is adjusted depending on how the roller 26 hits the processed surface, so that the area of the chamfered portion 12a can be maintained. In the first embodiment, since the chamfering process is accompanied by the chamfering portion 12a and the ring tool 37, it is possible to prevent an increase in heat generation and an increase in vibration even when the grinding tool 12 rotates at a high speed.
Extends the life of.

【0056】[0056]

【実施例3】図10は実施例3を示す正面図である。本
実施例は実施例2におけるリング工具27を設けること
なく、カップ型研削工具47を加工面13に当て付け、
モーター48によりカップ型研削工具47を回転自在に
した点が異なり、他の構成は同一の構成部分から成るも
ので同一構成部品には同一番号を付し、その説明を省略
する。
Third Embodiment FIG. 10 is a front view showing a third embodiment. In the present embodiment, the cup-type grinding tool 47 is applied to the processing surface 13 without providing the ring tool 27 in the second embodiment,
The difference is that the cup-type grinding tool 47 can be freely rotated by a motor 48, and the other components are the same components. The same components are designated by the same reference numerals and the description thereof is omitted.

【0057】本実施例におけるカップ型研削工具47は
面取り部12aとの対向面にダイヤモンド等の粉末をボ
ンドで結合させたものであり、モーター48を駆動源と
した強制回転により面取り部12aを面取り加工する。
また、面取り部12aとの接触(加工)は手前側と向こ
う側の2ヵ所になる。
The cup-type grinding tool 47 in this embodiment has a powder such as diamond bonded to the surface facing the chamfered portion 12a by a bond, and the chamfered portion 12a is chamfered by forced rotation using a motor 48 as a drive source. To process.
Further, the contact (processing) with the chamfered portion 12a is made at two positions, the front side and the other side.

【0058】本実施例によれば、強制的に面取り加工を
行うので、加工能率が高い。このため、研削工具12の
磨耗が速く、高速面取り加工が必要なときに有効であ
る。また、カップ型研削工具47と研削工具12との接
触点にクーラントを供給すると、加工クズの除去がさら
に確実となる。
According to this embodiment, since the chamfering is forcibly performed, the working efficiency is high. Therefore, the grinding tool 12 is worn quickly and is effective when high-speed chamfering is required. Further, when the coolant is supplied to the contact point between the cup-type grinding tool 47 and the grinding tool 12, the removal of machining scraps is further ensured.

【0059】[0059]

【実施例4】図11は実施例4の正面図、図12は棒状
工具の拡大図である。本実施例において、実施例1と同
一構成部品については同一番号を付し、その説明を省略
する。
Fourth Embodiment FIG. 11 is a front view of the fourth embodiment, and FIG. 12 is an enlarged view of a rod-shaped tool. In the present embodiment, the same components as those of the first embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0061】本実施例は、絶縁性を有する多数の棒状工
具57が電極19の外周面に保持され、従属回転側(図
中右側面)には砥粒が埋め込まれている(図12)。ま
た、棒状工具57の先端には潤滑性に優れた突起部材5
9が保持され、従属回転側(図中右側面)に突き出るよ
うに設定されている。また、研削工具12を半球形状
(凸形状)から平面形状に変更した。
In this embodiment, a large number of insulating rod-shaped tools 57 are held on the outer peripheral surface of the electrode 19, and abrasive grains are embedded in the subordinate rotation side (right side surface in the figure) (FIG. 12). In addition, the tip of the rod-shaped tool 57 has a protruding member 5 excellent in lubricity.
9 is held and is set to project to the subordinate rotation side (right side surface in the drawing). Further, the grinding tool 12 was changed from a hemispherical shape (convex shape) to a planar shape.

