JPH07176712A - 光電変換装置 - Google Patents

光電変換装置

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JPH07176712A
JPH07176712A JP5320289A JP32028993A JPH07176712A JP H07176712 A JPH07176712 A JP H07176712A JP 5320289 A JP5320289 A JP 5320289A JP 32028993 A JP32028993 A JP 32028993A JP H07176712 A JPH07176712 A JP H07176712A
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JP
Japan
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photoelectric conversion
electrode
conversion device
bias
storage capacitor
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Application number
JP5320289A
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English (en)
Inventor
Isao Kobayashi
功 小林
Noriyuki Umibe
紀之 海部
Shinichi Takeda
慎市 竹田
Hidemasa Mizutani
英正 水谷
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Original Assignee
Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 高S/N比で、バラツキ分布が少なく、低コ
スト、高歩留りの光電変換装置を提供する。 【構成】 光導電層と対向して設けられ電源電圧が印加
される第1の電極と、光電変換された電荷を得る第2の
電極と、光導電層に絶縁層を介して設けられた第3の電
極を含む光電変換部を有し、光電変換された電荷を蓄積
する蓄積コンデンサの容量値(Cs )と、前記蓄積コン
デンサの電位をリセットするリセット用トランジスタの
オン抵抗値(RUon )との積(Cs ×RUon )を、前記
第3電極における寄生容量値(Cp )と、前記第3電極
にバイアスを印加するバイアス用トランジスタのオン抵
抗値(RRon )との積(Cp ×RRon )に、実質的に等
しくすることを特徴とする光電変換装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、バーコードリーダ、フ
ァクシミリ、デジタル複写機等に用いられる光電変換装
置に係り、特に、半導体層に絶縁層を介してゲート電極
を設けて構成される薄膜トランジスタ(以下TFTと言
う)型の光電変換装置に関する。
【0002】
【従来の技術】初めに、従来のTFT型の光センサの構
成例として、平面図を図8に、図8のX−X’断面図を
図9に示す。図において、1はガラス等の基板、2はゲ
ート電極、3は絶縁層、4は光導電性の半導体層、6お
よび7はそれぞれソース、ドレイン電極、5は半導体層
4と、ソース、ドレイン電極6,7とオーミック接触す
る為のn+ 層である。
【0003】TFT型センサはゲート電極にバイアス電
圧を印加することにより絶縁層界面の影響を制御し、暗
電流を抑制できるため、光電変換出力の光量依存特性
(以下γと呼ぶ)が1に近い良好な特性を持つ。また、
センサのゲート・ソース間に安定した負のバイアスを印
加できるので、電子・ホールの再結合時間を実効的に短
くすることが可能となり、光応答の立ち下がりが速い良
好な特性が得られる。更に、再現性も良く、ロット内及
びロット間のバラツキが少ないという特徴も有してい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】以上のような特性は、
静的な(DC電圧的な)駆動条件では好ましい結果を示
すが、通常ファクシミリG3規格としてラインセンサ等
に用いるような動的な動作、即ち、センサをn×m個の
アレー状に配置してブロック駆動して用いた(例えばA
4原稿を8pelで1ラインあたり2ms〜10msで
