JPH07165747A - 水素化方法 - Google Patents
水素化方法Info
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- JPH07165747A JPH07165747A JP6216425A JP21642594A JPH07165747A JP H07165747 A JPH07165747 A JP H07165747A JP 6216425 A JP6216425 A JP 6216425A JP 21642594 A JP21642594 A JP 21642594A JP H07165747 A JPH07165747 A JP H07165747A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
- C07D309/32—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
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Abstract
(57)【要約】
【目的】特定の光学活性化合物をエナンチオ選択的に製
造し、ラセミ体分割を不要にする方法を見いだすこと。 【構成】 式（Ｉ）〔式中、Ｒ1 及びＲ2 は、αもしく
はβ位以外の位置がＯ原子により任意に中断されている
アルキル、または任意に置換されているベンジルを表
し；Ｒ3 は、水素、低級アルキル、任意に置換されてい
るベンジル、−ＣＯ−Ｒ4 、−ＣＯＯＲ4 または−ＣＯ
ＮＲ4 2を表し；そしてＲ4 は、低級アルキルまたはアリ
ールを表す〕で示される光学活性化合物をエナンチオ選
択的に製造する方法であって、一般式（II）〔式中、Ｒ
1 、Ｒ2 、Ｒ3 は、上記の意味を有する〕で示される化
合物を、光学活性アトロプ異性のジホスフィン配位子と
第VIII属金属との錯体の存在下で、不斉水素化すること
を特徴とする方法。 【化１６】
造し、ラセミ体分割を不要にする方法を見いだすこと。 【構成】 式（Ｉ）〔式中、Ｒ1 及びＲ2 は、αもしく
はβ位以外の位置がＯ原子により任意に中断されている
アルキル、または任意に置換されているベンジルを表
し；Ｒ3 は、水素、低級アルキル、任意に置換されてい
るベンジル、−ＣＯ−Ｒ4 、−ＣＯＯＲ4 または−ＣＯ
ＮＲ4 2を表し；そしてＲ4 は、低級アルキルまたはアリ
ールを表す〕で示される光学活性化合物をエナンチオ選
択的に製造する方法であって、一般式（II）〔式中、Ｒ
1 、Ｒ2 、Ｒ3 は、上記の意味を有する〕で示される化
合物を、光学活性アトロプ異性のジホスフィン配位子と
第VIII属金属との錯体の存在下で、不斉水素化すること
を特徴とする方法。 【化１６】
Description
【０００１】本発明は、一般式（Ｉ）：
【０００２】
【化９】
【０００３】（式中、Ｒ1 及びＲ2 は、αまたはβ位以
外の位置がＯ原子により場合により中断されていてもよ
いアルキル、または場合により置換されていてもよいベ
ンジルを表し；Ｒ3 は、水素、低級アルキル、場合によ
り置換されていてもよいベンジル、−ＣＯ−Ｒ4 、−Ｃ
ＯＯＲ4 または−ＣＯＮＲ4 2を表し；そしてＲ4 は、低
級アルキルまたはアリールを表す）で示される光学活性
化合物を製造するための新規な触媒的方法に関する。
外の位置がＯ原子により場合により中断されていてもよ
いアルキル、または場合により置換されていてもよいベ
ンジルを表し；Ｒ3 は、水素、低級アルキル、場合によ
り置換されていてもよいベンジル、−ＣＯ−Ｒ4 、−Ｃ
ＯＯＲ4 または−ＣＯＮＲ4 2を表し；そしてＲ4 は、低
級アルキルまたはアリールを表す）で示される光学活性
化合物を製造するための新規な触媒的方法に関する。
【０００４】式（Ｉ）の化合物は公知の化合物であり、
薬学的に有用な最終産物の貴重な中間体である。それら
は、例えば EP 443 449 に記載されているように、膵リ
パーゼ阻害用の薬剤に変換することができる。
薬学的に有用な最終産物の貴重な中間体である。それら
は、例えば EP 443 449 に記載されているように、膵リ
パーゼ阻害用の薬剤に変換することができる。
【０００５】本発明の目的は、式（Ｉ）の光学活性化合
物を直接に得る手段を見つけることであり、その結果そ
の後のラセミ体分割を不要にすることである。
物を直接に得る手段を見つけることであり、その結果そ
の後のラセミ体分割を不要にすることである。
【０００６】本発明による方法は、一般式（II）：
【０００７】
【化１０】
【０００８】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 は，上記の意味
を有する）で示される化合物を、光学活性で、好適には
アトロプ異性のジホスフィン配位子と第VIII属金属との
錯体の存在下で、不斉水素化することからなる。
を有する）で示される化合物を、光学活性で、好適には
