JPH07173331A - 熱可塑性樹脂組成物およびその製造方法 - Google Patents
熱可塑性樹脂組成物およびその製造方法Info
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- JPH07173331A JPH07173331A JP31857893A JP31857893A JPH07173331A JP H07173331 A JPH07173331 A JP H07173331A JP 31857893 A JP31857893 A JP 31857893A JP 31857893 A JP31857893 A JP 31857893A JP H07173331 A JPH07173331 A JP H07173331A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高隠蔽性および高反射率の特性を有する二酸
化チタン含有熱可塑性樹脂組成物を提供する。 【構成】 所定範囲の分子量のポリアルコキシジメチル
シロキサンを吸着させた二酸化チタンを含有する熱可塑
性樹脂組成物。
化チタン含有熱可塑性樹脂組成物を提供する。 【構成】 所定範囲の分子量のポリアルコキシジメチル
シロキサンを吸着させた二酸化チタンを含有する熱可塑
性樹脂組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、優れた光隠蔽性を有す
る熱可塑性樹脂組成物およびその製造方法に関する。
る熱可塑性樹脂組成物およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】熱可塑性樹脂は工業部品から家庭用品に
至るまで、現在幅広い分野で使用されているが、美観
上、遮光性等の観点から一般に着色して使用されること
が多い。この場合、白色顔料としては一般に二酸化チタ
ンがよく使用される。特に、高隠蔽性、高反射率を同時
に要求する分野では、二酸化チタンが熱可塑性樹脂に添
加されている。例えば、この熱可塑性樹脂組成物を薄い
フィルム状に成形した液晶ディスプレイ反射板用基材等
の光反射板用基材としての需要がある。これらの光反射
板用基材として必要不可欠なことは、熱可塑性樹脂に対
して二酸化チタンが良く分散していることであり、その
ために、特開昭５７−３６１５６ではアルキルポリシロ
キサンやアルキルアリールポリシロキサン等のシロキサ
ン類や、アルキルトリメトキシシランやγ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤によ
る表面処理が開示され、特開昭６２−２５７５３ではポ
リエーテル変性シロキサンによる処理が開示されてい
る。
至るまで、現在幅広い分野で使用されているが、美観
上、遮光性等の観点から一般に着色して使用されること
が多い。この場合、白色顔料としては一般に二酸化チタ
ンがよく使用される。特に、高隠蔽性、高反射率を同時
に要求する分野では、二酸化チタンが熱可塑性樹脂に添
加されている。例えば、この熱可塑性樹脂組成物を薄い
フィルム状に成形した液晶ディスプレイ反射板用基材等
の光反射板用基材としての需要がある。これらの光反射
板用基材として必要不可欠なことは、熱可塑性樹脂に対
して二酸化チタンが良く分散していることであり、その
ために、特開昭５７−３６１５６ではアルキルポリシロ
キサンやアルキルアリールポリシロキサン等のシロキサ
ン類や、アルキルトリメトキシシランやγ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤によ
る表面処理が開示され、特開昭６２−２５７５３ではポ
リエーテル変性シロキサンによる処理が開示されてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】二酸化チタンの表面に
は、化学的活性点が存在すること、一般に粒子径が小さ