読み取る場合、1,728ビットとなり48ビット×3
6ブロックで構成されることがある。)場合には問題点
があった。以下、その問題点について述べる。
【0005】図10は、TFT型センサを用いた蓄積モ
ードの読出し回路を示す(特開昭63−161666号
公報参照)。
【0006】図10の回路では、転送スイッチsw2の
他に蓄積コンデンサCs の転送残りを放電するためのリ
セット用スイッチsw1−aを設けている。また、光電
変換部のドレイン電極Dにはセンサ電極Vs が接続さ
れ、ゲート電極には、前記スイッチsw1−aと連動す
るゲートバイアス用スイッチsw1−bが接続されてい
る。ここで、スイッチsw−aのオン抵抗をRUon 、ス
イッチsw−bのオン抵抗値をRRon とし、光電変換部
のゲート電極Gに生じる寄生容量をCp とする。
【0007】次に図10の回路構成による光電変換装置
の動作について図11を用いて説明する。
【0008】スイッチsw1−a,bがONになると、
蓄積コンデンサCs の電荷が放電され、VC =0(V)
となる。同時にバイアス用コンデンサCgs及びゲート電
極Gに生じる寄生容量Cp は−VB に充電される。スイ
ッチsw1−a,bがOFFになると、光電変換部で生
じた光電流is は、蓄積コンデンサCs に充電される。
蓄積コンデンサCs の電位VC は充電されるに従い上昇
する。一方、バイアス用コンデンサCgsはスイッチsw
1−bがOFF状態であるため、電流の流れる経路はな
い。
【0009】従って、理想的にはゲート電極Gの電位V
G はゲート・ソース間電圧ΔVGS=VG −VC を一定に
保った状態で蓄積コンデンサCs の電位VC の変化に追
従するように動作する。この時の電圧VC 及びVG の様
子を図11に実線で示す。
【0010】しかしながら、実際に図10の回路で駆動
したところ、(ア)Cp ×RRon >Cs ×RUon の場合
は、電圧VG が、また(イ)Cp ×RRon <Cs ×R
Uon の場合は、電圧VC が図11の破線で示したような
歪んだ波形となった。
【0011】この原因は、図10におけるゲートバイア
ス用コンデンサの両電極の電位をリセットする時定数が
大きくずれていることによるものである。詳細には、転
送sw2がOFFした時に蓄積コンデンサCs の残留電
荷が存在する。この時点ではゲート・ソース間電圧ΔV
GSはゼロである。しかし、ゲートバイアス用コンデンサ
の両電極の電位をリセットする時定数が大きくずれてい
る場合、例えば、ゲート電極の電位をリセットする時定
数(Cp ×RRon )が、ソース電極の電位をリセットす
る時定数(Cs ×RUon )より大きい場合(ア)は、ス
イッチsw−a,bがオンしている間にゲート電極が−
B まで完全にリセットされない。そのため、ゲート電
極電位VG は1ライン経過するごとに次第に上昇し、そ
の結果、ゲート・ソース間電圧ΔVGSも図11の実線の
ように次第に増加していく。時定数の大小関係が逆の場
合((イ)の場合)も同様であり、ゲート・ソース間電
圧ΔVGSは反対に減少していく。その結果、ラインごと
に暗電流、光電流及びγが変化し、S/N比が悪くな
る。
【0012】[発明の目的]本発明は、前述した問題点
を解決し、センサ部と同一基板上に容易に作ることがで
きる駆動回路を提案し、TFT型センサの特徴である高
S/N比とバラツキ分布が少ない特性を生かし、低コス
ト、高歩留りの光電変換装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明の光電変換装置
は、光導電層と該光導電層と対向して設けられ電源電圧
が印加される第1の電極及び光電変換された電荷を得る
第2の電極と、前記光導電層に絶縁層を介して設けられ
た第3の電極とで構成された光電変換部と、該光電変換
部の第3の電極にバイアスを印加するバイアス用トラン
ジスタと、前記第2の電極と第3の電極の間に設けるバ
イアス用コンデンサと前記光電変換された電荷を蓄積す
る蓄積コンデンサと、該蓄積コンデンサに蓄積された電
荷を転送する転送用トランジスタと、前記蓄積コンデン
サの電位をリセットするリセット用トランジスタと、を
有する光電変換装置において、前記蓄積コンデンサの容
量値(Cs )と前記リセット用トランジスタのオン抵抗
値(RUon )との積(Cs ×RUon )を前記光電変換部
の第3電極における寄生容量値(Cp )と前記バイアス
用トランジスタのオン抵抗値(RRon )との積(Cp ×
