JP2580619Y2 - 測量機用反射ターゲット - Google Patents
測量機用反射ターゲットInfo
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- JP2580619Y2 JP2580619Y2 JP4846393U JP4846393U JP2580619Y2 JP 2580619 Y2 JP2580619 Y2 JP 2580619Y2 JP 4846393 U JP4846393 U JP 4846393U JP 4846393 U JP4846393 U JP 4846393U JP 2580619 Y2 JP2580619 Y2 JP 2580619Y2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、光波距離計等の送光部
から出射された光を光波距離計等の受光部で受光できる
ように、光を入射方向に沿って反射する測量機用反射タ
ーゲットに関する。
から出射された光を光波距離計等の受光部で受光できる
ように、光を入射方向に沿って反射する測量機用反射タ
ーゲットに関する。
【０００２】
【従来の技術】図７，８は従来の反射ターゲットの断面
図，拡大正面図を示しており、図に示されるように、反
射ターゲットＴは、可撓性ベースプレート１の表面に、
マイクロ光学反射部であるマイクロプリズム３が密集状
態に形成された可撓性反射ターゲット本体２が接着剤４
を介し接着一体化された構造で、ターゲット本体２に
は、視準し易いように、中心を示す十字線等が印刷され
ている。マイクロプリズム３は、図９に拡大して示すよ
うに、三角錐形状を呈し、各プリズム３に入射した光は
プリズムの反射面３ａ，３ｂ，３ｃで反射されて入射し
た方向と平行な方向に出射する。このため図１０，１１
に示すように、反射ターゲットＴを測量機の対物レンズ
ａにおける送光部ｂに対峙させて測点に配置した場合に
は、測量機の送光部ｂから出射された光Ｌ1は反射ター
ゲットＴで反射され、この反射光が測量機の受光部で受
光され、送光部２から出射した光Ｌ1の位相と、この光
Ｌ1が反射ターゲットＴで反射されて受光部で受光され
る光Ｌ2の位相との位相差から、測量機から測点までの
距離Ｌを求めるようになっている。
図，拡大正面図を示しており、図に示されるように、反
射ターゲットＴは、可撓性ベースプレート１の表面に、
マイクロ光学反射部であるマイクロプリズム３が密集状
態に形成された可撓性反射ターゲット本体２が接着剤４
を介し接着一体化された構造で、ターゲット本体２に
は、視準し易いように、中心を示す十字線等が印刷され
ている。マイクロプリズム３は、図９に拡大して示すよ
うに、三角錐形状を呈し、各プリズム３に入射した光は
プリズムの反射面３ａ，３ｂ，３ｃで反射されて入射し
た方向と平行な方向に出射する。このため図１０，１１
に示すように、反射ターゲットＴを測量機の対物レンズ
ａにおける送光部ｂに対峙させて測点に配置した場合に
は、測量機の送光部ｂから出射された光Ｌ1は反射ター
ゲットＴで反射され、この反射光が測量機の受光部で受
光され、送光部２から出射した光Ｌ1の位相と、この光
Ｌ1が反射ターゲットＴで反射されて受光部で受光され
る光Ｌ2の位相との位相差から、測量機から測点までの
距離Ｌを求めるようになっている。
【０００３】
【考案の解決しようとする課題】そして従来の反射ター
ゲットは、数ｍの近距離から約１００ｍの遠距離までの
測定に使用できるようになっている。即ち、遠距離とな
ればなる程、光が発散するため、反射ターゲットＴで反
射された光が測量機側に戻って送光部ｂ周辺につくる反
射光Ｓ（図１１参照）は対物レンズａの大きさを大きく
超えた拡がりをもち、受光部有効エリアｃ（対物レンズ
有効径）に入射する光の光量が低下する。このため位相
差測定に必要な光量の光が受光部有効エリアｃに入射す
るためには、所定距離以内において反射ターゲットを使
