JPH07190959A - 浸透探傷による分析方法を自動的に特性化・最適化・検査する方法および装置 - Google Patents

浸透探傷による分析方法を自動的に特性化・最適化・検査する方法および装置

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JPH07190959A
JPH07190959A JP6255765A JP25576594A JPH07190959A JP H07190959 A JPH07190959 A JP H07190959A JP 6255765 A JP6255765 A JP 6255765A JP 25576594 A JP25576594 A JP 25576594A JP H07190959 A JPH07190959 A JP H07190959A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 従来の浸透探傷分析法、特に蛍光浸透探傷分
析法における欠点を解決し、これらの方法による断片検
査の信頼性を向上させる。 【構成】 浸透探傷による分析法の定量特性化であっ
て、最適化した適した照明条件に基づいて本方法によっ
て前処理した様々な対象被検材から得られた画像を処理
することによって検出感度と本分析法によって生じた背
景ノイズとを決定する。浸透探傷による分析法の最適化
は、何が有効パラメータになっているかを求め、検出感
度を最大にすると共に背景ノイズを最小にすることので
きるパラメータ値を求めることで行われる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、浸透探傷による分析方
法を最適化・特性化・検査する方法および装置に関す
る。
【０００２】本発明は、浸透探傷と呼ばれる方法による
あらゆる種類の断片上の表面欠陥の検出に適用でき、さ
らには浸透探傷法のオートメーション化や特性化、最適
化に適用できる。
【０００３】
【従来の技術】浸透探傷を利用した周知の検査方法で
は、表面欠陥を標示できるよう検査対象となる断片に予
め前処理を加える。この前処理は、蛍光着色剤や着色さ
れたものを含有し、断片の表面に達している亀裂に浸透
する浸透剤（指示薬とも呼ばれる）を断片の表面に塗布
し、発色剤を塗布する前に断片表面にある余計な浸透剤
を除去するというものである。顕色剤は吸取紙のような
役目を果たし、蛍光着色剤を含有する浸透剤溶液を毛細
管現象によって表面欠陥の外に吸い出す。次にこの断片
を蛍光の不可視光などの適当な照明条件下におく。浸透
剤を断片表面から除去した後にひび割れや亀裂内に残っ
ている浸透剤を着色することによって可視状態の蛍光が
放射され、欠陥を検出できる。一般に浸透剤は紫外線領
域に含まれる光の作用下で通常は黄緑色の可視光を再放
射する蛍光顔料を含有している。この場合、この方法は
蛍光浸透探傷法と呼ばれる。
【０００４】このような欠陥を可視化する方法は、検査
者にとって断片を可視検査する便利な方法である。この
可視評価は検査者の目に多大なる負担をかけるデリケー
トな作業であり、特に大量の断片を検査する場合には集
中力も影響してくる。さらに、可視評価時の個人差の影
響をなくすことは困難である。
【０００５】浸透探傷法によって自動指示検査を実行す
ることはすでに提案されている。この目的のため、デー
タ収集および自動欠陥指示評価について、検査対象断片
を配置した画像範囲を照らす手段と、例えばカメラのビ
デオ手段など多数の断片画像を得るための手段と、例え
ば計算機などの画像処理手段とを有し、対象断片の画像
と比較することによって検査対象断片の表面に生じ得る
欠陥を検出するオプトエレクトロニクス装置を利用する
ことが知られている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、周知の
自動方法は一般に、いくつかの要因、特に検査対象断片
の照明条件や検査を実施する前の断片の前処理条件など
が影響して感度や識別能には限界がある。
【０００７】蛍光浸透探傷法の場合、紫外線を照射する
光源を利用して照明を行っている。光源の出射側におい
て、フィルタによって光源からの放射をフィルタリング
し、選択した浸透剤に適した波長範囲のみを取り出す。
浸透剤以外のものから生じるノイズ放射をなくすため
