JPH07190771A - 測量方法及びこれに用いる測量装置 - Google Patents
測量方法及びこれに用いる測量装置Info
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- JPH07190771A JPH07190771A JP34738093A JP34738093A JPH07190771A JP H07190771 A JPH07190771 A JP H07190771A JP 34738093 A JP34738093 A JP 34738093A JP 34738093 A JP34738093 A JP 34738093A JP H07190771 A JPH07190771 A JP H07190771A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】ターゲットを鉛直状態に合わせる必要なく、正
確な測位を行う。 【効果】各々に反射テープ71が被着された上反射部7
Tと下反射部7Bが、これ等7T、7Bと先端6bが上
下方向に間隔L2、L2をなすように設けられたターゲ
ット5を用いて、先端6bが測位点PXnに接する形に
しておく。基準点P1、P2にそれぞれレーザユニット
3、3を設置し、ここからレーザ光39を射出させ、各
反射部7T、7Bからの反射光39’の入射角度θ1に
基づいて、上反射部7Tと下反射部7Bの平面座標位置
(Xt、Yt)、(Xb、Yb)を求め、両者7T、7
B間の相対変位TBに基づいて、先端6bの位置を演算
によって算出し、該先端位置を測位点PXnの平面座標
位置(Xn、Yn)として出力する。
確な測位を行う。 【効果】各々に反射テープ71が被着された上反射部7
Tと下反射部7Bが、これ等7T、7Bと先端6bが上
下方向に間隔L2、L2をなすように設けられたターゲ
ット5を用いて、先端6bが測位点PXnに接する形に
しておく。基準点P1、P2にそれぞれレーザユニット
3、3を設置し、ここからレーザ光39を射出させ、各
反射部7T、7Bからの反射光39’の入射角度θ1に
基づいて、上反射部7Tと下反射部7Bの平面座標位置
(Xt、Yt)、(Xb、Yb)を求め、両者7T、7
B間の相対変位TBに基づいて、先端6bの位置を演算
によって算出し、該先端位置を測位点PXnの平面座標
位置(Xn、Yn)として出力する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光等の測量光を
用いてターゲットが位置する地点を測位検出する、測量
方法及びこれに用いる測量装置に関する。
用いてターゲットが位置する地点を測位検出する、測量
方法及びこれに用いる測量装置に関する。
【0002】
【従来の技術】最近、地点の位置を測位検出する際に、
新規な測量技術によって作業の省力化を図ろうとする試
みがいろいろとなされている。例えば、レーザ光を用い
て、少なくとも2台のレーザユニットから、該レーザ光
を水平方向に走査する形で射出し、その表面に反射部材
を被着したポール状のターゲットに該レーザ光をそれぞ
れ照射し、該ターゲットに反射したレーザ光の反射光を
各々のレーザユニット位置で捉えることによって、レー
ザユニットの位置とこれが捉えた反射光の入射角度に基
づいて、ターゲットが位置する地点を特定する形で、該
ターゲットが指示する地点の座標位置を検出せんとする
測位方法が試案されている。
新規な測量技術によって作業の省力化を図ろうとする試
みがいろいろとなされている。例えば、レーザ光を用い
て、少なくとも2台のレーザユニットから、該レーザ光
を水平方向に走査する形で射出し、その表面に反射部材
を被着したポール状のターゲットに該レーザ光をそれぞ
れ照射し、該ターゲットに反射したレーザ光の反射光を
各々のレーザユニット位置で捉えることによって、レー
ザユニットの位置とこれが捉えた反射光の入射角度に基
づいて、ターゲットが位置する地点を特定する形で、該
ターゲットが指示する地点の座標位置を検出せんとする
測位方法が試案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、こうした測
位方法では、レーザ光を所定高さ位置の水平面上に照射
して、該レーザ光が照射された水平面上に位置する箇所
のターゲットの座標位置を、求める地点の平面座標位置
として検出するので、ターゲットが正確に鉛直方向に向
いて立設されていなければならない。即ち、ターゲット
が鉛直方向に対して傾いていると、該ターゲットの先端
が指示している地点の座標位置と、上述したようにレー
ザ光の反射光によって検出されるターゲットの座標位置
が一致しない、という不都合がある。しかし、ターゲッ
トを測位すべき地点上に設置する際に、該ターゲットを
鉛直状態に一々合わせるのは大変である。また、前記し
た測位方法では、レーザユニットが射出したレーザ光の
照射平面内にターゲットが配置していないと反射光が得
られないが、測量現場に測位すべき地点が複数あって各
地点間に凹凸がある場合には、当該凹凸によってターゲ
ットの高さ位置が変化して、測量光照射平面から外れて
しまう危険性がある。従って、本観点から極力長いター
ゲットを用いて測位を行いたい場合があるが、長いター
ゲットを用いると、これが鉛直状態から少しでも傾いて
いると、レーザ光が反射した位置と先端の位置が大きく
ずれて、測位精度が非常に悪くなる、という不都合があ
る。そこで本発明は、上記事情に鑑み、レーザ光等の測
量光を用いて測位を行う際に、ターゲットを鉛直状態に
合わせて設置する必要なく、正確な測位が可能な、測量
方法及びこれに用いる測量装置を提供するものである。
位方法では、レーザ光を所定高さ位置の水平面上に照射
して、該レーザ光が照射された水平面上に位置する箇所
のターゲットの座標位置を、求める地点の平面座標位置
として検出するので、ターゲットが正確に鉛直方向に向
いて立設されていなければならない。即ち、ターゲット
が鉛直方向に対して傾いていると、該ターゲットの先端
が指示している地点の座標位置と、上述したようにレー
ザ光の反射光によって検出されるターゲットの座標位置
が一致しない、という不都合がある。しかし、ターゲッ
トを測位すべき地点上に設置する際に、該ターゲットを
鉛直状態に一々合わせるのは大変である。また、前記し
た測位方法では、レーザユニットが射出したレーザ光の
照射平面内にターゲットが配置していないと反射光が得
られないが、測量現場に測位すべき地点が複数あって各
地点間に凹凸がある場合には、当該凹凸によってターゲ
ットの高さ位置が変化して、測量光照射平面から外れて
しまう危険性がある。従って、本観点から極力長いター
ゲットを用いて測位を行いたい場合があるが、長いター
ゲットを用いると、これが鉛直状態から少しでも傾いて
いると、レーザ光が反射した位置と先端の位置が大きく
ずれて、測位精度が非常に悪くなる、という不都合があ
る。そこで本発明は、上記事情に鑑み、レーザ光等の測
量光を用いて測位を行う際に、ターゲットを鉛直状態に
合わせて設置する必要なく、正確な測位が可能な、測量
方法及びこれに用いる測量装置を提供するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】即ち本発明は、ポール状
に形成されたターゲット(5)に、第1位置被検出部
(7T)と第2位置被検出部(7B)を、該第1位置被
検出部(7T)と第2位置被検出部(7B)と該ターゲ
ット(5)の下端(6b)が上下方向に所定の間隔(L
2)、(L2)をもって並ぶ形で設け、前記第1位置被
検出部(7T)と第2位置被検出部(7B)の各々に測
量光反射手段(71)を設け、前記ターゲット(5)を
測位すべき測位点(PXn)に、前記下端(6b)が該
測位点(PXn)に接する形で立設しておき、直進性を
有する測量光(39)を射出し、該測量光(39)の反
射光(39’)を検知し得る2ヶの測量光射出ユニット
(3、3)を用いて、前記2ヶの測量光射出ユニット
(3、3)をそれぞれ位置既知点(P1)、(P2)上
に設置し、前記2ヶの測量光射出ユニット(3、3)か
ら前記測量光(39)を水平方向に走査する形で射出さ
せて、前記ターゲット(5)に照射し、まず、該2ヶの
測量光射出ユニット(3、3)に、前記第1位置被検出
部(7T)の測量光反射手段(71)からの各反射光
(39’)をそれぞれ検知させ、該2ヶの測量光射出ユ
ニット(3、3)がそれぞれ検知する反射光(39’)
の水平方向の入射角度(θ1)に基づいて該第1位置被
検出部(7T)の平面座標位置(Xt、Yt)を演算
し、次に、前記2ヶの測量光射出ユニット(3、3)
に、前記第2位置被検出部(7B)からの各反射光(3
9’)をそれぞれ検知させ、該2ヶの測量光射出ユニッ
ト(3、3)がそれぞれ検知する反射光(39’)の水
平方向の入射角度(θ1)に基づいて該第2位置被検出
部(7B)の平面座標位置(Xb、Yb)を演算し、該
第2位置被検出部(7B)の前記第1位置被検出部(7
T)に対する相対変位(TB)を求め、該求められた相
対変位(TB)と、前記演算された第1又は第2位置被
検出部(7T)、(7B)の平面座標位置(Xt、Y
t)、(Xb、Yb)に基づいて、前記ターゲット
(5)の下端(6b)の平面座標位置(Xn、Yn)を
演算し、該演算されたターゲット(5)の下端(6b)
の平面座標位置(Xn、Yn)を、該ターゲット(5)
が立設された前記測位点(PXn)の平面座標位置(X
n、Yn)として検出するようにして、構成される。ま
た、本発明は、測位点(PXn)に立設され得る形でポ
ール状に形成されたターゲット(5)を有し、前記ター
ゲット(5)に第1位置被検出部(7T)と第2位置被
検出部(7B)を、該第1位置被検出部(7T)と第2
位置被検出部(7B)と該ターゲット(5)の下端(6
b)が上下方向に所定の間隔(L2)、(L2)をもっ
て並ぶ形で設け、前記第1位置被検出部(7T)と第2
位置被検出部(7B)のそれぞれに、直進性を有する測
量光(39)を入射方向と一致した方向に再帰させるよ
うに反射し得る測量光反射手段(71)を設け、また、
各々が前記測量光(39)を水平方向に走査する形で射
出し、該測量光(39)の反射光(39’)を検知し得
る2ヶの測量光射出ユニット(3、3)を設け、前記2
ヶの測量光射出ユニット(3、3)が検知する、前記タ
ーゲット(5)の第1位置被検出部(7T)と第2位置
被検出部(7B)の各測量光反射手段(71)からの反
射光(39’)の水平方向の各入射角度(θ1)に基づ
いて、該第1位置被検出部(7T)と第2位置被検出部
(7B)の平面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Y
b)を演算する位置演算手段(15A)を設け、前記位
置演算手段(15A)が演算する第1位置被検出部(7
T)と第2位置被検出部(7B)の各平面座標位置(X
t、Yt)、(Xb、Yb)に基づいて、該第2位置被
検出部(7B)の第1位置被検出部(7T)に対する相
対変位(TB)を演算する変位演算手段(15B)を設
け、該変位演算手段(15B)によって演算された相対
変位(TB)と、前記第1又は第2位置被検出部(7
T)、(7B)の平面座標位置(Xt、Yt)、(X
b、Yb)に基づいて、前記ターゲット(5)の下端
(6b)の平面座標位置(Xn、Yn)を演算し得る測
位点演算手段(15C)を設け、該測位点演算手段(1
5C)によって演算されたターゲット(5)の下端(6
b)の平面座標位置(Xn、Yn)を、前記測位点(P
Xn)の平面座標位置(Xn、Yn)として出力し得る
出力手段(18)を設けて、測量装置(2)が構成され
る。また、本発明による前記測量装置(2)は、前記第
1位置被検出部(7T)と第2位置被検出部(7B)の
各々にシャッタ機構(9)を、該第1位置被検出部(7
T)と第2位置被検出部(7B)の前記測量光反射手段
(71)を被覆する形でそれぞれ設け、該第1位置被検
出部(7T)と第2位置被検出部(7B)の各シャッタ
機構(9)を選択的に開閉駆動するシャッタ駆動手段
(21)を設けて、構成される。また、本発明による前
記測量装置(2)は、前記測量光射出ユニット(3)に
光上下拡散手段(34)を、該測量光射出ユニット
(3)による前記測量光(39)の光路中において該測
量光(39)を上下方向に拡散し得る形で設けて、構成
される。なお、( )内の番号等は、図面における対応
する要素を示す、便宜的なものであり、従って、本記述
は図面上の記載に限定拘束されるものではない。以下の
作用の欄についても同様である。
に形成されたターゲット(5)に、第1位置被検出部
(7T)と第2位置被検出部(7B)を、該第1位置被
検出部(7T)と第2位置被検出部(7B)と該ターゲ
ット(5)の下端(6b)が上下方向に所定の間隔(L
2)、(L2)をもって並ぶ形で設け、前記第1位置被
検出部(7T)と第2位置被検出部(7B)の各々に測
量光反射手段(71)を設け、前記ターゲット(5)を
測位すべき測位点(PXn)に、前記下端(6b)が該
測位点(PXn)に接する形で立設しておき、直進性を
有する測量光(39)を射出し、該測量光(39)の反
射光(39’)を検知し得る2ヶの測量光射出ユニット
(3、3)を用いて、前記2ヶの測量光射出ユニット
(3、3)をそれぞれ位置既知点(P1)、(P2)上
に設置し、前記2ヶの測量光射出ユニット(3、3)か
ら前記測量光(39)を水平方向に走査する形で射出さ
