JPH0717885A - 高純度ヒドロキシ基置換芳香族炭化水素類の製造方法 - Google Patents
高純度ヒドロキシ基置換芳香族炭化水素類の製造方法Info
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- JPH0717885A JPH0717885A JP18692493A JP18692493A JPH0717885A JP H0717885 A JPH0717885 A JP H0717885A JP 18692493 A JP18692493 A JP 18692493A JP 18692493 A JP18692493 A JP 18692493A JP H0717885 A JPH0717885 A JP H0717885A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 二級アルキルベンゼン類の過酸化物を開裂さ
せ、次に中和してヒドロキシベンゼン類を取得する製法
において、中和によって生成する塩を析出させずに連続
運転を可能にする。 【構成】 二級アルキル基を置換基とするアルキル芳香
族炭化水素類の酸化及び開裂によってフェノール類を製
造する方法において、得られた粗フェノール類を微量の
酸で処理した後に、該酸に対して当量基準で０.３〜２
倍のジエチレントリアミン等の脂肪族ポリアミン類を加
えて中和する高純度フェノール類の製造方法。 【効果】 中和後の混合液中には塩の析出が認められな
かった。従って、フェノール類の製造を連続して行なう
ことができた。
せ、次に中和してヒドロキシベンゼン類を取得する製法
において、中和によって生成する塩を析出させずに連続
運転を可能にする。 【構成】 二級アルキル基を置換基とするアルキル芳香
族炭化水素類の酸化及び開裂によってフェノール類を製
造する方法において、得られた粗フェノール類を微量の
酸で処理した後に、該酸に対して当量基準で０.３〜２
倍のジエチレントリアミン等の脂肪族ポリアミン類を加
えて中和する高純度フェノール類の製造方法。 【効果】 中和後の混合液中には塩の析出が認められな
かった。従って、フェノール類の製造を連続して行なう
ことができた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は二級アルキル基を置換基
として含有するアルキル芳香族炭化水素の酸化によって
生ずるヒドロペルオキシドを酸で開裂させて得られた粗
ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素類から高純度ヒドロキ
シ基含有芳香族炭化水素類を製造する方法に関する。特
に、本発明はクメン類、シメン類（サイメン類）又はジ
イソプロピルベンゼン等の酸化によって生ずるこれらの
ヒドロペルオキシド類を酸で開裂させて得られた粗フェ
ノール類、粗クレゾール類又は粗ジヒドロキシベンゼン
類を精製して高純度フェノール、高純度クレゾール類又
は高純度ジヒドロキシベンゼン類等を製造する方法に関
する。
として含有するアルキル芳香族炭化水素の酸化によって
生ずるヒドロペルオキシドを酸で開裂させて得られた粗
ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素類から高純度ヒドロキ
シ基含有芳香族炭化水素類を製造する方法に関する。特
に、本発明はクメン類、シメン類（サイメン類）又はジ
イソプロピルベンゼン等の酸化によって生ずるこれらの
ヒドロペルオキシド類を酸で開裂させて得られた粗フェ
ノール類、粗クレゾール類又は粗ジヒドロキシベンゼン
類を精製して高純度フェノール、高純度クレゾール類又
は高純度ジヒドロキシベンゼン類等を製造する方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素類の中
でも、フェノール類、クレゾール類、ジヒドロキシベン
ゼン類はフェノールホルマリン樹脂、クレゾールホルマ
リン樹脂、レゾルシンホルマリン樹脂、農薬、溶媒又は
分散剤等の原料として広く用いられており、近年になっ
てクメン、シメン類又はジイソプロピルベンゼン類の酸
化及びそれに続く開裂を行なう方法、通称「クメン法」
によって大量に製造されている。
でも、フェノール類、クレゾール類、ジヒドロキシベン
ゼン類はフェノールホルマリン樹脂、クレゾールホルマ
リン樹脂、レゾルシンホルマリン樹脂、農薬、溶媒又は
分散剤等の原料として広く用いられており、近年になっ
てクメン、シメン類又はジイソプロピルベンゼン類の酸