に、フィルタはカメラの入力側に同じように配置されて
いる。これらのフィルタはエネルギを消耗し、自動検査
装置を大型化する原因となっているため、フィルタの利
用も完全に満足のいくものではない。また、これらのフ
ィルタはこの種の用途に適した帯域通過フィルタではな
く、特に４００ナノメータ前後のノイズ波を除去しにく
い。この可視範囲内にある波長のエネルギは一般に極め
て大きなエネルギーを持っている。この波長は反射光を
発生させて画像を乱し、亀裂についての情報をマスクす
ると共に幻欠陥と呼ばれるノイズを引き起こして検査結
果の信頼性に影響する要因となる。
【０００８】さらに、周知の自動方法は一般に、利用者
の経験に基づいて決められる多数のパラメータに依存し
た基準の画像または断片との比較によるため、不確かな
信頼性を持った質的結果が得られる。
【０００９】特に、断片検査の信頼性は、断片の検査前
に行われる前処理、特に浸透剤の選択と余分な浸透剤を
除去するための断片清浄条件に左右される。検査結果の
信頼性も、ビデオ手段によって得られた画像処理やカメ
ラによって様々である。
【００１０】従って本発明の目的は、従来の浸透探傷分
析法、特に蛍光浸透探傷分析法における欠点を解決し、
これらの方法による断片検査の信頼性を向上させること
にある。
【００１１】上述した課題を解決するために、本発明
は、周知の浸透探傷分析法の定量特性化を可能にし、こ
れらの方法を互いに比較し、得られる結果の信頼性に影
響する様々なパラメータを最適化し、この方法に有意な
変動が生じないように予め最適化した分析方法を定期的
に検査する自動方法および装置を提供することを目的と
する。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、浸透探
傷分析法の定量特性化は、最適化した適した照明条件に
基づいて本方法によって前処理した様々な対象被検材か
ら得られた画像の処理によって検出感度および分析方法
によって生じた背景ノイズを決定する。
【００１３】浸透探傷分析法の最適化は、何が有効パラ
メータになっているかを求め、検出感度を最大にすると
共に背景ノイズを最小にすることのできるパラメータ値
を求めることで行われる。
【００１４】予め最適化された分析方法の検査は、検出
感度は落ちておらず背景ノイズも大きくなっていないと
いうことを定期的に確認することで同一の対象被検材に
基づいて行われる。逆の場合、警告信号を発生して機能
障害やこの機能障害の原因を求める。
【００１５】自動装置は蛍光浸透探傷に適した最適な照
明装置を備え、紫外線光源によって断片を照らし、指示
薬の励起スペクトルを中心とする波長帯域を選択して最
適化する。この波長帯域は、可視スペクトル内で光源か
ら放射される波長、特に青にあたる約４００ナノメータ
前後の波長を十分除去できる程度に狭い。
【００１６】より詳細には本発明によれば、少なくとも
１つの対象被検材を選択するステップと、選択した分析
法に基づいて表面欠陥を標示できるようにする指示薬を
使用して被検材を前処理するステップと、選択した指示
薬に適した適切な照明下に対象被検材を露光するステッ
プと、対象被検材の少なくとも１つの画像を獲得するス
テップと、アーチファクトを除去するようこの画像を処
理して検出感度と選択した分析法によって生じる背景ノ
イズとを決定するステップと、有効パラメータを求め、
各有効パラメータについて検出感度を最大にすると共に
背景ノイズを最小にできるパラメータ値を決定するステ
ップとを含む浸透探傷分析法の自動特性化・最適化・検
査方法が得られる。
【００１７】また、本発明によれば、照明装置と、撮像
装置と、画像処理装置とを備える蛍光浸透探傷分析法の
特性化・最適化・検査用の自動装置において、照明装置
は、紫外線光源と、指示薬の励起波長を中心とする波長
帯域を選択するためのモノクロメータと、紫外線を検査
対象断片の一領域上に集束させる光導波路とを有するこ
とを特徴とする蛍光浸透探傷分析法の特性化・最適化・
検査用の自動装置も得られる。
【００１８】
【実施例】浸透探傷によって断片を検査する方法におい
て、断片の表面と比較して亀裂をできるだけはっきりと
指示できるコントラストが得られる指示薬を利用して断
片を前処理する。蛍光浸透探傷の場合には、指示薬は紫
外光下で強く発光する蛍光顔料であり、表面の背景は暗