くなるほど粒子同士の凝集も強くなること等から、樹脂
に対し二酸化チタンの分散性を向上させることは難しい
という問題点があった。このため、ある程度の特性を出
す樹脂組成物としては多量の二酸化チタンを組成物中に
添加しなければならないためコスト的に高くなること
や、二酸化チタンの添加量が増加することにより製品の
美観を損なう等の弊害が発生していた。上記の特開昭５
７−３６１５６および特開昭６２−２５７５３で開示さ
れた二酸化チタンの表面処理方法では熱可塑性樹脂組成
物中での二酸化チタンの分散性が十分ではなく、高隠蔽
性、高反射率といった二酸化チタン含有熱可塑性樹脂組
成物の特性を十分に出していなかった。
は、化学的活性点が存在すること、一般に粒子径が小さ
くなるほど粒子同士の凝集も強くなること等から、樹脂
に対し二酸化チタンの分散性を向上させることは難しい
という問題点があった。このため、ある程度の特性を出
す樹脂組成物としては多量の二酸化チタンを組成物中に
添加しなければならないためコスト的に高くなること
や、二酸化チタンの添加量が増加することにより製品の
美観を損なう等の弊害が発生していた。上記の特開昭５
７−３６１５６および特開昭６２−２５７５３で開示さ
れた二酸化チタンの表面処理方法では熱可塑性樹脂組成
物中での二酸化チタンの分散性が十分ではなく、高隠蔽
性、高反射率といった二酸化チタン含有熱可塑性樹脂組
成物の特性を十分に出していなかった。
【０００４】アルキルポリシロキサン等のシロキサン類
では被着に寄与する官能基が少ないため、二酸化チタン
に被着しにくく熱可塑性樹脂に対する分散性が劣ること
によると考えられる。一方、シランカップリング剤で
は、一般に金属酸化物表面に存在する−ＯＨ基と化学的
に反応し易いとされているアルコキシ基を有するため二
酸化チタン表面と被着し易くなるが、分子量が小さいた
めに熱可塑性樹脂に対する相溶性といった点からは十分
とは言い難いためであると考えられる。また、光反射板
基材用途では、熱可塑性樹脂に含有される二酸化チタン
の添加量を増やすことも考えられるが、コスト等の問題
から根本的な解決策にはなり得ない。このような背景か
ら、光反射板用途等に対し、処理剤が二酸化チタンに対
して被着し易く、且つ熱可塑性樹脂に対しても相溶性が
高く、樹脂中での二酸化チタンの分散性を極めて向上さ
せ、高隠蔽性および高反射特性を有する熱可塑性樹脂組
成物が強く求められてきた。
では被着に寄与する官能基が少ないため、二酸化チタン
に被着しにくく熱可塑性樹脂に対する分散性が劣ること
によると考えられる。一方、シランカップリング剤で
は、一般に金属酸化物表面に存在する−ＯＨ基と化学的
に反応し易いとされているアルコキシ基を有するため二
酸化チタン表面と被着し易くなるが、分子量が小さいた
めに熱可塑性樹脂に対する相溶性といった点からは十分
とは言い難いためであると考えられる。また、光反射板
基材用途では、熱可塑性樹脂に含有される二酸化チタン
の添加量を増やすことも考えられるが、コスト等の問題
から根本的な解決策にはなり得ない。このような背景か
ら、光反射板用途等に対し、処理剤が二酸化チタンに対
して被着し易く、且つ熱可塑性樹脂に対しても相溶性が
高く、樹脂中での二酸化チタンの分散性を極めて向上さ
せ、高隠蔽性および高反射特性を有する熱可塑性樹脂組
成物が強く求められてきた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の問題
点を解決する方法について鋭意検討した結果、本発明に
至った。即ち、分子の末端にアルコキシ基を有し、平均
分子量３００〜１０００の網目状ポリアルコキシジメチ
ルシロキサンが吸着した二酸化チタンを０．１〜８０wt
％含有することを特徴とする熱可塑性樹脂組成物並びに
分子の末端にアルコキシ基を有し、平均分子量３００〜
１０００の網目状ポリアルコキシジメチルシロキサンで
表面処理した二酸化チタンを配合することを特徴とする
