JPH07193114A - Substrate supporting device and substrate positioning device - Google Patents

Substrate supporting device and substrate positioning device

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Publication number
JPH07193114A
JPH07193114A JP33254493A JP33254493A JPH07193114A JP H07193114 A JPH07193114 A JP H07193114A JP 33254493 A JP33254493 A JP 33254493A JP 33254493 A JP33254493 A JP 33254493A JP H07193114 A JPH07193114 A JP H07193114A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
supporting
main body
contact
pusher
Prior art date
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Pending
Application number
JP33254493A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsutomu Kamiyama
勉 上山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP33254493A priority Critical patent/JPH07193114A/en
Publication of JPH07193114A publication Critical patent/JPH07193114A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To sandwich a substrate with a simple structure and to prevent the substrate from stained with dust by fixing a contact member to a substrate placement stage so that it, on the side of substrate supported by a lower surface supporting part, contacts the other end part facing an end part, and sandwiching the substrate with the tapered surface of a reception member. CONSTITUTION:When a hand 43 comes into a housing 27, the tip of a supporting member 55 of pusher 51 contacts a contact plate 53 of pressurizing part 50, so that, against a leaf spring 54, a pusher main body 56 pushes a substrate W. As a result, the front end of substrate W contacts to a contact member 61, so that the substrate W is located. Then, following the movement of substrate W caused by the pusher main body 56, a placement part main body 58 rises by dint of energizing force of a leaf spring 59, so, the condition where the substrate placement part main body 58 contacts the back end of substrate W is kept always. Then, at the stage where the substrate W so contacts a contact member 61 that the substrate W is located, the substrate W is sandwiched in between the placement part main body 58 and the contact member 61.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、基板を水平姿勢にて支
持する基板支持装置と、基板を位置決めするための基板
位置決め装置とに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate supporting device for supporting a substrate in a horizontal posture and a substrate positioning device for positioning the substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体や液晶表示装置の製造工程におい
て、基板を1枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置が用
いられている。この種の基板処理装置は、一般に、基板
を1枚ずつ処理する複数の基板処理部と、各基板処理部
間で基板を搬送する基板搬送ロボットとを備えている。
2. Description of the Related Art In a manufacturing process of semiconductors and liquid crystal display devices, a single-wafer type substrate processing apparatus for processing substrates one by one is used. This type of substrate processing apparatus generally includes a plurality of substrate processing units that process substrates one by one, and a substrate transfer robot that transfers the substrates between the substrate processing units.

【0003】基板搬送ロボットは、ロボット本体と、ロ
ボット本体に対して進退するハンドとを有している。こ
のハンド上に基板が載置され搬送される。この基板搬送
時間を短縮するためには、搬送開始時や終了時における
加減速度を大きくする必要がある。そして、そのために
は、ハンド上で基板を確実に保持しなければならない。
The substrate transfer robot has a robot body and a hand that moves back and forth with respect to the robot body. The substrate is placed on this hand and conveyed. In order to reduce the substrate transfer time, it is necessary to increase the acceleration / deceleration at the start and end of the transfer. Then, for that purpose, it is necessary to surely hold the substrate on the hand.

【0004】搬送時間を短縮できる基板搬送ロボットと
して、特開平5−100199号公報に開示された基板
搬送ロボットが知られている。この基板搬送ロボットは
スカラ型のロボットであり、基台と、基台に回転自在に
取り付けられた第1のアームと、第1のアームの先端に
回転自在に取り付けられた第2のアームと、第2のアー
ムの先端に回転自在に取り付けられた基板載置部と、基
板載置部に載置された基板保持部とを有している。基板
保持部は、角型基板を側方から挟んで保持するようにな
っており、角型基板の進出側に当接し得るストッパー
と、角型基板の退入側に対向して配置された進退自在な
押圧部と、押圧部を前記第2アームの回転力により進退
させる回転カムとを備えている。
A substrate transfer robot disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-100199 is known as a substrate transfer robot capable of shortening the transfer time. This substrate transfer robot is a SCARA type robot, and includes a base, a first arm rotatably attached to the base, and a second arm rotatably attached to the tip of the first arm. It has a substrate placing part rotatably attached to the tip of the second arm, and a substrate holding part placed on the substrate placing part. The substrate holding part holds the rectangular substrate from the side and holds it, and a stopper that can contact the advancing side of the rectangular substrate and an advancing / retracting member that is arranged opposite to the retreating side of the rectangular substrate. It is provided with a free pressing portion and a rotating cam that moves the pressing portion forward and backward by the rotational force of the second arm.