せて、前記ターゲット(5)に照射し、まず、該2ヶの
測量光射出ユニット(3、3)に、前記第1位置被検出
部(7T)の測量光反射手段(71)からの各反射光
(39’)をそれぞれ検知させ、該2ヶの測量光射出ユ
ニット(3、3)がそれぞれ検知する反射光(39’)
の水平方向の入射角度(θ1)に基づいて該第1位置被
検出部(7T)の平面座標位置(Xt、Yt)を演算
し、次に、前記2ヶの測量光射出ユニット(3、3)
に、前記第2位置被検出部(7B)からの各反射光(3
9’)をそれぞれ検知させ、該2ヶの測量光射出ユニッ
ト(3、3)がそれぞれ検知する反射光(39’)の水
平方向の入射角度(θ1)に基づいて該第2位置被検出
部(7B)の平面座標位置(Xb、Yb)を演算し、該
第2位置被検出部(7B)の前記第1位置被検出部(7
T)に対する相対変位(TB)を求め、該求められた相
対変位(TB)と、前記演算された第1又は第2位置被
検出部(7T)、(7B)の平面座標位置(Xt、Y
t)、(Xb、Yb)に基づいて、前記ターゲット
(5)の下端(6b)の平面座標位置(Xn、Yn)を
演算し、該演算されたターゲット(5)の下端(6b)
の平面座標位置(Xn、Yn)を、該ターゲット(5)
が立設された前記測位点(PXn)の平面座標位置(X
n、Yn)として検出するようにして、構成される。ま
た、本発明は、測位点(PXn)に立設され得る形でポ
ール状に形成されたターゲット(5)を有し、前記ター
ゲット(5)に第1位置被検出部(7T)と第2位置被
検出部(7B)を、該第1位置被検出部(7T)と第2
位置被検出部(7B)と該ターゲット(5)の下端(6
b)が上下方向に所定の間隔(L2)、(L2)をもっ
て並ぶ形で設け、前記第1位置被検出部(7T)と第2
位置被検出部(7B)のそれぞれに、直進性を有する測
量光(39)を入射方向と一致した方向に再帰させるよ
うに反射し得る測量光反射手段(71)を設け、また、
各々が前記測量光(39)を水平方向に走査する形で射
出し、該測量光(39)の反射光(39’)を検知し得
る2ヶの測量光射出ユニット(3、3)を設け、前記2
ヶの測量光射出ユニット(3、3)が検知する、前記タ
ーゲット(5)の第1位置被検出部(7T)と第2位置
被検出部(7B)の各測量光反射手段(71)からの反
射光(39’)の水平方向の各入射角度(θ1)に基づ
いて、該第1位置被検出部(7T)と第2位置被検出部
(7B)の平面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Y
b)を演算する位置演算手段(15A)を設け、前記位
置演算手段(15A)が演算する第1位置被検出部(7
T)と第2位置被検出部(7B)の各平面座標位置(X
t、Yt)、(Xb、Yb)に基づいて、該第2位置被
検出部(7B)の第1位置被検出部(7T)に対する相
対変位(TB)を演算する変位演算手段(15B)を設
け、該変位演算手段(15B)によって演算された相対
変位(TB)と、前記第1又は第2位置被検出部(7
T)、(7B)の平面座標位置(Xt、Yt)、(X
b、Yb)に基づいて、前記ターゲット(5)の下端
(6b)の平面座標位置(Xn、Yn)を演算し得る測
位点演算手段(15C)を設け、該測位点演算手段(1
5C)によって演算されたターゲット(5)の下端(6
b)の平面座標位置(Xn、Yn)を、前記測位点(P
Xn)の平面座標位置(Xn、Yn)として出力し得る
出力手段(18)を設けて、測量装置(2)が構成され
る。また、本発明による前記測量装置(2)は、前記第
1位置被検出部(7T)と第2位置被検出部(7B)の
各々にシャッタ機構(9)を、該第1位置被検出部(7
T)と第2位置被検出部(7B)の前記測量光反射手段
(71)を被覆する形でそれぞれ設け、該第1位置被検
出部(7T)と第2位置被検出部(7B)の各シャッタ
機構(9)を選択的に開閉駆動するシャッタ駆動手段
(21)を設けて、構成される。また、本発明による前
記測量装置(2)は、前記測量光射出ユニット(3)に
光上下拡散手段(34)を、該測量光射出ユニット
(3)による前記測量光(39)の光路中において該測
量光(39)を上下方向に拡散し得る形で設けて、構成
される。なお、( )内の番号等は、図面における対応
する要素を示す、便宜的なものであり、従って、本記述
は図面上の記載に限定拘束されるものではない。以下の
作用の欄についても同様である。
【0005】
【作用】上記した構成により、本発明は、ターゲット
(5)の下端(6b)が、求められた相対変位(TB)
に対応した変位分だけ第1又は第2位置被検出部(7
T)、(7B)に対してずれた位置に配置されるので、
これを利用して、該下端(6b)が接している測位点
(PXn)の平面座標位置(Xn、Yn)を、該相対変
位(TB)と第1又は第2位置被検出部(7T)、(7
B)の平面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Yb)に
基づく演算によって算出するように作用する。また、本
発明は、位置演算手段(15A)に演算させた第1又は
第2位置被検出部(7T)、(7B)の各平面座標位置
(Xt、Yt)、(Xb、Yb)と、変位演算手段(1
5B)に演算させた第2位置被検出部(7B)の第1位
置被検出部(7T)に対する相対変位(TB)に基い
て、測位点演算手段(15C)に演算させたターゲット
(5)の下端(6b)の平面座標位置(Xn、Yn)
を、出力手段(18)によって、測位点(PXn)の平
面座標位置(Xn、Yn)として出力させるように作用
する。また、本発明において、シャッタ駆動手段(2
1)によるシャッタ機構(9)の開閉駆動によって、第
1位置被検出部(7T)と第2位置被検出部(7B)の
各測量光反射手段(71)は、選択的に、測量光(3
9)を反射し得る状態と、反射し得ない状態を呈するよ
うに作用する。また、本発明において、測量光射出ユニ
ット(3)は光上下拡散手段(34)によって上下方向
に拡散した測量光(39)を水平方向に走査する形で射
出するように作用する。
(5)の下端(6b)が、求められた相対変位(TB)
に対応した変位分だけ第1又は第2位置被検出部(7
T)、(7B)に対してずれた位置に配置されるので、
これを利用して、該下端(6b)が接している測位点
(PXn)の平面座標位置(Xn、Yn)を、該相対変
位(TB)と第1又は第2位置被検出部(7T)、(7
B)の平面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Yb)に
基づく演算によって算出するように作用する。また、本
発明は、位置演算手段(15A)に演算させた第1又は
第2位置被検出部(7T)、(7B)の各平面座標位置
(Xt、Yt)、(Xb、Yb)と、変位演算手段(1
5B)に演算させた第2位置被検出部(7B)の第1位
置被検出部(7T)に対する相対変位(TB)に基い
て、測位点演算手段(15C)に演算させたターゲット
(5)の下端(6b)の平面座標位置(Xn、Yn)
を、出力手段(18)によって、測位点(PXn)の平
面座標位置(Xn、Yn)として出力させるように作用
する。また、本発明において、シャッタ駆動手段(2
1)によるシャッタ機構(9)の開閉駆動によって、第
1位置被検出部(7T)と第2位置被検出部(7B)の
各測量光反射手段(71)は、選択的に、測量光(3
9)を反射し得る状態と、反射し得ない状態を呈するよ
うに作用する。また、本発明において、測量光射出ユニ
ット(3)は光上下拡散手段(34)によって上下方向
に拡散した測量光(39)を水平方向に走査する形で射
出するように作用する。
【0006】
【実施例】図1は本発明による測量装置の1実施例を示
す全体斜視図、図2は本発明による測量方法における測
位点の座標位置検出方法を示す図、図3は図1に示す測
量装置に用いる測量光射出ユニットの1実施例を示す平
面図、図4は図3に示す光ユニットの側面図、図5は図
1に示す測量装置における反射部材位置検出方法を示す
平面図、図6は本発明による測量装置に用いられるター
ゲットの別の例を示す側面図、図7は図6に示すターゲ
ットの平面図である。
す全体斜視図、図2は本発明による測量方法における測
位点の座標位置検出方法を示す図、図3は図1に示す測
量装置に用いる測量光射出ユニットの1実施例を示す平
面図、図4は図3に示す光ユニットの側面図、図5は図
1に示す測量装置における反射部材位置検出方法を示す
平面図、図6は本発明による測量装置に用いられるター
ゲットの別の例を示す側面図、図7は図6に示すターゲ
ットの平面図である。
【0007】測量作業が行われている現場1は、図1に
示すように、測量上設定された所定のX、Y、Z座標系
を有する地面上に造成された形で、該座標系と現場1の
地形が対応する形になっており、現場1には、測位すべ
き測位点PXnの高さ座標(Zn)の値を除いた、平面
座標位置(Xn、Yn)を測位検出するための、測量装
置2が設けられている。測量装置2は、測位点PXnを
指示するためにポール状に形成されたターゲット5と、
2ヶの測量光射出ユニットであるレーザユニット3、3
及び、これ等2ヶのレーザユニット3、3とターゲット
5によって得られるデータを処理し、該ターゲット5の
先端6bの位置(Xn、Yn)を、測位点PXnの座標
位置(Xn、Yn)として、算出するための測位動作管
理装置10によって構成されている。
示すように、測量上設定された所定のX、Y、Z座標系
を有する地面上に造成された形で、該座標系と現場1の
地形が対応する形になっており、現場1には、測位すべ
き測位点PXnの高さ座標(Zn)の値を除いた、平面
座標位置(Xn、Yn)を測位検出するための、測量装
置2が設けられている。測量装置2は、測位点PXnを
指示するためにポール状に形成されたターゲット5と、
2ヶの測量光射出ユニットであるレーザユニット3、3
及び、これ等2ヶのレーザユニット3、3とターゲット
5によって得られるデータを処理し、該ターゲット5の
先端6bの位置(Xn、Yn)を、測位点PXnの座標
位置(Xn、Yn)として、算出するための測位動作管
理装置10によって構成されている。
【0008】即ち、現場1の作業範囲外には、図1に示
すように、その各々の座標位置(X、Y、Z)の値が既
知なる基準点P1、P2が、位置既知点としてそれぞれ
設けられており、平面座標位置(X1、Y1)をなす基
準点P1と平面座標位置(X2、Y1)をなす基準点P
2は、現場1に設定された座標系上においてX軸方向に
並ぶ形で、一致したY軸上の座標値(Y1)を保有する
形になっている。各基準点P1、P2には、それぞれレ
ーザユニット3がそれぞれ設置されており、従って2ヶ
のレーザユニット3、3は、基準点P1、P2間の距離
と一致した分だけの間隔をなす形で、X軸方向に沿って
水平方向に距離L1だけ離れた形になっている。なお、
2ヶのレーザユニット3は、それぞれのレーザユニット
3毎に固有な基準軸心CT0を有しており、各レーザユ
ニット3は、その基準軸心CT0をX軸方向と一致させ
た形で基準点P1又はP2に設置されている。
すように、その各々の座標位置(X、Y、Z)の値が既
知なる基準点P1、P2が、位置既知点としてそれぞれ
設けられており、平面座標位置(X1、Y1)をなす基
準点P1と平面座標位置(X2、Y1)をなす基準点P
2は、現場1に設定された座標系上においてX軸方向に
並ぶ形で、一致したY軸上の座標値(Y1)を保有する
形になっている。各基準点P1、P2には、それぞれレ
ーザユニット3がそれぞれ設置されており、従って2ヶ
のレーザユニット3、3は、基準点P1、P2間の距離
と一致した分だけの間隔をなす形で、X軸方向に沿って
水平方向に距離L1だけ離れた形になっている。なお、
2ヶのレーザユニット3は、それぞれのレーザユニット
3毎に固有な基準軸心CT0を有しており、各レーザユ
ニット3は、その基準軸心CT0をX軸方向と一致させ
た形で基準点P1又はP2に設置されている。
【0009】各レーザユニット3は、図3又は図4に示
すように、レーザ射出部31を有しており、レーザ射出
部31は、三脚32によって、基準点P1又はP2上に
おいて水準状態をなすように保持されている。レーザ射
出部31には、レーザ光39を射出し得る光源33が設
けられており、即ち光源33は、直進性を有する測量光
であるレーザ光39を、前記基準軸心CT0と直角な光
軸CT1に沿った光路上に発振させる形になっている。
光源33の図右方に示す前方の光軸CT1上には、シリ
ンドリカルレンズ34が、光軸CT1と直角な方向に伸
延する形で、光上下拡散手段としてレーザ光39の光路
中に設けられており、シリンドリカルレンズ34は、光
源33が発振したレーザ光39を、光軸CT1を中心に
して上下方向に所定の角度αだけ拡散させる形で、該レ
ーザ光39を、該光軸CT1を含む光拡散平面として鉛
直方向に形成された照射面39a上に拡散し得るように
なっている。
すように、レーザ射出部31を有しており、レーザ射出
部31は、三脚32によって、基準点P1又はP2上に
おいて水準状態をなすように保持されている。レーザ射
出部31には、レーザ光39を射出し得る光源33が設
けられており、即ち光源33は、直進性を有する測量光
であるレーザ光39を、前記基準軸心CT0と直角な光
軸CT1に沿った光路上に発振させる形になっている。
光源33の図右方に示す前方の光軸CT1上には、シリ
ンドリカルレンズ34が、光軸CT1と直角な方向に伸
