JPH07192671A - 電子顕微鏡 - Google Patents
電子顕微鏡Info
- Publication number
- JPH07192671A JPH07192671A JP5331013A JP33101393A JPH07192671A JP H07192671 A JPH07192671 A JP H07192671A JP 5331013 A JP5331013 A JP 5331013A JP 33101393 A JP33101393 A JP 33101393A JP H07192671 A JPH07192671 A JP H07192671A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diaphragm
- plate
- target
- function
- electron microscope
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 abstract description 3
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、絞り板を真空外に出さずに絞り板だ
けに金属をコーティングすることを目的とし、さらに絞
りと金属コーティング装置の両方の機能を真空外より容
易に切り替え可能な絞り装置を提供することを目的とす
る。 【構成】上記目的を達成するために、真空外からの操作
より白金などのターゲットを絞り板の上下に配置される
と同時に、スパッタコーティング可能な圧力（１３〜１
３０Ｐａ）を有する放電室が形成される構造とした。 【効果】絞り装置を真空外に取り出さずに絞り板だけの
清浄を行うため、試料室を大気圧の状態にしたり高真空
に復帰させる作業が無くなり、清浄作業を容易に行うこ
とができ、かつ作業時間を大幅に短縮することができ
る。
けに金属をコーティングすることを目的とし、さらに絞
りと金属コーティング装置の両方の機能を真空外より容
易に切り替え可能な絞り装置を提供することを目的とす
る。 【構成】上記目的を達成するために、真空外からの操作
より白金などのターゲットを絞り板の上下に配置される
と同時に、スパッタコーティング可能な圧力（１３〜１
３０Ｐａ）を有する放電室が形成される構造とした。 【効果】絞り装置を真空外に取り出さずに絞り板だけの
清浄を行うため、試料室を大気圧の状態にしたり高真空
に復帰させる作業が無くなり、清浄作業を容易に行うこ
とができ、かつ作業時間を大幅に短縮することができ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子顕微鏡等におい
て、性能維持のために不可欠な絞り板の清浄化機能を備
えた絞り装置に関するものである。
て、性能維持のために不可欠な絞り板の清浄化機能を備
えた絞り装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、試料室を一旦大気圧にし、絞り板
を電子顕微鏡の鏡体から取り外してから絞り板に金属を
コーティングしていた。また、特開昭63−318050号公報
に記載のように、対物絞りの近傍にイオンスパッタ用タ
ーゲットを配置して、対物絞り装置チャンバを低真空に
し絞り板に金属をコーティングする方法で行っていた。
を電子顕微鏡の鏡体から取り外してから絞り板に金属を
コーティングしていた。また、特開昭63−318050号公報
に記載のように、対物絞りの近傍にイオンスパッタ用タ
ーゲットを配置して、対物絞り装置チャンバを低真空に
し絞り板に金属をコーティングする方法で行っていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、試料
室を一度大気圧にする必要があるため、コーティング終
了後、試料室を高真空に復帰させるために長時間を要
し、操作が繁雑であるなどの問題があった。また、対物
絞りの近傍にイオンスパッタ用ターゲットを配置する方
法は、絞り板だけでなくチャンバ内壁や他の装置も不要
なコーティング膜が形成される問題があった。本発明
は、絞り板を真空外に出さずに絞り板だけに金属をコー
ティングすることを目的とし、さらに絞りと金属コーテ
ィング装置の両方の機能を真空外より容易に切り替え可
能な絞り装置を提供することを目的とする。
室を一度大気圧にする必要があるため、コーティング終
了後、試料室を高真空に復帰させるために長時間を要
し、操作が繁雑であるなどの問題があった。また、対物
絞りの近傍にイオンスパッタ用ターゲットを配置する方
法は、絞り板だけでなくチャンバ内壁や他の装置も不要
なコーティング膜が形成される問題があった。本発明
は、絞り板を真空外に出さずに絞り板だけに金属をコー
ティングすることを目的とし、さらに絞りと金属コーテ
ィング装置の両方の機能を真空外より容易に切り替え可
能な絞り装置を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、真空外からの操作より白金などのターゲットを絞り
板の上下に配置させると同時に、スパッタコーティング
可能な圧力（１３〜１３０Ｐａ）を有する放電室が形成
される構造とした。
に、真空外からの操作より白金などのターゲットを絞り
板の上下に配置させると同時に、スパッタコーティング
可能な圧力（１３〜１３０Ｐａ）を有する放電室が形成
される構造とした。
【０００５】
【作用】金属ターゲットに負電圧（−５００〜−１００
０Ｖ）を印加することにより放電室においてグロー放電
が形成され、プラズマにおいて生成された正イオン衝撃
により金属がスパッタされ、絞り板両面に同時にコーテ
ィングされる。コーティング後は、真空外からの操作で
ターゲットを引き出すことにより通常の絞り装置として
機能する。