いままである。適当な感光装置によって蛍光指示薬の光
度を検出し、このようにして得られた情報を利用するこ
とで、上述の得られたコントラストを断片の自動検査に
使用することもできる。
【００１９】図１は、本発明による画像獲得・処理装置
を示す。
【００２０】この装置は、検査対象となる断片１１が含
まれる画像範囲を照らすための照明装置とも呼ばれる光
放出装置１０を備える。次にこの断片は低レベルの光に
対して極めて感度の高いテレビカメラ１２によって光学
的に検出され、電子的に処理される。このようにして得
られた画像は、例えば計算機などの画像処理システム１
３によって処理される。
【００２１】図２は、蛍光浸透探傷によって検査される
本発明の断片照射装置を実現した例を示す図である。
【００２２】照明装置は、断片の前処理サイクル時に使
用する指示薬に応じて選択された光源２０を備える。例
えば、約３６５ナノメータの波長を中心とする近紫外線
の励起下で波長が４５０から５５０ナノメータの間の黄
緑色の範囲にあたる可視光線が指示薬から再放出される
ような指示薬を選択してもよい。紫外線光源としては、
レーザや例えば水銀灯などの多スペクトルランプが挙げ
られる。ランプを利用する場合には、照明量を一定に維
持できるよう出力可変のものを選択すると好ましい。ま
た、放出波長のスペクトルを変えて照明量を調節するこ
とも可能である。
【００２３】少なくともシステム装置を備え、調節・集
束用の第１の光学装置２２を介し、さらにモノクロメー
タ２１を介して光源から放出される放射を伝達する。モ
ノクロメータ２１の出力側で得られる信号は、調節・集
束用の第２の光学装置２４を介し、さらには光導波路２
３を介して伝達される。
【００２４】集束装置２２および２４は、モノクロメー
タの入力側のスリットと光導波路の内部に全放射出力を
集束させるためのものである。
【００２５】亀裂を示すはっきりとしたコントラストを
得るために放出時にモノクロメータ２１をフィルタとし
て利用する。モノクロメータには、例えば３６５ナノメ
ータなどの指示薬の励起スペクトル近辺で選択された波
長帯域が十分なエネルギを放出できなくなるほど狭くな
らないことと、水銀灯などのランプを使用する場合には
光源から放出された波長のうち特に４００ナノメータ前
後の青にあたる可視スペクトルに含まれる波長を除去で
きるだけの十分な選択性を有するという２つの基本的な
条件を満たせるようなものを選択する。例えば、機械的
に連結され、同じ波長を選択するよう調節された２つの
システム装置を有する二重モノクロメータを使用して焦
点距離を短くすることでこれら２つの基本条件を満たす
ことができる。ランプ２０の熱エネルギによって２つの
システム装置の性能が落ちることのないようにするため
に、表面処理を施してシステム装置の表面を予め強固な
ものにしておく。さらに、モノクロメータ２１の上流側
で第１の集束装置２２とモノクロメータの入力側２６と
の間に熱フィルタ２５を配置し、モノクロメータの入力
側における熱エネルギを制限するようにしてもよい。
【００２６】この熱フィルタは、例えば中空のブレード
によって分離された水晶の二重壁システムである。冷却
は自然対流または流体を循環させることによって行う。
【００２７】光導波路は、減衰量をできるだけ少なく抑
えてノイズ放射を生じずに紫外線を確実に伝達できるも
のでなければならない。特に柔軟さや丈夫さを得るので
あれば液体を導波路として選択するが、例えばシリカ製
の光ファイバなどを使用することもできる。ただし、こ
の種のファイバは極めて脆いものではある。
【００２８】照明量を一様にして断片の例えば２５ｍｍ
×２５ｍｍ程度の小さな領域に紫外線を集束させるため
に、光導波路２３の両端には例えば水晶窓などの図示し
ない集束光学装置が取り付けられている。
【００２９】断片または全装置（カメラおよび照明装
置）を手動あるいは自動で動かすことによって、この小
さな領域毎に断片表面を連続的に検査する。
【００３０】蛍光浸透探傷による分析法を特性化するた
めに、本方法では検出感度と本方法によって生じた背景
ノイズとを決定する。このようにするために、表面に亀
裂を有する１つまたは複数の対象被検材に浸透探傷によ
る分析法を適用する。
【００３１】検出感度を評価するために、亀裂はあるが
その深さが分かっていて表面状態のよいブロックゲージ