【0005】この基板搬送ロボットでは、アームの進出
時に、回転カムが押圧部を退避位置に配置する。それ以
外の時には、押圧部は進出位置に配置され、基板に当接
してストッパーと共に角型基板を挟持する。
In this substrate transfer robot, the rotating cam positions the pressing portion at the retracted position when the arm advances. At other times, the pressing portion is arranged at the advanced position and contacts the substrate to clamp the rectangular substrate together with the stopper.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】特開平5−10019
9号公報に開示された基板搬送ロボットにおいては、基
板を基板保持部上において支持するために、基板を押圧
する押圧部と第2アームとを基板載置部上において連結
する必要があるのでその構成が複雑となり、かつ支持さ
れる基板の近傍にこのような複雑な機構を設けるのでそ
の発塵によって基板が汚染されるおそれがある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION Problems to be Solved by the Invention
In the substrate transfer robot disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 9-94, in order to support the substrate on the substrate holding unit, it is necessary to connect the pressing unit that presses the substrate and the second arm on the substrate mounting unit. Since the structure is complicated and such a complicated mechanism is provided in the vicinity of the substrate to be supported, the substrate may be contaminated due to dust generation.

【0007】本発明の目的は、簡単な構成によって基板
を挟持して支持しその発塵による基板の汚染も生じにく
い基板支持装置を提供することにある。本発明の別の目
的は、簡単な構成によって基板を基板保持部上の所定位
置に位置決めすることが可能な基板位置決め装置を提供
することにある。
It is an object of the present invention to provide a substrate supporting device which sandwiches and supports a substrate with a simple structure and is less likely to cause contamination of the substrate due to dust generation. Another object of the present invention is to provide a substrate positioning device capable of positioning a substrate at a predetermined position on a substrate holder with a simple structure.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明に係る基板支持装
置は、基板を水平姿勢にて支持する装置であって、基板
載置台と、受け部材と、弾性部材と、当接部材とを備え
ている。基板載置台は、基板の下面を下方から支持する
下面支持部を有している。受け部材は、下面支持部に支
持された基板の側方において基板の一端部を受けるよう
に、上下方向に傾斜を有するテーパ面を持っている。弾
性部材は、基板載置台に固定されて、受け部材を昇降自
在に支持する。当接部材は、下面支持部に支持された基
板の側方において一端部と対向する他端部と当接するよ
うに基板載置台に固定され、かつ受け部材のテーパ面と
で前記基板を挟持する。
A substrate supporting device according to the present invention is a device for supporting a substrate in a horizontal posture and comprises a substrate mounting table, a receiving member, an elastic member and an abutting member. ing. The substrate mounting table has a lower surface support portion that supports the lower surface of the substrate from below. The receiving member has a tapered surface that is inclined in the up-down direction so as to receive one end of the substrate on the side of the substrate supported by the lower surface support portion. The elastic member is fixed to the substrate mounting table and supports the receiving member so that the receiving member can move up and down. The abutting member is fixed to the substrate mounting table so as to abut on the other end of the substrate supported by the lower surface support portion on the side of the substrate, and sandwiches the substrate with the tapered surface of the receiving member. .

【0009】本発明に係る基板位置決め装置は、伸縮自
在な搬送アームの先端に設けられた基板支持部に基板を
支持して水平方向に搬送する基板搬送装置に用いられ、
搬送される基板を基板支持部上の所定位置に位置決めす
るための装置であって、第1当接部と、第2当接部と、
弾性機構とを備えている。第1当接部は、基板支持部上
に設けられ、位置決めされる基板の一端部が当接可能な
ものである。第2当接部は、一端部と対向する基板他端
部と当接可能なものである。弾性機構は、搬送アームの
圧縮状態において、第2当接部を弾性的に基板他端部に
押圧するように付勢力を生じ、搬送アームの伸長状態に
おいて、付勢力を解消する。
The substrate positioning device according to the present invention is used for a substrate transfer device that transfers a substrate horizontally by supporting the substrate on a substrate support portion provided at the tip of an extendable transfer arm.
An apparatus for positioning a conveyed substrate at a predetermined position on a substrate supporting portion, the first abutting portion, the second abutting portion,
And an elastic mechanism. The first abutting portion is provided on the substrate supporting portion and is capable of abutting one end portion of the substrate to be positioned. The second contact portion is capable of contacting the other end portion of the substrate facing the one end portion. The elastic mechanism generates an urging force to elastically press the second contact portion toward the other end of the substrate when the transfer arm is in a compressed state, and cancels the urging force when the transfer arm is in an extended state.

【0010】[0010]

【作用】本発明に係る基板支持装置では、基板載置台の
下面支持部が基板の下面を支持し、受け部材のテーパ面
が基板の一端部を受ける。この受け部材は、基板を受け
る際に基板の重量により弾性部材が撓むことで下降す
る。このとき、受け部材がテーパ面で基板を受けるの
で、基板が支持部材に支持されたときに、基板の水平方
向の動きが受け部材で確実に規制される。ここでは基板
支持動作が、回転部分の無い簡素な構造で実現され、発
塵による基板の汚染も生じにくい。
In the substrate supporting apparatus according to the present invention, the lower surface supporting portion of the substrate mounting table supports the lower surface of the substrate, and the tapered surface of the receiving member receives one end portion of the substrate. The receiving member descends when the elastic member bends due to the weight of the substrate when receiving the substrate. At this time, since the receiving member receives the substrate with the tapered surface, the horizontal movement of the substrate is reliably regulated by the receiving member when the substrate is supported by the supporting member. Here, the substrate supporting operation is realized by a simple structure having no rotating portion, and the contamination of the substrate due to dust generation is unlikely to occur.