０Ｖ）を印加することにより放電室においてグロー放電
が形成され、プラズマにおいて生成された正イオン衝撃
により金属がスパッタされ、絞り板両面に同時にコーテ
ィングされる。コーティング後は、真空外からの操作で
ターゲットを引き出すことにより通常の絞り装置として
機能する。
【０００６】
【実施例】以下、本発明の１実施例を図１〜図２に示
す。
す。
【０００７】図１は本発明によるスパッタ金属コーティ
ング機能を有する絞り装置におけるコーティング機能使
用時の断面図である。絞り孔２を有する絞り板１は絞り
押え基板３と絞り押え板４との間に固定されている。タ
ーゲット取付け板５に装着された白金などのターゲット
６は、絶縁物７を介して絞り押え基板３と絞り押え板４
の上下に配置される。８はＯリングである。このとき絞
り押え基板３を通る配管９を通して、リークバルブ１０
を開いてＡｒガスを導入し、絞り板１とターゲット６と
の空間の圧力を１３〜１３０Ｐａになるように流量調節
をすると、放電室１１が形成される。この状態で電源１
２によってターゲット取付け板５に負電圧（−５００〜
−１０００Ｖ）を印加すると、放電室１１においてグロ
ー放電が形成され、プラズマで生成された正イオンがタ
ーゲット６に衝突し、ターゲット６の金属がスパッタさ
れ絞り板１の両面に同時にコーティングされることによ
り、絞り板１が清浄化できる。
ング機能を有する絞り装置におけるコーティング機能使
用時の断面図である。絞り孔２を有する絞り板１は絞り
押え基板３と絞り押え板４との間に固定されている。タ
ーゲット取付け板５に装着された白金などのターゲット
６は、絶縁物７を介して絞り押え基板３と絞り押え板４
の上下に配置される。８はＯリングである。このとき絞
り押え基板３を通る配管９を通して、リークバルブ１０
を開いてＡｒガスを導入し、絞り板１とターゲット６と
の空間の圧力を１３〜１３０Ｐａになるように流量調節
をすると、放電室１１が形成される。この状態で電源１
２によってターゲット取付け板５に負電圧（−５００〜
−１０００Ｖ）を印加すると、放電室１１においてグロ
ー放電が形成され、プラズマで生成された正イオンがタ
ーゲット６に衝突し、ターゲット６の金属がスパッタさ
れ絞り板１の両面に同時にコーティングされることによ
り、絞り板１が清浄化できる。
【０００８】図２は本発明によるスパッタ金属コーティ
ング機能を有する絞り装置における絞り機能使用時の断
面図である。通常の絞り機能を使用するときは、白金な
どのターゲット６は真空外からの操作より絞り板１の上
下より引き出される。この状態で電子線１３は開口角を
決定する絞り孔２を通り試料１４に照射され、通常の観
察が可能となる。
ング機能を有する絞り装置における絞り機能使用時の断
面図である。通常の絞り機能を使用するときは、白金な
どのターゲット６は真空外からの操作より絞り板１の上
下より引き出される。この状態で電子線１３は開口角を
決定する絞り孔２を通り試料１４に照射され、通常の観
察が可能となる。
【０００９】
【発明の効果】本発明によれば、絞り装置を真空外に取
り出す必要が無くなるので絞り板の清浄が容易となる。
また、試料室を大気圧から高真空に復帰させる作業が無
くなるので清浄時間を短縮することができる。
り出す必要が無くなるので絞り板の清浄が容易となる。
また、試料室を大気圧から高真空に復帰させる作業が無
くなるので清浄時間を短縮することができる。
【図１】スパッタ金属コーティング機能を有する絞り装
置において金属コーティング機能を説明するための断面
図である。
置において金属コーティング機能を説明するための断面
図である。
【図２】スパッタ金属コーティング機能を有する絞り装
置の断面図である。
置の断面図である。
１…絞り板、３…絞り押え基板、４…絞り押え板、６…
ターゲット、７…絶縁物、９…配管、１０…リークバル
ブ、１１…放電室、１２…電源。
ターゲット、７…絶縁物、９…配管、１０…リークバル
ブ、１１…放電室、１２…電源。
Claims (2)
- 【請求項１】電子顕微鏡の性能維持のため絞り板の清浄
化を行う目的で、グロー放電によるスパッタ金属コーテ
ィング機能を有する絞り装置を備えたことを特徴とする
電子顕微鏡。 - 【請求項２】請求項１の絞り装置において、電子顕微鏡
の絞り機能とスパッタ金属コーティング機能を、真空外
の操作で容易に切り替え可能な構造を有することを特徴
とする絞り装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5331013A JPH07192671A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5331013A JPH07192671A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 電子顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07192671A true JPH07192671A (ja) | 1995-07-28 |
Family
ID=18238855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5331013A Pending JPH07192671A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07192671A (ja) |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP5331013A patent/JPH07192671A/ja active Pending
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