【0062】加工を開始すると、研削工具12の加工面
13との相対速度差により被加工部材14が従属回転す
る。これに連動して保持皿15、電極19、棒状工具5
7も回転する。このとき、棒状工具57は面取り部12
aと接触し、砥粒58で面取り加工を行う。その後、棒
状工具57が加工面13上まで回転すると、突起部材5
9が加工面13と接触し、棒状工具57は加工面13上
を非接触で回転し、砥粒58による加工面13への加工
を防止する。
When the machining is started, the workpiece 14 is subordinately rotated due to the relative speed difference between the grinding tool 12 and the machining surface 13. In conjunction with this, the holding pan 15, the electrode 19, the rod-shaped tool 5
7 also rotates. At this time, the bar-shaped tool 57 moves the chamfer 12
The chamfering process is performed with the abrasive grains 58 in contact with a. After that, when the rod-shaped tool 57 rotates up to the machining surface 13, the protruding member 5
9 contacts the machining surface 13, and the rod-shaped tool 57 rotates on the machining surface 13 in a non-contact manner to prevent machining on the machining surface 13 by the abrasive grains 58.

【0063】また、被加工部材14の厚みが一定なら
ば、研削工具12が磨耗しても、保持皿15がそれに追
従するので、面取り加工が制御できる。本実施例によれ
ば、工具が保持皿に固定されているので、極めて簡単に
面取り加工を行うことができる。また、突起部材を回転
体にしてもよい。
Further, if the thickness of the member to be processed 14 is constant, even if the grinding tool 12 is worn, the holding plate 15 follows it, so that chamfering can be controlled. According to this embodiment, since the tool is fixed to the holding tray, chamfering can be performed extremely easily. Further, the protruding member may be a rotating body.

【0064】[0064]

【実施例5】図13は実施例5を示す正面図である。本
実施例において実施例1と同一の構成部品には同一番号
を付し、その説明を省略する。本実施例は、回転軸11
の上面には、工具台座60が保持され、その上面は平面
形状になっている。この面には、面取りした多数のペレ
ット工具61が貼付けられている。ペレット工具61の
上面形状は被加工部材11と対向する同一形状となって
いる。
Fifth Embodiment FIG. 13 is a front view showing a fifth embodiment. In the present embodiment, the same components as those of the first embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. In this embodiment, the rotary shaft 11
A tool pedestal 60 is held on the upper surface of, and the upper surface has a planar shape. A large number of chamfered pellet tools 61 are attached to this surface. The upper surface of the pellet tool 61 has the same shape as that of the workpiece 11.

【0065】本実施例によれば、工具寿命まで面取りさ
れているので、面取り加工をおこなう必要がない。ま
た、本実施例では、平面形状のペレット工具を用いた
が、球面形状でも同様な効果が得られる。以上電極形
状、加工方式が異なった場合についても、研削工具のエ
ッジ部に電解が集中するときには同様な効果が得られ
る。
According to this embodiment, since the tool is chamfered until the end of its service life, it is not necessary to carry out chamfering. Further, in the present embodiment, the flat-shaped pellet tool is used, but the same effect can be obtained even with the spherical shape. Even when the electrode shape and the processing method are different, similar effects can be obtained when the electrolysis is concentrated on the edge portion of the grinding tool.

【0066】[0066]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
研削工具のエッジ部に電解が集中することを防止するこ
とにより、研削工具の形状を維持し、脱落した砥粒の転
動による傷発生を防止することができる。
As described above, according to the present invention,
By preventing the electrolysis from concentrating on the edge part of the grinding tool, it is possible to maintain the shape of the grinding tool and prevent the occurrence of scratches due to the rolling of the dropped abrasive grains.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の基本構成の正面図。FIG. 1 is a front view of the basic configuration of the present invention.

【図2】実施例1の正面図。FIG. 2 is a front view of the first embodiment.

【図3】実施例1の加工を示す部分正面図。FIG. 3 is a partial front view showing the processing of the first embodiment.

【図4】実施例1の加工を示す部分正面図。FIG. 4 is a partial front view showing the processing of the first embodiment.

【図5】電解量と工具径の特性図。FIG. 5 is a characteristic diagram of the amount of electrolysis and the tool diameter.