【0011】本発明に係る基板位置決め装置では、基板
支持部に基板が支持され、搬送アームが圧縮すると、弾
性機構が第2当接部を基板他端部に押圧するように付勢
し、基板を第1当接部に当接させる。この結果、基板が
第1当接部に当接して位置決めされる。また、搬送アー
ムが伸長すると、付勢力が解消する。ここでは基板位置
決め動作が、弾性機構の付勢力による回転部分の無い簡
素な構造で実現される。
In the substrate positioning apparatus according to the present invention, when the substrate is supported by the substrate supporting portion and the transfer arm is compressed, the elastic mechanism urges the second contact portion to press the other end portion of the substrate, Is brought into contact with the first contact portion. As a result, the substrate contacts the first contact portion and is positioned. Further, when the transfer arm extends, the biasing force disappears. Here, the substrate positioning operation is realized by a simple structure having no rotating portion due to the urging force of the elastic mechanism.

【0012】[0012]

【実施例】図1及び図2において、本発明の一実施例を
採用した基板処理装置1は、多数の角型基板Wを収納し
た2つのカセットC1,C2を載置する基板搬入・搬出
部2と、基板Wに一連の処理を行う処理ユニット部3
と、基板搬入・搬出部2と処理ユニット部3との間で基
板Wを搬送する基板搬送部4とを有している。
1 and 2, a substrate processing apparatus 1 adopting an embodiment of the present invention is a substrate loading / unloading unit for mounting two cassettes C1 and C2 accommodating a large number of rectangular substrates W. 2 and a processing unit section 3 for performing a series of processing on the substrate W
And a substrate transfer section 4 for transferring the substrate W between the substrate loading / unloading section 2 and the processing unit section 3.

【0013】基板搬入・搬出部2は、カセットC1,C
2が載置されるカセット載置台IDと、カセットC1,
C2と基板搬送部4の基板搬入・搬出位置との間で基板
Wを1枚ずつ搬送するインデクサロボットRB1とで構
成されている。カセットC1,C2には、たとえば10
枚の基板Wが収納可能である。カセット載置台IDは、
載置されたカセットC1,C2を上下させて、基板取り
出し取り入れ位置を一定高さに維持する機能を有してい
る。
The substrate loading / unloading section 2 includes cassettes C1 and C.
2 is mounted on the cassette mounting table ID and the cassette C1,
The indexer robot RB1 transports the substrates W one by one between C2 and the substrate loading / unloading position of the substrate transport unit 4. For example, in the cassettes C1 and C2, 10
A single substrate W can be stored. The cassette mounting table ID is
It has a function of raising and lowering the placed cassettes C1 and C2 to maintain the substrate take-out and take-in position at a constant height.

【0014】インデクサロボットRB1は、Y方向(図
1の奥行き方向)に延びるレール5上を移動可能であ
る。インデクサロボットRB1は、スカラ型のロボット
であり、Z方向(図1の上下方向)と、X方向(図1の
左右方向)と、θ方向(垂直軸回りの回転方向)とにも
移動可能である。処理ユニット部3には、各処理部が上
下2段に分けて配列されており、その下段には、基板W
を洗浄するスピンスクラバーSSと、洗浄された基板W
にフォトレジスト液を塗布するスピンコーターSCとが
配置されている。また上段には、ホットプレートHP
1,HP2とクールプレートCP1,CP2とが配置さ
れている。ホットプレートHP1は、スピンスクラバー
SSで洗浄された基板Wを脱水ベークするものであり、
ホットプレートHP2は、フォトレジスト液が塗布され
た基板Wをプリベークするものである。クールプレート
CP1,CP2は、それぞれホットプレートHP1,H
P2で加熱された基板Wを冷却するものである。
The indexer robot RB1 is movable on a rail 5 extending in the Y direction (depth direction in FIG. 1). The indexer robot RB1 is a scalar type robot and can move in the Z direction (vertical direction in FIG. 1), the X direction (horizontal direction in FIG. 1), and the θ direction (rotational direction around the vertical axis). is there. In the processing unit section 3, the processing sections are arranged in upper and lower two stages, and the substrate W is provided in the lower stage.
Spin scrubber SS for cleaning wafer and cleaned substrate W
A spin coater SC for applying a photoresist solution is disposed on the. The hot plate HP is on the top.
1, HP2 and cool plates CP1 and CP2 are arranged. The hot plate HP1 is for dehydrating and baking the substrate W cleaned by the spin scrubber SS.
The hot plate HP2 is for pre-baking the substrate W coated with the photoresist liquid. Cool plates CP1 and CP2 are hot plates HP1 and H, respectively.
The substrate W heated at P2 is cooled.

