JPH0718210U - 測量機用反射ターゲット - Google Patents

測量機用反射ターゲット

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JPH0718210U
JPH0718210U JP4846393U JP4846393U JPH0718210U JP H0718210 U JPH0718210 U JP H0718210U JP 4846393 U JP4846393 U JP 4846393U JP 4846393 U JP4846393 U JP 4846393U JP H0718210 U JPH0718210 U JP H0718210U
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恭久 一川
辰行 松本
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 従来使用可能な近距離から遠距離までの範囲
以上の範囲で使用することの可能な測量機用反射ターゲ
ットの提供。 【構成】 表面に入射光を入射方向に沿って反射させる
マイクロプリズムが密集状態に設けられた反射面を有
し、反射面を測量機の送光部bに対峙させた状態で使用
される測量機用反射ターゲットにおいて、前記反射面
に、発散角が小さく反射率のよい(指向性のよい)第1
のマイクロプリズム群Aと、第1のマイクロプリズムよ
り発散角が大きく反射率の劣る(指向性の劣る)他のマ
イクロプリズム群Bとを混在させて、遠距離では、指向
性のよい第1のマイクロプリズム群Aにおける反射光が
わずかに発散されて受光部有効エリアcに入射すること
で受光部における適正光量が確保され、至近距離では、
指向性の劣る第2のマイクロプリズム群Bにおける反射
光が発散されて受光部有効エリアcに入射することで受
光部における適正光量が確保される。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、光波距離計等の送光部から出射された光を光波距離計等の受光部で 受光できるように、光を入射方向に沿って反射する測量機用反射ターゲットに関 する。
【0002】
【従来の技術】
図7,8は従来の反射ターゲットの断面図,拡大正面図を示しており、図に示 されるように、反射ターゲットTは、可撓性ベースプレート1の表面に、マイク ロ光学反射部であるマイクロプリズム3が密集状態に形成された可撓性反射ター ゲット本体2が接着剤4を介し接着一体化された構造で、ターゲット本体2には 、視準し易いように、中心を示す十字線等が印刷されている。マイクロプリズム 3は、図9に拡大して示すように、三角錐形状を呈し、各プリズム3に入射した 光はプリズムの反射面3a,3b,3cで反射されて入射した方向と平行な方向 に出射する。このため図10,11に示すように、反射ターゲットTを測量機の 対物レンズaにおける送光部bに対峙させて測点に配置した場合には、測量機の 送光部bから出射された光L1は反射ターゲットTで反射され、この反射光が測 量機の受光部で受光され、送光部2から出射した光L1の位相と、この光L1が反 射ターゲットTで反射されて受光部で受光される光L2の位相との位相差から、 測量機から測点までの距離Lを求めるようになっている。
【0003】
【考案の解決しようとする課題】
そして従来の反射ターゲットは、数mの近距離から約100mの遠距離までの 測定に使用できるようになっている。即ち、遠距離となればなる程、光が発散す るため、反射ターゲットTで反射された光が測量機側に戻って送光部b周辺につ くる反射光S(図11参照)は対物レンズaの大きさを大きく超えた拡がりをも ち、受光部有効エリアc(対物レンズ有効径)に入射する光の光量が低下する。 このため位相差測定に必要な光量の光が受光部有効エリアcに入射するためには 、所定距離以内において反射ターゲットを使用する必要がある。一方、近距離と なればなる程、1つの対物レンズで送光と受光を共用する構造の測量機では、反 射ターゲットで反射された光が測量機の対物レンズに戻ると反射光Sは小さくな って、送光部b以外の受光部有効エリアcに光が入射しないおそれがあり、受光 部有効エリアcに反射光が入射するためには、所定距離以上離して反射ターゲッ トを使用する必要がある。
【0004】 この様な観点から、送受光の光学系を同軸とする測量機における従来の反射タ ーゲットの保証使用可能距離は数m〜約100mにとどまり、さらなる至近距離 において、或いはさらなる遠距離において使用したくとも使用できないという問 題があった。 また図12,13は、ベースプレート1の表面にマイクロビーズ5が密集状態 に配置され、マイクロビーズ5のベースプレート側にはアルミニウムで蒸着され た反射面6が形成されて、入射光L1に沿った方向に反射光L2が出射する構造の 反射ターゲット(特公平3−3162号)を示しており、この種のタイプの反射 ターゲットにおいても、マイクロプリズム使用の反射ターゲットに比べると使用 可能距離が短いが、同様の問題がある。