化及びそれに続く開裂を行なう方法、通称「クメン法」
によって大量に製造されている。
【０００３】このプロセスではクメン、シメン類又はジ
イソプロピルベンゼン類の酸化及び開裂生成物からアセ
トン、水及び未反応クメン、未反応シメン類又は未反応
ジイソプロピルベンゼン類等を通常は蒸留によって除去
して粗フェノール、粗クレゾール類又は粗ジヒドロキシ
ベンゼン類を得る。処が、この粗フェノール、粗クレゾ
ール類又は粗ジヒドロキシベンゼン類には通常の蒸留に
よっては分離し難い不純物である中性油及び紫外領域に
吸収を示す（透過率を低下させる）物質が含まれてい
る。
イソプロピルベンゼン類の酸化及び開裂生成物からアセ
トン、水及び未反応クメン、未反応シメン類又は未反応
ジイソプロピルベンゼン類等を通常は蒸留によって除去
して粗フェノール、粗クレゾール類又は粗ジヒドロキシ
ベンゼン類を得る。処が、この粗フェノール、粗クレゾ
ール類又は粗ジヒドロキシベンゼン類には通常の蒸留に
よっては分離し難い不純物である中性油及び紫外領域に
吸収を示す（透過率を低下させる）物質が含まれてい
る。
【０００４】従来、この種の不純物を除去する方法とし
ては例えば、特公昭５４−１２８９号公報に記載されて
いるように粗クレゾールに微量の酸類を加えた系を加熱
して不純物を分解させた後に該酸類をアルカリ性物質、
通常は水酸化ナトリウム（苛性ソーダ）で中和し、次に
系を蒸留して精製する方法が知られている。
ては例えば、特公昭５４−１２８９号公報に記載されて
いるように粗クレゾールに微量の酸類を加えた系を加熱
して不純物を分解させた後に該酸類をアルカリ性物質、
通常は水酸化ナトリウム（苛性ソーダ）で中和し、次に
系を蒸留して精製する方法が知られている。
【０００５】しかし、この種の精製方法によれば処理用
の酸類と中和用の苛性ソーダとによって塩を生ずる。処
が、この塩は共存する粗フェノール、粗クレゾール類又
は粗ジヒドロキシベンゼン類に対して溶解しにくい。特
に、塩が高濃度に存在する場合には粗フェノール、粗ク
レゾール類又は粗ジヒドロキシベンゼン類中で該塩が析
出する結果として次工程の蒸留精製を連続的に行なうこ
とを困難にするという解決課題が生ずる。
の酸類と中和用の苛性ソーダとによって塩を生ずる。処
が、この塩は共存する粗フェノール、粗クレゾール類又
は粗ジヒドロキシベンゼン類に対して溶解しにくい。特
に、塩が高濃度に存在する場合には粗フェノール、粗ク
レゾール類又は粗ジヒドロキシベンゼン類中で該塩が析
出する結果として次工程の蒸留精製を連続的に行なうこ
とを困難にするという解決課題が生ずる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は従来の
「クメン法」によって生ずる粗フェノール、粗クレゾー
ル類又は粗ジヒドロキシベンゼン類を精製する過程にお
ける上記課題を解決することにあり、前記の中和によっ
て生成する塩を析出させない合理的な処理方法を提供す
ることにある。
「クメン法」によって生ずる粗フェノール、粗クレゾー
ル類又は粗ジヒドロキシベンゼン類を精製する過程にお
ける上記課題を解決することにあり、前記の中和によっ
て生成する塩を析出させない合理的な処理方法を提供す
ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の高純度ヒドロキ
シ基含有芳香族炭化水素類、特に高純度フェノール、高
純度クレゾール類又は高純度ジヒドロキシベンゼン類等
の製造方法は下記の基本的構成１及び２並びに各種の改
良構成からなる： ［基本的構成１］１個以上の二級アルキル基を置換基と
するアルキル芳香族炭化水素類の酸化及び開裂によって
得られる粗ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素類から高純
度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素を製造する方法にお
いて、該粗ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素類からジア
ルキルケトン類含有低沸点成分、水及び未反応の１個以
上の二級アルキル基を置換基とするアルキル芳香族炭化
水素類を除去した後に残留する混合系を微量の酸類で処
理した後に、該酸類に対して０.３〜２当量倍の窒素原
子含有塩基性化合物を加えて処理することを特徴とする
高純度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素類の製造方法。