【0015】基板搬送部4は、X方向に延びるレール6
と、レール6上を移動可能な基板搬送ロボットRB2と
を有している。基板搬送ロボットRB2は、スカラ型の
ロボットであり、Z方向とY方向とにも移動可能であ
る。基板搬送ロボットRB2は、図3に示すように、レ
ール6に沿って移動するX軸移動機構20と、X軸移動
機構20上に配置された1対のZ軸移動機構21と、Z
軸移動機構21間に配置されたY軸移動機構22とを有
している。
The board transfer section 4 has a rail 6 extending in the X direction.
And a substrate transfer robot RB2 movable on the rail 6. The substrate transfer robot RB2 is a SCARA type robot and is also movable in the Z direction and the Y direction. As shown in FIG. 3, the substrate transfer robot RB2 includes an X-axis moving mechanism 20 that moves along the rail 6, a pair of Z-axis moving mechanisms 21 arranged on the X-axis moving mechanism 20, and a Z-axis moving mechanism 21.
It has a Y-axis moving mechanism 22 arranged between the axis moving mechanisms 21.

【0016】X軸移動機構20は、レール6に移動可能
に支持された移動フレーム23を有している。移動フレ
ーム23内には、X方向移動のための駆動モータ(図示
せず)と、Z方向移動のための駆動モータZMとが配置
されている。移動フレーム23の上部には、Z軸移動機
構21の固定フレーム24が立設されている。固定フレ
ーム24の上端内側には、第1昇降アーム25が回転軸
を介して連結されている。第1昇降アーム25の先端に
は、第2昇降アーム26が回転軸を介して連結されてい
る。第2昇降アーム26の先端には、Y軸移動機構22
のハウジング27が回転軸を介して連結されている。Z
方向駆動モータZMの駆動力は、固定フレーム24内に
配置されたリンク(図示せず)により第1昇降アーム2
5に伝達される。第1昇降アーム25及び第2昇降アー
ム26内には、多数のギア(図示せず)が配置されてお
り、これらのギアにより、第1昇降アーム25と第2昇
降アーム26とハウジング27とが連動して回動するよ
うになっている。この結果、第1昇降アーム25及び第
2昇降アーム26の回動によりハウジング27が同じ姿
勢を維持しつつ昇降する。
The X-axis moving mechanism 20 has a moving frame 23 movably supported on the rail 6. A drive motor (not shown) for moving in the X direction and a drive motor ZM for moving in the Z direction are arranged in the moving frame 23. On the upper part of the moving frame 23, a fixed frame 24 of the Z-axis moving mechanism 21 is provided upright. A first elevating arm 25 is connected to the inside of the upper end of the fixed frame 24 via a rotating shaft. A second elevating arm 26 is connected to the tip of the first elevating arm 25 via a rotation shaft. The Y-axis moving mechanism 22 is attached to the tip of the second lifting arm 26.
The housing 27 of is connected via a rotary shaft. Z
The driving force of the direction drive motor ZM is generated by the link (not shown) arranged in the fixed frame 24 to the first lifting arm 2
5 is transmitted. A large number of gears (not shown) are arranged in the first elevating arm 25 and the second elevating arm 26, and these gears cause the first elevating arm 25, the second elevating arm 26, and the housing 27 to move. It is designed to rotate together. As a result, the housing 27 moves up and down while maintaining the same posture by the rotation of the first elevating arm 25 and the second elevating arm 26.

【0017】ハウジング27内のY軸移動機構22は、
図4に示すように、ハウジング27の下面手前側(図4
下側)に配置されたY軸駆動モータYMと、Y軸駆動モ
ータYMに連結されかつハウジング27に回動可能に支
持された第1移動アーム40と、第1移動アーム40に
回転軸を介して連結された第2移動アーム41と、第2
移動アーム41の先端に回転軸を介して連結された基板
保持部42とを有している。
The Y-axis moving mechanism 22 in the housing 27 is
As shown in FIG. 4, the front side of the lower surface of the housing 27 (see FIG.
(Lower side), a Y-axis drive motor YM, a first moving arm 40 connected to the Y-axis drive motor YM and rotatably supported by the housing 27, and a first moving arm 40 via a rotary shaft. The second moving arm 41 and the second
It has a substrate holding portion 42 connected to the tip of the moving arm 41 via a rotary shaft.