アトロプ異性のジホスフィン配位子と第VIII属金属との
錯体の存在下で、不斉水素化することからなる。
【０００９】本発明の方法のための光学活性な金属−ジ
ホスフィン錯体として、一般式（III-ａ）、（III
-ｂ）、（III-ｃ）または（III-ａ）：
ホスフィン錯体として、一般式（III-ａ）、（III
-ｂ）、（III-ｃ）または（III-ａ）：
【００１０】
【化１１】
【００１１】（式中、Ｘは、ＢＦ4 - 、ＣｌＯ4 - 、Ｂ
（フェニル）4 - 、ＳｂＦ6 - 、ＰＦ6 - またはＺ1 −
ＳＯ3 - を表し；Ｘ1 は、ハロゲン化物を表し；Ｘ2
は、ベンゼン、ヘキサメチルベンゼンまたはｐ−シメン
を表し；Ｘ3 は、ハロゲン化物、ＣｌＯ4 - 、Ｂ（フェ
ニル）4 - 、ＳｂＦ6 - 、ＰＦ6 - 、Ｚ1 −ＳＯ3 - ま
たはＢＦ4 - を表し；Ｘ4 は、アニオンＺ2 −ＣＯＯ-
またはアニオンＺ3 −ＳＯ3 - を表し；Ｚ1 は、ハロゲ
ン化低級アルキルまたはハロゲン化フェニルを表し；Ｚ
2 は、低級アルキル、フェニル、ハロゲン化低級アルキ
ルまたはハロゲン化フェニルを表し；Ｚ3 は、低級アル
キルまたはフェニルを表し；そしてＬは、（Ｓ）または
（Ｒ）型の、式（IV）または（Ｖ）：
（フェニル）4 - 、ＳｂＦ6 - 、ＰＦ6 - またはＺ1 −
ＳＯ3 - を表し；Ｘ1 は、ハロゲン化物を表し；Ｘ2
は、ベンゼン、ヘキサメチルベンゼンまたはｐ−シメン
を表し；Ｘ3 は、ハロゲン化物、ＣｌＯ4 - 、Ｂ（フェ
ニル）4 - 、ＳｂＦ6 - 、ＰＦ6 - 、Ｚ1 −ＳＯ3 - ま
たはＢＦ4 - を表し；Ｘ4 は、アニオンＺ2 −ＣＯＯ-
またはアニオンＺ3 −ＳＯ3 - を表し；Ｚ1 は、ハロゲ
ン化低級アルキルまたはハロゲン化フェニルを表し；Ｚ
2 は、低級アルキル、フェニル、ハロゲン化低級アルキ
ルまたはハロゲン化フェニルを表し；Ｚ3 は、低級アル
キルまたはフェニルを表し；そしてＬは、（Ｓ）または
（Ｒ）型の、式（IV）または（Ｖ）：
【００１２】
【化１２】
【００１３】（上記式中、Ｒ5 及びＲ6 は、各々独立
に、低級アルキル、低級アルコキシ、ジ−（低級アルキ
ル）−アミノ、ヒドロキシ、保護されたヒドロキシ、ヒ
ドロキシメチルもしくは保護されたヒドロキシメチルを
表すか、またはＲ5 及びＲ6 は、一緒になって、下記
式：
に、低級アルキル、低級アルコキシ、ジ−（低級アルキ
ル）−アミノ、ヒドロキシ、保護されたヒドロキシ、ヒ
ドロキシメチルもしくは保護されたヒドロキシメチルを
表すか、またはＲ5 及びＲ6 は、一緒になって、下記
式：
【００１４】
【化１３】
【００１５】で示される２価の基を表し；Ｒ7 は、水
素、低級アルキルまたは低級アルコキシを表し；Ｒ8 及
びＲ9 は、各々独立に、シクロアルキル、非置換もしく
は置換フェニルまたは五員複素芳香環を表すが、但し残
基Ｒ8 及びＲ9 の少なくとも一方は、置換フェニル環ま
たは五員複素芳香環を表し；Ｒ10は、好適には５，５’
位の、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、アミノ、
アセトアミド、ニトロまたはスルホを表し；Ｒ11は、低
級アルキル、フェニルまたはベンジルを表し；Ｒ12は、
低級アルキルを表すか、または両方のＲ12は、一緒にな
って、ジもしくはトリメチレン基を表し；ｐは、ゼロま
たは１、２もしくは３の数を表し；そしてｑは、３、４
または５の数である）で示される光学活性アトロプ異性
のジホスフィン配位子を表す）で示される光学活性ルテ
ニウム錯体が特に考えられる。
素、低級アルキルまたは低級アルコキシを表し；Ｒ8 及
びＲ9 は、各々独立に、シクロアルキル、非置換もしく
は置換フェニルまたは五員複素芳香環を表すが、但し残
基Ｒ8 及びＲ9 の少なくとも一方は、置換フェニル環ま
たは五員複素芳香環を表し；Ｒ10は、好適には５，５’
位の、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、アミノ、
アセトアミド、ニトロまたはスルホを表し；Ｒ11は、低
級アルキル、フェニルまたはベンジルを表し；Ｒ12は、
低級アルキルを表すか、または両方のＲ12は、一緒にな
って、ジもしくはトリメチレン基を表し；ｐは、ゼロま
たは１、２もしくは３の数を表し；そしてｑは、３、４
または５の数である）で示される光学活性アトロプ異性
のジホスフィン配位子を表す）で示される光学活性ルテ
ニウム錯体が特に考えられる。
【００１６】式（Ｉ）〜（Ｖ）の化合物に関して、問題
となる用語が単独で用いられるか組み合わせで用いるか
に拘らず、下記の一般用語の定義が適用される。
となる用語が単独で用いられるか組み合わせで用いるか
に拘らず、下記の一般用語の定義が適用される。
【００１７】「αまたはβ位以外の位置がＯ原子により
場合により中断されていてもよいアルキル」という用語
は、本出願の範囲では炭素原子数１から１７のアルキル