熱可塑性樹脂組成物の製造方法および二酸化チタンをポ
リアルコキシジメチルシロキサンで表面処理する前に、
二酸化チタンに対し、Ａｌ2 Ｏ3 換算で０．２〜２wt％
のアルミナ水和物またはその前駆体で表面処理をするこ
とを特徴とする上記の熱可塑性樹脂組成物の製造方法を
見出した。
点を解決する方法について鋭意検討した結果、本発明に
至った。即ち、分子の末端にアルコキシ基を有し、平均
分子量３００〜１０００の網目状ポリアルコキシジメチ
ルシロキサンが吸着した二酸化チタンを０．１〜８０wt
％含有することを特徴とする熱可塑性樹脂組成物並びに
分子の末端にアルコキシ基を有し、平均分子量３００〜
１０００の網目状ポリアルコキシジメチルシロキサンで
表面処理した二酸化チタンを配合することを特徴とする
熱可塑性樹脂組成物の製造方法および二酸化チタンをポ
リアルコキシジメチルシロキサンで表面処理する前に、
二酸化チタンに対し、Ａｌ2 Ｏ3 換算で０．２〜２wt％
のアルミナ水和物またはその前駆体で表面処理をするこ
とを特徴とする上記の熱可塑性樹脂組成物の製造方法を
見出した。
【０００６】本発明の熱可塑性樹脂はポリオレフィン樹
脂、ポリスチレン樹脂等の各種熱可塑性樹脂を主とする
樹脂組成物である。中でもポリオレフィン樹脂、特に低
密度ポリエチレンが加工性、コストの点で好適である。
本発明で用いるポリオルガノシロキサンは、
脂、ポリスチレン樹脂等の各種熱可塑性樹脂を主とする
樹脂組成物である。中でもポリオレフィン樹脂、特に低
密度ポリエチレンが加工性、コストの点で好適である。
本発明で用いるポリオルガノシロキサンは、
【０００７】
【化１】
【０００８】にて示すように、分子の末端にアルコキシ
基（ＲＯ−）を有する、平均分子量３００〜１０００の
２次元または３次元網目状ポリアルコキシジメチルシロ
キサンである。このうち、上記末端基のアルコキシ基
(ＲＯ−)がエトキシ基（Ｃ2 Ｈ5 Ｏ−）であるのが、表
面処理された二酸化チタンの樹脂組成物中での分散がよ
り優れているため好ましい。
基（ＲＯ−）を有する、平均分子量３００〜１０００の
２次元または３次元網目状ポリアルコキシジメチルシロ
キサンである。このうち、上記末端基のアルコキシ基
(ＲＯ−)がエトキシ基（Ｃ2 Ｈ5 Ｏ−）であるのが、表
面処理された二酸化チタンの樹脂組成物中での分散がよ
り優れているため好ましい。
【０００９】本発明の熱可塑性樹脂組成物に使用される
二酸化チタンはルチル型、アナターゼ型のどちらでも良
い。特に優れた光隠蔽性を有する熱可塑性樹脂組成物を
作製するにあたっては、ルチル型の方が屈折率が高く好
ましい。また、用いる二酸化チタンの平均粒子系は、
０．１〜１０μｍが好ましい。特に、光隠蔽性を考慮す
る場合は０．１〜０．５μｍ前後の平均粒子径の二酸化
チタンを用いることが望ましい。０．１μｍ未満では、
ＴｉＯ2 自身が透明性を帯びてくるため、不透明性が得
られなくなる。一方、１０μｍを越えれば粒径が大きい
ため、光散乱の効果が期待できず不透明性は著しく劣っ
てくる。
二酸化チタンはルチル型、アナターゼ型のどちらでも良
い。特に優れた光隠蔽性を有する熱可塑性樹脂組成物を
作製するにあたっては、ルチル型の方が屈折率が高く好
ましい。また、用いる二酸化チタンの平均粒子系は、
０．１〜１０μｍが好ましい。特に、光隠蔽性を考慮す
る場合は０．１〜０．５μｍ前後の平均粒子径の二酸化
チタンを用いることが望ましい。０．１μｍ未満では、
ＴｉＯ2 自身が透明性を帯びてくるため、不透明性が得
られなくなる。一方、１０μｍを越えれば粒径が大きい
ため、光散乱の効果が期待できず不透明性は著しく劣っ
てくる。
【００１０】本発明のポリアルコキシジメチルシロキサ
ン処理は、二酸化チタンに対して直接表面処理しても良
いが、顔料としての役割を持つ二酸化チタンの耐候性を
増すために、二酸化チタンがポリアルコキシジメチルシ
ロキサンで処理される前に、アルミナ水和物またはその
