JPH07204547A - Liquid treating device for thin plate member - Google Patents

Liquid treating device for thin plate member

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Publication number
JPH07204547A
JPH07204547A JP2309294A JP2309294A JPH07204547A JP H07204547 A JPH07204547 A JP H07204547A JP 2309294 A JP2309294 A JP 2309294A JP 2309294 A JP2309294 A JP 2309294A JP H07204547 A JPH07204547 A JP H07204547A
Authority
JP
Japan
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work
liquid
liq
cleaning
conveyor
Prior art date
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Pending
Application number
JP2309294A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Fukuda
浩 福田
Junichi Hashimoto
純一 橋本
Kazuhiko Kenmori
和彦 権守
Nobuo Morita
宣夫 森田
Hisayoshi Ichikawa
久賀 市川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority to JP2309294A priority Critical patent/JPH07204547A/en
Publication of JPH07204547A publication Critical patent/JPH07204547A/en
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  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent a formation of a liq. film on the surface of a work at executing a liq. treatment executed by supplying a washing liq. or other liq. to the work while transporting the work by a conveyor. CONSTITUTION:The conveyor 11 transporting the work 1 is provided at an inside of a washing chamber 10, and plural spraying nozzles 12 consisting of a liq. circulating pipe 12a and a liq. spraying member 12b provided at plural places are provided in a transport direction of the work at a top position at a midway of the conveyor. In the conveyor, a pair of a roller 14 is fitted to a rotary shaft 13 arranged in a specific pitch interval, and a pulley 15 is fitted at an end part of the rotary shaft, and a belt driven by a motor 16 is wrapped to the pulley. A supporting plates 18 and 18' bearing freely rotatably both sides of each rotary shaft is provided fixedly to an inclined base 19 including at an angle theta to an orthogonal direction with a transport direction of the work.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板等のよう
に、平板状の薄板部材からなるワークを洗浄したり、そ
の他の処理を行ったりするために、このワークに向けて
液を噴射することによって、シャワリングを行う薄板部
材の液処理装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention sprays a liquid onto a work such as a glass substrate for cleaning a work made of a flat plate-like thin plate member or performing other processing. Thus, the present invention relates to a thin plate member liquid processing apparatus that performs showering.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、ガラス基板に配線パターンを形
成するには、まずこのガラス基板を洗浄し、次いでフォ
トレジスト膜をコーティングして、このフォトレジスト
膜を露光・硬化させ、その後に余分のフォトレジスト膜
を溶剤で洗い流すようにして除去し、さらに再び洗浄を
行う等といったプロセスを経る必要がある。ここで、ガ
ラス基板の洗浄及びフォトレジスト膜の剥離の各プロセ
スは、洗浄液や溶剤に浸漬させて行う場合もあるが、近
年においては、処理効率の向上及び完全自動化を図るた
め等の観点から連続方式が採用されるようになってきて
いる。この連続方式は、前述したガラス基板等のワーク
をコンベアからなる搬送手段に載置して所定の方向に搬
送する間に、噴射ノズルによって洗浄液や溶剤等の液体
をシャワリングする方式である。
2. Description of the Related Art For example, in order to form a wiring pattern on a glass substrate, the glass substrate is first washed, then a photoresist film is coated, the photoresist film is exposed and cured, and then an extra photoresist is applied. It is necessary to remove the resist film by rinsing it with a solvent, and then wash it again. Here, each process of cleaning the glass substrate and peeling the photoresist film may be carried out by immersing in a cleaning liquid or a solvent, but in recent years, it has been continuously performed from the viewpoint of improving the processing efficiency and achieving complete automation. The method is being adopted. This continuous method is a method of showering a liquid such as a cleaning liquid or a solvent with an injection nozzle while the work such as the glass substrate described above is placed on a conveying means including a conveyor and conveyed in a predetermined direction.