であって、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘ
プチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデ
シル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキ
サデシル、ヘプタデシル、エトキシプロピル、エトキシ
ブチル、プロピルオキシエチルなどを意味する。
場合により中断されていてもよいアルキル」という用語
は、本出願の範囲では炭素原子数１から１７のアルキル
であって、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘ
プチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデ
シル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキ
サデシル、ヘプタデシル、エトキシプロピル、エトキシ
ブチル、プロピルオキシエチルなどを意味する。
【００１８】「場合により置換されていてもよいベンジ
ル」という用語は、ベンジルまたは２、３、４、５及び
／もしくは６位が低級アルキルもしくは低級アルコキシ
で置換されているベンジル、例えば４−メチルベンジ
ル、４−メトキシベンジル、３−メチルベンジルなどを
包含する。
ル」という用語は、ベンジルまたは２、３、４、５及び
／もしくは６位が低級アルキルもしくは低級アルコキシ
で置換されているベンジル、例えば４−メチルベンジ
ル、４−メトキシベンジル、３−メチルベンジルなどを
包含する。
【００１９】本発明の範囲では低級アルキルは、炭素原
子数１から５の直鎖または分岐鎖アルキル、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチルまたはte
rt−ペンチルを意味する。「低級アルコキシ」という用
語は、そのアルキル残基が前記の意味を有する基を意味
する。
子数１から５の直鎖または分岐鎖アルキル、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチルまたはte
rt−ペンチルを意味する。「低級アルコキシ」という用
語は、そのアルキル残基が前記の意味を有する基を意味
する。
【００２０】本出願の範囲では、アリールは、非置換フ
ェニル残基のみでなく、オルト位、メタ位もしくはパラ
位のモノ置換または多置換フェニル残基を意味する。特
に考慮される置換基は、低級アルキルもしくは低級アル
コキシル基またはハロゲン、特に塩素である。フェニル
及びトリルは、特に好適なアリール基である。
ェニル残基のみでなく、オルト位、メタ位もしくはパラ
位のモノ置換または多置換フェニル残基を意味する。特
に考慮される置換基は、低級アルキルもしくは低級アル
コキシル基またはハロゲン、特に塩素である。フェニル
及びトリルは、特に好適なアリール基である。
【００２１】ハロゲンまたはハロゲン化物は、フッ素、
塩素、臭素またはヨウ素を意味し、特に塩素、臭素また
はヨウ素を意味する。
塩素、臭素またはヨウ素を意味し、特に塩素、臭素また
はヨウ素を意味する。
【００２２】「ハロゲン化低級アルキル」という用語
は、本出願の範囲では可変数のハロゲン原子、特に塩素
またはフッ素を有する炭素原子数１から４のアルキル基
を意味する。特に好適なハロゲン化低級アルキル基は、
例えばトリフルオロメチル、ペンタフルオロエチルなど
のような、過フッ素化及び過塩素化低級アルキルであ
る。
は、本出願の範囲では可変数のハロゲン原子、特に塩素
またはフッ素を有する炭素原子数１から４のアルキル基
を意味する。特に好適なハロゲン化低級アルキル基は、
例えばトリフルオロメチル、ペンタフルオロエチルなど
のような、過フッ素化及び過塩素化低級アルキルであ
る。
【００２３】「ハロゲン化フェニル」という用語は、好
適には過フッ素化フェニルまたは過フッ素化ビフェニル
を意味する。
適には過フッ素化フェニルまたは過フッ素化ビフェニル
を意味する。
【００２４】「ジ−（低級アルキル）−アミノ」という
用語は、本発明の範囲では例えばジメチルアミノ、ジエ
チルアミノなどを意味する。
用語は、本発明の範囲では例えばジメチルアミノ、ジエ
チルアミノなどを意味する。
【００２５】ヒドロキシル基の保護基として、本発明の
範囲では、特に、例えばベンジル、アリル、ベンジルオ
キシメチル、低級アルコキシメチルまたは２−メトキシ
エトキシメチルのような通常のエーテル形成基が考えら
れる。
範囲では、特に、例えばベンジル、アリル、ベンジルオ
キシメチル、低級アルコキシメチルまたは２−メトキシ
エトキシメチルのような通常のエーテル形成基が考えら
れる。
【００２６】シクロアルキルは、本発明の範囲では炭素
原子数５から８の環状アルキル基が包含されるが、特に
シクロペンチルまたはシクロヘキシルである。
原子数５から８の環状アルキル基が包含されるが、特に