【0018】基板保持部42は、上下に配置された1対
のハンド43と、ハンド43を互いに接近・離反する方
向に移動可能に支持する保持部本体44とを有してい
る。ハンド43を上下に1対設けたのは、処理済の基板
Wと処理前の基板Wとを処理部内で一度に交換するため
である。ここでは、第1移動アーム40、第2移動アー
ム41及び基板保持部42は図示しないギヤ列で連結さ
れて同期して回動し、ハンド43がY方向に同じ姿勢で
進退する。
The substrate holding part 42 has a pair of hands 43 arranged vertically and a holding part main body 44 for movably supporting the hands 43 in directions approaching and separating from each other. The pair of upper and lower hands 43 is provided for the purpose of exchanging the processed substrate W and the unprocessed substrate W at once in the processing section. Here, the first moving arm 40, the second moving arm 41, and the substrate holding unit 42 are connected by a gear train (not shown) and rotate in synchronization, and the hand 43 moves back and forth in the same posture in the Y direction.

【0019】ハウジング27の図4上側の内壁には、平
面視L字状の押圧部50が取り付けられている。また保
持部本体44の上面及び下面(図示せず)には、押圧部
50に当接し得るプッシャー51が取り付けられてい
る。押圧部50は、基部がハウジング27に固定されか
つX方向に延びる押圧板バネ52と、押圧板バネ52の
先端からY方向(図4の下方)に延びる当接板53とを
有している。プッシャー51は、基部が保持部本体44
に固定されかつY方向に延びる板バネ54と、板バネ5
4の先端に基部が固定された支持部材55と、支持部材
55の中間部分からY方向に延びるプッシャー本体56
とを有している。
A pressing portion 50 having an L-shape in plan view is attached to the inner wall of the housing 27 on the upper side in FIG. A pusher 51 that can abut the pressing portion 50 is attached to the upper surface and the lower surface (not shown) of the holding portion main body 44. The pressing portion 50 has a pressing plate spring 52 whose base is fixed to the housing 27 and extends in the X direction, and a contact plate 53 extending from the tip of the pressing plate spring 52 in the Y direction (downward in FIG. 4). . In the pusher 51, the base portion is the holding portion main body 44.
And a leaf spring 54 fixed to the leaf spring 5 and extending in the Y direction.
4, a support member 55 having a base fixed to the front end of the support member 4, and a pusher body 56 extending in the Y direction from an intermediate portion of the support member 55.
And have.

【0020】支持部材55はX方向に延びており、図4
の退入状態では、その先端が当接板53に当接してい
る。板バネ54は、自由状態ではその先端が当接板53
側に湾曲しており、図4の状態では当接板53が支持板
55に当接することによって伸ばされている。この構成
によって、ハンド43がハウジング27に収納されたと
き(図4の状態のとき)、プッシャー本体56の先端が
ハンド43に保持された基板WをY方向に押圧し、ハン
ド43がハウジング27に収納されていないとき(図3
及び図6の状態のとき)、プッシャー本体56の先端が
板バネ54により基板Wに当接しない位置に退避する。
The support member 55 extends in the X direction and is shown in FIG.
In the retracted state, the tip end thereof is in contact with the contact plate 53. In the free state, the tip of the leaf spring 54 has the abutting plate 53.
It is curved to the side and in the state of FIG. 4, the contact plate 53 is extended by contacting the support plate 55. With this configuration, when the hand 43 is housed in the housing 27 (in the state of FIG. 4), the tip of the pusher main body 56 presses the substrate W held by the hand 43 in the Y direction, and the hand 43 moves to the housing 27. When not stored (Fig. 3
And in the state of FIG. 6), the tip of the pusher body 56 is retracted by the leaf spring 54 to a position where it does not contact the substrate W.

【0021】ハンド43の基部(図4上側部分)におい
て、プッシャー本体56の先端に隣接する位置には、1
対の基板載置部57が取り付けられている。基板載置部
57は、図5に示すように、側面が略三角形のくさび型
載置部本体58と、載置部本体58を上下動可能に支持
する板バネ59とを有している。載置部本体58の載置
面(図5右側の三角形斜辺)には、約1mm間隔で階段
状の溝58aが形成されている。溝58aは、X方向に
延びる溝である。板バネ59は、概ねY方向に延びてお
り、その一端は載置部本体58の背面(図5の左側面)
に固定されている。板バネ59の他端は、ハンド43の
内壁に取り付けられている。板バネ59のバネ定数は、
ハンド43に基板Wが載置されたときに、基板Wの重量
によって載置部本体58が下方に移動し得る程度に小さ
く設定されている。
At the position adjacent to the tip of the pusher main body 56 at the base of the hand 43 (upper part in FIG. 4), 1
A pair of substrate mounting portions 57 are attached. As shown in FIG. 5, the substrate mounting portion 57 has a wedge-shaped mounting portion main body 58 having a substantially triangular side surface, and a plate spring 59 that supports the mounting portion main body 58 so as to be vertically movable. Stepped grooves 58a are formed at intervals of about 1 mm on the mounting surface of the mounting section main body 58 (the triangular hypotenuse on the right side of FIG. 5). The groove 58a is a groove extending in the X direction. The leaf spring 59 extends substantially in the Y direction, and one end of the leaf spring 59 is the back surface of the mounting portion main body 58 (left side surface in FIG. 5).
It is fixed to. The other end of the leaf spring 59 is attached to the inner wall of the hand 43. The spring constant of the leaf spring 59 is
When the substrate W is placed on the hand 43, the weight of the substrate W is set so small that the placing portion main body 58 can move downward.

