JPH07197293A - 印刷版用アルミニウム合金支持体及びその製造方法 - Google Patents

印刷版用アルミニウム合金支持体及びその製造方法

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JPH07197293A
JPH07197293A JP5352100A JP35210093A JPH07197293A JP H07197293 A JPH07197293 A JP H07197293A JP 5352100 A JP5352100 A JP 5352100A JP 35210093 A JP35210093 A JP 35210093A JP H07197293 A JPH07197293 A JP H07197293A
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細野晋一郎
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 耐刷性及び粗面化時の表面処理性を損なうこ
となく、取扱い時の曲げ性が良く、非画像部の印刷汚れ
の少ない印刷版用アルミニウム合金支持体を提供する。 【構成】 Fe:0.30〜0.60%、Si:0.02〜
0.08%、Cu:0.020〜0.04%、Ti:0.00
5〜0.040%を含み、残部がAl及び不可避的不純物
よりなるアルミニウム合金板の表面に、有孔率が4.0
〜22.0%の陽極酸化皮膜が形成されたものであるこ
とを特徴とする曲げ性や取扱い性に優れた平版印刷版用
アルミニウム合金支持体である。上記の化学成分を有す
るアルミニウム合金鋳塊を、400〜510℃×0.5
〜8hr又は510〜600℃×0.5hr以上の均質化処
理後、最終圧延板に加工し、粗面化処理後、13〜25
%硫酸浴中での陽極酸化処理温度20〜35℃、電流密
度1〜6A/dm2の条件による陽極酸化処理にて厚さ0.
1〜1.5μmになるまで皮膜を形成し、陽極酸化皮膜の
有孔率4.0〜22.0%を得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、曲げ性等の取扱い性に
優れた印刷版用アルミニウム板及びその製造方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】一般に
印刷版用アルミニウム合金支持体の製造方法として、ア
ルミニウム合金板を粗面化後、陽極酸化することが知ら
れている(特公昭57−16918号参照)。
【0003】この粗面化は、印刷版に感光膜の密着性・
保水性を与えるために行われ、その方法には、電解粗面
化、ブラシ粗面化、ブラシ粗面化後に電解粗面化等の手
段が用いられている(特開昭60−147394号、特
公昭57−16918号)。
【0004】また、陽極酸化は、耐刷性(耐摩耗性)を向
上させるために行われ、陽極酸化皮膜の硬度を上げると
耐刷性が向上することが知られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、陽極酸化皮膜
の硬度を上げることによって印刷版の耐刷性(耐摩耗性)
を向上し得るものの、印刷機への印刷版の装着時の曲げ
など取扱いによる陽極酸化膜の割れが生じ、非画像部の
印刷汚れが発生するという問題があった。
【0006】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解決し、耐刷性及び粗面化時の表面処理性を損なうこと
なく、取扱い時の曲げ性が良く、非画像部の印刷汚れの
少ない印刷版用アルミニウム合金支持体を提供し、また
その製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明者は、印刷版の取扱い性を低下させる原因に
ついて鋭意検討した結果、陽極酸化皮膜の硬度が影響す
るとは全く考えられていなかったが、陽極酸化皮膜の硬
度管理が必要なことが判明した。また、純アルミニウム
において、晶・析出物が陽極酸化皮膜の硬度に影響を及
ぼすことは全く考えられていなかったが、鋭意研究の結
果、陽極酸化皮膜厚が数μm以下と非常に薄い場合には
晶・析出物が皮膜構造及び硬度に影響するため、晶・析
出物の形態及び陽極酸化皮膜条件の管理が非常に重要で
あることを究明した。すなわち、化学成分、アルミ板の
製造条件、陽極酸化条件を適切に組み合わせなければな
らない。本発明はかゝる知見に基づいて完成したもので
ある。
【0008】すなわち、本発明は、Fe:0.30〜0.