延する形で、光上下拡散手段としてレーザ光39の光路
中に設けられており、シリンドリカルレンズ34は、光
源33が発振したレーザ光39を、光軸CT1を中心に
して上下方向に所定の角度αだけ拡散させる形で、該レ
ーザ光39を、該光軸CT1を含む光拡散平面として鉛
直方向に形成された照射面39a上に拡散し得るように
なっている。
【0010】また、レーザ射出部31には、図3又は図
4に示すように、シリンドリカルレンズ34の図右方に
示す前方にハーフミラー35が、照射面39a上のレー
ザ光39を、90度方向に反射させて、先に述べたよう
に光軸CT1と直角な基準軸心CT0に沿うように直進
させ得る形で設けられており、ハーフミラー35の図3
上方に示す側方には、板状に形成された反射鏡である回
転ミラー36が、基準軸心CT0と図3紙面と交差方向
に直角をなし照射面39aと平行な回転軸CT2を中心
にして、レーザ走査方向である矢印A、B方向に示す水
平方向に回転駆動自在な形で設けられている。回転ミラ
ー36には反射面36aが、ハーフミラー35が反射し
たレーザ光39を反射し得る形で、鉛直方向に形成され
ており、従って、レーザユニット3は、照射面39a上
に拡散されたレーザ光39を、回転ミラー36の回転動
作を介して、該照射面39aと平行な回転軸CT2を中
心にして回転させ、これによって、上下方向に幅をなす
レーザ光39を水平方向である矢印A、B方向に走査す
る形で、三次元空間状の照射領域39bに照射し得るよ
うになっている。
4に示すように、シリンドリカルレンズ34の図右方に
示す前方にハーフミラー35が、照射面39a上のレー
ザ光39を、90度方向に反射させて、先に述べたよう
に光軸CT1と直角な基準軸心CT0に沿うように直進
させ得る形で設けられており、ハーフミラー35の図3
上方に示す側方には、板状に形成された反射鏡である回
転ミラー36が、基準軸心CT0と図3紙面と交差方向
に直角をなし照射面39aと平行な回転軸CT2を中心
にして、レーザ走査方向である矢印A、B方向に示す水
平方向に回転駆動自在な形で設けられている。回転ミラ
ー36には反射面36aが、ハーフミラー35が反射し
たレーザ光39を反射し得る形で、鉛直方向に形成され
ており、従って、レーザユニット3は、照射面39a上
に拡散されたレーザ光39を、回転ミラー36の回転動
作を介して、該照射面39aと平行な回転軸CT2を中
心にして回転させ、これによって、上下方向に幅をなす
レーザ光39を水平方向である矢印A、B方向に走査す
る形で、三次元空間状の照射領域39bに照射し得るよ
うになっている。
【0011】また、レーザ射出部31には、図4に示す
ように、回転ミラー36の下側に位置する形で、反射光
検知部37が設けられており、反射光検知部37は、レ
ーザ射出部31から射出されたレーザ光39の反射光3
9’を光センサ37aにキャッチさせて、そのときの前
記回転ミラー36の姿勢角度を回転軸CT2の回転角度
に基づいて検出することによって、図3に示すように反
射面36aの法線CL1の基準軸心CT0に対する角度
βを求め、これによって、図5に示すように、該反射光
39’の基準軸心CT0(即ちX軸方向)に対する水平
方向の入射角度θ1を検出し、これを角度データDAT
1として出力し得るように構成されている。
ように、回転ミラー36の下側に位置する形で、反射光
検知部37が設けられており、反射光検知部37は、レ
ーザ射出部31から射出されたレーザ光39の反射光3
9’を光センサ37aにキャッチさせて、そのときの前
記回転ミラー36の姿勢角度を回転軸CT2の回転角度
に基づいて検出することによって、図3に示すように反
射面36aの法線CL1の基準軸心CT0に対する角度
βを求め、これによって、図5に示すように、該反射光
39’の基準軸心CT0(即ちX軸方向)に対する水平
方向の入射角度θ1を検出し、これを角度データDAT
1として出力し得るように構成されている。
【0012】一方、現場1内の測位すべき測位点PXn
には、図1に示すように、ポール状に形成されたターゲ
ット5が設置されており、ターゲット5は、中空ロッド
等からなる本体6を有している。ターゲット5は、本体
6の下端である先端6bが接する地点を測位点PXnと
して指示する形で、該測位点PXnに接するように立設
されており、また、本体6には第1位置被検出部と第2
位置被検出部、即ち上反射部7Tと下反射部7Bが、該
上反射部7Tと下反射部7Bとターゲット5の下端であ
る先端6bが上下方向に所定の一致した間隔L2、L2
をもって並ぶ形で設けられている。
には、図1に示すように、ポール状に形成されたターゲ
ット5が設置されており、ターゲット5は、中空ロッド
等からなる本体6を有している。ターゲット5は、本体
6の下端である先端6bが接する地点を測位点PXnと
して指示する形で、該測位点PXnに接するように立設
されており、また、本体6には第1位置被検出部と第2
位置被検出部、即ち上反射部7Tと下反射部7Bが、該
上反射部7Tと下反射部7Bとターゲット5の下端であ
る先端6bが上下方向に所定の一致した間隔L2、L2
をもって並ぶ形で設けられている。
【0013】反射部7T、7Bの各々には、図1又は図
2に示すように、測量光反射手段である反射テープ71
が、本体6の外周に被着された形でそれぞれ配設されて
おり、各反射テープ71は、これに照射されるレーザ光
39を入射方向と一致した方向に再帰させるように反射
させて、即ち反射光39’を反射し得る形で、光線再帰
形の反射部材によって構成されている。また、反射部7
T、7Bの各々には、液晶シャッタ等によるシャッタ9
が、各反射テープ71を被覆する形のシャッタ機構とし
て、開閉自在に設けられており、シャッタ9には、バス
線、ケーブル等を介してシャッタ駆動制御装置21が、
上反射部7Tと下反射部7Bの各シャッタ9を選択的に
開閉駆動自在な形で、シャッタ駆動手段として接続され
ている。
2に示すように、測量光反射手段である反射テープ71
が、本体6の外周に被着された形でそれぞれ配設されて
おり、各反射テープ71は、これに照射されるレーザ光
39を入射方向と一致した方向に再帰させるように反射
させて、即ち反射光39’を反射し得る形で、光線再帰
形の反射部材によって構成されている。また、反射部7
T、7Bの各々には、液晶シャッタ等によるシャッタ9
が、各反射テープ71を被覆する形のシャッタ機構とし
て、開閉自在に設けられており、シャッタ9には、バス
線、ケーブル等を介してシャッタ駆動制御装置21が、
上反射部7Tと下反射部7Bの各シャッタ9を選択的に
開閉駆動自在な形で、シャッタ駆動手段として接続され
ている。
【0014】さらに、前記測位動作管理装置10は、図
1に示すように、主制御部11を有しており、主制御部
11には入力ポート12、レーザ走査制御部13、入射
角検出制御部14、反射位置演算部15A、変位演算部
15B、測位点位置演算部15C、メモリ16、ターゲ
ット情報把握部17、出力部18、ディスプレイ19等
が接続している。また、出力部18には外部記憶装置2
1が接続されている。従って、測位動作管理装置10の
反射位置演算部15Aは、先に述べた2ヶのレーザユニ
ット3、3の各反射光検知部37が検出する反射光3
9’の、矢印A、B方向(回転ミラー36の走査方向で
ある水平方向)の入射角度θ1、θ1に基づいて、ター
ゲット5の反射部7T又は7Bの平面座標位置(Xt、
Yt)、(Xb、Yb)を演算する位置演算手段を構成
しており、また、変位演算部15Bは、該反射位置演算
部15Aが演算する上反射部7Tと下反射部7Bの各平
面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Yb)に基づい
て、該下反射部7Bの上反射部7Tに対する相対的な変
位TB(図2に図示)を演算する変位演算手段を構成し
ている。そして、測位点位置演算部15Cは、変位演算
部15Bによって演算された変位TBと、上反射部7T
又は下反射部7Bの平面座標位置(Xt、Yt)、(X
b、Yb)に基づいて、ターゲット5の先端6bの平面
座標位置(Xn、Yn)を演算する測位点演算手段にな
っており、さらに、出力部18は、該測位点位置演算部
15Cによって演算されたターゲット5の先端6bの平
面座標位置(Xn、Yn)を、測位点PXnの平面座標
位置(Xn、Yn)として出力し得る形で、出力手段を
構成している。
1に示すように、主制御部11を有しており、主制御部
11には入力ポート12、レーザ走査制御部13、入射
角検出制御部14、反射位置演算部15A、変位演算部
15B、測位点位置演算部15C、メモリ16、ターゲ
ット情報把握部17、出力部18、ディスプレイ19等
が接続している。また、出力部18には外部記憶装置2
1が接続されている。従って、測位動作管理装置10の
反射位置演算部15Aは、先に述べた2ヶのレーザユニ
ット3、3の各反射光検知部37が検出する反射光3
9’の、矢印A、B方向(回転ミラー36の走査方向で
ある水平方向)の入射角度θ1、θ1に基づいて、ター
ゲット5の反射部7T又は7Bの平面座標位置(Xt、
Yt)、(Xb、Yb)を演算する位置演算手段を構成
しており、また、変位演算部15Bは、該反射位置演算
部15Aが演算する上反射部7Tと下反射部7Bの各平
面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Yb)に基づい
て、該下反射部7Bの上反射部7Tに対する相対的な変
位TB(図2に図示)を演算する変位演算手段を構成し
ている。そして、測位点位置演算部15Cは、変位演算
部15Bによって演算された変位TBと、上反射部7T
又は下反射部7Bの平面座標位置(Xt、Yt)、(X
b、Yb)に基づいて、ターゲット5の先端6bの平面
座標位置(Xn、Yn)を演算する測位点演算手段にな
っており、さらに、出力部18は、該測位点位置演算部
15Cによって演算されたターゲット5の先端6bの平
面座標位置(Xn、Yn)を、測位点PXnの平面座標
位置(Xn、Yn)として出力し得る形で、出力手段を
構成している。
【0015】測位作業中の現場1及び測量装置2は、以
上のような構成を有しているので、該現場1において、
測位点PXnの測位を行うには、まず、現場1に設定さ
れた座標平面上のX軸上に基準点P1、P2を設定し
て、各基準点P1、P2の座標位置を正確に求め、ここ
にレーザユニット3、3を、それぞれの三脚32によっ
て水準状態をなすように設置する。(或いは、各レーザ
ユニット3を設置してから、該設置地点を基準点P1、
P2として、該基準点P1、P2の位置座標が(X1、
Y1)、(X2、Y1)になるように現場座標系を設定
する。)またこの際、レーザユニット3、3は、図2又
は図5に示すように、その各々の基準軸心C0が、現場
1の座標平面上においてX軸方向に向くように設置す
る。そして、当該基準点P1、P2の座標位置(X1、
Y1)、(X2、Y1)の各値を、図示しない外部入力
装置によって、入力ポート12から測位動作管理装置1
0に入力しておく。すると、主制御部11が、該基準点
P1、P2の座標位置データをメモリ16に格納する。
一方、測位したい測位点PXnにはターゲット5を、そ
の本体6の先端6bによって、該測位点PXn地点を指
示させる形になるよう該先端6bが測位点PXnに接し
た形で設置する。なお、この測位開始時点において、タ
ーゲット5は、上反射部7Tと下反射部7Bの各シャッ
タ9が共に閉じて、反射テープ71が被覆された状態
(レーザ光39を反射し得ない状態)を呈している。
上のような構成を有しているので、該現場1において、
測位点PXnの測位を行うには、まず、現場1に設定さ
れた座標平面上のX軸上に基準点P1、P2を設定し
て、各基準点P1、P2の座標位置を正確に求め、ここ
にレーザユニット3、3を、それぞれの三脚32によっ
て水準状態をなすように設置する。(或いは、各レーザ
ユニット3を設置してから、該設置地点を基準点P1、
P2として、該基準点P1、P2の位置座標が(X1、
Y1)、(X2、Y1)になるように現場座標系を設定
する。)またこの際、レーザユニット3、3は、図2又
は図5に示すように、その各々の基準軸心C0が、現場
1の座標平面上においてX軸方向に向くように設置す
る。そして、当該基準点P1、P2の座標位置(X1、
Y1)、(X2、Y1)の各値を、図示しない外部入力
装置によって、入力ポート12から測位動作管理装置1
0に入力しておく。すると、主制御部11が、該基準点
P1、P2の座標位置データをメモリ16に格納する。
一方、測位したい測位点PXnにはターゲット5を、そ
の本体6の先端6bによって、該測位点PXn地点を指
示させる形になるよう該先端6bが測位点PXnに接し
た形で設置する。なお、この測位開始時点において、タ
ーゲット5は、上反射部7Tと下反射部7Bの各シャッ
タ9が共に閉じて、反射テープ71が被覆された状態
(レーザ光39を反射し得ない状態)を呈している。
【0016】こうして2ヶのレーザユニット3、3とタ
ーゲット5をセットしたところで、まず、シャッタ駆動
制御装置21に上シャッタ開放駆動指令Stoを出し、こ
れによって、上反射部7T側のシャッタ9を開放駆動さ
せる。この際、シャッタ駆動制御装置21は、入力ポー
ト12を介して測位動作管理装置10に、上オープン信
号TOを送信する。すると、主制御部11が該上オープ
ン信号TOをターゲット情報把握部17に伝送する形