【0003】従来技術においては、ワークはコンベア上
で水平に載置して搬送するようになし、このコンベアに
よるワークの搬送路の上部位置に複数本の噴射ノズルを
配置することによって、所定の区間にわたって連続的に
洗浄液等をワークの表面に向けて噴射するように構成し
たものが用いられている。
In the prior art, a work is placed horizontally on a conveyer so as to be conveyed, and a plurality of injection nozzles are arranged at an upper position of the convey path of the work by this conveyer, so that a predetermined section is formed. The cleaning liquid is continuously sprayed toward the surface of the work.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、前述したよ
うに、ワークを水平状態に配置した状態で、上方から洗
浄液等を噴射させると、ワークの表面に液が滞留して、
液膜が形成されることになる。このように液膜が形成さ
れると、その上から液を噴射させてもワークには噴射圧
が直接作用せず、このために噴射ノズルを配置した区間
を長く取ったとしても、あまり洗浄効果を向上させるこ
とはできない。しかも、次の工程に移行する際に、ワー
ク上に滞留した液がこの次工程に持ち込まれることにな
り、次工程における処理に対して悪影響を及ぼすと共
に、当該の工程において、液を回収して再利用する場合
において、液損が生じることになる等といった欠点があ
る。従って、次工程に液を持ち込まないようにするため
には、当該の処理工程と次工程との間にワークの表面に
溜った液を排出するための機構を設けなければならず、
このために装置構成が大型化すると共に、処理ラインが
長くなってしまう等という不都合が生じる。
By the way, as described above, when the cleaning liquid or the like is sprayed from above in a state where the work is arranged horizontally, the liquid stays on the surface of the work,
A liquid film will be formed. When the liquid film is formed in this way, the injection pressure does not act directly on the work even if the liquid is sprayed from above, so even if the section in which the injection nozzle is arranged is taken long, the cleaning effect will not be so great. Can not be improved. Moreover, when moving to the next process, the liquid retained on the work is brought into this next process, which adversely affects the processing in the next process, and the liquid is recovered in the relevant process. When reused, there are drawbacks such as liquid loss. Therefore, in order to prevent the liquid from being brought into the next process, a mechanism for discharging the liquid accumulated on the surface of the work must be provided between the treatment process and the next process.
For this reason, there arises inconvenience that the apparatus structure becomes large and the processing line becomes long.

【0005】本発明は以上の点に鑑みてなされたもので
あって、その目的とするところは、ワークに液処理を行
うに当って、ワークの表面に液膜が形成されるのを防止
できるようにすることにある。
The present invention has been made in view of the above points, and it is an object of the present invention to prevent a liquid film from being formed on the surface of a work during the liquid treatment of the work. To do so.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明は、平板状の薄板部材からなるワークを
搬送手段に沿って搬送する間に、上方位置に設けた噴射
ノズルから液を噴射させて、ワークに対してシャワリン
グすることにより所定の処理を行うものであって、その
搬送手段をワークの搬送方向と直交する方向に一定の角
度傾斜させることによって、ワークが傾いた状態で搬送
する構成としたことをその特徴とするものである。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a liquid from an injection nozzle provided at an upper position while a work made of a flat plate-like thin plate member is carried along a carrying means. Is performed and the predetermined processing is performed by showering the work, and the work is tilted by inclining the carrying means at a constant angle in a direction orthogonal to the work carrying direction. It is characterized by being configured to be transported by.