60%、Si:0.02〜0.08%、Cu:0.020〜
0.04%、Ti:0.005〜0.040%を含み、残部
がAl及び不可避的不純物よりなるアルミニウム合金板
の表面に、有孔率が4.0〜22.0%の陽極酸化皮膜が
形成されたものであることを特徴とする曲げ性や取扱い
性に優れた平版印刷版用アルミニウム合金支持体を要旨
としている。
【0009】また、その製造方法は、上記の化学成分を
有するアルミニウム合金鋳塊を、400〜510℃×
0.5〜8hr又は510〜600℃×0.5hr以上の均質
化処理後、最終圧延板に加工し、粗面化処理後、13〜
25%硫酸浴中での陽極酸化処理温度20〜35℃、電
流密度1〜6A/dm2の条件による陽極酸化処理にて厚
さ0.1〜1.5μmになるまで皮膜を形成し、陽極酸化
皮膜の有孔率4.0〜22.0%を得ることを特徴として
いる。
【0010】
【作用】以下に本発明を更に詳細に説明する。まず、本
発明におけるAl合金の化学成分等の限定理由を示す。
【0011】Fe:0.30〜0.60% Feは電解粗面化の均一化の作用を有している。Feはア
ルミニウム合金中で他の元素と結びつき、Al−Fe系の
共晶化合物を形成する元素であり、Al−Fe系の共晶化
合物は再結晶粒の微細化に効果があると共に、均一な電
解粗面を形成する効果があ。しかし、含有量が0.30
%未満では再結晶粒の微細化効果が少なく、マクロエッ
チングした際の筋が長くなる。また、0.60%を超え
る含有量では粗大化合物の形成により電解粗面化面が不
均一になる。
【0012】Si:0.02〜0.08% SiはAl−Fe−Si系金属間化合物を形成し、熱間パス
間での再結晶の核として作用するため、再結晶粒微細化
効果を有するが、0.02%未満ではその効果が少な
く、マクロエッチングした際の筋が長くなる。また、
0.08%を超える含有量では粗大化合物の形成により
電解粗面化面が不均一になり、且つAl−Fe−Si系の
析出物の数が多くなり、硫酸陽極酸化時に、Al−Fe−
Si系の析出物の周囲の溶解反応が活発になり、陽極酸
化皮膜の形成界面のAlイオン濃度が増加し、緻密な皮
膜を形成するために、曲げ性に劣り、陽極酸化皮膜が割
れに起因する非画像部の印刷汚れが発生する。
【0013】Cu:0.020〜0.040% Cuは適切にコントロールすることにより均一な電解粗
面化面を形成することが可能である。しかし、0.04
0%を超えるとピットが粗大になり、電解粗面化面が不
均一になる。また、0.020%未満では全面溶解を起
こし、ピットが過小になるため、粗面化が不十分であ
る。
【0014】Ti:0.005〜0.040% Tiは鋳塊組織を微細化し、マクロエッチングによる筋
が長くなることを防止する効果が得られる。しかし、含
有量が0.040%を超えると粗大化合物を形成し、粗
大なピットが多くなり、電解粗面化面が不均一になる。
逆に、0.005%未満では結晶粒微細化ができず、マ
クロエッチングによる筋が長くなる。なお、Tiは通常
Ti−Bの母合金の形で添加される。
【0015】なお、不純物としては、通常市販されてい
るAl地金に含まれる不純物程度であれば本発明の目的
を損なうものではない。例えば、Mg:0.020%以
下、Cr:0.020%以下、Zn:0.020%以下であ
れば特に問題はない。またTi添加にTi−B母合金を用
いた場合に含まれるBも同様に問題はない。
【0016】陽極酸化皮膜有孔率:4.0〜22.0% 陽極酸化皮膜はセル・ポア・バリアー層より構成され、
皮膜硬度はセル壁の厚みが大きいほど高くなる。セル壁
の厚みはポア直径とポアの間隔より有孔率で表わされ
る。この有孔率が4.0%未満では、表面硬度が高くな
りすぎて皮膜表面に亀裂が発生し、非画像部の印刷汚れ
が発生し易くなる。また、有孔率が22.0%を超える
と、充分な硬度が得られず、耐刷性は向上しない。
【0017】なお、表面を陽極酸化することにより、表
面硬度は上がり、耐刷性(特に耐摩耗性)が向上するが、