シ基含有芳香族炭化水素類、特に高純度フェノール、高
純度クレゾール類又は高純度ジヒドロキシベンゼン類等
の製造方法は下記の基本的構成１及び２並びに各種の改
良構成からなる： ［基本的構成１］１個以上の二級アルキル基を置換基と
するアルキル芳香族炭化水素類の酸化及び開裂によって
得られる粗ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素類から高純
度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素を製造する方法にお
いて、該粗ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素類からジア
ルキルケトン類含有低沸点成分、水及び未反応の１個以
上の二級アルキル基を置換基とするアルキル芳香族炭化
水素類を除去した後に残留する混合系を微量の酸類で処
理した後に、該酸類に対して０.３〜２当量倍の窒素原
子含有塩基性化合物を加えて処理することを特徴とする
高純度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素類の製造方法。
【０００８】［改良構成１］１個以上の二級アルキル基
を置換基とするアルキル芳香族炭化水素類がクメン、二
級ブチルベンゼン類、シメン類、メチル二級ブチルベン
ゼン類、ジイソプロピルベンゼン類、ジ二級ブチルベン
ゼン類、イソプロピルナフタレン類、メチルイソプロピ
ルナフタレン類、ジイソプロピルナフタレン類及びジ二
級ブチルナフタレン類から選ばれる１種以上である上記
の［基本的構成１］に記載の高純度ヒドロキシ基含有芳
香族炭化水素の製造方法。
を置換基とするアルキル芳香族炭化水素類がクメン、二
級ブチルベンゼン類、シメン類、メチル二級ブチルベン
ゼン類、ジイソプロピルベンゼン類、ジ二級ブチルベン
ゼン類、イソプロピルナフタレン類、メチルイソプロピ
ルナフタレン類、ジイソプロピルナフタレン類及びジ二
級ブチルナフタレン類から選ばれる１種以上である上記
の［基本的構成１］に記載の高純度ヒドロキシ基含有芳
香族炭化水素の製造方法。
【０００９】［改良構成２］１個以上の二級アルキル基
を置換基とするアルキル芳香族炭化水素類がクメン、シ
メン類、ジイソプロピルベンゼン類、イソプロピルナフ
タレン類、メチルイソプロピルナフタレン類及びジイソ
プロピルナフタレン類から選ばれる１種以上である上記
の［基本的構成１］、［改良構成１］及び［改良構成
２］に記載の高純度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素の
製造方法。
を置換基とするアルキル芳香族炭化水素類がクメン、シ
メン類、ジイソプロピルベンゼン類、イソプロピルナフ
タレン類、メチルイソプロピルナフタレン類及びジイソ
プロピルナフタレン類から選ばれる１種以上である上記
の［基本的構成１］、［改良構成１］及び［改良構成
２］に記載の高純度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素の
製造方法。
【００１０】［改良構成３］１個以上の二級アルキル基
を置換基とするアルキル芳香族炭化水素類がシメン類及
びメチルイソプロピルナフタレン類から選ばれる１種以
上である上記の［基本的構成１］及び［改良構成１］〜
［改良構成３］に記載の高純度ヒドロキシ基含有芳香族
炭化水素の製造方法。
を置換基とするアルキル芳香族炭化水素類がシメン類及
びメチルイソプロピルナフタレン類から選ばれる１種以
上である上記の［基本的構成１］及び［改良構成１］〜
［改良構成３］に記載の高純度ヒドロキシ基含有芳香族
炭化水素の製造方法。
【００１１】［基本的構成２］シメン類の酸化及び開裂
によって得られる粗クレゾール類から高純度クレゾール
類を製造する方法において、該粗クレゾール類からアセ
トン含有低沸点成分、水及び未反応シメン類を除去した
後に残留する混合系を微量の酸類で処理した後に該酸類
に対して０.５〜１.５当量倍の脂肪族ポリアミン類を加
えることを特徴とする高純度クレゾールの製造方法。
によって得られる粗クレゾール類から高純度クレゾール
類を製造する方法において、該粗クレゾール類からアセ
トン含有低沸点成分、水及び未反応シメン類を除去した
後に残留する混合系を微量の酸類で処理した後に該酸類
に対して０.５〜１.５当量倍の脂肪族ポリアミン類を加
えることを特徴とする高純度クレゾールの製造方法。
【００１２】［改良的構成４］脂肪族ポリアミンがエチ