シクロペンチルまたはシクロヘキシルである。
【００２７】式（IV）及び（Ｖ）の化合物に関して、置
換フェニルとは、電子供与基、例えば式（VI- ａ）、
（VI- ｂ）又は（VI- ｃ）：
換フェニルとは、電子供与基、例えば式（VI- ａ）、
（VI- ｂ）又は（VI- ｃ）：
【００２８】
【化１４】
【００２９】（式中、Ｙは、（−ＣＨ2 −）m 、酸素、
硫黄または−Ｎ−Ｒ17を表し；Ａ及びＡ’は、各々独立
に，−ＣＨ2 −、−ＣＲ13Ｒ14−、酸素、硫黄または−
Ｎ−Ｒ17を表し；Ｒ13及びＲ14は、各々独立に，低級ア
ルキル（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、イソ
ブチル、tert−ブチル、イソペンチルまたはtert−ペン
チル）、低級アルコキシ（例えば、メトキシ、エトキ
シ）、トリアルキルシリル（例えば、トリメチルシリ
ル、トリエチルシリル）、シクロアルキル（例えば、シ
クロペンチル、シクロヘキシル）もしくはベンジルを表
すか、または残基Ｒ13またはＲ14の１つは、また水素を
表し；Ｒ15は、水素、低級アルキル、低級アルコキシ、
トリアルキルシリル（例えば、トリメチルシリルまたは
トリエチルシリル）、ジ−（低級アルキル）−アミノも
しくは低級チオアルキルを表し；Ｒ17は、低級アルキ
ル、特にメチルを表し；そしてｍは、整数１、２または
３を表す）で示される基が、好適には３位または５位に
置換したフェニルである。
硫黄または−Ｎ−Ｒ17を表し；Ａ及びＡ’は、各々独立
に，−ＣＨ2 −、−ＣＲ13Ｒ14−、酸素、硫黄または−
Ｎ−Ｒ17を表し；Ｒ13及びＲ14は、各々独立に，低級ア
ルキル（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、イソ
ブチル、tert−ブチル、イソペンチルまたはtert−ペン
チル）、低級アルコキシ（例えば、メトキシ、エトキ
シ）、トリアルキルシリル（例えば、トリメチルシリ
ル、トリエチルシリル）、シクロアルキル（例えば、シ
クロペンチル、シクロヘキシル）もしくはベンジルを表
すか、または残基Ｒ13またはＲ14の１つは、また水素を
表し；Ｒ15は、水素、低級アルキル、低級アルコキシ、
トリアルキルシリル（例えば、トリメチルシリルまたは
トリエチルシリル）、ジ−（低級アルキル）−アミノも
しくは低級チオアルキルを表し；Ｒ17は、低級アルキ
ル、特にメチルを表し；そしてｍは、整数１、２または
３を表す）で示される基が、好適には３位または５位に
置換したフェニルである。
【００３０】「５員複素芳香環」という用語は、本出願
の範囲では式（VI- ｄ）、（VI- ｅ）、（VI- ｆ）また
は（VI- ｇ）：
の範囲では式（VI- ｄ）、（VI- ｅ）、（VI- ｆ）また
は（VI- ｇ）：
【００３１】
【化１５】
【００３２】（上記式中、Ａは、酸素、硫黄または−Ｎ
−Ｒ17を表し；Ｒ16は、水素、低級アルキル、特にメチ
ルまたは低級アルコキシ、特にメトキシを表し；Ｒ
17は、低級アルキル、特にメチルを表し；そしてｎは、
ゼロ、１または２を表す）で示される置換基を意味す
る。
−Ｒ17を表し；Ｒ16は、水素、低級アルキル、特にメチ
ルまたは低級アルコキシ、特にメトキシを表し；Ｒ
17は、低級アルキル、特にメチルを表し；そしてｎは、
ゼロ、１または２を表す）で示される置換基を意味す
る。
【００３３】本発明による式（Ｉ）の化合物への式（I
I）の化合物の不斉水素化は、反応条件下で不活性な、
適切な有機溶媒中で達成される。そのような溶媒として
は、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール
のような低級アルコールが考えられ、またはこのような
アルコールとハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレ
ン、クロロホルム、ヘキサフルオロベンゼンなどとの混
合物、エーテル、例えばジエチルエーテル、テトラヒド
ロフランまたはジオキサンとの混合物、前述のアルコー
ルとエステル、例えば酢酸エチルとの混合物、またはカ
ルボン酸、例えばギ酸、酢酸などとの混合物、またはさ
らにケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトンもし
くはジエチルケトンとの混合物、または水との混合物を
用いることができる。
I）の化合物の不斉水素化は、反応条件下で不活性な、
適切な有機溶媒中で達成される。そのような溶媒として
は、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール
のような低級アルコールが考えられ、またはこのような
アルコールとハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレ
ン、クロロホルム、ヘキサフルオロベンゼンなどとの混