【0007】[0007]

【作用】ワークを傾斜させることによって、ワークに向
けて液をシャワリングを行った時に、この液はワークに
接触した後に、速やかにその傾斜に沿って流下する。従
って、ワークの表面には常に新たな液が所定の噴射圧を
もって供給されるようになり、洗浄等の処理を極めて高
い効率で行うことができる。そして、液供給部を通過し
て、液の供給が断たれた直後には、ワーク上に液は殆ど
残らないようになり、そのまま次の工程に搬入しても、
液が次工程に持ち込まれることはなく、この次工程で処
理を行うに当って、液の持ち込みによる悪影響が及ぶの
を防止できる。また、液を回収して再利用する場合にお
いて、液損が生じるのを防止できるようになる。
By tilting the work, when the liquid is showered toward the work, the liquid quickly flows down along the tilt after contacting the work. Therefore, new liquid is constantly supplied to the surface of the work with a predetermined injection pressure, and the processing such as cleaning can be performed with extremely high efficiency. Immediately after the liquid supply is cut off after passing through the liquid supply unit, almost no liquid remains on the work, and even if it is carried into the next step as it is,
The liquid is not brought to the next step, and it is possible to prevent the adverse effect due to the bringing of the liquid when performing the treatment in the next step. Further, when the liquid is collected and reused, it becomes possible to prevent the liquid loss.

【0008】[0008]

【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明
する。まず、図1において、1はガラス基板等のよう
に、平板状の薄板部材からなるワークであって、このワ
ーク1は、その表面に洗浄液をシャワリングすることに
より洗浄する処理が行われる。このために、洗浄チャン
バ10が設けられており、この洗浄チャンバ10内に
は、ワーク1を搬送するコンベア11が設けられると共
に、このコンベア11の途中における上部位置に、液流
通パイプ12aと、この液流通パイプ12aの軸線方向
に複数箇所設けた液噴射部材12bとからなる噴射ノズ
ル12はワーク1の搬送方向に複数本設けられている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, in FIG. 1, reference numeral 1 denotes a work made of a flat plate-like thin plate member such as a glass substrate, and the work 1 is washed by showering a cleaning liquid on its surface. For this purpose, a cleaning chamber 10 is provided, and a conveyor 11 for conveying the work 1 is provided in the cleaning chamber 10, and a liquid distribution pipe 12a and a liquid distribution pipe 12a are provided at an upper position in the middle of the conveyor 11. A plurality of injection nozzles 12 each including a liquid injection member 12b provided at a plurality of positions in the axial direction of the liquid flow pipe 12a are provided in the conveyance direction of the work 1.

【0009】コンベア11は、図2及び図3に示したよ
うに、所定のピッチ間隔をもって配置した回転軸13に
一対のローラ14を装着すると共に、この回転軸13の
端部にプーリ15を装着してなるものであって、このプ
ーリ15にはモータ16により駆動されるベルト17が
巻回されており、このモータ16によって全てのローラ
14が回転駆動されるようになっている。そして、ロー
ラ14は円形の本体部14aの片側に鍔部14aが連設
されており、ワーク1の端部はこの鍔部14aにガイド
されるようになっている。また、本体部14aには摩擦
力の大きなゴムリング14cが装着されており、ワーク
1はこのゴムリング14cに係合して、図2の矢印方向
に送られるようになっている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the conveyor 11 has a pair of rollers 14 mounted on a rotary shaft 13 arranged at a predetermined pitch and a pulley 15 mounted on the end of the rotary shaft 13. A belt 17 driven by a motor 16 is wound around this pulley 15, and all the rollers 14 are rotationally driven by the motor 16. The roller 14 has a flange 14a continuously provided on one side of a circular main body 14a, and the end of the work 1 is guided by the flange 14a. Further, a rubber ring 14c having a large frictional force is attached to the main body portion 14a, and the work 1 is engaged with the rubber ring 14c and is fed in the direction of the arrow in FIG.