Ron )に実質的に等しくすることを特徴とする光電変
換装置である。
【0014】なお、前記第1の電極および第2の電極
は、光導電層と同一平面上に設けることが望ましい。
【0015】
【作用】本発明の光電変換装置によれば、光電変換部の
ゲート・ソース間に常に安定した負のバイアスを印加で
きることから、光電変換部の絶縁層側の界面の状態を常
に同じ状態に制御することが可能となり、S/N比の高
い再現性のすぐれた光電変換装置を得ることができる。
【0016】
【実施例】
[第1の実施例]本発明の第1の実施例の等価回路図を
図1に示す。
【0017】図1の回路では図10で示した従来例と等
価回路的には同様である。異なる点はゲートバイアス用
コンデンサの両電極をリセットする時定数即ち、ゲート
電極側は、ゲートバイアスTFTのオン抵抗(RRon
と寄生容量(Cp )との積(Cp ×RRon )、ソース電
極側はリセットTFTのオン抵抗値(RUon )と蓄積コ
ンデンサ(Cs )の積(Cs ×RUon )がほぼ等しい点
である。
【0018】次に図1の回路構成による光電変換装置の
動作について図2を用いて説明する。
【0019】スイッチsw−a,bがONになると、蓄
積コンデンサCs の電荷が放電され、VC =0(V)と
なる。同時にバイアス用コンデンサCgsは−VB に充電
される。スイッチsw1−a,bがOFFになると、光
電変換部で生じた光電流isは、蓄積コンデンサCs
充電される。蓄積コンデンサCs の電位VC は充電され
るに従い上昇する。一方、バイアス用コンデンサCgs
スイッチsw1−bがOFF状態であるため、電流の流
れる経路はない。
【0020】従って、ゲート電極Gの電位VG はゲート
・ソース間電圧ΔVGS=VG −VCを一定に保った状態
で蓄積コンデンサCs の電位VC の変化に追従するよう
に動作する。
【0021】蓄積時間Ts 後に再び転送スイッチsw2
がON状態となる。この時、蓄積コンデンサCs の充電
電圧VC は負荷容量CL へ転送される。
【0022】この本実施例では、ゲート電極Gとソース
電極S間の電圧ΔVGSは常に一定値(−VB )に保たれ
る。従って光電変換部のゲート・ソース間バイアスは、
どのような入射光量・蓄積時間等の条件下でも最適値に
設定することが可能となり、電位ΔVGSの変化に伴う過
渡的な光電流が流れることなく、さらに絶縁層界面の影
響を極力おさえた良好な特性を引き出すことができる。
【0023】図3に、図1に示した光電変換装置をn×
m個アレー状に配置して構成したラインセンサ型の光電
変換装置の等価回路を示す。
【0024】S1 〜Sn*m はTFT型の光電変換部、C
gs1 〜Cgsn*m はゲートバイアス用コンデンサ、R1
n*m はゲートバイアス用TFT、Cs1〜Csn*mは蓄積
コンデンサ、Cp1〜Cpn*mは光電変換部のゲート電極の
寄生容量、U1 〜Un*m はリセット用TFT、T1 〜T
n*m は転送用TFTである。
【0025】上記素子群は、n個ずつmブロックに分け
られm+1本のゲート駆動線とn本の信号線とにマトリ
ックス接続される。図中11はゲート線VG1〜VGm+1
電圧を順次印加するためのドライバー部、12は信号線
1 〜Ln の信号電圧を取り出すための信号処理部であ
る。また、VS はセンサバイアス、VR は蓄積コンデン
サのリセット電圧である。
【0026】この光電変換装置ではリセット用TFT;
Uと、ゲートバイアス用TFT;Rのゲート電極は次の
ブロックの転送用TFT;Tのゲート電極と共通に接続
されている。ドライバー部11の電圧パルスのシフトに
より次のブロックの信号が転送されると同時に前ブロッ
クのリセットが行われる。
【0027】図3の回路は、同一基板上にすべて構成す
ることができる。特に、光導電性半導体材料としてグロ
ー放電法によるa−Si:H膜を用いることによりTF
T型光電変換部、蓄積及びバイアス用コンデンサ、転送
・リセット及びバイアス用TFT、配線部等を下電極、
a−SiN:H絶縁層、a−Si:H層、n+ 層、上電
極の積層構成により同時プロセスにて実現できる。以下
この種のプロセスによるラインセンサ型の光電変換装置
のパターン例を示す。
【0028】図4に図3の回路の1ビット分の構成パタ
ーン図を示す。ただし、図が煩雑になるのを避けるた
め、上下配線パターンとコンタクトホール部のみ示す。
図中13は信号線マトリックス部、14は光電変換部、
15はゲートバイアス用コンデンサ、16は蓄積コンデ