【0005】 考案者が反射ターゲットについて考察したところ、反射ターゲットで反射され た光は光の入射方向に対し所定角度だけ発散(この角度を発散角という)され、 従来の反射ターゲットには、発散角が小さく反射率のよいものと、発散角が大き く反射率が劣るものの2種類があることがわかった。そこで、考案者は、反射タ ーゲットのマイクロプリズムとして、発散角が小さく反射率のよいマイクロプリ ズムと発散角が大きく反射率の劣るマイクロプリズムと混在させた構造としたと ころ、使用可能距離が従来の反射ターゲットよりも近距離側および遠距離側の双 方に拡大できることが確認された。
【0006】 本考案は前記従来技術の問題点におよび前記した様な考察の下になされたもの で、その目的は、従来使用可能な近距離から遠距離までの範囲以上の範囲で使用 することの可能な測量機用反射ターゲットを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本考案に係る測量機用反射ターゲットにおいては 、入射光を入射方向に沿って反射させるマイクロ光学反射部が密集状態に設けら れた反射面を有し、反射面を測量機の送光部に対峙させた状態で使用される測量 機用反射ターゲットにおいて、前記反射面に、発散角が小さく反射率のよい第1 のマイクロ光学反射部と、前記第1のマイクロ光学反射部より発散角が大きく反 射率の劣る他のマイクロ光学反射部とを混在させるようにしたものである。
【0008】 また請求項2では、請求項1記載の測量機用反射ターゲットにおいて、発散角 および反射率の異なるマイクロ光学反射部を、反射面全体に略均一に分布するよ うに一定の配列パターンに配置するようにしたものである。 また請求項3では、請求項1記載の測量機用反射ターゲットにおいて、反射面 の周縁寄り程、発散角が大きく反射率のよいマイクロ光学反射部を配置するよう にしたものである。
【0009】
【作用】
遠距離測定では、送光部から出射した光は平行光であるが角度的な拡がりをも つため、反射ターゲットの反射面全体に当たって反射される。そして発散角が大 きく反射率の劣る(指向性の劣る)マイクロ光学反射部により構成された反射面 領域で反射された光は、測定機まで遠距離のため大きく発散される。このため、 反射光は送光部周辺の受光部有効エリアにも導かれるが、発散光はエネルギ密度 が低いため受光部における適正光量の確保にそれ程ど寄与しない。しかし発散角 が小さく反射率のよい(指向性のよい)マイクロ光学反射部で反射された光は、 遠距離のためわずかに発散されて送光部周辺の受光部有効エリアに導かれる。こ の反射光はそれ程発散されないため、光のエネルギー密度はそれ程低下しておら ず、受光部における適正光量の確保に寄与する。
【0010】 一方、至近距離測定では、送光部から出射した光が反射ターゲットの反射面の 一部(一般には反射ターゲットの中央を視準するため反射面の中央部)に当たっ て反射される。そして発散角が小さく反射率のよい(指向性のよい)マイクロ光 学反射部により構成された反射面領域で反射された光は、至近距離のためそれ程 発散されることなく送光部に導かれ、受光部有効エリアにはほとんど導かれない ため、受光部における適正光量の確保に寄与しない。しかし発散角が大きく反射 率の劣る(指向性の劣る)マイクロ光学反射部により構成された反射面領域で反 射された光は、発散されて送光部周辺の受光部有効エリアに導かれる。この反射 光は発散光とはいえ至近距離のため、エネルギー密度はそれ程低下しておらず、 受光部における適正光量の確保に寄与する。
【0011】 請求項2では、発散角および反射率の異なるマイクロ光学反射部群が一定の配 列パターンに基づいて配置されているので、反射面の形成が容易となる。 請求項3において、至近距離では、送光部からの出射光が反射ターゲットの反 射面の中央部(発散角が大きく反射率の劣るマイクロ光学反射部からなる反射面 領域)に主として当たるので、かなりの至近距離でも受光部に適正光量が得られ る。
【0012】
【実施例】
次に、本考案の実施例を図面に基づいて説明する。 図1は本考案の第1の実施例である反射ターゲットの正面図である。 反射ターゲット10Aの主構造は、従来技術において示した反射ターゲット( 図7〜図9)の構造と同様、可撓性ベースプレートの表面に、マイクロプリズム が密集状態に形成された可撓性反射ターゲット本体が接着一体化された構造であ るが、反射ターゲット本体の反射面は、発散角および反射率の異なる2種類のマ イクロプリズム12,13によって構成されている。