で、上反射部7T側のシャッタ9が開放状態にあること
が把握される。そして、このときターゲット5は、シャ
ッタ9が開放された上反射部7T側の反射テープ71が
露出して、レーザ光39を反射し得る状態を呈する一方
で、下反射部7B側の反射テープ71は閉塞状態のシャ
ッタ9によって被覆された状態を呈する。
ーゲット5をセットしたところで、まず、シャッタ駆動
制御装置21に上シャッタ開放駆動指令Stoを出し、こ
れによって、上反射部7T側のシャッタ9を開放駆動さ
せる。この際、シャッタ駆動制御装置21は、入力ポー
ト12を介して測位動作管理装置10に、上オープン信
号TOを送信する。すると、主制御部11が該上オープ
ン信号TOをターゲット情報把握部17に伝送する形
で、上反射部7T側のシャッタ9が開放状態にあること
が把握される。そして、このときターゲット5は、シャ
ッタ9が開放された上反射部7T側の反射テープ71が
露出して、レーザ光39を反射し得る状態を呈する一方
で、下反射部7B側の反射テープ71は閉塞状態のシャ
ッタ9によって被覆された状態を呈する。
【0017】そこで、測位動作管理装置10を用いて、
まず、主制御部11は、レーザ走査制御部13によって
各レーザユニット3に、レーザ走査指令S1を発信す
る。該指令S1を受けた各レーザユニット3は、レーザ
射出部31から水平方向に走査する形でレーザ光39の
射出を開始する。即ち、レーザ射出部31は、図3又は
図4に示すように、光源33にレーザ光39を、光軸C
T1に沿って発振させる。これによって、レーザ光39
は光軸CT1上の光路を直進し、光源33の図右方に示
す前方の該光軸CT1上に設けられたシリンドリカルレ
ンズ34に入射する。すると、シリンドリカルレンズ3
4は、その伸延方向を光軸CT1と直角な方向に向けた
形で屈折面が円柱面状になっていることによって、該レ
ーザ光39を、光軸CT1を中心にして上下方向に所定
の角度αだけ拡散させた形で、透過させる。該透過した
レーザ光39によって、シリンドリカルレンズ34の前
方側には、光軸CT1を含む照射面39aが、鉛直方向
に展開する形の光拡散平面として形成される。
まず、主制御部11は、レーザ走査制御部13によって
各レーザユニット3に、レーザ走査指令S1を発信す
る。該指令S1を受けた各レーザユニット3は、レーザ
射出部31から水平方向に走査する形でレーザ光39の
射出を開始する。即ち、レーザ射出部31は、図3又は
図4に示すように、光源33にレーザ光39を、光軸C
T1に沿って発振させる。これによって、レーザ光39
は光軸CT1上の光路を直進し、光源33の図右方に示
す前方の該光軸CT1上に設けられたシリンドリカルレ
ンズ34に入射する。すると、シリンドリカルレンズ3
4は、その伸延方向を光軸CT1と直角な方向に向けた
形で屈折面が円柱面状になっていることによって、該レ
ーザ光39を、光軸CT1を中心にして上下方向に所定
の角度αだけ拡散させた形で、透過させる。該透過した
レーザ光39によって、シリンドリカルレンズ34の前
方側には、光軸CT1を含む照射面39aが、鉛直方向
に展開する形の光拡散平面として形成される。
【0018】そして、照射面39a上を直進するレーザ
光39は、図3に示すように、ハーフミラー35によっ
て直角に反射する形で、光路を90度方位変えし、光軸
CT1と直角な方向即ち基準軸心CT0に沿って直進す
る。すると、ハーフミラー35の側方即ちレーザ直進光
路前方側には回転ミラー36が、基準軸心CT0と直角
で照射面39aと平行な回転軸CT2を中心にして、矢
印A、B方向に示す水平方向に回転駆動自在な形で設け
られている。そこで、該回転ミラー36を、所定の角速
度で回転させると、反射面36aに反射した、照射面3
9a上のレーザ光39が、該回転ミラー36の回転動作
によって、矢印A、B方向、即ち水平方向に帯状に走査
された形になる。
光39は、図3に示すように、ハーフミラー35によっ
て直角に反射する形で、光路を90度方位変えし、光軸
CT1と直角な方向即ち基準軸心CT0に沿って直進す
る。すると、ハーフミラー35の側方即ちレーザ直進光
路前方側には回転ミラー36が、基準軸心CT0と直角
で照射面39aと平行な回転軸CT2を中心にして、矢
印A、B方向に示す水平方向に回転駆動自在な形で設け
られている。そこで、該回転ミラー36を、所定の角速
度で回転させると、反射面36aに反射した、照射面3
9a上のレーザ光39が、該回転ミラー36の回転動作
によって、矢印A、B方向、即ち水平方向に帯状に走査
された形になる。
【0019】このようにして、光軸CT1を中心にして
角度α分だけ上下方向に拡散して帯状にしたレーザ光3
9を、2ヶのレーザユニット3、3の各レーザ射出部3
1から射出させ、該帯状のレーザ光39を矢印A、B方
向に走査する。すると、該レーザユニット3、3が射出
したレーザ光39は、図1に示すように、各レーザユニ
ット3のレーザ射出部31を中心にした所定の照射領域
39b中に照射される。この際に、照射領域39bは、
上下方向に角度α分拡散して形成された照射面39aの
レーザ光39を水平方向に回転走査して形成されるもの
であるため、広範な3次元空間になる。
角度α分だけ上下方向に拡散して帯状にしたレーザ光3
9を、2ヶのレーザユニット3、3の各レーザ射出部3
1から射出させ、該帯状のレーザ光39を矢印A、B方
向に走査する。すると、該レーザユニット3、3が射出
したレーザ光39は、図1に示すように、各レーザユニ
ット3のレーザ射出部31を中心にした所定の照射領域
39b中に照射される。この際に、照射領域39bは、
上下方向に角度α分拡散して形成された照射面39aの
レーザ光39を水平方向に回転走査して形成されるもの
であるため、広範な3次元空間になる。
【0020】このようにして2ヶのレーザユニット3、
3から射出された、各照射領域39b中のレーザ光39
が、測位点PXnに設置したターゲット5に照射される
と、該ターゲット5は、下反射部7B側のシャッタ9が
閉じて、上反射部7T側のシャッタ9のみが開放された
形になっているところから、レーザ光39は、該開放状
態にある上反射部7Tの反射テープ71によって、該レ
ーザ光39が入射した方向と一致した反射方向に再帰す
る形で、反射光39’として反射する。なお、各レーザ
ユニット3のレーザ射出部31が走査するレーザ光39
は、広範な3次元空間である照射領域39bに照射され
た形になることによって、上反射部7Tと各レーザユニ
ット3のレーザ射出部31の高さが正確に一致していな
くても、レーザ光39が確実に上反射部7Tに(もちろ
んこのときシャッタ9が閉じている下反射部7Bにも)
照射される。よって、レーザユニット3とターゲット5
の位置の取り合いを精密に合わせる必要なく、測位動作
が出来るので、省力的である。
3から射出された、各照射領域39b中のレーザ光39
が、測位点PXnに設置したターゲット5に照射される
と、該ターゲット5は、下反射部7B側のシャッタ9が
閉じて、上反射部7T側のシャッタ9のみが開放された
形になっているところから、レーザ光39は、該開放状
態にある上反射部7Tの反射テープ71によって、該レ
ーザ光39が入射した方向と一致した反射方向に再帰す
る形で、反射光39’として反射する。なお、各レーザ
ユニット3のレーザ射出部31が走査するレーザ光39
は、広範な3次元空間である照射領域39bに照射され
た形になることによって、上反射部7Tと各レーザユニ
ット3のレーザ射出部31の高さが正確に一致していな
くても、レーザ光39が確実に上反射部7Tに(もちろ
んこのときシャッタ9が閉じている下反射部7Bにも)
照射される。よって、レーザユニット3とターゲット5
の位置の取り合いを精密に合わせる必要なく、測位動作
が出来るので、省力的である。
【0021】こうして、ターゲット5の上反射部7Tの
反射テープ71が反射光39’を反射すると、このと
き、該反射光39’はこれを射出した各レーザユニット
3側に再帰するので、基準点P1、P2の各レーザユニ
ット3は、図3に示すように、そのそれぞれに設けられ
た反射光検知部37の光センサ37aによって、該反射
光39’を検知する。そこで、測位動作管理装置10の
主制御部11は、入射角検出制御部14によって、各レ
ーザユニット3の反射光検知部37に反射光39’を検
知させ、該反射光39’の水平方向の入射角度θ1を検
出させる。即ち入射角検出制御部14は、反射光検知部
37に、光センサ37aが反射光39’をキャッチした
ときの回転ミラー36の姿勢角度に基づいて、反射面3
6aの法線CL1の基準軸心CT0に対する角度βを検
出させ、図3に示すように該角度βを2倍することによ
って、該反射光39’の、基準軸心CT0に対する水平
方向の入射角度θ1を検出させる。そして、これを角度
データDAT1として、それぞれ出力させる。
反射テープ71が反射光39’を反射すると、このと
き、該反射光39’はこれを射出した各レーザユニット
3側に再帰するので、基準点P1、P2の各レーザユニ
ット3は、図3に示すように、そのそれぞれに設けられ
た反射光検知部37の光センサ37aによって、該反射
光39’を検知する。そこで、測位動作管理装置10の
主制御部11は、入射角検出制御部14によって、各レ
ーザユニット3の反射光検知部37に反射光39’を検
知させ、該反射光39’の水平方向の入射角度θ1を検
出させる。即ち入射角検出制御部14は、反射光検知部
37に、光センサ37aが反射光39’をキャッチした
ときの回転ミラー36の姿勢角度に基づいて、反射面3
6aの法線CL1の基準軸心CT0に対する角度βを検
出させ、図3に示すように該角度βを2倍することによ
って、該反射光39’の、基準軸心CT0に対する水平
方向の入射角度θ1を検出させる。そして、これを角度
データDAT1として、それぞれ出力させる。
【0022】このようにして2ヶのレーザユニット3、
3にそれぞれ入射角度θ1を検出させると、基準点P
1、P2の各平面座標位置(X1、Y1)、(X2、Y
1)は既知であり、また、各レーザユニット3の基準軸
心CT0は現場1のX軸と一致した向きになっていると
ころから、図5に示すように、該基準点P1、P2にお
ける反射光39’の各入射角度θ1と、基準点P1、P
2間の距離L1に基づいて、該反射光39’が反射した
部材がある位置が特定される形で、図2に示すように、
ターゲット5における上反射部7Tの平面座標位置(X
t、Yt)が明らかになる。
3にそれぞれ入射角度θ1を検出させると、基準点P
1、P2の各平面座標位置(X1、Y1)、(X2、Y
1)は既知であり、また、各レーザユニット3の基準軸
心CT0は現場1のX軸と一致した向きになっていると
ころから、図5に示すように、該基準点P1、P2にお
ける反射光39’の各入射角度θ1と、基準点P1、P
2間の距離L1に基づいて、該反射光39’が反射した
部材がある位置が特定される形で、図2に示すように、
ターゲット5における上反射部7Tの平面座標位置(X
t、Yt)が明らかになる。
【0023】そこで、測位動作管理装置10の主制御部
11は、各レーザユニット3が出力した2ヶの角度デー
タDAT1、DAT1を入力ポート12に入力させ、ま
た、先にメモリ16に格納した基準点P1、P2の平面
座標位置データを読み出す。そして、反射位置演算部1
5Aに、該2ヶの角度データDAT1、DAT1と、基
準点P1、P2の平面座標位置データを入力し、該基準
点P1、P2の平面座標位置データ(即ちこれによって
特定される距離L1)と、各レーザユニット3による角
度データDAT1(即ち、反射光39’の、矢印A、B
方向に示す水平方向の各入射角度θ1)に基づいて、反
射光39’が反射した反射テープ71の位置、即ち上反
射部7Tの平面座標位置(Xt、Yt)を演算させる。
この際、主制御部11は、ターゲット情報把握部17か
ら該演算位置が上反射部7T或いは下反射部7Bのいず
れの位置を示すものであるかの情報を読み取る。する
と、ターゲット情報把握部17は、上反射部7Tのシャ
ッタ9が開放状態であることを出力するので、主制御部
11は、反射位置演算部15Aが演算算出した位置を、
上反射部7Tの平面座標位置(Xt、Yt)として、メ
モリ16に格納する。
11は、各レーザユニット3が出力した2ヶの角度デー
タDAT1、DAT1を入力ポート12に入力させ、ま
た、先にメモリ16に格納した基準点P1、P2の平面
座標位置データを読み出す。そして、反射位置演算部1
5Aに、該2ヶの角度データDAT1、DAT1と、基
準点P1、P2の平面座標位置データを入力し、該基準
点P1、P2の平面座標位置データ(即ちこれによって
特定される距離L1)と、各レーザユニット3による角
度データDAT1(即ち、反射光39’の、矢印A、B
方向に示す水平方向の各入射角度θ1)に基づいて、反
射光39’が反射した反射テープ71の位置、即ち上反
射部7Tの平面座標位置(Xt、Yt)を演算させる。
この際、主制御部11は、ターゲット情報把握部17か
ら該演算位置が上反射部7T或いは下反射部7Bのいず
れの位置を示すものであるかの情報を読み取る。する
と、ターゲット情報把握部17は、上反射部7Tのシャ
ッタ9が開放状態であることを出力するので、主制御部
11は、反射位置演算部15Aが演算算出した位置を、
上反射部7Tの平面座標位置(Xt、Yt)として、メ
モリ16に格納する。
【0024】こうして上反射部7Tの平面座標位置(X
t、Yt)が求められたところで、次に、シャッタ駆動