を対象被検材として使用するとよい。例えば、市販の真
鍮ブロックは一定厚さのニッケルクロムで被覆され、付
着したニッケルクロムの膜厚に等しい深さの亀裂を有す
るものがある。５〜１００マイクロメータの間の様々な
膜厚のニッケルクロムが付着したブロックが利用でき
る。このようなブロックを対象被検材として利用するこ
とで、本方法の検出感度を評価することができる。
【００３２】背景ノイズを評価するために、断片を代表
する材料および表面状態について選択した対象被検材を
検査していく必要がある。断片の中から検査対象被検材
や検査対象断片を選択することができる。あるいは、被
検材は検査対象となる表面状態および材料を代表する試
験片であってもよい。
【００３３】浸透剤によって各対象被検材を予め前処理
し、表面欠陥を標示する。次にこの被検材を例えば図２
において説明したような照明装置からの紫外線に露光す
る。照明装置は、照明の強度をできるだけ一定かつ一様
にし、高品質の画像を得て互いに比較できるように調節
されている。対象被検材によって再放出された可視光を
検出してビデオカメラによってビデオ画像に変換し、例
えばグレー２５６階調の動的コード化数値画像を生成す
る。背景のグレー階調がゼロに近くなるようにカメラを
調節しておくと好ましい。使用するカメラの感度は、分
析対象となるひび割れの深さ、使用する浸透剤の感度、
結果をどの程度の精度にするかなどによって変わる。カ
メラの倍率は常に同じ画像範囲をカバーできるように調
節しておく。例えば、ニッケルクロムで被覆された真鍮
ブロックの場合には、画像の高さ方向全体に亀裂が入る
ようにカメラの倍率を調節する。ノイズを抑えるために
画像を常に同数倍（例えば２５６倍）にしておく。画像
処理装置は、検出感度および背景ノイズを抽出する際に
この画像を利用する。
【００３４】図３は、機能ブロックの流れの形として、
本発明による画像処理方法の様々なステップを示した図
である。
【００３５】この方法は２つの段階からなる。
【００３６】１つ目はステップ３０から３４に対応して
いる。ステップ３０において例えば標準ブロックなどか
らなる処理済被検材から画像Ｃｉを獲得する。ステップ
３１において、アーチファクトを除去するための画像の
２値化を可能にするために閾値Ｓｉを抽出し、ステップ
３２では感度指数Ｉｉを示す。これらの被検材について
実施する工程の詳細については図４を参照して後述す
る。ステップ３３は、他に処理対象画像Ｃｉがあるかど
うかを判断するステップである。この判断ステップがＹ
ＥＳの場合には繰り返し指数ｉおよび処理済画像数ｎを
インクリメントし、次の画像についてステップ３０〜３
２を実行する。判断ステップがＮＯであった場合には、
ステップ３４において各画像Ｃｉについて得られた感度
指数Ｉｉの平均Ｉおよび最小閾値Ｓを求める。
【００３７】２つ目はステップ３５から３９に対応して
いる。ステップ３５において、検査対象断片を代表する
断片被検材あるいは試験片から画像Ｆｊを獲得する。次
に、ステップ３６において閾値を平均感度指数Ｉを求め
る際に得られた最小閾値Ｓに設定した後、ステップ３７
においてノイズ率Ｂｊを抽出する。ステップ３８は、他
に処理対象画像Ｆｊがあるかどうかを判断するステップ
である。判断ステップがＹＥＳであった場合には、繰り
返し指数Ｊおよび画像数ｍをインクリメントし、次の画
像についてステップ３５〜３８を実行する。判断ステッ
プがＮＯであった場合には、ステップ３９において各画
像Ｆｊについて得られたノイズ率Ｂｊの平均Ｂを算出
し、処理を終了する。値ＩおよびＢはそれぞれ検出感度
および本浸透探傷分析法によって生じた背景ノイズを示
す。
【００３８】図４は、機能ブロックの形で、本発明によ
る感度指数決定のための画像Ｃｉの処理に対応する方法
のサブステップを示す図である。画像を互いに比較でき
るようにするためには、全画像Ｃｉについて背景を一様
にし、ほぼ同一の値を取る必要がある。
【００３９】各画像に対して処理を行うが、最初のステ
ップ３１１では画像の背景が一様であるかを確認し、例
えばゼロに近いものからグレーに近いものまでのグレー
階調に対応しているかを判断する。背景が一様ではない
および／またはゼロ前後ではない場合にはステップ３１
２を実行し、画像をベタ状態にして背景を示す部分を除
去する。この動作は、例えば画像を白色化したり、この
