JPH07181093A - 静電容量型圧力センサ - Google Patents

静電容量型圧力センサ

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JPH07181093A
JPH07181093A JP34611293A JP34611293A JPH07181093A JP H07181093 A JPH07181093 A JP H07181093A JP 34611293 A JP34611293 A JP 34611293A JP 34611293 A JP34611293 A JP 34611293A JP H07181093 A JPH07181093 A JP H07181093A
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JP
Japan
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hole
sensor
pressure
pressure sensor
silicon substrate
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JP34611293A
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English (en)
Inventor
Masahiro Sato
正博 佐藤
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Tokin Corp
Original Assignee
Tokin Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 圧力により変形する可動電極として機能する
ダイヤフラム部を有するシリコン基板と固定電極が形成
された絶縁基板とで形成するセンサ用キャビティー部
に、塵埃等の侵入を防止した構造のゲージ圧測定用の静
電容量型圧力センサを供する。 【構成】 センサ用キャビティー部25と、ガラス基板
側大気圧導入用貫通孔20にシリコーンゲル12を充填
し、固定電極21をキャビティー部25より外部に導出
するための横穴26は、封止剤15で封止されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ゲージ圧測定用静電容
量型圧力センサに関する。
【0002】
【従来の技術】従来のゲージ圧測定用静電容量型圧力セ
ンサとして、一般に、図4に示す圧力センサが知られて
いる。図4に示す従来の静電容量型圧力センサは、シリ
コン基板10には圧力に応じて変形する可動電極として
機能するダイヤフラム部14を有しており、絶縁基板と
してのガラス基板11上には固定電極21が形成されて
いる。図に示すように、シリコン基板10とガラス基板
11とは、その一部が接合されており、これによって、
ダイヤフラム部14の下側にはセンサ用キャビティー部
25が形成される。
【0003】これらシリコン基板10及びガラス基板1
1によってセンサチップ13が構成され、ガラス基板1
1は、ベース部材としての台座18上に接着されてい
る。台座18にはリード端子17が設けられており、リ
ード端子17とガラス基板上の固定電極21は、リード
ワイヤー16によって電気的に接続されている。
【0004】ガラス基板11及び台座18のそれぞれ
に、大気導入用貫通孔20および19が形成されてお
り、これら二つの大気導入用貫通孔19,20は連通さ
れている。
【0005】シリコン基板10とガラス基板11よりな
るセンサチップ13には、固定電極引き出し用横穴26
が設けられ、これによって固定電極21がキャビティー
部25の外に引き出される。その後、キャビティー部2
5とセンサチップ外部のキャップ内領域22とを隔離す
るため、横穴26は封止剤15によって封止される。そ
して、台座18と被測定圧力導入用貫通穴24を設けた
カバー部材としてのキャップ23とは、ハーメチックシ
ールによってシールされる。
【0006】図4の静電容量型圧力センサでは、被測定
圧力導入用貫通穴24を通して圧力伝達物質により圧力
が伝達されて、可動電極として機能するダイヤフラム部
14に圧力が加わると、ダイヤフラム部14は圧力に対
応して変形する。ダイヤフラム部14の変形によって、