用する必要がある。一方、近距離となればなる程、１つ
の対物レンズで送光と受光を共用する構造の測量機で
は、反射ターゲットで反射された光が測量機の対物レン
ズに戻ると反射光Ｓは小さくなって、送光部ｂ以外の受
光部有効エリアｃに光が入射しないおそれがあり、受光
部有効エリアｃに反射光が入射するためには、所定距離
以上離して反射ターゲットを使用する必要がある。
ゲットは、数ｍの近距離から約１００ｍの遠距離までの
測定に使用できるようになっている。即ち、遠距離とな
ればなる程、光が発散するため、反射ターゲットＴで反
射された光が測量機側に戻って送光部ｂ周辺につくる反
射光Ｓ（図１１参照）は対物レンズａの大きさを大きく
超えた拡がりをもち、受光部有効エリアｃ（対物レンズ
有効径）に入射する光の光量が低下する。このため位相
差測定に必要な光量の光が受光部有効エリアｃに入射す
るためには、所定距離以内において反射ターゲットを使
用する必要がある。一方、近距離となればなる程、１つ
の対物レンズで送光と受光を共用する構造の測量機で
は、反射ターゲットで反射された光が測量機の対物レン
ズに戻ると反射光Ｓは小さくなって、送光部ｂ以外の受
光部有効エリアｃに光が入射しないおそれがあり、受光
部有効エリアｃに反射光が入射するためには、所定距離
以上離して反射ターゲットを使用する必要がある。
【０００４】この様な観点から、送受光の光学系を同軸
とする測量機における従来の反射ターゲットの保証使用
可能距離は数ｍ〜約１００ｍにとどまり、さらなる至近
距離において、或いはさらなる遠距離において使用した
くとも使用できないという問題があった。また図１２，
１３は、ベースプレート１の表面にマイクロビーズ５が
密集状態に配置され、マイクロビーズ５のベースプレー
ト側にはアルミニウムで蒸着された反射面６が形成され
て、入射光Ｌ1に沿った方向に反射光Ｌ2が出射する構造
の反射ターゲット（特公平３−３１６２号）を示してお
り、この種のタイプの反射ターゲットにおいても、マイ
クロプリズム使用の反射ターゲットに比べると使用可能
距離が短いが、同様の問題がある。
とする測量機における従来の反射ターゲットの保証使用
可能距離は数ｍ〜約１００ｍにとどまり、さらなる至近
距離において、或いはさらなる遠距離において使用した
くとも使用できないという問題があった。また図１２，
１３は、ベースプレート１の表面にマイクロビーズ５が
密集状態に配置され、マイクロビーズ５のベースプレー
ト側にはアルミニウムで蒸着された反射面６が形成され
て、入射光Ｌ1に沿った方向に反射光Ｌ2が出射する構造
の反射ターゲット（特公平３−３１６２号）を示してお
り、この種のタイプの反射ターゲットにおいても、マイ
クロプリズム使用の反射ターゲットに比べると使用可能
距離が短いが、同様の問題がある。
【０００５】考案者が反射ターゲットについて考察した
ところ、反射ターゲットで反射された光は光の入射方向
に対し所定角度だけ発散（この角度を発散角という）さ
れ、従来の反射ターゲットには、発散角が小さく反射率
のよいものと、発散角が大きく反射率が劣るものの２種
類があることがわかった。そこで、考案者は、反射ター
ゲットのマイクロプリズムとして、発散角が小さく反射
率のよいマイクロプリズムと発散角が大きく反射率の劣
るマイクロプリズムと混在させた構造としたところ、使
用可能距離が従来の反射ターゲットよりも近距離側およ
び遠距離側の双方に拡大できることが確認された。
ところ、反射ターゲットで反射された光は光の入射方向
に対し所定角度だけ発散（この角度を発散角という）さ
れ、従来の反射ターゲットには、発散角が小さく反射率
のよいものと、発散角が大きく反射率が劣るものの２種
類があることがわかった。そこで、考案者は、反射ター
ゲットのマイクロプリズムとして、発散角が小さく反射
率のよいマイクロプリズムと発散角が大きく反射率の劣
るマイクロプリズムと混在させた構造としたところ、使
用可能距離が従来の反射ターゲットよりも近距離側およ