画像を画像Ｃｉから減算するなど様々な方法で実施する
ことができる。
【００４０】また、形態フィルタリングあるいは頻度フ
ィルタリングによって画像同士を比較して画像を補正す
るか、あるいは基準画像と比較して画像を補正するとい
った方法で背景を示す部分を除去することも可能であ
る。
【００４１】背景が一様である場合にはステップ３１３
を実行し、画像をフィルタリングしてグレー階調にす
る。このようなフィルタリングを行うことで、１つの亀
裂のみに対応する不連続な標示をまとめることができ
る。まとめるためには不連続な標示を裸眼では連続して
見えるくらいに十分に近似させておく必要がある。この
フィルタリングは、数学的な形態フィルタや頻度フィル
タを利用して行ってもよい。
【００４２】ステップ３１４において、アーチファクト
を除去するための画像の２値化を可能にする閾値Ｓｉを
算出する。閾値の値は最大光度の光度平均値の２倍に等
しくなるように選択する。
【００４３】倍数２は光度ピークの適切さの半分に対す
る評価に相当する。最高光度は、画像のヒストグラムか
ら得られた適当な閾値を使用して画像の２値化処理を実
行した後に得られ、画像の光度の標準偏差と平均値、２
値画像のフレーム、グレー階調の画像によってフレーム
化した２値画像を積算したものの総和に等しくなるよう
に選択される。
【００４４】この画像を閾値に２値化し、光度値が閾値
よりも小さい画像点をすべて除去する。ステップ３１５
において２値画像について２度目のフィルタリングを実
行し、ステップ３１３の１度目のフィルタリングでは抑
制できなかったグレー階調画像の弱いアーチファクトを
除去する。この２度目のフィルタリングは、線形膨脹お
よび線形浸蝕を含む。
【００４５】続くステップ３１６では、２つ亀裂が極め
てくっついてしまい１つになってしまったような多重表
示場合を検出できるようにする。この目的を達成するた
めに、フィルタリングした２値画像をフレーム抽出し、
３つの類似した部分のある３つの点があるかどうか判断
する。この判断ステップがＹＥＳである場合には、ステ
ップ３１７において複数の標示をセグメント化する。
【００４６】セグメント化をする際には融合してしまっ
た亀裂の標示を分離する。３つの点は一般に端に位置し
ている点から離れており、端点からサーチした後にセグ
メント化を実行する。さらに、３つの点と端点とが近似
しているかどうか判断する。複数の標示をいずれも分離
したら、ステップ３１８において様々なパラメータを求
め、感度の標示を決定する。感度の標示は例えば解像指
数と長さ指数との積に等しくなるように選択する。長さ
指数は読み取った長さと標示の理論的な長さの比に等し
く、解像指数は最高光度の平均光度と読み取った標示幅
の比に等しい。
【００４７】亀裂の理論的の長さは既知のものであり、
亀裂が画像の垂直方向にくるように被検材を位置決めし
た時に画像の高さに相当する。与えられた被検材につい
ての亀裂の数は、予め被検材を双眼鏡で観察することに
よって求められる。
【００４８】標示幅は、その光度が第１の閾値を越える
点が占める表面積と読み取った標示の長さの比を計算す
ることによって得られる。
【００４９】本発明による方法によって決定され、蛍光
浸透探傷分析法によって生成された検出感度および背景
ノイズを利用すると、この方法を定量特性化することが
できる。
【００５０】さらに、本発明の方法によればパラメータ
の値を求めることによって有効パラメータを最適化する
ことができ、これによって検出感度を最大にすると共に
背景ノイズを最小にすることができる。与えられた分析
法の最適化は、有効パラメータを選択し、検出感度を最
適化すると共に、このパラメータ値によって背景ノイズ
を大きくすることはないことを確認するようなパラメー
タの値を求めるステップを含む。
【００５１】図５は、傾向浸透探傷による分析法につい
て、様々なパラメータの検出感度に対する影響例を示し
た図である。結果はブロックゲージに基づいて得られた
ものである。図５では感度の変化を６つの異なるパラメ
ータによって可視化してある。これらのパラメータには
３種類の値１〜３を付してある。
【００５２】６つのパラメータは、洗浄対象となる断片
上の導管の通路数に応じた断片洗浄導管流量（Ｖ ＢＵ
ＳＥ）。３種類の導管流量を想定する。導管流量よりも
重要な導管通路数は一定の比を維持する際には重要なも