合物、エーテル、例えばジエチルエーテル、テトラヒド
ロフランまたはジオキサンとの混合物、前述のアルコー
ルとエステル、例えば酢酸エチルとの混合物、またはカ
ルボン酸、例えばギ酸、酢酸などとの混合物、またはさ
らにケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトンもし
くはジエチルケトンとの混合物、または水との混合物を
用いることができる。
【００３４】好適には、この反応は、メタノール、エタ
ノールまたはイソプロパノール中で、またはこのような
アルコールと前述のハロゲン化炭化水素との混合物、前
述のエーテルとの混合物、ケトンとの混合物またはさら
に水との混合物中で実施される。しかしながら、前述の
アルコールまたは混合物、例えばメタノール／水または
メタノール／ジエチルエーテル／テトラヒドロフランな
どが、本発明の方法に特に適している。
ノールまたはイソプロパノール中で、またはこのような
アルコールと前述のハロゲン化炭化水素との混合物、前
述のエーテルとの混合物、ケトンとの混合物またはさら
に水との混合物中で実施される。しかしながら、前述の
アルコールまたは混合物、例えばメタノール／水または
メタノール／ジエチルエーテル／テトラヒドロフランな
どが、本発明の方法に特に適している。
【００３５】水素化は、温度が約０℃と約１００℃の
間、好適には温度範囲約２０℃から約８０℃で、そして
圧力が約１から約１００バール、好適には約５から約７
０バールで実施することが好都合である。
間、好適には温度範囲約２０℃から約８０℃で、そして
圧力が約１から約１００バール、好適には約５から約７
０バールで実施することが好都合である。
【００３６】水素化される式（II）の化合物と式（III-
ａ）〜（III-ｄ）の錯体中のルテニウムとのモル比は、
約２０，０００と約２０の間に、好適には約１０，００
０と約１００の間にあるのが好都合である。
ａ）〜（III-ｄ）の錯体中のルテニウムとのモル比は、
約２０，０００と約２０の間に、好適には約１０，００
０と約１００の間にあるのが好都合である。
【００３７】式（VI）及び（Ｖ）の配位子は、公知の化
合物であるか、公知の配位子の調製法と類似の方法で容
易に調製することができる公知の化合物の類似化合物で
ある。
合物であるか、公知の配位子の調製法と類似の方法で容
易に調製することができる公知の化合物の類似化合物で
ある。
【００３８】例えば、Ｒ8 及びＲ9 が同一である式（V
I）及び（Ｖ）の化合物は、EP 398 132またはさらにEP
398 132に記載されたように調製することができる。Ｒ8
及びＲ9 が互いに異なる化合物の調製は、これと同様
に達成されるが、例えばEP 543245に記載されたように
２段階で達成される。
I）及び（Ｖ）の化合物は、EP 398 132またはさらにEP
398 132に記載されたように調製することができる。Ｒ8
及びＲ9 が互いに異なる化合物の調製は、これと同様
に達成されるが、例えばEP 543245に記載されたように
２段階で達成される。
【００３９】式（III-ｂ）及び（III-ｃ）の錯体は、そ
れ自体公知の方法で調製することができる。式（III
-ｄ）の錯体は、適切な不活性有機溶媒または水性溶媒
中で、式（IV）または（Ｖ）の化合物を、ルテニウムを
生成可能な化合物と反応させることによって調製でき
る。式（III-ａ）の錯体は、化合物（III-ｄ）からＨＸ
（Ｘは、前述の意味を有するが、特にＢＦ4 - またはＣ
Ｆ3 ＳＯ3 - を表す）との反応によって調製することが
できる。
れ自体公知の方法で調製することができる。式（III
-ｄ）の錯体は、適切な不活性有機溶媒または水性溶媒
中で、式（IV）または（Ｖ）の化合物を、ルテニウムを
生成可能な化合物と反応させることによって調製でき
る。式（III-ａ）の錯体は、化合物（III-ｄ）からＨＸ
（Ｘは、前述の意味を有するが、特にＢＦ4 - またはＣ
Ｆ3 ＳＯ3 - を表す）との反応によって調製することが
できる。
【００４０】式（II）の化合物のエナンチオ選択水素化
は、好適には式（III-ａ）のルテニウム−ジホスフィン
錯体の存在下で、特に式（III-ａ）のルテニウム−ジホ
スフィン錯体及び過剰量のＨＸまたは別の適切な酸（例
えば、過フッ素化カルボン酸）の存在下で、実施され
る。
は、好適には式（III-ａ）のルテニウム−ジホスフィン
錯体の存在下で、特に式（III-ａ）のルテニウム−ジホ
スフィン錯体及び過剰量のＨＸまたは別の適切な酸（例
えば、過フッ素化カルボン酸）の存在下で、実施され
る。
【００４１】本発明の範囲で、とりわけ、有用である式
（IV）及び（Ｖ）の配位子の中で、式（IV）の配位子が
好適である。特に好適な式（IV）の配位子は、Ｒ5 及び
Ｒ6が同一であり、かつメチルまたはメトキシを表し、
ｐがゼロでであり、Ｒ8 及びＲ9 が同一であり、かつ置
換フェニル、好適には式（VI- ａ）の基である配位子で
ある。式（VI- ａ）（式中、Ｒ13及びＲ14は、同一であ