び遠距離側の双方に拡大できることが確認された。
【０００６】本考案は前記従来技術の問題点におよび前
記した様な考察の下になされたもので、その目的は、従
来使用可能な近距離から遠距離までの範囲以上の範囲で
使用することの可能な測量機用反射ターゲットを提供す
ることにある。
記した様な考察の下になされたもので、その目的は、従
来使用可能な近距離から遠距離までの範囲以上の範囲で
使用することの可能な測量機用反射ターゲットを提供す
ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本考案に係る測量機用反射ターゲットにおいては、
入射光を入射方向に沿って反射させるマイクロ光学反射
部が密集状態に設けられた反射面を有し、反射面を測量
機の送光部に対峙させた状態で使用される測量機用反射
ターゲットにおいて、前記反射面に、発散角が小さく反
射率のよい第１のマイクロ光学反射部と、前記第１のマ
イクロ光学反射部より発散角が大きく反射率の劣る他の
マイクロ光学反射部とを混在させるようにしたものであ
る。
に、本考案に係る測量機用反射ターゲットにおいては、
入射光を入射方向に沿って反射させるマイクロ光学反射
部が密集状態に設けられた反射面を有し、反射面を測量
機の送光部に対峙させた状態で使用される測量機用反射
ターゲットにおいて、前記反射面に、発散角が小さく反
射率のよい第１のマイクロ光学反射部と、前記第１のマ
イクロ光学反射部より発散角が大きく反射率の劣る他の
マイクロ光学反射部とを混在させるようにしたものであ
る。
【０００８】また請求項２では、請求項１記載の測量機
用反射ターゲットにおいて、発散角および反射率の異な
るマイクロ光学反射部を、反射面全体に略均一に分布す
るように一定の配列パターンに配置するようにしたもの
である。また請求項３では、請求項１記載の測量機用反
射ターゲットにおいて、反射面の周縁寄り程、発散角が
大きく反射率のよいマイクロ光学反射部を配置するよう
にしたものである。
用反射ターゲットにおいて、発散角および反射率の異な
るマイクロ光学反射部を、反射面全体に略均一に分布す
るように一定の配列パターンに配置するようにしたもの
である。また請求項３では、請求項１記載の測量機用反
射ターゲットにおいて、反射面の周縁寄り程、発散角が
大きく反射率のよいマイクロ光学反射部を配置するよう
にしたものである。
【０００９】
【作用】遠距離測定では、送光部から出射した光は平行
光であるが角度的な拡がりをもつため、反射ターゲット
の反射面全体に当たって反射される。そして発散角が大
きく反射率の劣る（指向性の劣る）マイクロ光学反射部
により構成された反射面領域で反射された光は、測定機
まで遠距離のため大きく発散される。このため、反射光
は送光部周辺の受光部有効エリアにも導かれるが、発散
光はエネルギ密度が低いため受光部における適正光量の
確保にそれ程ど寄与しない。しかし発散角が小さく反射
率のよい（指向性のよい）マイクロ光学反射部で反射さ
れた光は、遠距離のためわずかに発散されて送光部周辺
の受光部有効エリアに導かれる。この反射光はそれ程発
散されないため、光のエネルギー密度はそれ程低下して
おらず、受光部における適正光量の確保に寄与する。
光であるが角度的な拡がりをもつため、反射ターゲット
の反射面全体に当たって反射される。そして発散角が大
きく反射率の劣る（指向性の劣る）マイクロ光学反射部
により構成された反射面領域で反射された光は、測定機
まで遠距離のため大きく発散される。このため、反射光
は送光部周辺の受光部有効エリアにも導かれるが、発散
光はエネルギ密度が低いため受光部における適正光量の
確保にそれ程ど寄与しない。しかし発散角が小さく反射
率のよい（指向性のよい）マイクロ光学反射部で反射さ
れた光は、遠距離のためわずかに発散されて送光部周辺
の受光部有効エリアに導かれる。この反射光はそれ程発
散されないため、光のエネルギー密度はそれ程低下して
おらず、受光部における適正光量の確保に寄与する。