前駆体によってまず二酸化チタンを表面処理するのが好
ましい。上記の「その前駆体」とは、処理されて二酸化
チタンの表面に実質上作用する際にはアルミナ水和物Ａ
ｌ2 Ｏ3 ・ｎＨ2 Ｏになるもので、アルミン酸ソーダ等
のアルミン酸アルカリ、アルミニウム塩等をいう。アル
ミナ水和物またはその前駆体の表面処理する量は、二酸
化チタンに対し、Ａｌ2 Ｏ3 換算で０．２〜２wt％であ
る。本発明の組成物を用いて薄板やシートに成形加工す
る際の特性等を優れたものとするには、０．５〜１wt％
で被覆処理された二酸化チタンが好ましい。０．２wt％
未満では耐候性向上には役立ち難く、２wt％を越えると
含まれる水分量が多くなり、薄板等の成形加工時、発泡
等の悪影響を生じる。
ン処理は、二酸化チタンに対して直接表面処理しても良
いが、顔料としての役割を持つ二酸化チタンの耐候性を
増すために、二酸化チタンがポリアルコキシジメチルシ
ロキサンで処理される前に、アルミナ水和物またはその
前駆体によってまず二酸化チタンを表面処理するのが好
ましい。上記の「その前駆体」とは、処理されて二酸化
チタンの表面に実質上作用する際にはアルミナ水和物Ａ
ｌ2 Ｏ3 ・ｎＨ2 Ｏになるもので、アルミン酸ソーダ等
のアルミン酸アルカリ、アルミニウム塩等をいう。アル
ミナ水和物またはその前駆体の表面処理する量は、二酸
化チタンに対し、Ａｌ2 Ｏ3 換算で０．２〜２wt％であ
る。本発明の組成物を用いて薄板やシートに成形加工す
る際の特性等を優れたものとするには、０．５〜１wt％
で被覆処理された二酸化チタンが好ましい。０．２wt％
未満では耐候性向上には役立ち難く、２wt％を越えると
含まれる水分量が多くなり、薄板等の成形加工時、発泡
等の悪影響を生じる。
【００１１】本発明のポリアルコキシジメチルシロキサ
ン処理は、二酸化チタンに対して原液のまま表面処理を
行なっても良い。また、或いは有機溶剤、例えばエタノ
ール、アセトン等に適宜希釈して表面処理を行なっても
良い。表面処理方法としては、ヘンシェルミキサーやス
ーパーミキサー、Ｖ型ブレンダー等の混和機中で二酸化
チタンを混和撹拌しておき、その中に本発明のポリアル
コキシジメチルシロキサンの処理剤を投入し被着処理を
行なう。表面処理後の二酸化チタンは、必要に応じて１
００〜１５０℃程度の温度で熱処理するのが好ましい。
１５０℃を越えると処理剤自身が分解等を起こし変質す
るため好ましくなく、１００℃未満では乾燥時間がかか
り効率が悪い。本発明ではポリアルコキシジメチルシロ
キサンの二酸化チタンに対する表面処理量は、二酸化チ
タンに対して０.０５〜５wt％が好ましい。０.０５wt％
未満では高い隠蔽性や十分な反射特性が得られず、５wt
％を越えると特性の向上がそれ程進まず、未吸着の処理
剤同士が縮合反応等を起こしそれが異物になったりし、
コスト的にも無駄となる。
ン処理は、二酸化チタンに対して原液のまま表面処理を
行なっても良い。また、或いは有機溶剤、例えばエタノ
ール、アセトン等に適宜希釈して表面処理を行なっても
良い。表面処理方法としては、ヘンシェルミキサーやス
ーパーミキサー、Ｖ型ブレンダー等の混和機中で二酸化
チタンを混和撹拌しておき、その中に本発明のポリアル
コキシジメチルシロキサンの処理剤を投入し被着処理を
行なう。表面処理後の二酸化チタンは、必要に応じて１
００〜１５０℃程度の温度で熱処理するのが好ましい。
１５０℃を越えると処理剤自身が分解等を起こし変質す
るため好ましくなく、１００℃未満では乾燥時間がかか
り効率が悪い。本発明ではポリアルコキシジメチルシロ
キサンの二酸化チタンに対する表面処理量は、二酸化チ
タンに対して０.０５〜５wt％が好ましい。０.０５wt％
未満では高い隠蔽性や十分な反射特性が得られず、５wt
％を越えると特性の向上がそれ程進まず、未吸着の処理
剤同士が縮合反応等を起こしそれが異物になったりし、
コスト的にも無駄となる。