レンジアミン、ジエチレントリアミン及びトリエチレン
テトラミンから選ばれる１種以上であることを特徴とす
る［基本的構成１］及び［基本的構成２］並びに［改良
的構成１］〜［改良的構成３］に記載の高純度ヒドロキ
シ基含有芳香族炭化水素の製造方法。
レンジアミン、ジエチレントリアミン及びトリエチレン
テトラミンから選ばれる１種以上であることを特徴とす
る［基本的構成１］及び［基本的構成２］並びに［改良
的構成１］〜［改良的構成３］に記載の高純度ヒドロキ
シ基含有芳香族炭化水素の製造方法。
【００１３】［改良的構成５］脂肪族ポリアミンがテト
ラメチレンジアミン及びヘキサメチレンジアミンから選
ばれる１種以上であることを特徴とする［基本的構成
１］及び［基本的構成２］並びに［改良的構成１］〜
［改良的構成４］に記載の高純度ヒドロキシ基含有芳香
族炭化水素の製造方法。
ラメチレンジアミン及びヘキサメチレンジアミンから選
ばれる１種以上であることを特徴とする［基本的構成
１］及び［基本的構成２］並びに［改良的構成１］〜
［改良的構成４］に記載の高純度ヒドロキシ基含有芳香
族炭化水素の製造方法。
【００１４】［改良的構成６］脂肪族ポリアミンを高純
度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素に対して重量基準で
１０〜１０００ppm、好ましくは５０〜５００ppmの範囲
で加えることを特徴とする［基本的構成１］及び［基本
的構成２］並びに［改良的構成１］〜［改良的構成５］
に記載の高純度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素の製造
方法。
度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素に対して重量基準で
１０〜１０００ppm、好ましくは５０〜５００ppmの範囲
で加えることを特徴とする［基本的構成１］及び［基本
的構成２］並びに［改良的構成１］〜［改良的構成５］
に記載の高純度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素の製造
方法。
【００１５】本発明の方法は工業的には例えば、シメン
から高純度クレゾールを製造する場合を選んで説明する
と、原料であるシメン類の酸化及び開裂生成物を次の手
順で処理することによって実行できる： ［本発明の製造方法の適用性］本発明の製造方法は高純
度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素類を製造する際に中
和によって生成する塩を析出させずに運転を続行できる
様にすることを目的とするものであるから、シメンから
の高純度クレゾールの製造方法に限らず、クメン法全般
に適用可能である。
から高純度クレゾールを製造する場合を選んで説明する
と、原料であるシメン類の酸化及び開裂生成物を次の手
順で処理することによって実行できる： ［本発明の製造方法の適用性］本発明の製造方法は高純
度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素類を製造する際に中
和によって生成する塩を析出させずに運転を続行できる
様にすることを目的とするものであるから、シメンから
の高純度クレゾールの製造方法に限らず、クメン法全般
に適用可能である。
【００１６】＜原料芳香族炭化水素＞本発明方法の原料
としては、１個以上の二級アルキル基を置換基とするア
ルキル芳香族炭化水素類であって、例えばクメン、二級
ブチルベンゼン類、シメン類、ジイソプロピルベンゼン
類、メチル二級ブチルベンゼン類、ジ二級ブチルベンゼ
ン類、イソプロピルナフタレン類、メチルイソプロピル
ナフタレン類、ジイソプロピルナフタレン類及びジ二級
ブチルナフタレン類から選ばれる１種以上のものを挙げ
ることができる。
としては、１個以上の二級アルキル基を置換基とするア
ルキル芳香族炭化水素類であって、例えばクメン、二級
ブチルベンゼン類、シメン類、ジイソプロピルベンゼン
類、メチル二級ブチルベンゼン類、ジ二級ブチルベンゼ
ン類、イソプロピルナフタレン類、メチルイソプロピル
ナフタレン類、ジイソプロピルナフタレン類及びジ二級
ブチルナフタレン類から選ばれる１種以上のものを挙げ
ることができる。
【００１７】これらの中でも好ましいものはクメン、m-
シメン、p-シメン及びイソプロピルナフタレンである。 ＜副生するケトン類＞前述の原料を酸化し、続いて得ら
れたα−ペルオキシ二級アルキル芳香族炭化水素を酸で