可動電極としてのダイヤフラム部14と固定電極21と
の間のギャップが変化することになる。ここで、可動電
極としてのダイヤフラム部14と固定電極21とで形成
される静電容量は、c=ξ(A/d)の関係がある。こ
こで、c=静電容量、ξ:空気の誘電率、A:電極面
積、d=電極間ギャップである。
【0007】従って、ダイヤフラム部14と固定電極2
1間の電極間ギャップの変化によって、静電容量が変化
することにより、更に、圧力と電極間ギャップとの間に
は一定の相関関係があるから、静電容量を検出すること
によって圧力を知ることができる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】静電容量型圧力センサ
は、固定電極と可動電極との間のギャップにより、静電
容量を形成する機構になっているので、このギャップに
塵埃等の不純物が侵入すると、特性が大きく変化する。
従来の静電容量型圧力センサでは、ガラス基板、及び台
座に大気導入用の貫通孔が設けられているため、この大
気導入用の貫通孔を通ってコンデンサを形成する固定電
極と可動電極の間のセンサ用キャビティー部に塵埃等が
侵入することにより、特性変化を起こすといった欠点が
あった。
【0009】本発明の目的は、シリコン基板とガラス基
板との間に形成されるキャビティー部に塵埃等が侵入す
るという問題を解決した、高信頼性の静電容量型圧力セ
ンサを提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】圧力により変形する可動
電極として機能するダイヤフラム部を有するシリコン基
板と固定電極が形成された絶縁基板とのそれぞれの電極
を対向させて、前記シリコン基板と前記絶縁基板を接合
してセンサ用キャビティー部を内包するセンサチップを
構成し、このセンサチップを大気導入用貫通孔を有する
ベース部材に固定する一方、被測定圧力導入用貫通穴を
有するカバー部材を覆設し、前記シリコン基板の圧力伝
達物質により伝えられた圧力により変形する可動電極と
してのダイヤフラム部と、前記絶縁基板上に形成された
固定電極により構成されたコンデンサの静電容量が、被
測定圧力により変化することを利用した静電容量型圧力
センサにおいて、
【0011】(1)前記絶縁基板上に形成された固定電
極と前記シリコン基板の可動電極としてのダイヤフラム
部との間の空間と、絶縁基板に穿けられた大気導入用貫
通孔とにシリコーンゲルを充填する。及び
【0012】(2)前記シリコン基板と前記カバー部材
との一部を封止剤によって封止して、前記被測定圧力導
入用貫通穴からのみ、圧力伝達物質が前記可動電極とし
てのダイヤフラム部と接触可能とする被測定圧力導入側
キャビティー部を、前記カバー部材とシリコン基板とで
囲んで形成する。及び
【0013】(3)前記ベース部材に設けられた貫通孔
の外方への先端をパイプ状にして突出させて、かつその
貫通孔内にシリコーンゲル等による液体だまりを設けた
構造とする。
【0014】
【作用】センサ用キャビティー部と、このキャビティー
部と連通する絶縁基板に穿けられた大気導入用の貫通孔
とをシリコーンゲルによって塞ぐ、あるいは、前記のキ
ャビティー部に、絶縁基板の大気導入用貫通孔を介して
連通するベース部材に穿けられた大気導入用貫通孔の方
に、シリコーンゲル等により液体だまりを設けると、セ
ンサ用キャビティー部に大気圧の伝達が可能であって、
かつ塵埃等の侵入を防ぐことができる。又、ベース部材
に穿けられた大気導入用貫通孔から入った大気が、セン
サ用キャビティー部に達するのに、なるべく迂遠な経路
を通るようにして、塵埃等の侵入を防ぐ。
【0015】以上の手段により、センサ用キャビティー
部に塵埃等が侵入するのを防ぐことによって、この電極
間に形成されるコンデンサの静電容量の変動を抑えるこ
とが可能である。
【0016】
【実施例】本発明に係わる静電容量型圧力センサの実施
例について、図面に基づき説明する。
【0017】図1は、本発明の第一の実施例にかかる静
電容量型圧力センサの構造を示す断面図である。図1に
示す静電容量型圧力センサは、シリコン基板10には圧
力に応じて変形する可動電極として機能するダイヤフラ
ム部14が形成され、絶縁基板としてのガラス基板11
上には固定電極21が形成されている。シリコン基板1
0とガラス基板11とはその一部が接合されており、こ