【図6】傷を示す特性図。FIG. 6 is a characteristic diagram showing a scratch.

【図7】傷がない場合の特性図。FIG. 7 is a characteristic diagram when there is no scratch.

【図8】実施例1の変形例の正面図。FIG. 8 is a front view of a modified example of the first embodiment.

【図9】実施例2の正面図。FIG. 9 is a front view of the second embodiment.

【図10】実施例3の正面図。FIG. 10 is a front view of the third embodiment.

【図11】実施例4の正面図。FIG. 11 is a front view of the fourth embodiment.

【図12】実施例4の拡大図。FIG. 12 is an enlarged view of the fourth embodiment.

【図13】実施例5の正面図。FIG. 13 is a front view of the fifth embodiment.

【図14】従来装置の正面図。FIG. 14 is a front view of a conventional device.

【図15】従来装置の研削の平面図。FIG. 15 is a plan view of grinding of a conventional device.

【図16】従来装置の研削を説明する図。FIG. 16 is a diagram illustrating grinding of a conventional device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 導電性研削工具 2 面取り工具 3 調整部材 4 被加工部材 5 電極 6 クーラント 1 Conductive grinding tool 2 Chamfering tool 3 Adjusting member 4 Workpiece member 5 Electrode 6 Coolant

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被加工部材を保持する電極を陰極とする
と共に、回転する導電性研削工具を陽極とし、導電性研
削工具と電極との間にクーラントを供給しながら加工す
る研削方法において、前記導電性研削工具における被加
工部材側の外周エッジ部を面取りすると共に、この面取
り量を導電性研削工具の磨耗に合わせて調整することを
特徴とする電解インプロセスドレッシング研削方法。
1. A grinding method in which an electrode holding a member to be processed is used as a cathode, a rotating conductive grinding tool is used as an anode, and working is performed while supplying a coolant between the conductive grinding tool and the electrode. An electrolytic in-process dressing grinding method, which comprises chamfering an outer peripheral edge portion of a conductive grinding tool on the side of a workpiece, and adjusting the chamfering amount according to wear of the conductive grinding tool.
【請求項2】 被加工部材を保持すると共に陰極に印加
された電極と、回転により被加工部材を研削すると共に
陽極に印加された導電性研削工具と、この導電性研削工
具と電極との間にクーラントを供給するクーラント供給
手段と、前記導電性研削工具における被加工部材側の外
周エッジ部に接触して外周エッジ部を面取りする面取り
工具と、前記導電性研削工具と接触した状態で面取り工
具の面取り量を調整する調整部材とを備えていることを
特徴とする電解インプロセスドレッシング研削装置。
2. An electrode that holds a work piece and is applied to a cathode, a conductive grinding tool that grinds a work piece by rotation and is applied to an anode, and between the conductive grinding tool and the electrode. A coolant supply means for supplying a coolant to the chamfering tool, a chamfering tool that chamfers the outer peripheral edge portion by contacting the outer peripheral edge portion of the conductive grinding tool on the workpiece side, and a chamfering tool in contact with the conductive abrasive tool. And an adjusting member for adjusting the chamfering amount of the electrolytic in-process dressing grinding apparatus.
【請求項3】 被加工部材を保持すると共に陰極に印加
された電極と、陽極に印加され回転する回転体と、外周
が面取りされた形状に成形されて回転体に取付けられ被
加工部材を研削する研削ペレットと、この研削ペレット
と被加工部材との間にクーラントを供給するクーラント
供給手段とを備えている事を特徴とする電解インプロセ
スドレッシング研削装置。
3. An electrode applied to a cathode while holding a member to be processed, a rotating body which is rotated to be applied to an anode, and a chamfered outer periphery which is attached to the rotating body to grind the processed member. An electrolytic in-process dressing grinding apparatus, comprising: an abrasive pellet to be used; and a coolant supply means for supplying a coolant between the abrasive pellet and a workpiece.
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