【0010】ここで、各回転軸13の両側部は支持プレ
ート18,18に回転自在に支承されるが、この左右の
支持プレート18,18は傾斜基台19に固定して設け
られている。この傾斜基台19はワーク1の搬送方向と
直交する方向に角度θ傾斜しており、このためにワーク
1は左右に傾いた状態で搬送されることになる。このよ
うにワーク1が傾いた状態で搬送される際に、このワー
ク1の位置ずれを防止するために、傾斜における下方側
に位置する前後のローラ14,14間の位置にはガイド
ローラ20が回転自在に設けられており、ワーク1をこ
のガイドローラ20にガイドさせることによって、安定
した状態で真直ぐに搬送されるようになる。
Here, both sides of each rotary shaft 13 are rotatably supported by support plates 18 and 18, and the left and right support plates 18 and 18 are fixedly provided on an inclined base 19. The inclined base 19 is inclined at an angle θ in a direction orthogonal to the conveying direction of the work 1, so that the work 1 is conveyed in a state of being inclined left and right. Thus, when the work 1 is conveyed in an inclined state, the guide roller 20 is provided at a position between the front and rear rollers 14 and 14 located on the lower side in the inclination in order to prevent the work 1 from being displaced. The work 1 is rotatably provided, and by guiding the work 1 by the guide roller 20, the work 1 is conveyed straight in a stable state.

【0011】また、ワーク1の搬送経路において、噴射
ノズル12の液噴射部材12bからの洗浄液が供給され
る部位では、表面に洗浄液が供給されて、滑り易くなっ
ているので、ローラ14のみでは必ずしも円滑に搬送で
きない。そこで、ワーク1の上面に当接する押えローラ
21,21がローラ14,14に対面するように配置さ
れており、この押えローラ21にもゴムリング22が装
着されている。これによって、ワーク1はローラ14の
ゴムリング14cと押えリング21のゴムリング22と
に挾持されることになって、十分な摩擦力が発揮され
て、安定した駆動力を発揮させるようになる。ローラ1
4と押えローラ21とは、同期して相互に反対方向に回
転させる必要があり、このためにこれらローラ14及び
押えローラ21にはそれぞれギア23,24を連設し、
これら両ギア23,24を噛合させることによって、ロ
ーラ14側のギア23から押えローラ21側のギア24
に回転力を伝達するようにしている。
Further, in the portion where the cleaning liquid is supplied from the liquid injection member 12b of the injection nozzle 12 in the conveyance path of the work 1, the cleaning liquid is supplied to the surface and becomes slippery. It cannot be transported smoothly. Therefore, the pressing rollers 21 and 21 which are in contact with the upper surface of the work 1 are arranged so as to face the rollers 14 and 14, and the pressing roller 21 is also provided with the rubber ring 22. As a result, the work 1 is sandwiched between the rubber ring 14c of the roller 14 and the rubber ring 22 of the pressing ring 21, so that a sufficient frictional force is exerted and a stable driving force is exerted. Laura 1
4 and the pressing roller 21 must be synchronously rotated in opposite directions. For this reason, gears 23 and 24 are connected to the roller 14 and the pressing roller 21, respectively.
By engaging these two gears 23, 24, the gear 23 on the roller 14 side to the gear 24 on the pressing roller 21 side
The rotation force is transmitted to.

【0012】さらに、噴射ノズル12から噴射された洗
浄液を回収して、再利用するようになっており、このた
めに傾斜基台19の下方の端部には樋25が設けられて
おり、この樋25には洗浄液回収配管26が接続されて
いる。そして、この洗浄液回収配管26の途中にはフィ
ルタ27が設けられており、このフィルタ27によって
異物その他の汚損物質が除去されるようになっており、
また洗浄液回収配管26の他端には貯留タンク28が接
続されている。さらに、この貯留タンク28と噴射ノズ
ル12の液流通パイプ12aとの間には、ポンプ29を
設けた洗浄液供給配管30が接続されている。
Furthermore, the cleaning liquid sprayed from the spray nozzle 12 is collected and reused. For this purpose, a gutter 25 is provided at the lower end of the inclined base 19, and A cleaning liquid recovery pipe 26 is connected to the gutter 25. A filter 27 is provided in the middle of the cleaning liquid recovery pipe 26, and foreign matter and other pollutants are removed by the filter 27.
A storage tank 28 is connected to the other end of the cleaning liquid recovery pipe 26. Further, a cleaning liquid supply pipe 30 provided with a pump 29 is connected between the storage tank 28 and the liquid flow pipe 12a of the injection nozzle 12.