【0013】 即ち、発散角が小さく反射率のよい(指向性のよい)マイクロプリズム12か らなる第1のマイクロプリズム群Aと、第1のマイクロプリズム12より発散角 が大きく反射率の劣る(指向性の劣る)マイクロプリズム13からなる第2のマ イクロプリズム群Bとが上下方向に交互となる横縞配列パターンに形成されてい る。図1における斜線を付けた領域は第1のマイクロプリズム群Aを、斜線を付 けない領域は第2のマイクロプリズム群Bをそれぞれ示す。さらに具体的には、 マイクロプリズムは、ターゲット本体の成形時にターゲット本体の表面に形成さ れるが、プリズムの大きさが小さい程、反射面(図8における符号3a,3b, 3c参照)の加工精度が低下し(プリズムの反射面は微小なため、小さい程加工 し難く、それだけ加工精度も悪くなるものと思われる。)反射光の発散角が大き く反射率が低下する(指向性が劣る)ことが考案者により確認されている。この ため発散角が小さく反射率のよい(指向性のよい)マイクロプリズム群Aとこの マイクロプリズム群Aより発散角が大きく反射率の劣る(指向性の劣る)マイク ロプリズム群Bとを交互に配置し、反射角が小さく反射率のよい(指向性のよい )マイクロプリズム群Aにおける反射光によって、遠距離測定における光量不足 (送光部周辺の受光部有効エリアに十分な光量が得られないこと)を補うととも に、発散角が大きく反射率の劣る(指向性が劣る)マイクロプリズム群Bにおけ る反射光によって、至近距離における反射光の入射エリアのスポット化を妨げる (送光部周りの受光部有効エリアに光を入射させる)ようになっている。
【0014】 図2は本考案の第2の実施例である反射ターゲットの正面図である。 この実施例における反射ターゲット10Bは、発散角が小さく反射率のよい( 指向性のよい)マイクロプリズム群Aが縦横に配列されて、発散角が大きく反射 率の劣る(指向性の劣る)マイクロプリズム群Bが碁盤目状に形成されている。 図3は本考案の第3の実施例である反射ターゲットの正面図である。
【0015】 この実施例における反射ターゲット10Cは、発散角および反射率(指向性) の異なる3種類のマイクロプリズム群A,B,Cが同芯円状に形成されており、 外側のプリズム群程、発散角が小さく反射率がよい(指向性がよい)構造となっ ている。 即ち近距離では、反射ターゲット10Cの中央部に光がスポット状に当たるが 、反射ターゲット中央部に形成されている第3のマイクロプリズム群Cは第1, 第2のマイクロプリズム群A,Bに比べて発散角が大きく反射率が劣る(指向性 が劣る)ため、図4に示されるように、反射光L2が発散されて測量機の対物レ ンズaの送光部bの周辺に導かれ、送光部b周りの受光部有効エリアcに反射光 L2が入射する。
【0016】 また中距離では、反射ターゲット10Cの第2,第3のマイクロプリズム群B ,Cに光が当たるが、発散角および反射率(指向性)中程度の第2のマイクロプ リズム群Bでの反射光がわずかに発散されて、測量機の対物レンズaの送光部b の周辺に導かれ、送光部周りの受光部有効エリアcに反射光L2が入射する。ま た遠距離では、反射ターゲット10Cの第1,第2,第3のプリズム群A,B, C全域に光が当たり、発散角が小さく反射率のよい(指向性のよい)第1のプリ ズム群Aでの反射光が遠距離のためわずかに発散され、対物レンズaの送光部b の周辺に導かれ、送光部周りの受光部有効エリアcに反射光L2が入射する。
【0017】 図5は本考案の第4の実施例である反射ターゲットの正面図である。 この実施例における反射ターゲット10Dでは、マイクロ光学反射部として、 マイクロプリズムに代えてマイクロビーズを使用したものである。そして直径の 大きいビーズは直径の小さいビーズに比べて加工し易い分、加工精度がよく、従 って発散角が小さく反射率がよい(指向性がよい)。そこで直径の異なる3種類 のマイクロビーズを使って、中央部寄りが最も発散角が小さく反射率のよい(指 向性のよい)マイクロビーズ群となるように、発散角および反射率(指向性)の 異なるマイクロビーズ群A1,B1,C1を同心円状に配置した。
【0018】 図6は本考案の第5の実施例である反射ターゲットの正面図である。 前記実施例における反射ターゲットでは大きさの異なるマイクロプリズムやマ イクロビーズが一定の条件に基づいて配置されていたが、本実施例における反射 ターゲット10Eでは大きさの異なる2種類のマイクロビーズ13,14がラン ダムに配置されている。