ンサ、17はゲートバイアス用TFT、18は転送用T
FT、19はリセット用TFT、20はゲート駆動線の
配線部である。
【0029】なお、図3の等価回路における負荷コンデ
ンサCLi(i=1〜n)は図4には示されていないが、
その容量は信号線マトリックス部13で生じる信号線L
1 〜Ln 間の浮遊容量に対し、通常10〜数百倍に設定
される。もちろん負荷容量C Liを用いずに、直接電流の
形で読み出してもよいことは言うまでもない。
【0030】また、この例では結像用レンズを用いずに
原稿をセンサ部に直接密着させて読み取るいわゆるレン
ズレスの構成を採用している。そのため、原稿を照明す
るための窓21を設け、さらに光電変換部の下ゲート電
極は不透明な材料で形成され、遮光膜をかねている。
【0031】[第2の実施例]本発明の第2の実施例の
等価回路図を図5に示す。
【0032】図5の回路では、転送スイッチsw−aに
より蓄積コンデンサCs の信号電荷を負荷容量CL (C
L ≫Cs )にほぼ完全に転送できる。言い換えれば、前
記転送により、蓄積コンデンサCs の電位Vc は負荷容
量CL 電位VL にほぼ完全にリセットされる。また、光
電変換部のゲート電極には、前記転送スイッチsw−a
と連動するゲートバイアス用スイッチsw−bが接続さ
れている。
【0033】動作タイミングは、第1の実施例で用いた
図2において、sw2のオンのタイミングとsw1のオ
ンのタイミングが同時である場合に相当する。そのた
め、図2を用いて動作の説明を行う。
【0034】スイッチsw−a,bがONになると、蓄
積コンデンサCs の電荷が負荷コンデンサCL へほぼ完
全に転送され、Vc ≒VL となる。同時にバイアス用コ
ンデンサCgsは−VB に充電される。スイッチsw−
a,bがOFFになると、光電変換部で生じた光電流i
s は、蓄積コンデンサCs に充電される。蓄積コンデン
サCs の電位VC は充電されるに従い上昇する。一方、
バイアス用コンデンサC gsはスイッチsw−bがOFF
状態であるため、電流の流れる経路はない。
【0035】従って、第1の実施例と同様に、ゲート電
極Gの電位VG はゲート・ソース間電圧ΔVGS=VG
C を一定に保った状態で蓄積コンデンサCs の電位V
C の変化に追従するように動作する。
【0036】蓄積時間Ts 後に再び転送スイッチsw−
a,bがON状態となり、前記動作が繰り返される。
【0037】このように第1及び第2の実施例では、光
電変換部のゲート・ソース間に常に安定した負のバイア
スを印加できることから、光電変換部の絶縁層側の界面
の状態を、常に同じ状態に制御することが可能となる。
その結果、信号出力が安定し、S/N比の高い優れた光
電変換装置を得ることができる。
【0038】図6に、図5に示した光電変換装置をn×
m個アレー状に配置して構成したラインセンサ型の光電
変換装置の等価回路を示す。
【0039】図6において、図3の第1の実施例と同一
符号は同一又は相当部分を示す。又、各素子の名称及び
光電変換装置の構成の説明については、図3の第1の実
施例で説明した内容と同様の箇所は省略する。
【0040】図6において、第1の実施例の図3と異な
る点は、第一に蓄積コンデンサCs〜Csn*mの残留電荷
を放電するリセット用TFT;U1 〜Un*m が削除され
ている点であり、第二にゲートバイアス用TFT;R1
〜Rn*m を駆動するゲート駆動線がm+1本からm本に
減らされている点であり、第三に各ゲート駆動線は同じ
ビットの転送用TFT;T1 〜Tn*m と同じゲート駆動
線に接続されているという点である。この第一及び第三
の異なる点により、等価回路上、ゲート駆動線どうしが
重なることがなくなる。
【0041】ゲート駆動線どうしの重なりがなくなるこ
と、即ち重なり容量がなくなることによりクロストーク
がなくなる。詳細には、転送swがONした時にリセッ
ト用スイッチswのゲート電位を上昇させ、信号電荷の
リークを引き起こすことがなくなる。即ち、蓄積コンデ
ンサCs に蓄積されていた信号電荷の一部を負荷容量C
L にほぼ完全に転送できる為、単ビットセンサ駆動時に
得られる負荷容量CLの電位VL と同様の正確な電位VL
を得ることができる。このようにゲート駆動線の重な
り容量に基づくクロストークによる信号電荷のリーク電
流がなくなる為、信号出力電位である負荷容量CL の電
位VL が正常値を示し、S/N比を向上させる。