【００１０】一方、至近距離測定では、送光部から出射
した光が反射ターゲットの反射面の一部（一般には反射
ターゲットの中央を視準するため反射面の中央部）に当
たって反射される。そして発散角が小さく反射率のよい
（指向性のよい）マイクロ光学反射部により構成された
反射面領域で反射された光は、至近距離のためそれ程発
散されることなく送光部に導かれ、受光部有効エリアに
はほとんど導かれないため、受光部における適正光量の
確保に寄与しない。しかし発散角が大きく反射率の劣る
（指向性の劣る）マイクロ光学反射部により構成された
反射面領域で反射された光は、発散されて送光部周辺の
受光部有効エリアに導かれる。この反射光は発散光とは
いえ至近距離のため、エネルギー密度はそれ程低下して
おらず、受光部における適正光量の確保に寄与する。
した光が反射ターゲットの反射面の一部（一般には反射
ターゲットの中央を視準するため反射面の中央部）に当
たって反射される。そして発散角が小さく反射率のよい
（指向性のよい）マイクロ光学反射部により構成された
反射面領域で反射された光は、至近距離のためそれ程発
散されることなく送光部に導かれ、受光部有効エリアに
はほとんど導かれないため、受光部における適正光量の
確保に寄与しない。しかし発散角が大きく反射率の劣る
（指向性の劣る）マイクロ光学反射部により構成された
反射面領域で反射された光は、発散されて送光部周辺の
受光部有効エリアに導かれる。この反射光は発散光とは
いえ至近距離のため、エネルギー密度はそれ程低下して
おらず、受光部における適正光量の確保に寄与する。
【００１１】請求項２では、発散角および反射率の異な
るマイクロ光学反射部群が一定の配列パターンに基づい
て配置されているので、反射面の形成が容易となる。請
求項３において、至近距離では、送光部からの出射光が
反射ターゲットの反射面の中央部（発散角が大きく反射
率の劣るマイクロ光学反射部からなる反射面領域）に主
として当たるので、かなりの至近距離でも受光部に適正
光量が得られる。
るマイクロ光学反射部群が一定の配列パターンに基づい
て配置されているので、反射面の形成が容易となる。請
求項３において、至近距離では、送光部からの出射光が
反射ターゲットの反射面の中央部（発散角が大きく反射
率の劣るマイクロ光学反射部からなる反射面領域）に主
として当たるので、かなりの至近距離でも受光部に適正
光量が得られる。
【００１２】
【実施例】次に、本考案の実施例を図面に基づいて説明
する。図１は本考案の第１の実施例である反射ターゲッ
トの正面図である。反射ターゲット１０Ａの主構造は、
従来技術において示した反射ターゲット（図７〜図９）
の構造と同様、可撓性ベースプレートの表面に、マイク
ロプリズムが密集状態に形成された可撓性反射ターゲッ
ト本体が接着一体化された構造であるが、反射ターゲッ
ト本体の反射面は、発散角および反射率の異なる２種類
のマイクロプリズム１２，１３によって構成されてい
る。
する。図１は本考案の第１の実施例である反射ターゲッ
トの正面図である。反射ターゲット１０Ａの主構造は、
従来技術において示した反射ターゲット（図７〜図９）
の構造と同様、可撓性ベースプレートの表面に、マイク
ロプリズムが密集状態に形成された可撓性反射ターゲッ
ト本体が接着一体化された構造であるが、反射ターゲッ
ト本体の反射面は、発散角および反射率の異なる２種類
のマイクロプリズム１２，１３によって構成されてい
る。
【００１３】即ち、発散角が小さく反射率のよい（指向
性のよい）マイクロプリズム１２からなる第１のマイク
ロプリズム群Ａと、第１のマイクロプリズム１２より発
散角が大きく反射率の劣る（指向性の劣る）マイクロプ
リズム１３からなる第２のマイクロプリズム群Ｂとが上
下方向に交互となる横縞配列パターンに形成されてい
る。図１における斜線を付けた領域は第１のマイクロプ
リズム群Ａを、斜線を付けない領域は第２のマイクロプ
リズム群Ｂをそれぞれ示す。さらに具体的には、マイク