れによって、ダイヤフラム部14の下側のガラス基板1
1との間には、キャビティー部25が形成される。
【0018】これらシリコン基板10及びガラス基板1
1によって、センサチップ13が構成され、センサチッ
プ13はガラス基板11を台座18上に接着することに
よって、台座18に固定されている。台座18にはリー
ド端子17が設けられており、リード端子17と固定電
極21は、リードワイヤー16によって電気的に接続さ
れている。
【0019】ガラス基板11には大気導入用貫通孔2
0、台座18には大気導入用貫通孔19が形成されてお
り、これら二つの大気導入用貫通孔19,20は連通さ
れている。
【0020】センサチップ13には、固定電極引き出し
用横穴26が設けられており、これを通って固定電極2
1がキャビティー部25の外に引き出される。その後、
キャビティー部25とセンサチップ外部のキャップ内領
域22とを隔離するため、横穴26は封止剤15によっ
て封止される。
【0021】センサ用キャビティー部25、ガラス基板
側大気導入用貫通孔20はシリコーンゲル12により充
填されている。このシリコーンゲルは、大気圧伝達の媒
体として働く。
【0022】そして、台座18と被測定圧力導入用貫通
穴24を設けたカバー部材としてのキャップ23とは、
ハーメチックシールによってシールされる。
【0023】上記のように、キャビティー部25と、ガ
ラス基板側大気導入用貫通孔20とをシリコーンゲル1
2により充すことにより、固定電極21とダイヤフラム
部14との間のキャビティー部25内に外界からの塵埃
等の侵入を防止することができ、信頼性の高いゲージ圧
測定用静電容量型圧力センサを提供することができる。
【0024】図2は、本発明の第二の実施例にかかる静
電容量型圧力センサの構造を示す断面図である。図2に
示す静電容量型圧力センサは、測定圧力により変形する
可動電極としてのダイヤフラム部14を有し、その下に
キャビティー部25を形成するシリコン基板10と、固
定電極21を有するガラス基板11とから構成されるセ
ンサチップ13を備えている。このセンサチップ13
は、リード端子17、及び大気圧導入貫通孔19を配置
したベース部材としての台座18上に接着されている。
前記リード端子17と前記固定電極21は、リードワイ
ヤー16により電気的に接続されている。前記センサチ
ップ13が接続された台座18上には、被測定圧力を伝
達するための被測定圧力導入用貫通穴24を有するキャ
ップ23がハーメチックシールされている。
【0025】センサチップ13のシリコン基板10側と
キャップ23の間は、封止剤33によって封止されてい
る。この封止剤33は、シリコン基板10とキャップ2
3の内面に密着している。この封止剤33により、被測
定圧力導入側キャビティー40とその他のキャップ内領
域22が分離されている。又、大気導入用貫通孔19に
より、キャップ内領域22、及び固定電極引き出し用横
穴26を介してキャビティー部25が大気と連通してい
る。被測定圧力導入側キャビティー40は、被測定圧力
を導入するための貫通穴24から伝達される圧力を可動
電極としてのダイヤフラム部14に直接伝達するように
している。前記センサチップ13のシリコン基板10側
とキャップ23の間に封止剤33を配置する工程は、予
め封止剤33をセンサチップ13、又はキャップ23側
に配置することにより、台座18とキャップ23のハー
メチックシール工程と同時に行われる。
【0026】上記のような構造にすることにより、大気
は大気導入用貫通孔19、キャップ内領域22、及び固
定電極引き出し用横穴26を経由してセンサ用キャビテ
ィー部25に到達するといった複雑な経路を通るため、
センサ用キャビティー部25内に外界からの塵埃等が侵
入するのを防止することができ、信頼性の高い静電容量
型圧力センサを提供することができる。
【0027】図3は、本発明の第三の実施例にかかる静
電容量型圧力センサの構造を示す断面図である。図3に
示す静電容量型圧力センサは、シリコン基板10には圧
力により変形する可動電極としてのダイヤフラム部14
が形成され、ガラス基板11上には固定電極21が形成
されている。シリコン基板10とガラス基板11とは、
その一部において接合されており、これによって、ダイ
ヤフラム部14の下側には、センサ用キャビティー部2
5が形成されることになる。
【0028】これらシリコン基板10及びガラス基板1