開裂させた場合には、副生物として多種類のものが生成
する。それらの中でも優勢なものとして各種のアルキル
ケトンを挙げることができる。
シメン、p-シメン及びイソプロピルナフタレンである。 ＜副生するケトン類＞前述の原料を酸化し、続いて得ら
れたα−ペルオキシ二級アルキル芳香族炭化水素を酸で
開裂させた場合には、副生物として多種類のものが生成
する。それらの中でも優勢なものとして各種のアルキル
ケトンを挙げることができる。
【００１８】最も代表的なアルキルケトンはアセトンで
ある。アセトンは原料としてイソプロピル基を含有する
芳香族化合物が用いられた場合に生成する。また、原料
がイソプロピル基に代えて二級ブチル基を含有する芳香
族炭化水素であれば副生するアルキルケトンはメチルエ
チルケトンとなる。二級アルキル基が更に長鎖となれ
ば、炭素鎖の中の二級炭素の位置に応じてその両側のア
ルキル基がケトンの両翼のアルキル基となる。
ある。アセトンは原料としてイソプロピル基を含有する
芳香族化合物が用いられた場合に生成する。また、原料
がイソプロピル基に代えて二級ブチル基を含有する芳香
族炭化水素であれば副生するアルキルケトンはメチルエ
チルケトンとなる。二級アルキル基が更に長鎖となれ
ば、炭素鎖の中の二級炭素の位置に応じてその両側のア
ルキル基がケトンの両翼のアルキル基となる。
【００１９】特殊な例として、二級アルキル基の片方の
炭素鎖に代えて芳香環例えばフェニル基が結合している
場合には、開裂によってアセトフェノンが生成し、双方
共にフェニル基が結合している場合には開裂によって、
ベンゾフェノンが生成する。本発明方法におけるアルキ
ルケトンはこれらの特殊なケトン類をも包含するものと
する。
炭素鎖に代えて芳香環例えばフェニル基が結合している
場合には、開裂によってアセトフェノンが生成し、双方
共にフェニル基が結合している場合には開裂によって、
ベンゾフェノンが生成する。本発明方法におけるアルキ
ルケトンはこれらの特殊なケトン類をも包含するものと
する。
【００２０】＜本発明方法によるヒドロキシ芳香族炭化
水素＞本発明の製造方法によって得られるヒドロキシ芳
香族炭化水素としては、下記のものを例示できる： ・フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾ
ール、2,3-キシレノール、2,4-キシレノール、3,5-キシ
レノール; ・カテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、ハイ
ドロトルキノン; ・1-ナフトール（α-ナフトール）、2-ナフトール（β-
ナフトール）; ・ナフタレン-1,2-ジオール、ナフタレン-1,3-ジオー
ル、ナフタレンー1,4-ジオール、ナフタレン-2,3-ジオー
ル; ＜酸処理用の酸＞酸処理に用いられる酸としては、無機
酸及び有機酸の何れもが用いられ得るが特に好ましいも
のは硫酸、燐酸及び塩酸等の無機酸並びに酢酸及び有機
スルホン酸等の有機酸であって、中でも特に好ましいも
のは硫酸である。
水素＞本発明の製造方法によって得られるヒドロキシ芳
香族炭化水素としては、下記のものを例示できる： ・フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾ
ール、2,3-キシレノール、2,4-キシレノール、3,5-キシ
レノール; ・カテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、ハイ
ドロトルキノン; ・1-ナフトール（α-ナフトール）、2-ナフトール（β-
ナフトール）; ・ナフタレン-1,2-ジオール、ナフタレン-1,3-ジオー
ル、ナフタレンー1,4-ジオール、ナフタレン-2,3-ジオー
ル; ＜酸処理用の酸＞酸処理に用いられる酸としては、無機
酸及び有機酸の何れもが用いられ得るが特に好ましいも
のは硫酸、燐酸及び塩酸等の無機酸並びに酢酸及び有機
スルホン酸等の有機酸であって、中でも特に好ましいも
のは硫酸である。
【００２１】酸の使用量は粗クレゾールに対して重量基
準で通常１〜１０００ppm、好ましくは５〜５００ppm、
特に好ましくは１０〜１００ppmの範囲である。 ＜窒素原子含有塩基性化合物＞本発明の製造方法におい
て中和剤として用いられる塩基性物質は窒素原子を含有
する化合物であって、例えば下記の各種のものから適宜
選択できる。その役割は酸を中和した結果生ずる塩を反
応系から析出させずに液相中に留まらせることにある。
その見地から該塩基性化合物に期待される性状は下記の