り、かつメチル、イソプロピル、tert−ブチル、tert−
ペンチル、メトキシ、トリメチルシリルまたはトリエチ
ルシリルを表し、Ｒ15は、水素、メトキシまたはジメチ
ルアミノを表す）の基は、特に好適である。
（IV）及び（Ｖ）の配位子の中で、式（IV）の配位子が
好適である。特に好適な式（IV）の配位子は、Ｒ5 及び
Ｒ6が同一であり、かつメチルまたはメトキシを表し、
ｐがゼロでであり、Ｒ8 及びＲ9 が同一であり、かつ置
換フェニル、好適には式（VI- ａ）の基である配位子で
ある。式（VI- ａ）（式中、Ｒ13及びＲ14は、同一であ
り、かつメチル、イソプロピル、tert−ブチル、tert−
ペンチル、メトキシ、トリメチルシリルまたはトリエチ
ルシリルを表し、Ｒ15は、水素、メトキシまたはジメチ
ルアミノを表す）の基は、特に好適である。
【００４２】特に好適な式（IV）の配位子の例は、下記
のとおりである。 （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，４，５−トリメトキシフェニル）
ホスフィン〕（３，４，５−ＭｅＯ−ＭｅＯＢＩＰＨＥ
Ｐ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ジメチル−４−ジメチルアミ
ノフェニル）ホスフィン〕（ＤＭＡＸｙｌ−ＭｅＯＢＩ
ＰＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フ
ェニル）ホスフィン〕（３，５−ＴＭＳ−ＭｅＯＢＩＰ
ＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ビス（トリエチルシリル）フ
ェニル）ホスフィン〕（３，５−ＴＥＳ−ＭｅＯＢＩＰ
ＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）ホ
スフィン〕（３，５−ｉＰｒ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ジtert−ブチルフェニル）ホ
スフィン〕（３，５−ｔＢｕ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ジtert−ペンチルフェニル）
ホスフィン〕（３，５−ｔＰｅｎ−ＭｅＯＢＩＰＨＥ
Ｐ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィ
ン〕（Ｘｙｌ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ジイソプロピル−４−メトキ
シフェニル）ホスフィン〕（３，５−ｉＰｒ−４−Ｍｅ
Ｏ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ジtert−ブチル−４−メトキ
シフェニル）ホスフィン〕（３，５−ｔＢｕ−４−Ｍｅ
Ｏ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス３，５−ジtert−ペンチル−４−メトキ
シフェニル）ホスフィン〕（３，５−ｔＰｅｎ−４−Ｍ
ｅＯ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ）
のとおりである。 （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，４，５−トリメトキシフェニル）
ホスフィン〕（３，４，５−ＭｅＯ−ＭｅＯＢＩＰＨＥ
Ｐ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ジメチル−４−ジメチルアミ
ノフェニル）ホスフィン〕（ＤＭＡＸｙｌ−ＭｅＯＢＩ
ＰＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フ
ェニル）ホスフィン〕（３，５−ＴＭＳ−ＭｅＯＢＩＰ
ＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ビス（トリエチルシリル）フ
ェニル）ホスフィン〕（３，５−ＴＥＳ−ＭｅＯＢＩＰ
ＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）ホ
スフィン〕（３，５−ｉＰｒ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ジtert−ブチルフェニル）ホ
スフィン〕（３，５−ｔＢｕ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ジtert−ペンチルフェニル）
ホスフィン〕（３，５−ｔＰｅｎ−ＭｅＯＢＩＰＨＥ
Ｐ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィ
ン〕（Ｘｙｌ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ジイソプロピル−４−メトキ