【0013】本実施例は以上のように構成されるもので
あって、ワーク1はコンベア11におけるローラ14上
に載置されて、モータ16を作動させることによって、
ワーク1は傾斜した状態で搬送され、洗浄チャンバ10
内に送り込まれる。そして、この洗浄チャンバ10内に
設けた噴射ノズル12の配設位置まで到達すると、噴射
ノズル12から噴射される洗浄液がワーク1に供給され
て、このワーク1の表面がシャワー洗浄される。ここ
で、ワーク1は傾斜しているために、ワーク1に供給さ
れた洗浄液は、直ちにこのワーク1の傾斜に沿うように
流下することになる。この結果、ワーク1の上に液が溜
ることがないので、噴射ノズル12を設けた洗浄区間の
全体において、ワーク1の表面には常に新たな洗浄液が
所定の噴射圧をもって供給されることになり、洗浄効率
は極めて良好となる。
The present embodiment is constructed as described above, and the work 1 is placed on the roller 14 of the conveyor 11 and the motor 16 is operated to operate the work 1.
The work 1 is conveyed in an inclined state, and the cleaning chamber 10
Sent in. When the spray nozzle 12 provided in the cleaning chamber 10 is reached, the cleaning liquid sprayed from the spray nozzle 12 is supplied to the work 1 and the surface of the work 1 is shower cleaned. Here, since the work 1 is inclined, the cleaning liquid supplied to the work 1 immediately flows down along the inclination of the work 1. As a result, since the liquid does not accumulate on the work 1, new cleaning liquid is always supplied to the surface of the work 1 with a predetermined injection pressure in the entire cleaning section provided with the injection nozzle 12. The cleaning efficiency is extremely good.

【0014】噴射ノズル12から供給される洗浄液によ
る洗浄が終了すると、直ちにワーク1の表面から洗浄液
が排出されることになるから、ワーク1が洗浄チャンバ
10から出る時には、このワーク1上には殆ど洗浄液が
付着していない状態となる。従って、ワーク1が次工程
に移行する前の段階で、ワーク1には洗浄液が排出され
るので、次工程に入る前にワーク1上に溜った洗浄液を
排出するための操作を行う機構を設ける必要がなくな
り、装置構成が簡略化されると共に、この洗浄工程から
次工程への間隔を極めて短くすることができる。
When the cleaning with the cleaning liquid supplied from the jet nozzle 12 is completed, the cleaning liquid is immediately discharged from the surface of the work 1. Therefore, when the work 1 exits from the cleaning chamber 10, almost all of the work 1 remains on the work 1. The cleaning liquid is not attached. Therefore, since the cleaning liquid is discharged to the work 1 before the work 1 moves to the next process, a mechanism for performing an operation for discharging the cleaning liquid accumulated on the work 1 before the next process is provided. It is not necessary, the apparatus configuration is simplified, and the interval from this cleaning step to the next step can be made extremely short.

【0015】また、洗浄液はワーク1に供給した後に、
洗浄液を貯留タンク28に回収して再利用するようにな
っているが、洗浄液が洗浄チャンバ10から外部に持ち
出されると、その再利用が不能になる。しかしながら、
洗浄液は、ワーク1に供給された後に、その殆どがワー
ク1の傾斜に沿って流下して樋25内に回収される。そ
して、このようにして回収された洗浄液は、フィルタ2
7を経て貯留タンク28に送り込まれて、再び噴射ノズ
ル12に循環されることから、洗浄液の消費量が少なく
なり、効率的な再利用が可能となる。
After the cleaning liquid is supplied to the work 1,
The cleaning liquid is collected in the storage tank 28 and reused. However, if the cleaning liquid is taken out of the cleaning chamber 10, the cleaning liquid cannot be reused. However,
After the cleaning liquid is supplied to the work 1, most of the cleaning liquid flows down along the inclination of the work 1 and is collected in the gutter 25. Then, the cleaning liquid collected in this way is filtered by the filter 2
Since it is sent to the storage tank 28 via 7 and is circulated to the injection nozzle 12 again, the consumption of the cleaning liquid is reduced, and efficient reuse is possible.