制御装置21に図1に示す下シャッタ開放駆動指令Sbo
を出し、これによって、上反射部7Tのシャッタ9を閉
じて、下反射部7Bのシャッタ9を開放するようにそれ
ぞれのシャッタ9を駆動させる。なおこのとき、シャッ
タ駆動制御装置21は、ターゲット情報把握部17に下
オープン信号BOを送信する。この状態で、再び、測位
動作管理装置10の主制御部11は、レーザ走査制御部
13によって各レーザユニット3に、その光路中におい
て上下方向に角度α拡散したレーザ光39を水平方向に
走査する形で射出させる。すると、各レーザユニット3
はレーザ光39を、先に述べて図1に示すように、広範
囲な3次元空間状をなす照射領域39bに照射する。す
ると、測位点PXnに設置されたターゲット5には2ヶ
の反射部7T、7Bが設けられているが、これ等上反射
部7Tと下反射部7Bは、シャッタ駆動制御装置21に
よって、選択的に一方の反射部7T又は7Bのシャッタ
9が開放し(反射テープ71がレーザ光39を反射し得
る状態)、他方のシャッタ9は閉じているよう(反射テ
ープ71が被覆されてレーザ光39を反射し得ない状
態)に、制御されるところから、常にいずれか一方の反
射部7T又は7Bの反射テープ71のみが、レーザ光3
9を有効に反射し得る。この結果、2ヶのレーザユニッ
ト3、3の各反射光検知部37は、上反射部7Tと下反
射部7Bによる反射光39’を2ヶ同時に検知して、そ
の識別が不能になることはなく、レーザ走査を1回行う
毎に単一の反射光39’を検知することが出来る。
t、Yt)が求められたところで、次に、シャッタ駆動
制御装置21に図1に示す下シャッタ開放駆動指令Sbo
を出し、これによって、上反射部7Tのシャッタ9を閉
じて、下反射部7Bのシャッタ9を開放するようにそれ
ぞれのシャッタ9を駆動させる。なおこのとき、シャッ
タ駆動制御装置21は、ターゲット情報把握部17に下
オープン信号BOを送信する。この状態で、再び、測位
動作管理装置10の主制御部11は、レーザ走査制御部
13によって各レーザユニット3に、その光路中におい
て上下方向に角度α拡散したレーザ光39を水平方向に
走査する形で射出させる。すると、各レーザユニット3
はレーザ光39を、先に述べて図1に示すように、広範
囲な3次元空間状をなす照射領域39bに照射する。す
ると、測位点PXnに設置されたターゲット5には2ヶ
の反射部7T、7Bが設けられているが、これ等上反射
部7Tと下反射部7Bは、シャッタ駆動制御装置21に
よって、選択的に一方の反射部7T又は7Bのシャッタ
9が開放し(反射テープ71がレーザ光39を反射し得
る状態)、他方のシャッタ9は閉じているよう(反射テ
ープ71が被覆されてレーザ光39を反射し得ない状
態)に、制御されるところから、常にいずれか一方の反
射部7T又は7Bの反射テープ71のみが、レーザ光3
9を有効に反射し得る。この結果、2ヶのレーザユニッ
ト3、3の各反射光検知部37は、上反射部7Tと下反
射部7Bによる反射光39’を2ヶ同時に検知して、そ
の識別が不能になることはなく、レーザ走査を1回行う
毎に単一の反射光39’を検知することが出来る。
【0025】従って、上記したように、上反射部7Tの
シャッタ9を閉じ、下反射部7Bのシャッタ9のみを開
放した状態で、ターゲット5に照射された反射光39
は、該下反射部7Bの反射シート71によって、入射方
向と一致した反射方向に再帰する形で反射光39’が生
じる。そこで、主制御部11は入射角検出制御部14に
よって、各レーザユニット3の各反射光検知部37に、
先に述べた上反射部7Tの場合と同様にして、下反射部
7Bの反射光39’の水平方向の入射角度θ1を検出さ
せる形で、角度データDAT1をそれぞれ出力させる。
そして、主制御部11は、上述した上反射部7Tの平面
座標位置(Xt、Yt)を検出する動作と同様にして、
反射位置演算部15Aに下反射部7Bの平面座標位置
(Xb、Yb)を演算させる。
シャッタ9を閉じ、下反射部7Bのシャッタ9のみを開
放した状態で、ターゲット5に照射された反射光39
は、該下反射部7Bの反射シート71によって、入射方
向と一致した反射方向に再帰する形で反射光39’が生
じる。そこで、主制御部11は入射角検出制御部14に
よって、各レーザユニット3の各反射光検知部37に、
先に述べた上反射部7Tの場合と同様にして、下反射部
7Bの反射光39’の水平方向の入射角度θ1を検出さ
せる形で、角度データDAT1をそれぞれ出力させる。
そして、主制御部11は、上述した上反射部7Tの平面
座標位置(Xt、Yt)を検出する動作と同様にして、
反射位置演算部15Aに下反射部7Bの平面座標位置
(Xb、Yb)を演算させる。
【0026】こうして、上反射部7Tの平面座標位置
(Xt、Yt)と下反射部7Bの平面座標位置(Xb、
Yb)を求めたところで、次に、主制御部11は、先に
メモリ16に格納した上反射部7Tの平面座標位置デー
タを呼出し、変位演算部15Bに、図2に示すように、
上述したように反射位置演算部15Aが演算した下反射
部7Bの平面座標位置(Xb、Yb)の上反射部7Tの
平面座標位置(Xt、Yt)に対する相対的な変位BT
(即ち図2に示すようなベクトルTBの値)を、演算算
出させる。すると、該ベクトル値である変位TBは、図
2に示すように、上反射部7Tの距離L2分下側に位置
する下反射部7Bの、該上反射部7Tに対する相対的な
変位量を現わすことになる。従って、ターゲット5の本
体6において、該下反射部7Bの距離L2分下側に位置
する先端6bの座標位置の値は、該下反射部7Bの平面
座標位置(Xb、Yb)に変位TBの値を加味した値に
なる。
(Xt、Yt)と下反射部7Bの平面座標位置(Xb、
Yb)を求めたところで、次に、主制御部11は、先に
メモリ16に格納した上反射部7Tの平面座標位置デー
タを呼出し、変位演算部15Bに、図2に示すように、
上述したように反射位置演算部15Aが演算した下反射
部7Bの平面座標位置(Xb、Yb)の上反射部7Tの
平面座標位置(Xt、Yt)に対する相対的な変位BT
(即ち図2に示すようなベクトルTBの値)を、演算算
出させる。すると、該ベクトル値である変位TBは、図
2に示すように、上反射部7Tの距離L2分下側に位置
する下反射部7Bの、該上反射部7Tに対する相対的な
変位量を現わすことになる。従って、ターゲット5の本
体6において、該下反射部7Bの距離L2分下側に位置
する先端6bの座標位置の値は、該下反射部7Bの平面
座標位置(Xb、Yb)に変位TBの値を加味した値に
なる。
【0027】これを利用して(即ち、下反射部7Bの平
面座標位置(Xb、Yb)に変位KBを加味する形
で)、主制御部11は測位点位置演算部15Cに、先に
求められた下反射部7Bの平面座標位置(Xb、Yb)
と、該下反射部7Bの上反射部7Tに対する相対的な変
位TBに基づいて、測位点位置演算部15Cに、先端6
bの平面座標位置を演算させる。すると、先端6bは、
測位点PXnを指示する形で該測位点PXnと接してい
るところから、該演算算出された先端6bの平面座標位
置(Xn、Yn)が、測位点PXnの平面座標位置(X
n、Yn)になる。そこで、主制御部11は、該算出さ
れた先端6bの平面座標位置データを、測位点PXnの
平面座標位置(Xn、Yn)を現わす位置データDAT
2として、出力部18から出力させる。すると、出力部
18は、該測位点PXnの平面座標位置(Xn、Yn)
の各値をディスプレイ19上に表示させる。また、出力
部18は、該測位点PXnの平面座標位置(Xn、Y
n)を現わす位置データDAT2を、外部記憶装置20
に記憶させる。
面座標位置(Xb、Yb)に変位KBを加味する形
で)、主制御部11は測位点位置演算部15Cに、先に
求められた下反射部7Bの平面座標位置(Xb、Yb)
と、該下反射部7Bの上反射部7Tに対する相対的な変
位TBに基づいて、測位点位置演算部15Cに、先端6
bの平面座標位置を演算させる。すると、先端6bは、
測位点PXnを指示する形で該測位点PXnと接してい
るところから、該演算算出された先端6bの平面座標位
置(Xn、Yn)が、測位点PXnの平面座標位置(X
n、Yn)になる。そこで、主制御部11は、該算出さ
れた先端6bの平面座標位置データを、測位点PXnの
平面座標位置(Xn、Yn)を現わす位置データDAT
2として、出力部18から出力させる。すると、出力部
18は、該測位点PXnの平面座標位置(Xn、Yn)
の各値をディスプレイ19上に表示させる。また、出力
部18は、該測位点PXnの平面座標位置(Xn、Y
n)を現わす位置データDAT2を、外部記憶装置20
に記憶させる。
【0028】このようにして、測量装置2においては、
上反射部7Tの平面座標位置(Xt、Yt)と下反射部
7Bの平面座標位置(Xb、Yb)に基づいて、測位点
PXnの正確な平面座標位置(Xn、Yn)を検出する
ことが出来る。即ち、測位点PXnの平面座標位置は、
上反射部7Tに対する下反射部7Bの相対的な変位KB
に基づいて、該上反射部7T及び下反射部7Bと上下方
向に距離L2、L2をもって並ぶ先端6bの平面座標位
置(Xn、Yn)を演算する形で、算出される。従っ
て、測位作業を行うに際しては、先端6bが測位すべき
測位点PXnに接するようになっていれば良く、このた
め、該測位点PXnにターゲット5を鉛直に保持した状
態で、立設する必要はない。また、測位点PXnの平面
座標位置(Xn、Yn)は、上又は下反射部7T、7B
の平面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Yb)及び、
両者間の相対変位KBに基づいて演算されることによっ
て、ターゲット5が測位点PXn上において傾いていて
も、非常に正確な値をなすよう検出される。なお、測量
装置2においては、ターゲット5が測位点PXn上にお
いて鉛直状態をなす必要がないので、短時間のうちに省
力的に測位を行うことが出来、また、長いターゲット5
を用いてもこれを鉛直状態で設置する必要がないので、
何等不都合がない。
上反射部7Tの平面座標位置(Xt、Yt)と下反射部
7Bの平面座標位置(Xb、Yb)に基づいて、測位点
PXnの正確な平面座標位置(Xn、Yn)を検出する
ことが出来る。即ち、測位点PXnの平面座標位置は、
上反射部7Tに対する下反射部7Bの相対的な変位KB
に基づいて、該上反射部7T及び下反射部7Bと上下方
向に距離L2、L2をもって並ぶ先端6bの平面座標位
置(Xn、Yn)を演算する形で、算出される。従っ
て、測位作業を行うに際しては、先端6bが測位すべき
測位点PXnに接するようになっていれば良く、このた
め、該測位点PXnにターゲット5を鉛直に保持した状
態で、立設する必要はない。また、測位点PXnの平面
座標位置(Xn、Yn)は、上又は下反射部7T、7B
の平面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Yb)及び、
両者間の相対変位KBに基づいて演算されることによっ
て、ターゲット5が測位点PXn上において傾いていて
も、非常に正確な値をなすよう検出される。なお、測量
装置2においては、ターゲット5が測位点PXn上にお
いて鉛直状態をなす必要がないので、短時間のうちに省
力的に測位を行うことが出来、また、長いターゲット5
を用いてもこれを鉛直状態で設置する必要がないので、
何等不都合がない。
【0029】なお、上述した実施例においては、上反射
部7T、下反射部7Bのそれぞれに測量光反射手段とし
て反射テープ71を、該上反射部7T及び下反射部7B
に位置する部分の本体6の周囲に被着する形で設けた例
を述べた。しかし、上反射部7T、下反射部7Bの測量
光反射手段は、図6又は図7に示すように、本体6の周
囲に装着されたリトロレフレクター9であっても良い。
すると、リトロレフレクター9は、レーザ光39を、高
い反射光率で反射させることが出来る。よって、レーザ
ユニット3から射出されるレーザ光39は、シリンドリ
カルレンズ34によって角度α分だけ上下方向に拡散さ
れた形で水平方向に走査されることによって、当該拡散
分だけ照射レベルが減衰した形でターゲット5に到達す
るが、このときに測量光反射手段がリトロレフレクター
9であれば、レーザ光39は、入射方向と一致した反射
方向をなす光路に的確に再帰する形で、即ち該レーザ光
39が射出されたレーザユニット3側に向けて、反射光
39’が有効に反射することが出来る。これによって、
基準点P1、P2から遠い距離の測位点PXnの測位が
可能になり、また、測位位置の精度が向上する。
部7T、下反射部7Bのそれぞれに測量光反射手段とし
て反射テープ71を、該上反射部7T及び下反射部7B
に位置する部分の本体6の周囲に被着する形で設けた例
を述べた。しかし、上反射部7T、下反射部7Bの測量
光反射手段は、図6又は図7に示すように、本体6の周
囲に装着されたリトロレフレクター9であっても良い。
すると、リトロレフレクター9は、レーザ光39を、高
い反射光率で反射させることが出来る。よって、レーザ
ユニット3から射出されるレーザ光39は、シリンドリ
カルレンズ34によって角度α分だけ上下方向に拡散さ
れた形で水平方向に走査されることによって、当該拡散
分だけ照射レベルが減衰した形でターゲット5に到達す
るが、このときに測量光反射手段がリトロレフレクター
9であれば、レーザ光39は、入射方向と一致した反射
方向をなす光路に的確に再帰する形で、即ち該レーザ光
39が射出されたレーザユニット3側に向けて、反射光