【0019】 なお前記実施例では、マイクロプリズムの大きさを異ならしめることで、反射 光の発散角および反射率(指向性)を異ならしめているが、プリズムの大きさを 同じとし、例えばシボ加工処理のシボの密度を異ならしめる等してプリズムの反 射面の面精度を異ならしめて、反射光の発散角および反射率(指向性)を調整す るようにしてもよい。
【0020】 また前記実施例では、送光部と受光部が同一軸上に設けられた送受光部同軸構 造の測量機について説明したが、送光部と受光部とが並設された送受光部並設構 造の測量機についても全く同様である。
【0021】
【考案の効果】
以上の説明から明らかなように、本考案に係る測量機用反射ターゲットによれ ば、遠距離測定では、発散角が小さく反射率のよい(指向性のよい)マイクロ光 学反射部での反射光が、遠距離のためわずかに発散されて送光部周辺の受光部有 効エリアに導かれて、受光部における適正光量の確保に寄与するとともに、至近 距離測定では、発散角が大きく反射率の小さい(指向性の劣る)マイクロ光学反 射部での反射光が発散されて送光部周辺の受光部有効エリアに導かれて、受光部 における適正光量の確保に寄与するので、従来における使用可能範囲を超えた至 近距離から遠距離に至る測定に使用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の第1の実施例である反射ターゲットの
正面図
【図2】本考案の第2の実施例の反射ターゲットの正面
【図3】本考案の第3の実施例の反射ターゲットの正面
【図4】同実施例の反射ターゲットにおける反射光が送
光部周辺に至る様子を説明する説明図
【図5】本考案の第4の実施例の反射ターゲットの正面
【図6】本考案の第5の実施例の反射ターゲットの正面
【図7】従来の反射ターゲットの拡大縦断面図
【図8】同反射ターゲットの一部拡大正面図
【図9】マイクロプリズムの拡大斜視図
【図10】従来の反射ターゲットの使用状態を説明する
説明図
【図11】従来の反射ターゲットの問題点を説明する説
明図
【図12】従来の他の反射ターゲットの拡大縦断面図
【図13】同反射ターゲットの一部拡大正面図
【符号の説明】
10A〜10E 反射ターゲット 12,13 マイクロ光学反射部であるマイクロプリズ
ム 14,15 マイクロ光学反射部であるマイクロビーズ A 発散角が小さく反射率のよい(指向性のよい)マイ
クロプリズム群 B 発散角が大きく反射率の劣る(指向性の劣る)マイ
クロプリズム群

Claims (3)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入射光を入射方向に沿って反射させるマ
    イクロ光学反射部が密集状態に設けられた反射面を有
    し、反射面を測量機の送光部に対峙させた状態で使用さ
    れる測量機用反射ターゲットにおいて、前記反射面に
    は、発散角が小さく反射率のよい第1のマイクロ光学反
    射部と、前記第1のマイクロ光学反射部より発散角が大
    きく反射率の劣る他のマイクロ光学反射部とが混在する
    ことを特徴とする測量機用反射ターゲット。
  2. 【請求項2】 前記発散角および反射率の異なるマイク
    ロ光学反射部は、反射面全体に略均一に分布するように
    一定の配列パターンに配置されたことを特徴とする請求
    項1記載の測量機用反射ターゲット。
  3. 【請求項3】前記反射面の周縁寄り程、発散角が小さく
    反射率のよいマイクロ光学反射部が配置されたことを特
    徴とする請求項1記載の測量機用反射ターゲット。
JP4846393U 1993-09-07 1993-09-07 測量機用反射ターゲット Expired - Lifetime JP2580619Y2 (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001249020A (ja) * 1999-12-28 2001-09-14 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 写真計測用ターゲット
JP2010085188A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Audio Technica Corp レーザ墨出し器
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JP2015161682A (ja) * 2014-02-25 2015-09-07 ザ・ボーイング・カンパニーTheBoeing Company 写真測量用ターゲットを着脱可能に面に取り付けるための方法及び装置

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