【0016】ここで、前述したように、ワーク1は角度
θ傾斜させているが、噴射ノズル12はこのワーク1の
傾斜角に応じた角度に傾斜させておくと、ワーク1の全
面に対して均一に洗浄液を供給できるようになる。ただ
し、洗浄液はワーク1の傾斜面に沿って流れるので、ワ
ーク1の表面全体を見ると、下方側の部位は上方側より
洗浄液の供給量が多くなる。そこで、噴射ノズル12を
図1に仮想線で示したように、水平に配設しておけば、
洗浄液の供給量が少ない上方側に位置する部位における
洗浄液の噴射圧力は、供給量の多い下方側より高くなる
ことから、ワーク1の表面における洗浄液の噴射圧力と
供給量とのバランスが良好となる。
Here, as described above, the work 1 is tilted by the angle θ, but if the jet nozzle 12 is tilted at an angle corresponding to the tilt angle of the work 1, the work 1 is inclined with respect to the entire surface. The cleaning liquid can be supplied uniformly. However, since the cleaning liquid flows along the inclined surface of the work 1, when the entire surface of the work 1 is viewed, the amount of the cleaning liquid supplied to the lower part is larger than that to the upper part. Therefore, if the injection nozzle 12 is arranged horizontally as shown by the phantom line in FIG.
Since the injection pressure of the cleaning liquid in the portion located on the upper side where the supply amount of the cleaning liquid is small is higher than that in the lower side where the supply amount of the cleaning liquid is large, the balance between the injection pressure and the supply amount of the cleaning liquid on the surface of the work 1 is good. .

【0017】なお、以上の実施例においては、ワーク1
の洗浄を行うために、噴射ノズル12から洗浄液をワー
ク1の表面にシャワリングするように構成したものとし
て説明したが、これ以外でも、溶剤を噴射させて、フォ
トレジスト膜の除去その他ワークに対して所望の液処理
を行う装置として構成することもできる。
In the above embodiments, the work 1
In the above description, the cleaning liquid is sprayed onto the surface of the work 1 from the spray nozzle 12 in order to perform the cleaning. However, in addition to this, the solvent is sprayed to remove the photoresist film and other works. It can also be configured as an apparatus for performing a desired liquid treatment.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、搬送手
段をワークの搬送方向と直交する方向に一定の角度傾斜
させることによって、ワークを傾斜させた状態で搬送す
るように構成したので、ワークに対して洗浄等の液処理
を行うに当って、ワークの表面に液が溜るのを防止でき
ることから、ワークに液を供給した時に、その表面には
常に新たな液が所定の噴射圧で供給されるようになり、
洗浄等の処理効率を高めることができ、また液の供給を
停止した後には、ワーク上には液は殆ど残らず、この工
程の直後に次の工程に搬入しても、液が次工程に持ち込
まれることがなくなり、この次工程で処理を行うに当っ
て、持ち込まれた液により悪影響が及ぶのを防止でき、
当該の工程と次工程との間において、別途ワーク上に溜
っている液を排出する機構を備える必要がなくなるだけ
でなく、液を回収して再利用する場合において、液損が
生じるのを防止できる等の効果を奏する。
As described above, according to the present invention, the workpiece is conveyed in an inclined state by inclining the conveying means at a constant angle in the direction orthogonal to the conveying direction of the workpiece. When performing liquid processing such as cleaning on a work, it is possible to prevent the liquid from accumulating on the surface of the work.Therefore, when the liquid is supplied to the work, new liquid is constantly applied to the surface with a predetermined injection pressure. Will be supplied,
The processing efficiency such as cleaning can be improved, and after the supply of the liquid is stopped, almost no liquid remains on the work, and even if the liquid is carried into the next process immediately after this process, the liquid remains in the next process. It will not be brought in, and it will be possible to prevent the liquid brought in from adversely affecting the treatment in the next step,
In addition to eliminating the need to separately provide a mechanism for discharging the liquid accumulated on the work between the relevant process and the next process, it prevents liquid loss when recovering and reusing the liquid. There is an effect such as being able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を示す液処理装置の構成説明
図である。
FIG. 1 is a configuration explanatory view of a liquid processing apparatus showing an embodiment of the present invention.