39’が有効に反射することが出来る。これによって、
基準点P1、P2から遠い距離の測位点PXnの測位が
可能になり、また、測位位置の精度が向上する。
【0030】また、実施例において用いたターゲット5
は、上反射部7Tが第1位置被検出部で、下反射部7B
が第2位置被検出部になっており、測位作業に際して
は、まず、該上反射部7Tの位置を求めてから下反射部
7Bの位置を求めて、該下反射部7Bの上反射部7Tに
対する相対的な変位TBを検出し、該変位TBと下反射
部7Bの位置に基づいて、先端6bの位置を検出するよ
うにした例を述べた。しかし、ターゲットにおける第1
位置被検出部と第2位置被検出部の配置箇所、及び、先
端6bの位置を検出する際に基準となる位置被検出部が
第1又は第2のいずれで有るかは、任意である。また、
実施例においては、上反射部7T、下反射部7B、先端
6bが上下方向に間隔L2、L2をもって並んでいる例
を述べたが、上反射部7Tと下反射部7Bと先端6bの
相互距離(即ち第1位置被検出部と第2位置被検出部と
下端の相互距離)は、かならずしも一致していなくとも
既知なる値で有れば良い。
は、上反射部7Tが第1位置被検出部で、下反射部7B
が第2位置被検出部になっており、測位作業に際して
は、まず、該上反射部7Tの位置を求めてから下反射部
7Bの位置を求めて、該下反射部7Bの上反射部7Tに
対する相対的な変位TBを検出し、該変位TBと下反射
部7Bの位置に基づいて、先端6bの位置を検出するよ
うにした例を述べた。しかし、ターゲットにおける第1
位置被検出部と第2位置被検出部の配置箇所、及び、先
端6bの位置を検出する際に基準となる位置被検出部が
第1又は第2のいずれで有るかは、任意である。また、
実施例においては、上反射部7T、下反射部7B、先端
6bが上下方向に間隔L2、L2をもって並んでいる例
を述べたが、上反射部7Tと下反射部7Bと先端6bの
相互距離(即ち第1位置被検出部と第2位置被検出部と
下端の相互距離)は、かならずしも一致していなくとも
既知なる値で有れば良い。
【0031】また、上反射部7T、下反射部7Bに設け
られるシャッタ機構は、先に述べたように液晶シャッタ
である必要はなく、図6又は図7に示すように、機械方
式のシャッタであっても構わない。また、ターゲット5
には必ずしもこうしたシャッタ9及び、該シャッタ9を
開閉駆動するシャッタ駆動制御装置21が設けられてい
なくても構わず、人力を介して反射テープ71を開閉し
たり、或いは、レーザユニット3側でレーザ光39の走
査高さを調整することによって、上反射部7Tと下反射
部7Bを識別しながら、各反射部7T、7Bの位置を検
出するようにしても構わない。
られるシャッタ機構は、先に述べたように液晶シャッタ
である必要はなく、図6又は図7に示すように、機械方
式のシャッタであっても構わない。また、ターゲット5
には必ずしもこうしたシャッタ9及び、該シャッタ9を
開閉駆動するシャッタ駆動制御装置21が設けられてい
なくても構わず、人力を介して反射テープ71を開閉し
たり、或いは、レーザユニット3側でレーザ光39の走
査高さを調整することによって、上反射部7Tと下反射
部7Bを識別しながら、各反射部7T、7Bの位置を検
出するようにしても構わない。
【0032】なお、上述した実施例においては、ターゲ
ット5は、測量作業が行われている現場1において、測
位点Pn上に先端6bが直接接するように設置して、測
位作業を行うようにした例を述べたが、先端6bが接し
ている測位点Pnは、最終的に求める測位点である必要
はなく、例えば、該先端6bが接している測位点Pn
は、求める測位点から鉛直方向に既知なる所定高さをな
す3脚上の一点であっても良い。また、上述した実施例
においては、レーザユニット3は、レーザ射出部31の
光源33に射出させたレーザ光39をシリンドリカルレ
ンズ34によって上下方向に角度αをなすように拡散さ
せてから、回転ミラー36の回転動作によって矢印A、
B方向に示す水平方向に回転走査することによって、該
レーザ光39をターゲット5に照射するようにした例を
述べたが、レーザユニット3によるレーザ光39の拡散
方法及びその水平方向の走査方法、及びこれによって形
成される照射領域39bは、当該実施例において述べた
ものに限定されない。例えばレーザユニット3はレーザ
光39を、レーザ射出部31の本体部分自体が回転駆動
することによって、水平方向に走査しても差し支えな
い。或いは、レーザユニット3は、必ずしも、上下方向
に拡散したレーザ光39を射出しなくても構わない。な
お、レーザユニット3等の測量光射出ユニットが測量に
用いる測量光は、レーザ光39に限定されるものではな
く、直進性を有するその他の光線であっても良い。
ット5は、測量作業が行われている現場1において、測
位点Pn上に先端6bが直接接するように設置して、測
位作業を行うようにした例を述べたが、先端6bが接し
ている測位点Pnは、最終的に求める測位点である必要
はなく、例えば、該先端6bが接している測位点Pn
は、求める測位点から鉛直方向に既知なる所定高さをな
す3脚上の一点であっても良い。また、上述した実施例
においては、レーザユニット3は、レーザ射出部31の
光源33に射出させたレーザ光39をシリンドリカルレ
ンズ34によって上下方向に角度αをなすように拡散さ
せてから、回転ミラー36の回転動作によって矢印A、
B方向に示す水平方向に回転走査することによって、該
レーザ光39をターゲット5に照射するようにした例を
述べたが、レーザユニット3によるレーザ光39の拡散
方法及びその水平方向の走査方法、及びこれによって形
成される照射領域39bは、当該実施例において述べた
ものに限定されない。例えばレーザユニット3はレーザ
光39を、レーザ射出部31の本体部分自体が回転駆動
することによって、水平方向に走査しても差し支えな
い。或いは、レーザユニット3は、必ずしも、上下方向
に拡散したレーザ光39を射出しなくても構わない。な
お、レーザユニット3等の測量光射出ユニットが測量に
用いる測量光は、レーザ光39に限定されるものではな
く、直進性を有するその他の光線であっても良い。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ポ
ール状に形成されたターゲット5に、上反射部7T等の
第1位置被検出部と下反射部7B等の第2位置被検出部
を、該第1位置被検出部と第2位置被検出部と該ターゲ
ット5の先端6b等の下端が上下方向に所定の間隔L
2、L2をもって並ぶ形で設け、前記第1位置被検出部
と第2位置被検出部の各々に反射テープ71等の測量光
反射手段を設け、前記ターゲット5を測位すべき測位点
PXnに、前記下端が該測位点PXnに接する形で立設
しておき、直進性を有するレーザ光39等の測量光を射
出し、該測量光の反射光39’を検知し得る2ヶのレー
ザユニット3、3等の測量光射出ユニットを用いて、前
記2ヶの測量光射出ユニットをそれぞれ基準点P1、P
2等の位置既知点上に設置し、前記2ヶの測量光射出ユ
ニットから前記測量光を水平方向に走査する形で射出さ
せて、前記ターゲット5に照射し、まず、該2ヶの測量
光射出ユニットに、前記第1位置被検出部の測量光反射
手段からの各反射光39’をそれぞれ検知させ、該2ヶ
の測量光射出ユニットがそれぞれ検知する反射光39’
の水平方向の入射角度θ1に基づいて該第1位置被検出
部の平面座標位置(Xt、Yt)を演算し、次に、前記
2ヶの測量光射出ユニットに、前記第2位置被検出部か
らの各反射光39’をそれぞれ検知させ、該2ヶの測量
光射出ユニットがそれぞれ検知する反射光39’の水平
方向の入射角度θ1に基づいて該第2位置被検出部の平
面座標位置(Xb、Yb)を演算し、該第2位置被検出
部の前記第1位置被検出部に対する相対変位TBを求
め、該求められた相対変位TBと、前記演算された第1
又は第2位置被検出部の平面座標位置(Xt、Yt)、
(Xb、Yb)に基づいて、前記ターゲット5の下端の
平面座標位置(Xn、Yn)を演算し、該演算されたタ
ーゲット5の下端の平面座標位置(Xn、Yn)を、該
ターゲット5が立設された前記測位点PXnの平面座標
位置(Xn、Yn)として検出するようにして構成した
ので、測位を行う際には、ターゲット5の下端が、求め
られた相対変位TBに対応した変位分だけ第1又は第2
位置被検出部に対してずれた位置に配置されるので、こ
れを利用して、該下端が接している測位点PXnの平面
座標位置(Xn、Yn)を、該相対変位TBと第1又は
第2位置被検出部の平面座標位置(Xt、Yt)、(X
b、Yb)に基づく演算によって算出することが出来
る。即ち、ターゲット5の下端は、該ターゲット5に設
けられた第1及び第2位置被検出部と相対的には不変な
位置関係(即ち、第1位置被検出部と第2位置被検出部
と下端が所定の間隔L2、L2をもって並ぶ形)を保持
している。従って、下端が測位点PXnに接した状態の
ターゲット5における、第1及び第2位置被検出部の平
面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Yb)を、2ヶの
測量光射出ユニットに検知させた反射光39’の各入射
角度θ1から検出し、該第2位置被検出部の第1位置被
検出部に対する相対変位TBを求めれば、これに基づい
て、該ターゲットの下端が位置する平面座標位置(X
n、Yn)を演算によって算出することが可能となる。
従って、測位時、ターゲット5は、測位点PXnにおい
て鉛直状態に立設されている必要はない。このため、通
常レーザ光等の測量光を用いて測位を行う際には、ター
ゲットを正確に鉛直状態に合わせた形にして測位点PX
nに設置しなければ、測量光が反射した位置(即ち当該
測位によって検出される測位点PXnの座標位置)と、
該ターゲットの下端が実際に接している測位点PXnの
位置がずれていたが、本発明によれば、ターゲット5が
傾いていても、常に正確な測位点PXnの平面座標位置
(Xn、Yn)を演算によって検出することが出来る。
また、ターゲット5を鉛直に保持した状態で設置する必
要がないので、省力的な測位作業が可能である。さら
に、このようにターゲット5の傾きを利用して測位点P
Xnの正確な平面座標位置(Xn、Yn)を検出し得る
ことによって、長いターゲット5を用いての測位も、精
度良く出来る。この結果、測量現場に高さ位置の異なる
測位点PXnが複数あって、該測位点PXnを指示する
ターゲット5の高さ位置が変化して測量光照射平面から
外れてしまう危険性がある場合に、十分長いターゲット
5を用いても、正確な測位が可能である。よって、凹凸
のある測量現場においても、測量作業を効率的に進める
ことが出来る。
ール状に形成されたターゲット5に、上反射部7T等の
第1位置被検出部と下反射部7B等の第2位置被検出部
を、該第1位置被検出部と第2位置被検出部と該ターゲ
ット5の先端6b等の下端が上下方向に所定の間隔L
2、L2をもって並ぶ形で設け、前記第1位置被検出部
と第2位置被検出部の各々に反射テープ71等の測量光
反射手段を設け、前記ターゲット5を測位すべき測位点
PXnに、前記下端が該測位点PXnに接する形で立設
しておき、直進性を有するレーザ光39等の測量光を射
出し、該測量光の反射光39’を検知し得る2ヶのレー
ザユニット3、3等の測量光射出ユニットを用いて、前
記2ヶの測量光射出ユニットをそれぞれ基準点P1、P
2等の位置既知点上に設置し、前記2ヶの測量光射出ユ
ニットから前記測量光を水平方向に走査する形で射出さ
せて、前記ターゲット5に照射し、まず、該2ヶの測量
光射出ユニットに、前記第1位置被検出部の測量光反射
手段からの各反射光39’をそれぞれ検知させ、該2ヶ
の測量光射出ユニットがそれぞれ検知する反射光39’
の水平方向の入射角度θ1に基づいて該第1位置被検出
部の平面座標位置(Xt、Yt)を演算し、次に、前記
2ヶの測量光射出ユニットに、前記第2位置被検出部か
らの各反射光39’をそれぞれ検知させ、該2ヶの測量
光射出ユニットがそれぞれ検知する反射光39’の水平
方向の入射角度θ1に基づいて該第2位置被検出部の平
面座標位置(Xb、Yb)を演算し、該第2位置被検出
部の前記第1位置被検出部に対する相対変位TBを求
め、該求められた相対変位TBと、前記演算された第1
又は第2位置被検出部の平面座標位置(Xt、Yt)、
(Xb、Yb)に基づいて、前記ターゲット5の下端の
平面座標位置(Xn、Yn)を演算し、該演算されたタ
ーゲット5の下端の平面座標位置(Xn、Yn)を、該
ターゲット5が立設された前記測位点PXnの平面座標
位置(Xn、Yn)として検出するようにして構成した
ので、測位を行う際には、ターゲット5の下端が、求め
られた相対変位TBに対応した変位分だけ第1又は第2
位置被検出部に対してずれた位置に配置されるので、こ
れを利用して、該下端が接している測位点PXnの平面
座標位置(Xn、Yn)を、該相対変位TBと第1又は
第2位置被検出部の平面座標位置(Xt、Yt)、(X
b、Yb)に基づく演算によって算出することが出来
る。即ち、ターゲット5の下端は、該ターゲット5に設
けられた第1及び第2位置被検出部と相対的には不変な
位置関係(即ち、第1位置被検出部と第2位置被検出部
と下端が所定の間隔L2、L2をもって並ぶ形)を保持
している。従って、下端が測位点PXnに接した状態の
ターゲット5における、第1及び第2位置被検出部の平