通りである： ＊分子中に塩基性を示す基を多数個含有すること、 ＊それから形成された塩が液状有機化合物特に、フェノ
ール、クレゾール類又はジヒドロキシベンゼン類に必要
程度に溶解性を示すこと。
準で通常１〜１０００ppm、好ましくは５〜５００ppm、
特に好ましくは１０〜１００ppmの範囲である。 ＜窒素原子含有塩基性化合物＞本発明の製造方法におい
て中和剤として用いられる塩基性物質は窒素原子を含有
する化合物であって、例えば下記の各種のものから適宜
選択できる。その役割は酸を中和した結果生ずる塩を反
応系から析出させずに液相中に留まらせることにある。
その見地から該塩基性化合物に期待される性状は下記の
通りである： ＊分子中に塩基性を示す基を多数個含有すること、 ＊それから形成された塩が液状有機化合物特に、フェノ
ール、クレゾール類又はジヒドロキシベンゼン類に必要
程度に溶解性を示すこと。
【００２２】窒素原子を含有する塩基性物質としては例
えば、アンモニア、一級アミン、二級アミン及び三級ア
ミンから選ばれる１種以上であって、それらは脂肪族、
脂環族、芳香族又はそれらの２以上の族に同時に属する
ものである。
えば、アンモニア、一級アミン、二級アミン及び三級ア
ミンから選ばれる１種以上であって、それらは脂肪族、
脂環族、芳香族又はそれらの２以上の族に同時に属する
ものである。
【００２３】上記の期待性状からすれば、好ましい塩基
性化合物はポリアミン、別名多価アミンであることにな
る。ポリアミンの具体例は下記の通りである： ・脂肪族ポリアミン：エチレンジアミン、プロピレンジ
アミン、ブチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、
ヘキサメチレンジアミン等 ・・ポリアルキレンポリアミン： ・・アミリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエ
チレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン等； これらの中で好ましいものはジエチレントリアミン(Ｄ
ＥＴＡ)、トリエチレンテトラミン(ＴＥＴＡ)及びテト
ラエチレンペンタミン(ＴＥＰＡ)であって、特に好まし
いものはジエチレントリアミン(ＤＥＴＡ)及びトリエチ
レンテトラミン(ＴＥＴＡ)である。 ・脂環族ポリアミン：1,2-、1,3-又は1,4-シクロヘキシ
レンジアミン、 ・芳香族ジアミン：1,2-、1,3-又は1,4-フェニレンジア
ミン、2-メチル-1,4-フェニレンジアミン、3-メチル-1,
5-フェニレンジアミン、 ・２以上の族に属するポリアミン類：キシリレンジアミ
ン 中和剤であるポリアミン類、好ましくは脂肪族ポリアミ
ン類の使用量は加えられた酸類に対して当量基準で０.
３〜２倍、好ましくは０.５〜１.５倍量である。脂肪族
ポリアミン類の添加量は先に添加された酸類を中和し得
る量であれば足り、大過剰量であることを要しない。脂
肪族ポリアミン類の添加量は通常は先に加えられた酸類
に対して当量倍以下の添加量で充分であって、酸類に対
して好ましくは０.５〜１.５当量倍の範囲で用いられ
る。
性化合物はポリアミン、別名多価アミンであることにな
る。ポリアミンの具体例は下記の通りである： ・脂肪族ポリアミン：エチレンジアミン、プロピレンジ
アミン、ブチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、
ヘキサメチレンジアミン等 ・・ポリアルキレンポリアミン： ・・アミリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエ
チレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン等； これらの中で好ましいものはジエチレントリアミン(Ｄ
ＥＴＡ)、トリエチレンテトラミン(ＴＥＴＡ)及びテト
ラエチレンペンタミン(ＴＥＰＡ)であって、特に好まし
いものはジエチレントリアミン(ＤＥＴＡ)及びトリエチ
レンテトラミン(ＴＥＴＡ)である。 ・脂環族ポリアミン：1,2-、1,3-又は1,4-シクロヘキシ
レンジアミン、 ・芳香族ジアミン：1,2-、1,3-又は1,4-フェニレンジア
ミン、2-メチル-1,4-フェニレンジアミン、3-メチル-1,
5-フェニレンジアミン、 ・２以上の族に属するポリアミン類：キシリレンジアミ
ン 中和剤であるポリアミン類、好ましくは脂肪族ポリアミ
ン類の使用量は加えられた酸類に対して当量基準で０.