シフェニル）ホスフィン〕（３，５−ｉＰｒ−４−Ｍｅ
Ｏ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス（３，５−ジtert−ブチル−４−メトキ
シフェニル）ホスフィン〕（３，５−ｔＢｕ−４−Ｍｅ
Ｏ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ） （６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイ
ル）ビス〔ビス３，５−ジtert−ペンチル−４−メトキ
シフェニル）ホスフィン〕（３，５−ｔＰｅｎ−４−Ｍ
ｅＯ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ）
【００４３】以下の実施例は本発明を説明するものであ
り、本発明をなんら制約するものではない。実施例中に
使用した略語は下記の意味を有する。
り、本発明をなんら制約するものではない。実施例中に
使用した略語は下記の意味を有する。
【００４４】ＯＡｃ：アセトキシ ＨＰＬＣ：高圧液体クロマトグラフィー ＲＴ：室温 ＨＶ：高真空：〜０．１ミリバール ＧＣ：毛細管ガスクロマトグラフィー 生成物試料は、無水酢酸／ピリジンでアセチル化する
か、またはピリジン中のＮ，Ｏ−ビス（トリメチルシリ
ル）アセトアミド／５％トリクロロシランでシリル化し
た。触媒含有試料は、塩化メチレンに溶解し、触媒を分
離するために少量のシリカゲルを通して濾過した。 ｏ．ｐ．：（Ｒ）−３−ヘキシル−５，６−ジヒドロ−
４−ヒドロキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−２−
オンの光学純度、〔α〕D 20 ＝−４５．６゜（ｃ＝１、
ジオキサン） ｅｅ：３−ヘキシル−５，６−ジヒドロ−４−メトキシ
−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−２−オンのエナンチ
オ過剰率。 メチルエーテルは、水素化により得られたか、または対
応するジヒドロピロンをオルトギ酸メチル／メタノール
及びｐ−トルエンスルホン酸を触媒として用いてメチル
化して調製した。ｅｅの測定は、キラルセル−ＯＤ（Ch
iralcel −ＯＤ）相上で高圧液体クロマトグラフィー
（ＨＰＬＣ）によって達成された。 ＤＨＰ：３−ヘキシル−５，６−ジヒドロ−４−ヒドロ
キシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−２−オン（ジヒ
ドロピロン） ＤＨＰＭ：３−ヘキシル−５，６−ジヒドロ−４−メト
キシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−２−オン（ジヒ
ドロピロン メチルエーテル）
か、またはピリジン中のＮ，Ｏ−ビス（トリメチルシリ
ル）アセトアミド／５％トリクロロシランでシリル化し
た。触媒含有試料は、塩化メチレンに溶解し、触媒を分
離するために少量のシリカゲルを通して濾過した。 ｏ．ｐ．：（Ｒ）−３−ヘキシル−５，６−ジヒドロ−
４−ヒドロキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−２−
オンの光学純度、〔α〕D 20 ＝−４５．６゜（ｃ＝１、
ジオキサン） ｅｅ：３−ヘキシル−５，６−ジヒドロ−４−メトキシ
−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−２−オンのエナンチ
オ過剰率。 メチルエーテルは、水素化により得られたか、または対
応するジヒドロピロンをオルトギ酸メチル／メタノール
及びｐ−トルエンスルホン酸を触媒として用いてメチル
化して調製した。ｅｅの測定は、キラルセル−ＯＤ（Ch
iralcel −ＯＤ）相上で高圧液体クロマトグラフィー
（ＨＰＬＣ）によって達成された。 ＤＨＰ：３−ヘキシル−５，６−ジヒドロ−４−ヒドロ
キシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−２−オン（ジヒ
ドロピロン） ＤＨＰＭ：３−ヘキシル−５，６−ジヒドロ−４−メト
キシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−２−オン（ジヒ
ドロピロン メチルエーテル）
【００４５】温度はすべて摂氏で表した。
【００４６】
実施例１ ａ）１９．６mg（０．０６mmol）のジ（η2 −アセタ
ト）−（η4 −シクロオクタ−１，５−ジエン）ルテニ
ウム（II）及び６１．９mg（０．０６０mmol）の（Ｓ）
−３，５−ｔＢｕ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰを、グローブボ
ックス（アルゴン、＜１ppm 酸素）中で、シュレンク管
（Schlenk tube）中の７．５mlのジエチルエーテル及び