陽極酸化皮膜厚が0.1μm未満では充分な硬度が得られ
ず、耐刷性は向上しない。また、1.5μmを超えると、
表面硬度が高くなりすぎて皮膜表面に亀裂が発生し、非
画像部の印刷汚れが発生し易くなる。このため、陽極酸
化皮膜厚は0.1〜1.5μmであるのが望ましい。
【0018】次に本発明の製造条件を説明する。まず、
上記化学成分のAl合金鋳塊を均質化処理するが、40
0℃未満では均熱による組織の均一化の効果が少なく、
不均一な組織の存在は十分な粗度の電解粗面が得難い。
また、0.5時間未満では同様に組織の均一化の効果が
不充分である。このため、均熱温度は400℃×0.5
時間以上とする。しかし、400〜510℃の温度範囲
では、均熱時間が8時間を超えると、α相が析出し、陽
極酸化時のAlの溶解反応を促進の皮膜の形成界面での
Alイオン濃度を増加させるため、緻密な陽極酸化皮膜
を形成する。この緻密な皮膜は硬度が高いため、陽極酸
化皮膜に亀裂が発生し易くなる。一方、510℃以上の
温度範囲では、α相が析出しないため、均熱温度は0.
5時間以上で十分である。しかし、均熱温度が600℃
を超えると、バーニングを生ずるため、600℃以下が
良好である。したがって、均質化処理は、400〜51
0℃×0.5〜8時間、又は510〜600℃×0.5時
間以上の条件で行う。
【0019】均質化処理後は、常法に従い圧延により圧
延板とし、粗面化後、陽極酸化処理を行うが、陽極酸化
処理は以下の条件で行う必要がある。
【0020】まず、硫酸浴における陽極酸化処理温度は
20℃以上とする。これより温度が低いと陽極酸化皮膜
が緻密で有孔率が低く、硬度が高いため、陽極酸化皮膜
に亀裂が発生し易くなる。しかし、陽極酸化温度が35
℃を超えると粉吹き現象を発生し、皮膜硬度が著しく低
下し、耐刷性が向上しない。したがって、陽極酸化処理
温度は20〜35℃とする。
【0021】しかも、硫酸浴の濃度は13%以上が必要
であり、これより濃度が低いと陽極酸化皮膜が緻密で有
孔率が低く、硬度が高いため、陽極酸化皮膜に亀裂が発
生し易くなる。しかし、濃度が25%を超えると有孔率
が高くなり、皮膜硬度が著しく低下し耐刷性が向上しな
い。したがって、硫酸浴濃度は13〜25%とする。
【0022】更に、硫酸浴中における陽極酸化時の電流
密度は1A/dm2以上が必要であり、これより低いと陽
極酸化皮膜の有孔率が高くなり、粉吹き現象を発生し易
く耐刷性は低下する。しかし、電流密度が6A/dm2
超えると陽極酸化皮膜が緻密で有孔率が低く、硬度が高
いため、陽極酸化皮膜に亀裂が発生し易い。したがっ
て、電流密度は1〜6A/dm2とする。
【0023】上記の如く、所定の画家区成分のAl合金
材料を適切な条件で均質化処理して板にした後、粗面化
後の陽極酸化皮膜を管理することにより、非画像部の印
刷汚れが発生し難い平版印刷版の提供が可能となる。
【0024】なお、粗面化の条件は特に規制するもので
はないが、電解粗面化において塩酸0.3〜3%又は硝
酸0.1〜2%、温度20〜40℃で10〜120秒の
条件、又は機械的な粗面化を行った後に上記の電解粗面
化を行うことにより、好適に粗面化が実現される。
【0025】次に本発明の実施例を示す。
【0026】
【実施例】表1に示す化学成分を有するAl合金鋳塊に
ついて、表2に示す条件にて、均質化処理した後、最終
圧延板とし、次いで、1%塩酸中で電流密度50A/dm
2周波数50Hz、温度25℃で30秒間電解粗面化を行
い、更に陽極酸化処理し、表2に示す厚さ及び有孔率の
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム合金支持体を得た。
【0027】上記のアルミニウム合金支持体について、
Vブロックを使用し、曲率1mmで曲げ、陽極酸化皮膜の
割れ試験及び耐刷性試験を行った結果を表3に示す。
【0028】割れ感受性は、曲げ部の頂点を中心に両側