ロプリズムは、ターゲット本体の成形時にターゲット本
体の表面に形成されるが、プリズムの大きさが小さい
程、反射面（図８における符号３ａ，３ｂ，３ｃ参照）
の加工精度が低下し（プリズムの反射面は微小なため、
小さい程加工し難く、それだけ加工精度も悪くなるもの
と思われる。）反射光の発散角が大きく反射率が低下す
る（指向性が劣る）ことが考案者により確認されてい
る。このため発散角が小さく反射率のよい（指向性のよ
い）マイクロプリズム群Ａとこのマイクロプリズム群Ａ
より発散角が大きく反射率の劣る（指向性の劣る）マイ
クロプリズム群Ｂとを交互に配置し、反射角が小さく反
射率のよい（指向性のよい）マイクロプリズム群Ａにお
ける反射光によって、遠距離測定における光量不足（送
光部周辺の受光部有効エリアに十分な光量が得られない
こと）を補うとともに、発散角が大きく反射率の劣る
（指向性が劣る）マイクロプリズム群Ｂにおける反射光
によって、至近距離における反射光の入射エリアのスポ
ット化を妨げる（送光部周りの受光部有効エリアに光を
入射させる）ようになっている。
性のよい）マイクロプリズム１２からなる第１のマイク
ロプリズム群Ａと、第１のマイクロプリズム１２より発
散角が大きく反射率の劣る（指向性の劣る）マイクロプ
リズム１３からなる第２のマイクロプリズム群Ｂとが上
下方向に交互となる横縞配列パターンに形成されてい
る。図１における斜線を付けた領域は第１のマイクロプ
リズム群Ａを、斜線を付けない領域は第２のマイクロプ
リズム群Ｂをそれぞれ示す。さらに具体的には、マイク
ロプリズムは、ターゲット本体の成形時にターゲット本
体の表面に形成されるが、プリズムの大きさが小さい
程、反射面（図８における符号３ａ，３ｂ，３ｃ参照）
の加工精度が低下し（プリズムの反射面は微小なため、
小さい程加工し難く、それだけ加工精度も悪くなるもの
と思われる。）反射光の発散角が大きく反射率が低下す
る（指向性が劣る）ことが考案者により確認されてい
る。このため発散角が小さく反射率のよい（指向性のよ
い）マイクロプリズム群Ａとこのマイクロプリズム群Ａ
より発散角が大きく反射率の劣る（指向性の劣る）マイ
クロプリズム群Ｂとを交互に配置し、反射角が小さく反
射率のよい（指向性のよい）マイクロプリズム群Ａにお
ける反射光によって、遠距離測定における光量不足（送
光部周辺の受光部有効エリアに十分な光量が得られない
こと）を補うとともに、発散角が大きく反射率の劣る
（指向性が劣る）マイクロプリズム群Ｂにおける反射光
によって、至近距離における反射光の入射エリアのスポ
ット化を妨げる（送光部周りの受光部有効エリアに光を
入射させる）ようになっている。
【００１４】図２は本考案の第２の実施例である反射タ
ーゲットの正面図である。この実施例における反射ター
ゲット１０Ｂは、発散角が小さく反射率のよい（指向性
のよい）マイクロプリズム群Ａが縦横に配列されて、発
散角が大きく反射率の劣る（指向性の劣る）マイクロプ
リズム群Ｂが碁盤目状に形成されている。図３は本考案
の第３の実施例である反射ターゲットの正面図である。
ーゲットの正面図である。この実施例における反射ター
ゲット１０Ｂは、発散角が小さく反射率のよい（指向性
のよい）マイクロプリズム群Ａが縦横に配列されて、発
散角が大きく反射率の劣る（指向性の劣る）マイクロプ
リズム群Ｂが碁盤目状に形成されている。図３は本考案
の第３の実施例である反射ターゲットの正面図である。
【００１５】この実施例における反射ターゲット１０Ｃ
は、発散角および反射率（指向性）の異なる３種類のマ
イクロプリズム群Ａ，Ｂ，Ｃが同芯円状に形成されてお
り、外側のプリズム群程、発散角が小さく反射率がよい
（指向性がよい）構造となっている。即ち近距離では、
反射ターゲット１０Ｃの中央部に光がスポット状に当た
るが、反射ターゲット中央部に形成されている第３のマ
イクロプリズム群Ｃは第１，第２のマイクロプリズム群