３〜２倍、好ましくは０.５〜１.５倍量である。脂肪族
ポリアミン類の添加量は先に添加された酸類を中和し得
る量であれば足り、大過剰量であることを要しない。脂
肪族ポリアミン類の添加量は通常は先に加えられた酸類
に対して当量倍以下の添加量で充分であって、酸類に対
して好ましくは０.５〜１.５当量倍の範囲で用いられ
る。
【００２４】酸の中和処理条件としては、温度通常２０
〜２００℃、好ましくは８５〜１８５℃に加熱しながら
処理時間通常０.２〜５時間、好ましくは１〜３時間で
処理される。この中和処理における圧力は特には限定さ
れないが、通常は常圧から１０Kgf／cm2Ｇの範囲であ
る。
〜２００℃、好ましくは８５〜１８５℃に加熱しながら
処理時間通常０.２〜５時間、好ましくは１〜３時間で
処理される。この中和処理における圧力は特には限定さ
れないが、通常は常圧から１０Kgf／cm2Ｇの範囲であ
る。
【００２５】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例によって何ら限定されるものでは
ない。
本発明はこれら実施例によって何ら限定されるものでは
ない。
【００２６】
【実施例１】シメンの酸化及び開裂生成物から副生物で
あるアセトン、水および未反応シメン等を蒸留によって
除去して得られた粗クレゾール５００mlに硫酸１００pp
m（重量基準）を加えた後に混合物を３つ口のガラス製
フラスコに仕込み、１７５℃で２時間加熱した。次い
で、この粗クレゾールにジエチレントリアミン（略称
「ＤＥＴＡ」）を前記の硫酸に対して等モルを加えて硫
酸を中和した。得られた中和液をバッチ蒸留（蒸留塔：
オルダーショア型２０段;塔内径３５mm、Ｒ／Ｄ２.４）
し、仕込み液の９０容量％を塔頂から留出させて除去し
た。得られた塔底液の性状を調べた結果を表１に示す。
あるアセトン、水および未反応シメン等を蒸留によって
除去して得られた粗クレゾール５００mlに硫酸１００pp
m（重量基準）を加えた後に混合物を３つ口のガラス製
フラスコに仕込み、１７５℃で２時間加熱した。次い
で、この粗クレゾールにジエチレントリアミン（略称
「ＤＥＴＡ」）を前記の硫酸に対して等モルを加えて硫
酸を中和した。得られた中和液をバッチ蒸留（蒸留塔：
オルダーショア型２０段;塔内径３５mm、Ｒ／Ｄ２.４）
し、仕込み液の９０容量％を塔頂から留出させて除去し
た。得られた塔底液の性状を調べた結果を表１に示す。
【００２７】
【実施例２】実施例１におけるＤＥＴＡの添加量をこの
例では硫酸に対して０.５モル倍に変えた以外には実施
例１と同様に処理した。得られた塔底液の性状を表１に
示す。
例では硫酸に対して０.５モル倍に変えた以外には実施
例１と同様に処理した。得られた塔底液の性状を表１に
示す。
【００２８】
【比較例１】実施例１におけるＤＥＴＡに代えて水酸化
ナトリウムを硫酸に対して１.０モル倍加えた以外には
実施例１と同様に処理した。得られた塔底液の性状を表
１に示す。
ナトリウムを硫酸に対して１.０モル倍加えた以外には
実施例１と同様に処理した。得られた塔底液の性状を表
１に示す。
【００２９】
【比較例２】実施例１におけるＤＥＴＡに代えて水酸化
ナトリウムを硫酸に対して０.５モル倍加えた以外には
実施例１と同様に処理した。得られた塔底液の性状を表
１に示す。
ナトリウムを硫酸に対して０.５モル倍加えた以外には
実施例１と同様に処理した。得られた塔底液の性状を表
１に示す。
【００３０】
【表１】
【００３１】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、「クメン
法」によってクメンから高純度フェノールを、シメンか
ら高純度クレゾール類をそれぞれ製造する際に、下記の
効果を奏することができる： ・粗フェノール又は粗クレゾール中で中和によって生成
する塩が析出せず、中和によって生成した塩を工程の途
中で分離除去することを要しなくなると共に、その寄与
によって次工程における蒸留精製を連続的に行なうこと
ができる。
法」によってクメンから高純度フェノールを、シメンか
ら高純度クレゾール類をそれぞれ製造する際に、下記の
効果を奏することができる： ・粗フェノール又は粗クレゾール中で中和によって生成
する塩が析出せず、中和によって生成した塩を工程の途
中で分離除去することを要しなくなると共に、その寄与
によって次工程における蒸留精製を連続的に行なうこと
ができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 39/08 9159−4Ｈ
Claims (8)
- 【請求項１】 １個以上の二級アルキル基を置換基とす
るアルキル芳香族炭化水素類の酸化及び開裂によって得
られる粗ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素類から高純度
ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素を製造する方法におい
て、該粗ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素類からジアル
キルケトン類含有低沸点成分、水及び未反応の１個以上
の二級アルキル基を置換基とするアルキル芳香族炭化水
素類を除去した後に残留する混合系を微量の酸類で処理
した後に、該酸類に対して０.３〜２当量倍の窒素原子
含有塩基性化合物を加えて処理することを特徴とする高
純度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素類の製造方法。 - 【請求項２】 １個以上の二級アルキル基を置換基とす
るアルキル芳香族炭化水素類がクメン、二級ブチルベン
ゼン類、シメン類、メチル二級ブチルベンゼン類、ジイ
ソプロピルベンゼン類、ジ二級ブチルベンゼン類、イソ