【図2】図1の平面図である。FIG. 2 is a plan view of FIG.

【図3】図1の要部拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of a main part of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ワーク 10 洗浄チャンバ 11 コンベア 12 噴射ノズル 14 ローラ 18 支持プレート 19 傾斜基台 1 Work 10 Cleaning Chamber 11 Conveyor 12 Injection Nozzle 14 Roller 18 Support Plate 19 Tilt Base

フロントページの続き (72)発明者 森田 宣夫 東京都千代田区大手町二丁目6番2号 日 立電子エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 市川 久賀 東京都千代田区大手町二丁目6番2号 日 立電子エンジニアリング株式会社内Front Page Continuation (72) Inventor Norio Morita 2-6-2 Otemachi, Chiyoda-ku, Tokyo Inside Ritsu Denshi Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Hisaga Ichikawa 2-6-2 Otemachi, Chiyoda-ku, Tokyo Inside Ritsuden Engineering Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平板状の薄板部材からなるワークを搬送
手段に沿って搬送する間に、上方位置に設けた噴射ノズ
ルから液を噴射させて、ワークに対してシャワリングす
ることにより所定の処理を行うものにおいて、前記搬送
手段をワークの搬送方向と直交する方向に一定の角度傾
斜させることによって、前記ワークが傾いた状態で搬送
する構成としたことを特徴とする薄板部材の液処理装
置。
1. A predetermined process is performed by spraying a liquid from an injection nozzle provided at an upper position while carrying a work made of a flat plate-like thin plate member along a carrying means, and showering the work. The liquid processing apparatus for a thin plate member, wherein the work is carried in an inclined state by tilting the carrying means at a constant angle in a direction orthogonal to the carrying direction of the work.
JP2309294A 1994-01-25 1994-01-25 Liquid treating device for thin plate member Pending JPH07204547A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2309294A JPH07204547A (en) 1994-01-25 1994-01-25 Liquid treating device for thin plate member

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2309294A JPH07204547A (en) 1994-01-25 1994-01-25 Liquid treating device for thin plate member

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07204547A true JPH07204547A (en) 1995-08-08

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ID=12100799

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003049868A1 (en) * 2001-12-11 2003-06-19 Sumitomo Precision Products Co., Ltd. Nozzle device, and substrate treating apparatus having the device
KR20130051645A (en) * 2011-11-10 2013-05-21 세메스 주식회사 Substrate transferring apparatus
CN105597975A (en) * 2016-03-09 2016-05-25 佳马机械涂覆科技(苏州)有限公司 Spraying frame
CN106622828A (en) * 2016-12-01 2017-05-10 重庆永高塑业发展有限公司 Pipe paint spraying device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003049868A1 (en) * 2001-12-11 2003-06-19 Sumitomo Precision Products Co., Ltd. Nozzle device, and substrate treating apparatus having the device
KR20130051645A (en) * 2011-11-10 2013-05-21 세메스 주식회사 Substrate transferring apparatus
CN105597975A (en) * 2016-03-09 2016-05-25 佳马机械涂覆科技(苏州)有限公司 Spraying frame
CN106622828A (en) * 2016-12-01 2017-05-10 重庆永高塑业发展有限公司 Pipe paint spraying device

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