【0022】ハンド43の上面には、複数の支持ピン6
0が同一高さで取り付けられている。この支持ピン60
は、基板Wを載置するためのものである。ハンド43の
先端には、図4に示すように当接部材61が取り付けら
れている。当接部材61は、基板Wを位置決めするため
のものであり、プッシャー本体56で押圧された基板W
を受け止めるようになっている。
A plurality of support pins 6 are provided on the upper surface of the hand 43.
0 is mounted at the same height. This support pin 60
Is for mounting the substrate W. A contact member 61 is attached to the tip of the hand 43 as shown in FIG. The contact member 61 is for positioning the substrate W, and is the substrate W pressed by the pusher body 56.
I'm supposed to take it.

【0023】次に、上述の実施例の動作について説明す
る。基板Wを収納したカセットC1,C2が基板搬入・
搬出部に載置されると、インデクサロボットRB1が基
板を1枚ずつ取り出し、基板搬送ロボットRB2に渡
す。基板搬送ロボットRB2は、受け取った基板Wをス
ピンスクラバーSSに対向する位置に搬送する。スピン
スクラバーSSでは、受け取った基板Wを洗浄処理す
る。洗浄処理が終了した基板Wは、ホットプレートHP
1に搬送されて、加熱乾燥される。
Next, the operation of the above embodiment will be described. The cassettes C1 and C2 storing the substrate W carry in the substrate.
When placed on the carry-out section, the indexer robot RB1 takes out the substrates one by one and transfers them to the substrate transfer robot RB2. The substrate transfer robot RB2 transfers the received substrate W to a position facing the spin scrubber SS. The spin scrubber SS cleans the received substrate W. The substrate W that has undergone the cleaning process has a hot plate HP.
It is conveyed to 1 and heated and dried.

【0024】ホットプレートHP1で乾燥された基板W
はクールプレートCP1に搬送され、冷却される。冷却
された基板WはスピンコーターSCに搬送される。スピ
ンコーターSCでは、基板W上にフォトレジスト液が塗
布される。フォトレジスト液が塗布された基板Wはホッ
トプレートHP2に搬送され、加熱乾燥され、さらにク
ールプレートCP2に搬送され、冷却される。
Substrate W dried on hot plate HP1
Is transported to the cool plate CP1 and cooled. The cooled substrate W is transferred to the spin coater SC. In the spin coater SC, the photoresist liquid is applied onto the substrate W. The substrate W coated with the photoresist solution is transported to the hot plate HP2, heated and dried, further transported to the cool plate CP2, and cooled.

【0025】冷却が終了した基板Wは、基板搬送ロボッ
トRB2により基板搬入・搬出部2のインデクサロボッ
トRB1に渡される。インデクサロボットRB1は、受
け取った基板WをカセットC1,C2に戻す。上述の動
作において、基板受け渡し時に基板搬送ロボットRB2
は、図4のハンド退入状態と図6のハンド進出状態との
間で、ハンド43を伸縮させる。このハンド43の伸縮
動作は、Y軸駆動モータYMの駆動によって実現され
る。
The substrate W, which has been cooled, is transferred to the indexer robot RB1 of the substrate loading / unloading section 2 by the substrate transport robot RB2. The indexer robot RB1 returns the received substrate W to the cassettes C1 and C2. In the above operation, the substrate transfer robot RB2 at the time of substrate transfer.
Causes the hand 43 to expand and contract between the hand retracted state of FIG. 4 and the hand advanced state of FIG. The expansion / contraction operation of the hand 43 is realized by driving the Y-axis drive motor YM.

【0026】図4の退入状態から図6の進出状態へとハ
ンド43が進出すると、押圧部50からプッシャー51
が離れ、プッシャー51のプッシャー本体56が板バネ
54により後方に退避する。そして、基板Wを受け取る
際には、図7(a)に示すように、基板Wが支持ピン6
0上に載置される。このとき、基板載置部57の載置部
本体58の斜辺の溝58aに基板Wの一辺が乗り、板バ
ネ59がたわんで載置部本体58が下方に移動する。こ
の状態では、プッシャー本体56は退避しているので、
基板Wとは干渉しない。
When the hand 43 advances from the retracted state of FIG. 4 to the advanced state of FIG. 6, the pressing portion 50 pushes the pusher 51.
And the pusher main body 56 of the pusher 51 is retracted rearward by the leaf spring 54. Then, when receiving the substrate W, the substrate W receives the support pins 6 as shown in FIG.
0 is placed on. At this time, one side of the substrate W rides on the groove 58a of the oblique side of the mounting portion main body 58 of the substrate mounting portion 57, the plate spring 59 bends, and the mounting portion main body 58 moves downward. In this state, the pusher body 56 is retracted,
It does not interfere with the substrate W.