【００１２】本発明におけるポリアルコキシジメチルシ
ロキサンで表面処理された二酸化チタンの組成物全体に
対する配合量は、０．１〜８０wt％、好ましくは１〜６
０wt％の範囲である。配合量が８０wt％を越えると樹脂
組成物自身の流動性が低下し成形性が悪くなる。また、
０．１wt％未満では二酸化チタン添加量が少なすぎるた
め高隠蔽性および高反射特性は不十分であるため目標と
する光隠蔽特性の向上は見られない。本発明の熱可塑性
樹脂組成物には、金属脂肪酸等の滑剤や酸化防止剤等の
樹脂添加剤を必要により配合しても良い。本発明の組成
物は、上記の成分を配合調製されるが、その調製方法
は、ヘンシェルミキサー等の一般的な高速混合機で行な
えば良い。更に本発明の組成物を溶融混合押出し法等に
よりペレット化しても良い。ペレット化には２軸連続混
練押出機で行なうと、薄板やシート成形時および成形体
としての種々の特性が優れたものが得られる。
ロキサンで表面処理された二酸化チタンの組成物全体に
対する配合量は、０．１〜８０wt％、好ましくは１〜６
０wt％の範囲である。配合量が８０wt％を越えると樹脂
組成物自身の流動性が低下し成形性が悪くなる。また、
０．１wt％未満では二酸化チタン添加量が少なすぎるた
め高隠蔽性および高反射特性は不十分であるため目標と
する光隠蔽特性の向上は見られない。本発明の熱可塑性
樹脂組成物には、金属脂肪酸等の滑剤や酸化防止剤等の
樹脂添加剤を必要により配合しても良い。本発明の組成
物は、上記の成分を配合調製されるが、その調製方法
は、ヘンシェルミキサー等の一般的な高速混合機で行な
えば良い。更に本発明の組成物を溶融混合押出し法等に
よりペレット化しても良い。ペレット化には２軸連続混
練押出機で行なうと、薄板やシート成形時および成形体
としての種々の特性が優れたものが得られる。
【００１３】
【実施例】以下に実施例および比較例にて詳説する。 実施例１〜７ 市販のルチル型酸化チタン（昭和タイタニウム(株)製ス
ーパータイタニアＧ，ｄ50＝０．２１μ）を用いてスラ
リー濃度１０．３wt％の水分散スラリー１３６０mlをま
ず造り、それに０.０２mol/lのアルミン酸ソーダ水溶液
１０００mlを投入し、混合し、撹拌機にてスラリーを撹
拌しながら０.０１６mol/lの希硫酸水溶液を２時間かけ
て滴下し、スラリー溶液全体のｐＨ値を８．１５になる
ように調整する。該スラリーを濾過し、洗浄し採取した
ケーキを１７０℃で１２時間乾燥し、自動乳鉢にて解砕
した。酸化チタンに対し、Ａｌ2 Ｏ3 換算にて１．０wt
％が被覆されていた。
ーパータイタニアＧ，ｄ50＝０．２１μ）を用いてスラ
リー濃度１０．３wt％の水分散スラリー１３６０mlをま
ず造り、それに０.０２mol/lのアルミン酸ソーダ水溶液
１０００mlを投入し、混合し、撹拌機にてスラリーを撹
拌しながら０.０１６mol/lの希硫酸水溶液を２時間かけ
て滴下し、スラリー溶液全体のｐＨ値を８．１５になる
ように調整する。該スラリーを濾過し、洗浄し採取した
ケーキを１７０℃で１２時間乾燥し、自動乳鉢にて解砕
した。酸化チタンに対し、Ａｌ2 Ｏ3 換算にて１．０wt
％が被覆されていた。
【００１４】次に、この酸化チタン１０００ｇをヘンシ
ェルミキサーで混合撹拌しながら、日本ユニカ（株）製
のポリアルコキシジメチルシロキサン「ＡＺ６１０１」
または「ＡＺ６１０２」をエタノールで５０wt％に希釈
した処理剤溶液を表１に示す量を噴霧し被着処理した。
得られた処理済の二酸化チタンを１２０℃で５時間熱処
理した。処理した二酸化チタン１０００ｇをヘンシェル
ミキサーで混合しながら、ステアリン酸亜鉛５０ｇ（処
理済二酸化チタンに対し５wt％相当）を滑剤として添加
し混合した。混合品１０５０ｇと昭和電工（株）製低密
度ポリエチレン「ショウレックスＬ−１３３」１０５０
ｇとを、連続混練押出機の１１０℃に設定したフィード
部に投入し、樹脂を溶融し１１０℃にて混練し本発明の