Ａ，Ｂに比べて発散角が大きく反射率が劣る（指向性が
劣る）ため、図４に示されるように、反射光Ｌ2が発散
されて測量機の対物レンズａの送光部ｂの周辺に導か
れ、送光部ｂ周りの受光部有効エリアｃに反射光Ｌ2が
入射する。
は、発散角および反射率（指向性）の異なる３種類のマ
イクロプリズム群Ａ，Ｂ，Ｃが同芯円状に形成されてお
り、外側のプリズム群程、発散角が小さく反射率がよい
（指向性がよい）構造となっている。即ち近距離では、
反射ターゲット１０Ｃの中央部に光がスポット状に当た
るが、反射ターゲット中央部に形成されている第３のマ
イクロプリズム群Ｃは第１，第２のマイクロプリズム群
Ａ，Ｂに比べて発散角が大きく反射率が劣る（指向性が
劣る）ため、図４に示されるように、反射光Ｌ2が発散
されて測量機の対物レンズａの送光部ｂの周辺に導か
れ、送光部ｂ周りの受光部有効エリアｃに反射光Ｌ2が
入射する。
【００１６】また中距離では、反射ターゲット１０Ｃの
第２，第３のマイクロプリズム群Ｂ，Ｃに光が当たる
が、発散角および反射率（指向性）中程度の第２のマイ
クロプリズム群Ｂでの反射光がわずかに発散されて、測
量機の対物レンズａの送光部ｂの周辺に導かれ、送光部
周りの受光部有効エリアｃに反射光Ｌ2が入射する。ま
た遠距離では、反射ターゲット１０Ｃの第１，第２，第
３のプリズム群Ａ，Ｂ，Ｃ全域に光が当たり、発散角が
小さく反射率のよい（指向性のよい）第１のプリズム群
Ａでの反射光が遠距離のためわずかに発散され、対物レ
ンズａの送光部ｂの周辺に導かれ、送光部周りの受光部
有効エリアｃに反射光Ｌ2が入射する。
第２，第３のマイクロプリズム群Ｂ，Ｃに光が当たる
が、発散角および反射率（指向性）中程度の第２のマイ
クロプリズム群Ｂでの反射光がわずかに発散されて、測
量機の対物レンズａの送光部ｂの周辺に導かれ、送光部
周りの受光部有効エリアｃに反射光Ｌ2が入射する。ま
た遠距離では、反射ターゲット１０Ｃの第１，第２，第
３のプリズム群Ａ，Ｂ，Ｃ全域に光が当たり、発散角が
小さく反射率のよい（指向性のよい）第１のプリズム群
Ａでの反射光が遠距離のためわずかに発散され、対物レ
ンズａの送光部ｂの周辺に導かれ、送光部周りの受光部
有効エリアｃに反射光Ｌ2が入射する。
【００１７】図５は本考案の第４の実施例である反射タ
ーゲットの正面図である。この実施例における反射ター
ゲット１０Ｄでは、マイクロ光学反射部として、マイク
ロプリズムに代えてマイクロビーズを使用したものであ
る。そして直径の大きいビーズは直径の小さいビーズに
比べて加工し易い分、加工精度がよく、従って発散角が
小さく反射率がよい（指向性がよい）。そこで直径の異
なる３種類のマイクロビーズを使って、中央部寄りが最
も発散角が小さく反射率のよい（指向性のよい）マイク
ロビーズ群となるように、発散角および反射率（指向
性）の異なるマイクロビーズ群Ａ1，Ｂ1，Ｃ1を同心円
状に配置した。
ーゲットの正面図である。この実施例における反射ター
ゲット１０Ｄでは、マイクロ光学反射部として、マイク
ロプリズムに代えてマイクロビーズを使用したものであ
る。そして直径の大きいビーズは直径の小さいビーズに
比べて加工し易い分、加工精度がよく、従って発散角が
小さく反射率がよい（指向性がよい）。そこで直径の異
なる３種類のマイクロビーズを使って、中央部寄りが最
も発散角が小さく反射率のよい（指向性のよい）マイク
ロビーズ群となるように、発散角および反射率（指向
性）の異なるマイクロビーズ群Ａ1，Ｂ1，Ｃ1を同心円
状に配置した。
【００１８】図６は本考案の第５の実施例である反射タ
ーゲットの正面図である。前記実施例における反射ター
ゲットでは大きさの異なるマイクロプリズムやマイクロ
ビーズが一定の条件に基づいて配置されていたが、本実
施例における反射ターゲット１０Ｅでは大きさの異なる
２種類のマイクロビーズ１３，１４がランダムに配置さ
れている。
ーゲットの正面図である。前記実施例における反射ター
ゲットでは大きさの異なるマイクロプリズムやマイクロ