【0027】次に、ハンド43がハウジング27内に入
り込むと、プッシャー51の支持部材55の先端が押圧
部50の当接板53に当接し、板バネ54に抗してプッ
シャー本体56が図7(b)に示すように基板Wを押
す。この結果、基板Wの前端が当接部材61に当接し、
基板Wが位置決めされる。このとき、プッシャー本体5
6による基板Wの移動に伴って、載置部本体58が板バ
ネ59の付勢力により上昇するので、基板載置部本体5
8が基板Wの後端に接触した状態が常に維持される。そ
して、基板Wが当接部材61に当接して基板Wが位置決
めされた段階で、載置部本体58と当接部材61との間
で基板Wが挟持される。
Next, when the hand 43 enters the housing 27, the tip of the support member 55 of the pusher 51 contacts the contact plate 53 of the pressing portion 50, and the pusher body 56 is moved against the plate spring 54 as shown in FIG. The substrate W is pushed as shown in (b). As a result, the front end of the substrate W contacts the contact member 61,
The substrate W is positioned. At this time, the pusher body 5
With the movement of the substrate W by 6, the mounting portion main body 58 rises due to the biasing force of the leaf spring 59.
The state in which 8 is in contact with the rear end of the substrate W is always maintained. Then, when the substrate W comes into contact with the contact member 61 and the substrate W is positioned, the substrate W is sandwiched between the mounting portion main body 58 and the contact member 61.

【0028】載置部本体58と当接部材61との間で基
板Wが挟持された状態において、図4の退入位置から図
6の進出位置へとハンド43が進出すると、押圧部50
からプッシャー51が離れ、プッシャー本体56が板バ
ネ54により図7(c)に示すように後方に退避する。
しかし、板バネ59はY方向には弾性を示さないので、
載置部本体58と当接部材61とによる基板Wの挟持は
維持される。
When the hand W advances from the retracted position shown in FIG. 4 to the advanced position shown in FIG. 6 while the substrate W is sandwiched between the mounting portion main body 58 and the contact member 61, the pressing portion 50 is pressed.
The pusher 51 is separated from the pusher body 56, and the pusher main body 56 is retracted rearward by the leaf spring 54 as shown in FIG. 7C.
However, since the leaf spring 59 does not exhibit elasticity in the Y direction,
The sandwiching of the substrate W by the mounting portion main body 58 and the contact member 61 is maintained.

【0029】この実施例では、基板搬送ロボットRB2
による基板搬送時に、載置部本体58と当接部材61と
の間で基板Wが挟持された状態が維持されるので、搬送
速度を高速化できる。また、基板Wがハンド43に支持
されたときに、板バネ59により上下方向のみ弾性的に
支持された載置部本体58がテーパ面で基板Wを受ける
ので、基板支持動作が回転部分の無い簡素な構造で実現
される。さらに、Y軸移動機構22が固定フレーム27
内に退入すると、板バネ52に付勢されたプッシャー本
体56が基板Wに当接して基板Wを当接部材61に当接
させるので、基板位置決め動作が回転部分の無い簡素な
構造で実現される。 〔他の実施例〕押圧板バネ52の代わりにコイルスプリ
ングを用いて支持部材55を押圧してもよい。
In this embodiment, the substrate transfer robot RB2
Since the substrate W is held between the mounting portion main body 58 and the abutting member 61 when the substrate is transported by, the transport speed can be increased. Further, when the substrate W is supported by the hand 43, the mounting portion main body 58 elastically supported only in the vertical direction by the leaf spring 59 receives the substrate W on the tapered surface, so that the substrate supporting operation has no rotating portion. It is realized with a simple structure. Further, the Y-axis moving mechanism 22 is fixed to the fixed frame 27.
When retracted, the pusher body 56 urged by the leaf spring 52 contacts the substrate W to bring the substrate W into contact with the contact member 61, so that the substrate positioning operation is realized with a simple structure having no rotating portion. To be done. [Other Embodiments] Instead of the pressing leaf spring 52, a coil spring may be used to press the supporting member 55.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明に係る基板支持装置では、基板が
下面支持部に支持されたときに、受け部材がテーパ面で
基板を受けるので、基板支持動作が回転部分の無い簡素
な構造で実現され、発塵による基板の汚染も生じにく
い。本発明に係る基板位置決め装置では、基板支持部に
基板が支持され、搬送アームが圧縮すると、弾性機構が
第2当接部を基板他端部に押圧するように付勢し、基板
を第1当接部に当接させる。この結果、基板が第1当接
部に当接して位置決めされる。また、搬送アームが伸長
すると、付勢力が解消する。ここでは基板位置決め動作
が、弾性機構の付勢力による回転部分の無い簡素な構造
で実現される。
In the substrate supporting apparatus according to the present invention, when the substrate is supported by the lower surface supporting portion, the receiving member receives the substrate with the tapered surface, so that the substrate supporting operation is realized by a simple structure without a rotating portion. Therefore, contamination of the substrate due to dust generation is unlikely to occur. In the substrate positioning apparatus according to the present invention, when the substrate is supported by the substrate support portion and the transfer arm is compressed, the elastic mechanism urges the second contact portion to press the other end portion of the substrate to move the substrate to the first position. Contact the contact part. As a result, the substrate contacts the first contact portion and is positioned. Further, when the transfer arm extends, the biasing force disappears. Here, the substrate positioning operation is realized by a simple structure having no rotating portion due to the urging force of the elastic mechanism.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例が採用された基板処理装置の
側面模式図。
FIG. 1 is a schematic side view of a substrate processing apparatus in which an embodiment of the present invention is adopted.