【0042】本発明の光電変換装置は、第1の実施例で
の説明と同様に、同一基板、同時プロセスによるライン
センサ型の光電変換装置に好適に適用できる。以下この
種のラインセンサ型光電変換装置のパターン例を示す。
【0043】図7に、図6の回路の1ビット分の構成パ
ターン図を示す。図7においても、図6と同様に、図4
の第1の実施例と同一符号は同一又は相当部分を示し、
第1の実施例で説明した内容と同様の箇所は省略する。
【0044】図7において、図4と異なる点は、第一に
蓄積コンデンサ16の残留電荷を放電するリセット用T
FT19及び蓄積コンデンサのリセット電圧配線VR
削除されている点であり、第二にゲートバイアス用TF
T17を駆動するゲート駆動線がGj+1 ではなく、同じ
ビットの転送用TFT18と同じゲート駆動線がGj
接続されている点である。この為、実パターン上におい
てもゲート駆動線どうしが重なることがなくなる。
【0045】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
TFT型光電変換部のゲート・ソース間に設置したコン
デンサの両電極のリセットに伴う時定数をほぼ等しくし
たので、TFT型光電変換部のゲート・ソース間に常に
安定した負のバイアスを印加することができる。
【0046】この結果、 常に絶縁層界面の影響を制御し、暗電流を抑制できる
為、ほぼγ=1となり、良好なS/N比が得られる。 電子・ホールの再結合時間を実効的に短くすることが
可能となり、光応答の立ち下がりが速い良好な特性が得
られる。 再現性がよく、ロット内及びロット間のバラツキが少
ないため、高歩留りであり、かつ生産性の良好な光電変
換装置が得られる。 等の諸効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の等価回路図。
【図2】本発明の第1の実施例の動作タイミング図。
【図3】本発明の第1の実施例によって構成したライン
センサ型の光電変換装置の一部等価回路図。
【図4】本発明の第1の実施例によって構成したライン
センサ型の光電変換装置の一部のパターン図。
【図5】本発明の第2の実施例の等価回路図。
【図6】本発明の第2の実施例によって構成したライン
センサ型の光電変換装置の一部等価回路図。
【図7】本発明の第2の実施例によって構成したライン
センサ型の光電変換装置の一部のパターン図。
【図8】従来の光電変換装置のパターン図。
【図9】図8中のX−X’線における断面図。
【図10】従来の光電変換装置の等価回路図。
【図11】従来の光電変換装置の動作タイミング図。
【符号の説明】
1 基板 2 ゲート電極 3 絶縁層 4 光導電層 6・7 ソース・ドレイン電極 14 光電変換部 C コンデンサ R 抵抗 sw スイッチ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H04N 1/028 Z H01L 31/10 E (72)発明者 水谷 英正 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光導電層と対向して設けられ電源電圧が
    印加される第1の電極と、光電変換された電荷を得る第
    2の電極と、前記光導電層に絶縁層を介して設けられた
    第3の電極とを含んで構成された光電変換部と、該光電
    変換部の前記第3の電極にバイアスを印加するバイアス
    用トランジスタと、前記第2の電極と第3の電極の間に
    設けるバイアス用コンデンサと、前記光電変換された電
    荷を蓄積する蓄積コンデンサと、該蓄積コンデンサに蓄
    積された電荷を転送する転送用トランジスタと、前記蓄
    積コンデンサの電位をリセットするリセット用トランジ
    スタと、を有する光電変換装置において、 前記蓄積コンデンサの容量値(Cs )と、前記リセット
    用トランジスタのオン抵抗値(RUon )との積(Cs ×
    Uon )を、前記光電変換部の第3の電極における寄生
    容量値(Cp )と、前記バイアス用トランジスタのオン
    抵抗値(RRon)との積(Cp ×RRon )に、実質的に
    等しくすることを特徴とする光電変換装置。
JP5320289A 1993-12-20 1993-12-20 光電変換装置 Pending JPH07176712A (ja)

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