ビーズが一定の条件に基づいて配置されていたが、本実
施例における反射ターゲット１０Ｅでは大きさの異なる
２種類のマイクロビーズ１３，１４がランダムに配置さ
れている。
【００１９】なお前記実施例では、マイクロプリズムの
大きさを異ならしめることで、反射光の発散角および反
射率（指向性）を異ならしめているが、プリズムの大き
さを同じとし、例えばシボ加工処理のシボの密度を異な
らしめる等してプリズムの反射面の面精度を異ならしめ
て、反射光の発散角および反射率（指向性）を調整する
ようにしてもよい。
大きさを異ならしめることで、反射光の発散角および反
射率（指向性）を異ならしめているが、プリズムの大き
さを同じとし、例えばシボ加工処理のシボの密度を異な
らしめる等してプリズムの反射面の面精度を異ならしめ
て、反射光の発散角および反射率（指向性）を調整する
ようにしてもよい。
【００２０】また前記実施例では、送光部と受光部が同
一軸上に設けられた送受光部同軸構造の測量機について
説明したが、送光部と受光部とが並設された送受光部並
設構造の測量機についても全く同様である。
一軸上に設けられた送受光部同軸構造の測量機について
説明したが、送光部と受光部とが並設された送受光部並
設構造の測量機についても全く同様である。
【００２１】
【考案の効果】以上の説明から明らかなように、本考案
に係る測量機用反射ターゲットによれば、遠距離測定で
は、発散角が小さく反射率のよい（指向性のよい）マイ
クロ光学反射部での反射光が、遠距離のためわずかに発
散されて送光部周辺の受光部有効エリアに導かれて、受
光部における適正光量の確保に寄与するとともに、至近
距離測定では、発散角が大きく反射率の小さい（指向性
の劣る）マイクロ光学反射部での反射光が発散されて送
光部周辺の受光部有効エリアに導かれて、受光部におけ
る適正光量の確保に寄与するので、従来における使用可
能範囲を超えた至近距離から遠距離に至る測定に使用で
きる。
に係る測量機用反射ターゲットによれば、遠距離測定で
は、発散角が小さく反射率のよい（指向性のよい）マイ
クロ光学反射部での反射光が、遠距離のためわずかに発
散されて送光部周辺の受光部有効エリアに導かれて、受
光部における適正光量の確保に寄与するとともに、至近
距離測定では、発散角が大きく反射率の小さい（指向性
の劣る）マイクロ光学反射部での反射光が発散されて送
光部周辺の受光部有効エリアに導かれて、受光部におけ
る適正光量の確保に寄与するので、従来における使用可
能範囲を超えた至近距離から遠距離に至る測定に使用で
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本考案の第１の実施例である反射ターゲットの
正面図
正面図
【図２】本考案の第２の実施例の反射ターゲットの正面
図
図
【図３】本考案の第３の実施例の反射ターゲットの正面
図
図
【図４】同実施例の反射ターゲットにおける反射光が送
光部周辺に至る様子を説明する説明図
光部周辺に至る様子を説明する説明図
【図５】本考案の第４の実施例の反射ターゲットの正面
図
図
【図６】本考案の第５の実施例の反射ターゲットの正面
図
図
【図７】従来の反射ターゲットの拡大縦断面図
【図８】同反射ターゲットの一部拡大正面図
【図９】マイクロプリズムの拡大斜視図
【図１０】従来の反射ターゲットの使用状態を説明する
説明図
説明図
【図１１】従来の反射ターゲットの問題点を説明する説
明図
明図
【図１２】従来の他の反射ターゲットの拡大縦断面図
【図１３】同反射ターゲットの一部拡大正面図
１０Ａ〜１０Ｅ 反射ターゲット １２，１３ マイクロ光学反射部であるマイクロプリズ
ム １４，１５ マイクロ光学反射部であるマイクロビーズ Ａ 発散角が小さく反射率のよい（指向性のよい）マイ
クロプリズム群 Ｂ 発散角が大きく反射率の劣る（指向性の劣る）マイ
クロプリズム群
ム １４，１５ マイクロ光学反射部であるマイクロビーズ Ａ 発散角が小さく反射率のよい（指向性のよい）マイ