プロピルナフタレン類、メチルイソプロピルナフタレン
類、ジイソプロピルナフタレン類及びジ二級ブチルナフ
タレン類から選ばれる１種以上である請求項１に記載の
高純度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素の製造方法。 - 【請求項３】 １個以上の二級アルキル基を置換基とす
るアルキル芳香族炭化水素類がクメン、シメン類、ジイ
ソプロピルベンゼン類、イソプロピルナフタレン類、メ
チルイソプロピルナフタレン類及びジイソプロピルナフ
タレン類から選ばれる１種以上である請求項１又は２に
記載の高純度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素の製造方
法。 - 【請求項４】 １個以上の二級アルキル基を置換基とす
るアルキル芳香族炭化水素類がシメン類及びメチルイソ
プロピルナフタレン類から選ばれる１種以上である請求
項１〜３の何れかに記載の高純度ヒドロキシ基含有芳香
族炭化水素の製造方法。 - 【請求項５】 シメン類の酸化及び開裂によって得られ
る粗クレゾール類から高純度クレゾール類を製造する方
法において、該粗クレゾール類からアセトン含有低沸点
成分、水及び未反応シメン類を除去した後に残留する混
合系を微量の酸類で処理した後に該酸類に対して０.５
〜１.５当量倍の脂肪族ポリアミン類を加えることを特
徴とする高純度クレゾールの製造方法。 - 【請求項６】 脂肪族ポリアミン類がエチレンジアミ
ン、ジエチレントリアミン及びトリエチレンテトラミン
から選ばれる１種以上であることを特徴とする請求項１
〜５の何れかに記載の高純度ヒドロキシ基含有芳香族炭
化水素の製造方法。 - 【請求項７】 脂肪族ポリアミン類がテトラメチレンジ
アミン及びヘキサメチレンジアミンから選ばれる１種以
上であることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載
の高純度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素の製造方法。 - 【請求項８】 脂肪族ポリアミン類を高純度ヒドロキシ
基含有芳香族炭化水素に対して重量基準で１０〜１００
０ppmの範囲で加えることを特徴とする請求項１〜７の
何れかに記載の高純度ヒドロキシ基含有芳香族炭化水素
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18692493A JPH0717885A (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 高純度ヒドロキシ基置換芳香族炭化水素類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18692493A JPH0717885A (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 高純度ヒドロキシ基置換芳香族炭化水素類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0717885A true JPH0717885A (ja) | 1995-01-20 |
Family
ID=16197096
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18692493A Pending JPH0717885A (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 高純度ヒドロキシ基置換芳香族炭化水素類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0717885A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106573868A (zh) * | 2014-04-23 | 2017-04-19 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 制造苯酚时酸性催化剂的中和 |
| US10544596B2 (en) | 2015-02-12 | 2020-01-28 | 3M Innovative Properties Company | Anti-slip, liquid management flooring surface cover article and method of manufacture |
-
1993
- 1993-06-30 JP JP18692493A patent/JPH0717885A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106573868A (zh) * | 2014-04-23 | 2017-04-19 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 制造苯酚时酸性催化剂的中和 |
| JP2017515804A (ja) * | 2014-04-23 | 2017-06-15 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | フェノールの生成における酸性触媒の中和 |
| US10544596B2 (en) | 2015-02-12 | 2020-01-28 | 3M Innovative Properties Company | Anti-slip, liquid management flooring surface cover article and method of manufacture |
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