面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Yb)を、2ヶの
測量光射出ユニットに検知させた反射光39’の各入射
角度θ1から検出し、該第2位置被検出部の第1位置被
検出部に対する相対変位TBを求めれば、これに基づい
て、該ターゲットの下端が位置する平面座標位置(X
n、Yn)を演算によって算出することが可能となる。
従って、測位時、ターゲット5は、測位点PXnにおい
て鉛直状態に立設されている必要はない。このため、通
常レーザ光等の測量光を用いて測位を行う際には、ター
ゲットを正確に鉛直状態に合わせた形にして測位点PX
nに設置しなければ、測量光が反射した位置(即ち当該
測位によって検出される測位点PXnの座標位置)と、
該ターゲットの下端が実際に接している測位点PXnの
位置がずれていたが、本発明によれば、ターゲット5が
傾いていても、常に正確な測位点PXnの平面座標位置
(Xn、Yn)を演算によって検出することが出来る。
また、ターゲット5を鉛直に保持した状態で設置する必
要がないので、省力的な測位作業が可能である。さら
に、このようにターゲット5の傾きを利用して測位点P
Xnの正確な平面座標位置(Xn、Yn)を検出し得る
ことによって、長いターゲット5を用いての測位も、精
度良く出来る。この結果、測量現場に高さ位置の異なる
測位点PXnが複数あって、該測位点PXnを指示する
ターゲット5の高さ位置が変化して測量光照射平面から
外れてしまう危険性がある場合に、十分長いターゲット
5を用いても、正確な測位が可能である。よって、凹凸
のある測量現場においても、測量作業を効率的に進める
ことが出来る。
【0034】また、本発明によれば、測位点PXnに立
設され得る形でポール状に形成されたターゲット5を有
し、前記ターゲット5に上反射部7T等の第1位置被検
出部と下反射部7B等の第2位置被検出部を、該第1位
置被検出部と第2位置被検出部と該ターゲット5の先端
6b等の下端が上下方向に所定の間隔L2、L2をもっ
て並ぶ形で設け、前記第1位置被検出部と第2位置被検
出部のそれぞれに、直進性を有するレーザ光39等の測
量光を入射方向と一致した方向に再帰させるように反射
し得る反射テープ71等の測量光反射手段を設け、ま
た、各々が前記測量光を水平方向に走査する形で射出
し、該測量光の反射光39’を検知し得る2ヶのレーザ
ユニット3、3等の測量光射出ユニットを設け、前記2
ヶの測量光射出ユニットが検知する、前記ターゲット5
の第1位置被検出部と第2位置被検出部の各測量光反射
手段からの反射光39’の水平方向の各入射角度θ1に
基づいて、該第1位置被検出部と第2位置被検出部の平
面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Yb)を演算する
反射位置演算部15A等の位置演算手段を設け、前記位
置演算手段が演算する第1位置被検出部と第2位置被検
出部の各平面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Yb)
に基づいて、該第2位置被検出部の第1位置被検出部に
対する相対変位TBを演算する変位演算部15B等の変
位演算手段を設け、該変位演算手段によって演算された
相対変位TBと、前記第1又は第2位置被検出部の平面
座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Yb)に基づいて、
前記ターゲット5の下端の平面座標位置(Xn、Yn)
を演算し得る測位点位置演算部15C等の測位点演算手
段を設け、該測位点演算手段によって演算されたターゲ
ット5の下端の平面座標位置(Xn、Yn)を、前記測
位点PXnの平面座標位置(Xn、Yn)として出力し
得る出力部18等の出力手段を設けて、測量装置2を構
成したので、位置演算手段に演算させた第1又は第2位
置被検出部の各平面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、
Yb)と、変位演算手段に演算させた第2位置被検出部
の第1位置被検出部に対する相対変位TBに基いて、測
位点演算手段に演算させたターゲット5の下端の平面座
標位置(Xn、Yn)を、出力手段によって、測位点P
Xnの平面座標位置(Xn、Yn)として出力させるこ
とが出来る。即ち、測量装置2を用いれば、2ヶの測量
光射出ユニットを基準点P1、P2等の位置既知点上に
それぞれ設置し、また、ターゲット5の下端が測位点P
Xnに接するように立設しておき、該2ヶの測量光射出
ユニットから測量光を射出させて、ターゲット5に設け
られた第1位置被検出部と第2位置被検出部の各測量光
反射手段からの反射光39’を該2ヶの測量光射出ユニ
ット位置でそれぞれ捉えることによって、位置演算手段
を介して該第1及び第2位置被検出部の平面座標位置
(Xt、Yt)、(Xb、Yb)をそれぞれ検出するこ
とが出来る。すると、第1位置被検出部と第2位置被検
出部とターゲット5の下端は上下方向に所定の間隔L
2、L2をもって並ぶ形になっているので、第1又は第
2位置被検出部の平面座標位置(Xt、Yt)、(X
b、Yb)と、該第1位置被検出部に対する第2位置被
検出部の相対変位KBに基づいて、該下端の平面座標位
置(Xn、Yn)が特定される。そこで、これを利用し
て(即ち位置演算手段に演算させた第1又は第2位置被
検出部の各平面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Y
b)と、変位演算手段に演算させた相対変位TBを利用
して)、測位点演算手段にターゲット5の下端の平面座
標位置(Xn、Yn)を演算によって算出させ、当該演
算算出されたターゲット5の下端の平面座標位置(X
n、Yn)を測位点PXnの平面座標位置(Xn、Y
n)として出力手段に出力させることが出来る。従っ
て、ターゲット5が、測位点PXnに傾いた状態で立設
されていても、該測位点PXnの平面座標位置(Xn、
Yn)を正確に検出することが出来る。このため、測量
装置2を用いれば、従来の測量方式のように位置既知点
上に設置した測量儀からターゲットを視準する手間な
く、直伸性を有する測量光を利用して、省力的な測位が
出来ることに加えて、ターゲット5を鉛直に設置する手
間が不要で、且つ常時正確な測位が出来る。
設され得る形でポール状に形成されたターゲット5を有
し、前記ターゲット5に上反射部7T等の第1位置被検
出部と下反射部7B等の第2位置被検出部を、該第1位
置被検出部と第2位置被検出部と該ターゲット5の先端
6b等の下端が上下方向に所定の間隔L2、L2をもっ
て並ぶ形で設け、前記第1位置被検出部と第2位置被検
出部のそれぞれに、直進性を有するレーザ光39等の測
量光を入射方向と一致した方向に再帰させるように反射
し得る反射テープ71等の測量光反射手段を設け、ま
た、各々が前記測量光を水平方向に走査する形で射出
し、該測量光の反射光39’を検知し得る2ヶのレーザ
ユニット3、3等の測量光射出ユニットを設け、前記2
ヶの測量光射出ユニットが検知する、前記ターゲット5
の第1位置被検出部と第2位置被検出部の各測量光反射
手段からの反射光39’の水平方向の各入射角度θ1に
基づいて、該第1位置被検出部と第2位置被検出部の平
面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Yb)を演算する
反射位置演算部15A等の位置演算手段を設け、前記位
置演算手段が演算する第1位置被検出部と第2位置被検
出部の各平面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Yb)
に基づいて、該第2位置被検出部の第1位置被検出部に
対する相対変位TBを演算する変位演算部15B等の変
位演算手段を設け、該変位演算手段によって演算された
相対変位TBと、前記第1又は第2位置被検出部の平面
座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Yb)に基づいて、
前記ターゲット5の下端の平面座標位置(Xn、Yn)
を演算し得る測位点位置演算部15C等の測位点演算手
段を設け、該測位点演算手段によって演算されたターゲ
ット5の下端の平面座標位置(Xn、Yn)を、前記測
位点PXnの平面座標位置(Xn、Yn)として出力し
得る出力部18等の出力手段を設けて、測量装置2を構
成したので、位置演算手段に演算させた第1又は第2位
置被検出部の各平面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、
Yb)と、変位演算手段に演算させた第2位置被検出部
の第1位置被検出部に対する相対変位TBに基いて、測
位点演算手段に演算させたターゲット5の下端の平面座
標位置(Xn、Yn)を、出力手段によって、測位点P
Xnの平面座標位置(Xn、Yn)として出力させるこ
とが出来る。即ち、測量装置2を用いれば、2ヶの測量
光射出ユニットを基準点P1、P2等の位置既知点上に
それぞれ設置し、また、ターゲット5の下端が測位点P
Xnに接するように立設しておき、該2ヶの測量光射出
ユニットから測量光を射出させて、ターゲット5に設け
られた第1位置被検出部と第2位置被検出部の各測量光
反射手段からの反射光39’を該2ヶの測量光射出ユニ
ット位置でそれぞれ捉えることによって、位置演算手段
を介して該第1及び第2位置被検出部の平面座標位置
(Xt、Yt)、(Xb、Yb)をそれぞれ検出するこ
とが出来る。すると、第1位置被検出部と第2位置被検
出部とターゲット5の下端は上下方向に所定の間隔L
2、L2をもって並ぶ形になっているので、第1又は第
2位置被検出部の平面座標位置(Xt、Yt)、(X
b、Yb)と、該第1位置被検出部に対する第2位置被
検出部の相対変位KBに基づいて、該下端の平面座標位
置(Xn、Yn)が特定される。そこで、これを利用し
て(即ち位置演算手段に演算させた第1又は第2位置被
検出部の各平面座標位置(Xt、Yt)、(Xb、Y
b)と、変位演算手段に演算させた相対変位TBを利用
して)、測位点演算手段にターゲット5の下端の平面座
標位置(Xn、Yn)を演算によって算出させ、当該演
算算出されたターゲット5の下端の平面座標位置(X
n、Yn)を測位点PXnの平面座標位置(Xn、Y
n)として出力手段に出力させることが出来る。従っ
て、ターゲット5が、測位点PXnに傾いた状態で立設
されていても、該測位点PXnの平面座標位置(Xn、
Yn)を正確に検出することが出来る。このため、測量
装置2を用いれば、従来の測量方式のように位置既知点
上に設置した測量儀からターゲットを視準する手間な
く、直伸性を有する測量光を利用して、省力的な測位が
出来ることに加えて、ターゲット5を鉛直に設置する手
間が不要で、且つ常時正確な測位が出来る。
【0035】また、本発明において、前記上反射部7T
等の第1位置被検出部と下反射部7B等の第2位置被検
出部の各々にはシャッタ9等のシャッタ機構を、該第1
位置被検出部と第2位置被検出部の前記反射テープ71
等の測量光反射手段を被覆する形でそれぞれ設け、該第
1位置被検出部と第2位置被検出部の各シャッタ機構を
選択的に開閉駆動するシャッタ駆動制御装置21等のシ
ャッタ駆動手段を設けて、前記測量装置2を構成する
と、シャッタ駆動手段によるシャッタ機構の開閉駆動に
よって、第1位置被検出部と第2位置被検出部の各測量
光反射手段は、選択的に、測量光を反射し得る状態と、
反射し得ない状態を呈することが出来る。従って、先に
述べたように基準点P1、P2等の位置既知点上にそれ
ぞれ設置した、2ヶのレーザユニット3、3等の測量光
射出ユニットから、測量光を射出して、該2ヶの測量光
射出ユニットに反射光39’を検知させる際に、シャッ
タ駆動手段によって第1位置被検出部と第2位置被検出
部の各シャッタ機構を選択的に開閉駆動すれば、2ヶの
測量光射出ユニットが射出した測量光を、該第1位置被
検出部と第2位置被検出部の各測量光反射手段に選択的
に反射させることが出来る。このため、測量装置2を用
いて測位を行う際には、測量光射出ユニットが第1及び
第2位置被検出部の2か所の測量光反射手段からの反射
光39を同時に検知して、その識別が出来ないという事
態に陥ることを防止しなければならないが、このように
シャッタ駆動手段を介してシャッタ機構を開閉駆動すれ
ば、測量光射出ユニットに検知させる反射光39’を、
第1位置被検出部と第2位置被検出部のいずれか一方の
測量光反射手段によるものとして特定することが簡単に
出来る。このようにシャッタ駆動手段を介してシャッタ
機構を開閉駆動すれば、人力を介して測量光反射手段を
選択的に被覆したり、或いは測量光の走査高さをいちい
ち調整する必要はなく、該シャッタ駆動手段を電気的に
制御する形で、測量光反射手段の測量光反射状態を選択
することが出来る。よって、一層省力的な測位作業が可
能となる。
等の第1位置被検出部と下反射部7B等の第2位置被検
出部の各々にはシャッタ9等のシャッタ機構を、該第1
位置被検出部と第2位置被検出部の前記反射テープ71
等の測量光反射手段を被覆する形でそれぞれ設け、該第
1位置被検出部と第2位置被検出部の各シャッタ機構を
選択的に開閉駆動するシャッタ駆動制御装置21等のシ
ャッタ駆動手段を設けて、前記測量装置2を構成する
と、シャッタ駆動手段によるシャッタ機構の開閉駆動に
よって、第1位置被検出部と第2位置被検出部の各測量
光反射手段は、選択的に、測量光を反射し得る状態と、