組成物をまず造る。更に連続混練押出機（６０mmφの１
軸型）のダイス部を１５０℃にして米粒大のペレットを
造った。
ェルミキサーで混合撹拌しながら、日本ユニカ（株）製
のポリアルコキシジメチルシロキサン「ＡＺ６１０１」
または「ＡＺ６１０２」をエタノールで５０wt％に希釈
した処理剤溶液を表１に示す量を噴霧し被着処理した。
得られた処理済の二酸化チタンを１２０℃で５時間熱処
理した。処理した二酸化チタン１０００ｇをヘンシェル
ミキサーで混合しながら、ステアリン酸亜鉛５０ｇ（処
理済二酸化チタンに対し５wt％相当）を滑剤として添加
し混合した。混合品１０５０ｇと昭和電工（株）製低密
度ポリエチレン「ショウレックスＬ−１３３」１０５０
ｇとを、連続混練押出機の１１０℃に設定したフィード
部に投入し、樹脂を溶融し１１０℃にて混練し本発明の
組成物をまず造る。更に連続混練押出機（６０mmφの１
軸型）のダイス部を１５０℃にして米粒大のペレットを
造った。
【００１５】ペレット化するのに用いた同じ低密度ポリ
エチレン８０wt％と上記の得られたペレット２０wt％と
をまず乾式混合し、押出口径２０mmφの１軸押出機の原
料フィード部を２００℃にして後にそれを投入する。混
合部は２３０℃で、２５０℃の１５０mm幅のＴダイを通
して厚さ４０μｍの白色フィルムを造った。巻き取り用
ロールでフィルムを２０〜３０℃まで水冷した。これら
のフィルムの光隠蔽性を測定するために、各フィルムか
ら６０×１５０mmの大きさの測定用フィルム５枚を切り
出した。その各々のフィルムにおいて、隠蔽率試験紙
（日本テストパネル工業（株））の黒地を背景にミノル
タ（株）製分光測色計：「ＣＭ−２００２」にて１枚の
フィルムにつき５点測色を行ない、その測定値からＡＳ
ＴＭ Ｅ−３１３に準拠した青色反射率（Ｂ）を算出し
その値を表１に示した。この算出値の各々の平均値を基
に、光隠蔽性の大小を判断した。
エチレン８０wt％と上記の得られたペレット２０wt％と
をまず乾式混合し、押出口径２０mmφの１軸押出機の原
料フィード部を２００℃にして後にそれを投入する。混
合部は２３０℃で、２５０℃の１５０mm幅のＴダイを通
して厚さ４０μｍの白色フィルムを造った。巻き取り用
ロールでフィルムを２０〜３０℃まで水冷した。これら
のフィルムの光隠蔽性を測定するために、各フィルムか
ら６０×１５０mmの大きさの測定用フィルム５枚を切り
出した。その各々のフィルムにおいて、隠蔽率試験紙
（日本テストパネル工業（株））の黒地を背景にミノル
タ（株）製分光測色計：「ＣＭ−２００２」にて１枚の
フィルムにつき５点測色を行ない、その測定値からＡＳ
ＴＭ Ｅ−３１３に準拠した青色反射率（Ｂ）を算出し
その値を表１に示した。この算出値の各々の平均値を基
に、光隠蔽性の大小を判断した。
【００１６】
【表１】
【００１７】比較例１〜８ 実施例１〜７のポリアルコキシジメチルシロキサンの代
わりにポリジメチルシロキサン（日本ユニカ(株)製：
「Ｌ４５（１０）」，「Ｌ４５（３５０）」）、メチル
トリメトキシシラン（東芝シリコーン（株）製：「ＴＳ
Ｌ８１１３」）、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン（東芝シリコーン（株）製：「ＴＳＬ８３３１」）の
各々表面処理剤を用いること以外は実施例１〜７と同一
条件および操作で組成物、ペレットおよび白色フィルム
を造った。なお、それぞれの処理剤は、エタノールで５
０重量％に希釈した処理剤溶液を用いた。被着量等の条
件を表２に示すと共に青色反射率の値も表２に示す。
わりにポリジメチルシロキサン（日本ユニカ(株)製：
「Ｌ４５（１０）」，「Ｌ４５（３５０）」）、メチル
トリメトキシシラン（東芝シリコーン（株）製：「ＴＳ
Ｌ８１１３」）、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン（東芝シリコーン（株）製：「ＴＳＬ８３３１」）の