1によってセンサチップ13が構成され、センサチップ
13はガラス基板11によって台座18上に接着されて
いる。台座18には、リード端子17、及び大気圧を導
入するためのパイプ状のポート59を台座側の大気圧導
入用貫通孔19と連通して設けており、リード端子17
と固定電極21は、リードワイヤー16によって電気的
に接続されている。ガラス基板11に設けられた大気導
入用貫通孔20とパイプ状のポート59は、台座側の大
気導入用貫通孔19を介して連通している。又、パイプ
状のポート59内には、シリコーンゲル等により液体だ
まり53が設けられている。この液体だまり53は、大
気圧の圧力伝達媒体として作用する。固定電極21をセ
ンサ用キャビティー部25から外部に引き出すための横
穴26は、封止剤15により封止されている。そして、
台座18と被測定圧力導入用貫通穴24を設けたキャッ
プ23とは、ハーメチックシールによってシールされ
る。
【0029】上記のように台座18側の大気導入用貫通
孔19の突端にパイプ状のポート59をつなげ、このパ
イプ状ポート59内に液体だまり53を設けることによ
り、固定電極21とダイヤフラム部14との間のセンサ
用キャビティー部25内に外界からの塵埃等の侵入を防
止することができ、信頼性の高いゲージ圧測定用静電容
量型圧力センサを提供することができる。
【0030】
【発明の効果】本発明により、可動電極と固定電極との
間のセンサ用キャビティー部に塵埃等の侵入を防止する
ことができるため、特性変化の起こりにくい、信頼性の
高いゲージ圧測定用の静電容量型圧力センサを供給する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施例にかかる静電容量型圧力
センサの構造を示す断面図。
【図2】本発明の第二の実施例にかかる静電容量型圧力
センサの構造を示す断面図。
【図3】本発明の第三の実施例にかかる静電容量型圧力
センサの構造を示す断面図。
【図4】従来の静電容量型圧力センサの構造を示す断面
図。
【符号の説明】
10 シリコン基板 11 ガラス基板(絶縁基板) 12 シリコーンゲル 13 センサチップ 14 ダイヤフラム部(可動電極として機能する) 15,33 封止剤 16 リードワイヤー 17 リード端子 18 台座(ベース部材) 19 (大気導入用)貫通孔(台座側) 20 (大気導入用)貫通孔(ガラス基板側) 21 固定電極 22 キャップ内領域 23 キャップ(カバー部材) 24 (被測定圧力導入用)貫通穴 25 (センサ用)キャビティー部 26 (固定電極引き出し用)横穴 40 (被測定圧力導入側)キャビティー 53 液体だまり(シリコーンゲル等) 59 パイプ状のポート

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 圧力により変形する可動電極として機能
    するダイヤフラム部を有するシリコン基板と、固定電極
    が形成された絶縁基板とのそれぞれの電極を所定の距離
    をおいて対向配置させ、前記シリコン基板と前記絶縁基
    板を接合してセンサチップを構成し、該センサチップを
    貫通孔を有するベース部材に固定し、貫通穴を有するカ
    バー部材を覆設してなる静電容量型圧力センサにおい
    て、前記固定電極と前記可動電極との間に形成されたキ
    ャビティー部と、前記ベース部材に設けられた貫通孔に
    連通して絶縁基板に穿けられた貫通孔とが、シリコーン
    ゲルにより充填されていることを特徴とする静電容量型
    圧力センサ。
  2. 【請求項2】 前記シリコン基板と前記カバー部材との
    一部が封止されて、前記貫通穴と連通するキャビティー
    が前記シリコン基板とカバー部材とで形成されているこ
    とを特徴とする請求項1記載の静電容量型圧力センサ。
  3. 【請求項3】 前記ベース部材に設けられた貫通孔がベ
    ース部材の底面側に突出してパイプとなっており、該パ
    イプ内に液体だまりが設けられていることを特徴とする
    請求項1記載の静電容量型圧力センサ。
JP34611293A 1993-12-21 1993-12-21 静電容量型圧力センサ Pending JPH07181093A (ja)

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