のである。
【００５３】図５において、流量Ｎｏ．１は流量Ｎｏ．
２よりも少なく、同様に速度Ｎｏ．２は流量Ｎｏ．３よ
りも小さい。
【００５４】断片洗浄用の水を通す水導管（ＢＵＳＥ
ＥＡＵ）の種類。
【００５５】断片に塗布した乳化剤の圧力（Ｐ．Ｅ
Ｍ）。
【００５６】断片の予洗浄用の水の圧力（Ｐ．ＰＲＥＬ
ＡＶＡＧＥ）。
【００５７】断片の洗浄用の水の圧力（Ｐ．ＬＡＶＡＧ
Ｅ）。
【００５８】乳化剤を断片に塗布する際に使用する導管
の種類（ＢＵＳＥ ＥＭ）。
【００５９】図５において、検出感度に対する各パラメ
ータの影響を各パラメータ毎に平均値と比較して測定し
た。これらのパラメータは、検出感度の最適化に最も好
ましい値を可視化できるように並べられている。特に、
洗浄液の導管流量が小さい時、使用する洗浄用導管が導
管Ｎｏ．１で、予洗浄用の水の水圧と断片洗浄時の水圧
が考慮されている３つ目の値に対応している時に検出感
度は良くなる。
【００６０】図６は、様々なパラメータの蛍光浸透探傷
分析法によって生じた背景ノイズに対する影響例を示し
た図である。
【００６１】この分析法および考慮されているパラメー
タは図５において説明したものと同じである。結果は対
象物に対する断片の代表試験片から得られたものであ
る。
【００６２】各パラメータの背景ノイズに対する影響を
各パラメータの平均値と比較して測定する。このよう
に、例えば、図６では洗浄用導管流量の選択によって感
度を最高にできるだけでなく背景ノイズを最小にできる
ということが確認される。この結果、これらのパラメー
タの値を使用して、選択した分析法を最適化することが
できるようになる。
【００６３】最後に、分析方法を特性化して最適化する
場合には、分析法の導き出されていない対象物に対して
も本発明の方法を定期的に利用することができる。この
目的を達成するために、分析法の特性化に使用したもの
と同じ対象被検物に基づいて定期的に分析方法によって
生じる検出感度および背景ノイズの値を確認する。結果
が悪くなってきたら、分析法の機能障害の原因を追求し
て正しい状態に戻す。
【００６４】本発明は詳述した特定の実施例に限定され
るものではない。特に、検出感度および背景ノイズの決
定用の画像処理方法は蛍光浸透探傷に限定されるもので
はなく、浸透探傷を利用したあらゆる分析方法に適用で
きる。
【００６５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
浸透探傷分析法、特に蛍光浸透探傷分析法による断片検
査の信頼性を向上させることができる。また、本発明に
よれば、浸透探傷分析法の定量特性化を可能にし、これ
らの方法を互いに比較し、得られる結果の信頼性に影響
する様々なパラメータを最適化し、この方法に有意な変
動が生じないように予め最適化した分析方法を定期的に
検査する自動方法および装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による画像の獲得および処理を行なう装
置を示す図である。
【図２】蛍光浸透探傷によって検査される本発明の断片
照射装置を実現した例を示す図である。
【図３】本発明の一実施例による画像処理方法の様々な
ステップを示したフローチャートである。
【図４】本発明による感度指数決定のための画像Ｃｉの
処理に対応する方法のサブステップを示すフローチャー
トである。
【図５】蛍光浸透探傷による分析法について、様々なパ
ラメータの検出感度に対する影響例を示した図である。
【図６】様々なパラメータの蛍光浸透探傷分析法によっ
て生じた背景ノイズに対する影響例を示した図である。
【符号の説明】
１２ カメラ ２０ 光源 ２１ モノクロメータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ベロニツク・エレーヌ・マリー・ピエー ル・プルジアン−ルフエーブル フランス国、92330・ソー、リユ・ドユ・ マレシヤル・フオツク、１

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 少なくとも１つの対象被検材を選択する
    ステップと、 選択した分析法に基づいて表面欠陥を標示できるように
    する指示薬を使用して被検材を前処理するステップと、 選択した指示薬に適した適切な照明下に対象被検材を露