各々表面処理剤を用いること以外は実施例１〜７と同一
条件および操作で組成物、ペレットおよび白色フィルム
を造った。なお、それぞれの処理剤は、エタノールで５
０重量％に希釈した処理剤溶液を用いた。被着量等の条
件を表２に示すと共に青色反射率の値も表２に示す。
【００１８】
【表２】
【００１９】比較例９ ポリアルコキシジメチルシロキサンで処理しない点を除
いては実施例１と同一条件、操作で比較例９のサンプル
を造った。その結果も表２に示す。
いては実施例１と同一条件、操作で比較例９のサンプル
を造った。その結果も表２に示す。
【００２０】表１，表２より分かるように本発明は青色
反射率が高く、高光隠蔽性の特性を有していることが分
かる。
反射率が高く、高光隠蔽性の特性を有していることが分
かる。
【００２１】実施例８ 実施例１においてアルミン酸ソーダで処理していない二
酸化チタンに対し、実施例１と同様にその後の処理等を
行ない実施例８のサンプルを造った。実施例８の白色フ
ィルムの青色反射率は実施例１と同じ値の７５．５であ
った。実施例１および実施例８のフィルムをそれぞれ１
２５℃にて４８時間放置し、その後の青色反射率を測定
したところ実施例１については変化しなかったが、実施
例８のものについては７２．４と低下し、耐候性的に多
少劣る結果となった。
酸化チタンに対し、実施例１と同様にその後の処理等を
行ない実施例８のサンプルを造った。実施例８の白色フ
ィルムの青色反射率は実施例１と同じ値の７５．５であ
った。実施例１および実施例８のフィルムをそれぞれ１
２５℃にて４８時間放置し、その後の青色反射率を測定
したところ実施例１については変化しなかったが、実施
例８のものについては７２．４と低下し、耐候性的に多
少劣る結果となった。
【００２２】
【発明の効果】本発明の二酸化チタン含有熱可塑性樹脂
組成物は、処理二酸化チタンの分散性が極めて優れてお
り、その結果、組成物の高隠蔽性および高反射率特性を
達成できる。従って、光反射板用基材等に有効に使用さ
れ得ることができる。
組成物は、処理二酸化チタンの分散性が極めて優れてお
り、その結果、組成物の高隠蔽性および高反射率特性を
達成できる。従って、光反射板用基材等に有効に使用さ
れ得ることができる。
Claims (3)
- 【請求項１】 分子の末端にアルコキシ基を有し、平均
分子量３００〜１０００の網目状ポリアルコキシジメチ
ルシロキサンが吸着した二酸化チタンを０．１〜８０wt
％含有することを特徴とする熱可塑性樹脂組成物。 - 【請求項２】 分子の末端にアルコキシ基を有し、平均
分子量３００〜１０００の網目状ポリアルコキシジメチ
ルシロキサンで表面処理した二酸化チタンを配合するこ
とを特徴とする熱可塑性樹脂組成物の製造方法。 - 【請求項３】 二酸化チタンをポリアルコキシジメチル
シロキサンで表面処理する前に、二酸化チタンに対し、
Ａｌ2 Ｏ3 換算で０．２〜２wt％のアルミナ水和物また
はその前駆体で表面処理をすることを特徴とする請求項
２記載の熱可塑性樹脂組成物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31857893A JP3456240B2 (ja) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | 熱可塑性樹脂組成物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31857893A JP3456240B2 (ja) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | 熱可塑性樹脂組成物およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07173331A true JPH07173331A (ja) | 1995-07-11 |