0.25mm、長さ0.50mmの視野(0.25mm2)内に長さ
50μm以上、深さ1μm以上の割れ発生の有無にて評価
した。 ○:割れの発生なし ×:割れの発生あり
【0029】耐刷性は、以下の基準にて評価した。 ○:7万枚以上 ×:7万枚未満
【0030】印刷汚れは、以下の基準で評価した。 ○:非画像部にインキ付着なし ×:非加増部にインキ付着あり
【0031】なお、有孔率は、図1に示す如く、陽極酸
化皮膜の表面を日本電子(株)製のFE−SEM(商品名)
により観察し、ポア間隔Dcとポア直径Dpより、セル1
個中に占めるポアの面積を次式により求めた。 有孔率={(πDp2)/(4√3Dc2)}×100(%)
【0032】表3より明らかなように、本発明例は、い
ずれも、耐刷性が優れていることは勿論のこと、割れ感
受性が極めて低いので取扱い性も優れ、このため印刷汚
れも生じない。一方、比較例は割れ感受性、耐刷性、印
刷汚れのいずれかが不満足である。
【0033】
【表1】
【0034】
【表2】
【0035】
【表3】
【0036】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
耐刷性及び粗面化時の表面処理性等の性質を損なわず
に、曲げ性等の取扱い性に優れ、印刷汚れの少ないアル
ミニウム合金支持体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】有孔率を求める際のポア間隔Dc及びポア直径
Dpを説明する図である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 重量%で(以下同じ)、Fe:0.30〜
    0.60%、Si:0.02〜0.08%、Cu:0.020
    〜0.04%、Ti:0.005〜0.040%を含み、残
    部がAl及び不可避的不純物よりなるアルミニウム合金
    板の表面に、有孔率が4.0〜22.0%の陽極酸化皮膜
    が形成されたものであることを特徴とする曲げ性や取扱
    い性に優れた平版印刷版用アルミニウム合金支持体。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の化学成分を有するアル
    ミニウム合金鋳塊を、400〜510℃×0.5〜8hr
    の均質化処理後、最終圧延板に加工し、粗面化処理後、
    13〜25%硫酸浴中での陽極酸化処理温度20〜35
    ℃、電流密度1〜6A/dm2の条件による陽極酸化処理
    にて厚さ0.1〜1.5μmになるまで皮膜を形成し、陽
    極酸化皮膜の有孔率4.0〜22.0%を得ることを特徴
    とする曲げ性や取扱い性に優れた平版印刷版用アルミニ
    ウム合金支持体の製造方法。
  3. 【請求項3】 均質化処理を510〜600℃×0.5h
    r以上の条件で行う請求項2に記載の方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0887430A1 (en) * 1997-06-26 1998-12-30 Sky Aluminium Co., Ltd. Aluminum alloy support for lithographic printing plate
CN105296824A (zh) * 2015-06-03 2016-02-03 东莞奥科精密压铸有限公司 可阳极氧化的压铸铝合金

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EP0887430A1 (en) * 1997-06-26 1998-12-30 Sky Aluminium Co., Ltd. Aluminum alloy support for lithographic printing plate
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