【図2】その平面模式図。FIG. 2 is a schematic plan view thereof.

【図3】基板搬送ロボットの斜視図。FIG. 3 is a perspective view of a substrate transfer robot.

【図4】ハウジング内のY軸移動機構の横断平面図。FIG. 4 is a cross-sectional plan view of a Y-axis moving mechanism inside a housing.

【図5】基板載置部の側面部分図。FIG. 5 is a partial side view of the substrate mounting portion.

【図6】Y軸移動機構が進出した状態を示す横断平面
図。
FIG. 6 is a cross-sectional plan view showing a state where the Y-axis moving mechanism has advanced.

【図7】プッシャーの動作を示す側面部分図。FIG. 7 is a partial side view showing the operation of the pusher.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

27 ハウジング 42 基板保持部 50 押圧部 51 プッシャー 52 押圧板バネ 56 プッシャー本体 57 基板載置部 58 載置部本体 59 板バネ 60 支持ピン 61 当接部材 RB2 基板搬送ロボット W 基板 YM Y軸駆動モータ 27 Housing 42 Substrate Holding Section 50 Pushing Section 51 Pusher 52 Pushing Leaf Spring 56 Pusher Main Body 57 Substrate Placing Section 58 Placing Section Main Body 59 Leaf Spring 60 Support Pin 61 Abutting Member RB2 Substrate Transfer Robot W Substrate YM Y-axis Drive Motor

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板を水平姿勢にて支持する基板支持装置
において、 前記基板の下面を下方から支持する下面支持部を有する
基板載置台と、 前記下面支持部に支持された前記基板の側方において前
記基板の一端部を受けるように、上下方向に傾斜を有す
るテーパ面を持つ受け部材と、 前記基板載置台に固定されて、前記受け部材を昇降自在
に支持する弾性部材と、 前記下面支持部に支持された基板の側方において前記一
端部と対向する他端部と当接するように前記基板載置台
に固定され、かつ前記受け部材のテーパ面とで前記基板
を挟持する当接部材と、を備えた基板支持装置。
1. A substrate supporting device for supporting a substrate in a horizontal posture, comprising: a substrate mounting table having a lower surface supporting portion for supporting a lower surface of the substrate from below; and a lateral side of the substrate supported by the lower surface supporting portion. In which the one end of the substrate is received, the receiving member having a tapered surface that is inclined in the vertical direction, an elastic member that is fixed to the substrate mounting table and that supports the receiving member so that the receiving member can move up and down, and the lower surface support. An abutting member which is fixed to the substrate mounting table so as to abut the other end facing the one end on the side of the substrate supported by the portion, and which holds the substrate with the tapered surface of the receiving member. And a substrate supporting device.
【請求項2】伸縮自在な搬送アームの先端に設けられた
基板支持部に基板を支持して水平方向に搬送する基板搬
送装置に用いられ、搬送される基板を前記基板支持部上
の所定位置に位置決めするための基板位置決め装置にお
いて、 前記基板支持部上に設けられ、位置決めされる基板の一
端部が当接可能な第1当接部と、 前記一端部と対向する基板他端部と当接可能な第2当接
部と、 前記搬送アームの圧縮状態において、前記第2当接部を
弾性的に前記基板他端部に押圧するように付勢力を生
じ、前記搬送アームの伸長状態において、前記付勢力を
解消する弾性機構と、を備えた基板位置決め装置。
2. A substrate carrying device for carrying a substrate in a horizontal direction by supporting the substrate on a substrate supporting part provided at the tip of an extendable carrying arm, and carrying the substrate to be carried at a predetermined position on the substrate supporting part. In the substrate positioning device for positioning the substrate, the first contact portion, which is provided on the substrate support portion and is capable of abutting one end portion of the substrate to be positioned, and the other end portion of the substrate facing the one end portion, are contacted with each other. In the compressed state of the second contact portion that can come into contact with the transfer arm, an urging force is generated to elastically press the second contact portion toward the other end of the substrate, and when the transfer arm is in the extended state. And an elastic mechanism that eliminates the biasing force.
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