| JP3456240B2 JP3456240B2 (ja) | 2003-10-14 |
Family
ID=18100703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31857893A Expired - Fee Related JP3456240B2 (ja) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | 熱可塑性樹脂組成物およびその製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3456240B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006028267A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | 光反射材、成形品、ならびに光反射材の製造方法 |
| WO2007052851A1 (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-10 | Nippon Paper-Pak Co., Ltd. | マスターバッチ、該マスターバッチを用いて形成されたポリオレフィン層を有する積層材料及び該積層材料を用いて成形された紙製液体用容器 |
| JP2010100784A (ja) * | 2008-10-27 | 2010-05-06 | Asahi Kasei Corp | 表面改質された無機化合物微粒子及びその分散体 |
| JP2010144135A (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Nitto Denko Corp | シリコーン樹脂組成物 |
| JP2010150342A (ja) * | 2008-12-24 | 2010-07-08 | Nitto Denko Corp | 光半導体封止用樹脂組成物 |
| JP2011225871A (ja) * | 2010-04-02 | 2011-11-10 | Kaneka Corp | 白色硬化性樹脂組成物およびそれを用いた半導体のパッケージ |
| JP2012219117A (ja) * | 2011-04-05 | 2012-11-12 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 白色熱硬化性樹脂組成物及び該組成物の硬化物からなる白色発光ダイオード用リフレクター |
| US9178120B2 (en) | 2010-04-02 | 2015-11-03 | Kaneka Corporation | Curable resin composition, curable resin composition tablet, molded body, semiconductor package, semiconductor component and light emitting diode |
-
1993
- 1993-12-17 JP JP31857893A patent/JP3456240B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP5178201B2 (ja) * | 2005-11-07 | 2013-04-10 | 日本製紙株式会社 | 無臭性紙製液体容器用マスターバッチ、該無臭性紙製液体容器用マスターバッチを用いて形成されたポリオレフィン層を有する無臭性紙製液体容器用積層材料及び該積層材料を用いて成形された無臭性紙製液体用容器 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3456240B2 (ja) | 2003-10-14 |
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