反射し得ない状態を呈することが出来る。従って、先に
述べたように基準点P1、P2等の位置既知点上にそれ
ぞれ設置した、2ヶのレーザユニット3、3等の測量光
射出ユニットから、測量光を射出して、該2ヶの測量光
射出ユニットに反射光39’を検知させる際に、シャッ
タ駆動手段によって第1位置被検出部と第2位置被検出
部の各シャッタ機構を選択的に開閉駆動すれば、2ヶの
測量光射出ユニットが射出した測量光を、該第1位置被
検出部と第2位置被検出部の各測量光反射手段に選択的
に反射させることが出来る。このため、測量装置2を用
いて測位を行う際には、測量光射出ユニットが第1及び
第2位置被検出部の2か所の測量光反射手段からの反射
光39を同時に検知して、その識別が出来ないという事
態に陥ることを防止しなければならないが、このように
シャッタ駆動手段を介してシャッタ機構を開閉駆動すれ
ば、測量光射出ユニットに検知させる反射光39’を、
第1位置被検出部と第2位置被検出部のいずれか一方の
測量光反射手段によるものとして特定することが簡単に
出来る。このようにシャッタ駆動手段を介してシャッタ
機構を開閉駆動すれば、人力を介して測量光反射手段を
選択的に被覆したり、或いは測量光の走査高さをいちい
ち調整する必要はなく、該シャッタ駆動手段を電気的に
制御する形で、測量光反射手段の測量光反射状態を選択
することが出来る。よって、一層省力的な測位作業が可
能となる。
【0036】また、本発明において、前記レーザユニッ
ト3等の測量光射出ユニットにシリンドリカルレンズ3
4等の光上下拡散手段を、該測量光射出ユニットによる
前記レーザ光39等の測量光の光路中において該測量光
を上下方向に拡散し得る形で設けて、測量装置2を構成
すると、測量光射出ユニットは光上下拡散手段によって
上下方向に拡散した測量光を水平方向に走査する形で射
出することが出来る。すると、測量光射出ユニットが射
出する測量光は、光上下拡散手段によって上下方向に拡
散された測量光が水平方向に走査されることによって形
成される、広範囲な三次元空間状をなす照射領域中に照
射される。従って、測量装置2においては、測量光の照
射平面内に、ターゲット5の第1及び第2位置被検出部
が配置していないと、該測量光の反射光39’が生じな
い(即ち、第1及び第2位置被検出部の平面座標位置の
検出が出来ない)が、この際、測量光の照射領域は広範
囲な三次元空間状をなすことによって、該測量光は確実
に第1及び第2位置被検出部に照射される。このため、
2ヶの測量光射出ユニットによる測量光の走査高さとタ
ーゲット5の第1及び第2位置被検出部の高さを一致さ
せるように、該ターゲット5と各測量光射出ユニットの
設置状態を調整しておく必要がない。即ち、測位作業に
必要なこれらの測量機器類の設置が簡単である。また、
測位点の高さが変わることによって、該測位点に立設さ
れたターゲット5の第1及び第2位置被検出部の高さが
変わっても、測量光はいつも該第1又は第2位置被検出
部に確実に照射されて、反射し得るので、様々な高さを
なす複数の測位点の測位が可能である。特に、先に述べ
たようにターゲット5の第1位置被検出部と第2位置被
検出部の各々にシャッタ機構を設け、該シャッタ機構を
選択的に開閉駆動するシャッタ駆動手段を設けた場合に
おいては、測量光を三次元空間状をなす照射領域中に照
射しても、第1又は第2位置被検出部の測量光反射手段
を選択的に測量光反射状態或いは非反射状態に出来るの
で、このようなシャッタ機構を設けたターゲット5を用
いれば、上述した光上下拡散手段を設けた測量光射出ユ
ニットを用いる場合の利点を一層顕著に享受することが
出来、これによって、一層効率的な測位が可能となる。
ト3等の測量光射出ユニットにシリンドリカルレンズ3
4等の光上下拡散手段を、該測量光射出ユニットによる
前記レーザ光39等の測量光の光路中において該測量光
を上下方向に拡散し得る形で設けて、測量装置2を構成
すると、測量光射出ユニットは光上下拡散手段によって
上下方向に拡散した測量光を水平方向に走査する形で射
出することが出来る。すると、測量光射出ユニットが射
出する測量光は、光上下拡散手段によって上下方向に拡
散された測量光が水平方向に走査されることによって形
成される、広範囲な三次元空間状をなす照射領域中に照
射される。従って、測量装置2においては、測量光の照
射平面内に、ターゲット5の第1及び第2位置被検出部
が配置していないと、該測量光の反射光39’が生じな
い(即ち、第1及び第2位置被検出部の平面座標位置の
検出が出来ない)が、この際、測量光の照射領域は広範
囲な三次元空間状をなすことによって、該測量光は確実
に第1及び第2位置被検出部に照射される。このため、
2ヶの測量光射出ユニットによる測量光の走査高さとタ
ーゲット5の第1及び第2位置被検出部の高さを一致さ
せるように、該ターゲット5と各測量光射出ユニットの
設置状態を調整しておく必要がない。即ち、測位作業に
必要なこれらの測量機器類の設置が簡単である。また、
測位点の高さが変わることによって、該測位点に立設さ
れたターゲット5の第1及び第2位置被検出部の高さが
変わっても、測量光はいつも該第1又は第2位置被検出
部に確実に照射されて、反射し得るので、様々な高さを
なす複数の測位点の測位が可能である。特に、先に述べ
たようにターゲット5の第1位置被検出部と第2位置被
検出部の各々にシャッタ機構を設け、該シャッタ機構を
選択的に開閉駆動するシャッタ駆動手段を設けた場合に
おいては、測量光を三次元空間状をなす照射領域中に照
射しても、第1又は第2位置被検出部の測量光反射手段
を選択的に測量光反射状態或いは非反射状態に出来るの
で、このようなシャッタ機構を設けたターゲット5を用
いれば、上述した光上下拡散手段を設けた測量光射出ユ
ニットを用いる場合の利点を一層顕著に享受することが
出来、これによって、一層効率的な測位が可能となる。
【図1】本発明による測量装置の1実施例を示す全体斜
視図である。
視図である。
【図2】本発明による測量方法における測位点の座標位
置検出方法を示す図である。
置検出方法を示す図である。
【図3】図1に示す測量装置に用いる測量光射出ユニッ
トの1実施例を示す平面図である。
トの1実施例を示す平面図である。
【図4】図3に示す光ユニットの側面図である。
【図5】図1に示す測量装置における反射部材位置検出
方法を示す平面図である。
方法を示す平面図である。
【図6】本発明による測量装置に用いられるターゲット
の別の例を示す側面図である。
の別の例を示す側面図である。
【図7】図6に示すターゲットの平面図である。
2……測量装置 3……測量光射出ユニット(レーザユニット) 34……光上下拡散手段(シリンドリカルレンズ) 5……ターゲット 6b……下端(先端) 7T……第1位置被検出部(上反射部) 7B……第2位置被検出部(下反射部) 71……測量光反射手段(反射テープ) 15A……位置演算手段(反射位置演算部) 15B……変位演算手段(変位演算部) 15C……測位点演算手段(測位点位置演算部) 18……出力手段(出力部) 9……シャッタ機構(シャッタ) 21……シャッタ駆動手段(シャッタ駆動制御装置) 39……測量光(レーザ光) 39’……反射光 P1、P2……位置既知点(基準点) PXn……測位点 TB……相対変位(変位) θ1……入射角度
Claims (4)
- 【請求項1】ポール状に形成されたターゲットに、第1
位置被検出部と第2位置被検出部を、該第1位置被検出
部と第2位置被検出部と該ターゲットの下端が上下方向
に所定の間隔をもって並ぶ形で設け、 前記第1位置被検出部と第2位置被検出部の各々に測量
光反射手段を設け、 前記ターゲットを測位すべき測位点に、前記下端が該測
位点に接する形で立設しておき、 直進性を有する測量光を射出し、該測量光の反射光を検
知し得る2ヶの測量光射出ユニットを用いて、 前記2ヶの測量光射出ユニットをそれぞれ位置既知点上
に設置し、 前記2ヶの測量光射出ユニットから前記測量光を水平方
向に走査する形で射出させて、前記ターゲットに照射
し、 まず、該2ヶの測量光射出ユニットに、前記第1位置被
検出部の測量光反射手段からの各反射光をそれぞれ検知
させ、 該2ヶの測量光射出ユニットがそれぞれ検知する反射光
の水平方向の入射角度に基づいて該第1位置被検出部の
平面座標位置を演算し、 次に、前記2ヶの測量光射出ユニットに、前記第2位置
被検出部からの各反射光をそれぞれ検知させ、 該2ヶの測量光射出ユニットがそれぞれ検知する反射光
の水平方向の入射角度に基づいて該第2位置被検出部の
平面座標位置を演算し、 該第2位置被検出部の前記第1位置被検出部に対する相
対変位を求め、 該求められた相対変位と、前記演算された第1又は第2
位置被検出部の平面座標位置に基づいて、前記ターゲッ
トの下端の平面座標位置を演算し、 該演算されたターゲットの下端の平面座標位置を、該タ
ーゲットが立設された前記測位点の平面座標位置として
検出するようにした、測量方法。 - 【請求項2】測位点に立設され得る形でポール状に形成
されたターゲットを有し、 前記ターゲットに第1位置被検出部と第2位置被検出部
を、該第1位置被検出部と第2位置被検出部と該ターゲ
ットの下端が上下方向に所定の間隔をもって並ぶ形で設
け、 前記第1位置被検出部と第2位置被検出部のそれぞれ
に、直進性を有する測量光を入射方向と一致した方向に
再帰させるように反射し得る測量光反射手段を設け、 また、各々が前記測量光を水平方向に走査する形で射出
し、該測量光の反射光を検知し得る2ヶの測量光射出ユ
ニットを設け、 前記2ヶの測量光射出ユニットが検知する、前記ターゲ
ットの第1位置被検出部と第2位置被検出部の各測量光
反射手段からの反射光の水平方向の各入射角度に基づい
て、該第1位置被検出部と第2位置被検出部の平面座標
位置を演算する位置演算手段を設け、 前記位置演算手段が演算する第1位置被検出部と第2位
置被検出部の各平面座標位置に基づいて、該第2位置被
検出部の第1位置被検出部に対する相対変位を演算する
変位演算手段を設け、 該変位演算手段によって演算された相対変位と、前記第
1又は第2位置被検出部の平面座標位置に基づいて、前
記ターゲットの下端の平面座標位置を演算し得る測位点
演算手段を設け、 該測位点演算手段によって演算されたターゲットの下端
の平面座標位置を、前記測位点の平面座標位置として出
力し得る出力手段を設けて構成した、測量装置。 - 【請求項3】前記第1位置被検出部と第2位置被検出部
の各々にシャッタ機構を、該第1位置被検出部と第2位
置被検出部の前記測量光反射手段を被覆する形でそれぞ
れ設け、 該第1位置被検出部と第2位置被検出部の各シャッタ機
構を選択的に開閉駆動するシャッタ駆動手段を設けて構
成した、請求項2記載の測量装置。 - 【請求項4】前記測量光射出ユニットに光上下拡散手段
を、該測量光射出ユニットによる前記測量光の光路中に
おいて該測量光を上下方向に拡散し得る形で設けて構成
した請求項2記載の測量装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34738093A JPH07190771A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 測量方法及びこれに用いる測量装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34738093A JPH07190771A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 測量方法及びこれに用いる測量装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07190771A true JPH07190771A (ja) | 1995-07-28 |
Family
ID=18389839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34738093A Pending JPH07190771A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 測量方法及びこれに用いる測量装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07190771A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113884074A (zh) * | 2021-09-08 | 2022-01-04 | 四川交奥智控防护科技有限公司 | 一种基于光电传感矩阵有源靶标目标自动照准方法 |
-
1993
- 1993-12-24 JP JP34738093A patent/JPH07190771A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113884074A (zh) * | 2021-09-08 | 2022-01-04 | 四川交奥智控防护科技有限公司 | 一种基于光电传感矩阵有源靶标目标自动照准方法 |
CN113884074B (zh) * | 2021-09-08 | 2024-05-03 | 四川交奥智控防护科技有限公司 | 一种基于光电传感矩阵有源靶标目标自动照准方法 |
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