    光するステップと、対象被検材の少なくとも１つの画像
    を獲得するステップと、 アーチファクトを除去するよう該画像を処理して検出感
    度と選択した分析法によって生じる背景ノイズとを決定
    するステップと、 有効パラメータを求め、各有効パラメータについて検出
    感度を最大にすると共に背景ノイズを最小にできるパラ
    メータ値を決定するステップとを含む浸透探傷分析法を
    自動的に特性化・最適化・検査する方法。
  2. 【請求項２】 検出感度を決定するための画像処理は、
    各画像について、 画像を補正して予め定められた値のグレー階調の一様な
    背景を得る（３１１、３１２）ステップと、 画像をフィルタリングしてグレー階調にし、１つの亀裂
    の閾値に対応する不連続な標示をまとめる（３１３）ス
    テップと、 １つの閾値を算出し、閾値により補正及びフィルタリン
    グされた画像を断片の欠陥に対応させることが可能な画
    像点のある１つの値に２値化する（３１４）ステップ
    と、 ２値画像をフィルタリング（３１５）し、グレー階調の
    画像のフィルタリング時には除去できなかった欠陥及び
    欠陥に関係ない画像点を除去するステップと、 併合し近接している複数の欠陥を検出するための多重標
    示を求める（３１６）ステップと、 併合している欠陥の標示を分離する（３１７）ステップ
    と、 感度指数を抽出するステップ（３１８）とを含むことを
    特徴とする請求項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】 分析法の検出感度は、得られた各画像か
    ら抽出した感度指数の平均値に等しいことを特徴とする
    請求項２に記載の方法。
  4. 【請求項４】 背景ノイズを決定するための画像処理
    は、得られた各画像について、背景ノイズ率の抽出（３
    ７）前に感度を決定するために得られた閾値の小さい方
    を使用して閾値化を実行する（３６）ステップを含む請
    求項２に記載の方法。
  5. 【請求項５】 本分析法によって生じた背景ノイズは、
    得られた各画像についての背景ノイズ率の平均値に等し
    いことを特徴とする請求項４に記載の方法。
  6. 【請求項６】 検出感度の決定用の対象被検材は、深さ
    の分かっている亀裂を有するブロックゲージであること
    を特徴とする請求項３に記載の方法。
  7. 【請求項７】 背景ノイズの決定用の対象被検材は、対
    象物質と同じ材料からなり、対象物質断片を代表する表
    面状態を有する高信頼度の断片であることを特徴とする
    請求項５に記載の方法。
  8. 【請求項８】 対象断片は可視光線を指示薬の励起スペ
    クトルを中心とする波長で照らすと可視光線を放出する
    指示薬を利用して標示された表面欠陥を有する蛍光浸透
    探傷分析法の自動特性化・最適化・検査装置であって、
    照明装置（１０）と、撮像装置（１２）と、画像処理装
    置（１３）とを備える蛍光浸透探傷分析法の特性化・最
    適化・検査用の自動装置において、照明装置（１０）
    は、紫外線光源（２０）と、指示薬の励起波長を中心と
    する波長帯域を選択するためのモノクロメータ（２１）
    と、紫外線を検査対象断片の一領域上に集束させる光導
    波路（２３）とを有することを特徴とする蛍光浸透探傷
    分析法を特性化・最適化・検査するための自動装置。
  9. 【請求項９】 モノクロメータの入力側と出力側とに２
    つの適合・集束装置（２２、２４）を有することを特徴
    とする請求項８に記載の装置。
  10. 【請求項１０】 モノクロメータ（２１）の上流側に熱
    フィルタ（２５）を配置したことを特徴とする請求項９
    に記載の装置。
  11. 【請求項１１】 モノクロメータは機械的に連結され、
    同じ波長を選択するよう調節された２つのシステム装置
    を有する二重モノクロメータであることを特徴とする請
    求項８から１０のいずれか一項に記載の装置。
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