クロプリズム群 Ｂ 発散角が大きく反射率の劣る（指向性の劣る）マイ
クロプリズム群
Claims (3)
- 【請求項１】 入射光を入射方向に沿って反射させるマ
イクロ光学反射部が密集状態に設けられた反射面を有
し、反射面を測量機の送光部に対峙させた状態で使用さ
れる測量機用反射ターゲットにおいて、前記反射面に
は、発散角が小さく反射率のよい第１のマイクロ光学反
射部と、前記第１のマイクロ光学反射部より発散角が大
きく反射率の劣る他のマイクロ光学反射部とが混在する
ことを特徴とする測量機用反射ターゲット。 - 【請求項２】 前記発散角および反射率の異なるマイク
ロ光学反射部は、反射面全体に略均一に分布するように
一定の配列パターンに配置されたことを特徴とする請求
項１記載の測量機用反射ターゲット。 - 【請求項３】前記反射面の周縁寄り程、発散角が小さく
反射率のよいマイクロ光学反射部が配置されたことを特
徴とする請求項１記載の測量機用反射ターゲット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4846393U JP2580619Y2 (ja) | 1993-09-07 | 1993-09-07 | 測量機用反射ターゲット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4846393U JP2580619Y2 (ja) | 1993-09-07 | 1993-09-07 | 測量機用反射ターゲット |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0718210U JPH0718210U (ja) | 1995-03-31 |
| JP2580619Y2 true JP2580619Y2 (ja) | 1998-09-10 |
Family
ID=12804071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4846393U Expired - Lifetime JP2580619Y2 (ja) | 1993-09-07 | 1993-09-07 | 測量機用反射ターゲット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2580619Y2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4604348B2 (ja) * | 1999-12-28 | 2011-01-05 | 株式会社Ｉｈｉ | 写真計測用ターゲット |
| JP5081014B2 (ja) * | 2008-02-28 | 2012-11-21 | 株式会社トプコン | ターゲット及びこれを用いた三次元形状測定装置 |
| JP5210783B2 (ja) * | 2008-09-30 | 2013-06-12 | 株式会社オーディオテクニカ | レーザ墨出し器 |
| US20150240987A1 (en) * | 2014-02-25 | 2015-08-27 | The Boeing Company | Method and Apparatus for Removably Attaching Photogrammetric Targets to a Surface |
-
1993
- 1993-09-07 JP JP4846393U patent/JP2580619Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0718210U (ja) | 1995-03-31 |
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Legal Events
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