２．５mlのテトラヒドロフランに溶解し、その溶液を４
０゜で一晩攪拌した。冷却後、２．５ml（０．０１５mm
ol）の触媒溶液を６．５mlのジエチルエーテル／テトラ
ヒドロフラン（３：１、ｖ／ｖ）に加え、得られた溶液
を、７．５mlのメタノール中の２６．３mg（０．１５mm
ol）の５０パーセント水性ＨＢＦ4 の溶液で処理した。
その黄色の触媒溶液を室温で１．５時間攪拌した。
ト）−（η4 −シクロオクタ−１，５−ジエン）ルテニ
ウム（II）及び６１．９mg（０．０６０mmol）の（Ｓ）
−３，５−ｔＢｕ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰを、グローブボ
ックス（アルゴン、＜１ppm 酸素）中で、シュレンク管
（Schlenk tube）中の７．５mlのジエチルエーテル及び
２．５mlのテトラヒドロフランに溶解し、その溶液を４
０゜で一晩攪拌した。冷却後、２．５ml（０．０１５mm
ol）の触媒溶液を６．５mlのジエチルエーテル／テトラ
ヒドロフラン（３：１、ｖ／ｖ）に加え、得られた溶液
を、７．５mlのメタノール中の２６．３mg（０．１５mm
ol）の５０パーセント水性ＨＢＦ4 の溶液で処理した。
その黄色の触媒溶液を室温で１．５時間攪拌した。
【００４７】ｂ）グローブボックス中で３０mlオートク
レーブのガラス・アッタチメントに１．０５ｇ（３．０
０mmol）の３−ヘキシル−４−ヒドロキシ−６−ウンデ
シル−２Ｈ−ピラン−２−オン、１３．５mlのメタノー
ル、及びａ）に従って調製した触媒溶液（Ｓ／Ｃ ２０
０）を充填した。６０゜、６０バールで４８時間、磁石
棒で攪拌しながら水素添加を実施した。
レーブのガラス・アッタチメントに１．０５ｇ（３．０
０mmol）の３−ヘキシル−４−ヒドロキシ−６−ウンデ
シル−２Ｈ−ピラン−２−オン、１３．５mlのメタノー
ル、及びａ）に従って調製した触媒溶液（Ｓ／Ｃ ２０
０）を充填した。６０゜、６０バールで４８時間、磁石
棒で攪拌しながら水素添加を実施した。
【００４８】その黄色の水素添加溶液から溶媒を、ロー
タリーエバポレーターを用いて３５゜／２０ミリバール
で蒸発させた。ＧＣ分析によると、残渣（１．０２ｇの
黄色の結晶）は、５９％の３−ヘキシル−５，６−ジヒ
ドロ−４−ヒドロキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン
−２−オン、１０％の３−ヘキシル−５，６−ジヒドロ
−４−メトキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−２−
オン、５％の４種のジアステレオマー飽和ラクトンの混
合物及び２２％の抽出物からなっていた。エナンチオ選
択性を測定するために、０．７１ｇの残渣を４０ｇのシ
リカゲルのクロマトグラフィーに付した。塩化メチレン
で、３２０mgの〔α〕D 20＝−３８．４゜の（Ｒ）−ジ
ヒドロピロンを、そして混合物分画の後、２７mgの９
１．９％ｅｅの純粋な（Ｒ）−ジヒドロピロンメチルエ
ーテルを溶出した。
タリーエバポレーターを用いて３５゜／２０ミリバール
で蒸発させた。ＧＣ分析によると、残渣（１．０２ｇの
黄色の結晶）は、５９％の３−ヘキシル−５，６−ジヒ
ドロ−４−ヒドロキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン
−２−オン、１０％の３−ヘキシル−５，６−ジヒドロ
−４−メトキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−２−
オン、５％の４種のジアステレオマー飽和ラクトンの混
合物及び２２％の抽出物からなっていた。エナンチオ選
択性を測定するために、０．７１ｇの残渣を４０ｇのシ
リカゲルのクロマトグラフィーに付した。塩化メチレン
で、３２０mgの〔α〕D 20＝−３８．４゜の（Ｒ）−ジ
ヒドロピロンを、そして混合物分画の後、２７mgの９
１．９％ｅｅの純粋な（Ｒ）−ジヒドロピロンメチルエ
ーテルを溶出した。
【００４９】実施例２ ａ）グローブボックス中で、１２．５mlのメタノール中
の１５．０mg（０．０１２mmol）のＲｕ（ＯＡｃ）2
〔（Ｓ）−３，５−ｔＢｕ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ〕の溶
液を、２５mlのメタノール中の２１．１mg（０．１２mm
ol）の５０パーセント水性ＨＢＦ4 の溶液で処理した。
該触媒溶液を室温で１．５時間攪拌した。
の１５．０mg（０．０１２mmol）のＲｕ（ＯＡｃ）2
〔（Ｓ）−３，５−ｔＢｕ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ〕の溶
液を、２５mlのメタノール中の２１．１mg（０．１２mm
ol）の５０パーセント水性ＨＢＦ4 の溶液で処理した。
該触媒溶液を室温で１．５時間攪拌した。
【００５０】ｂ）グローブボックス中で、１８５mlオー
トクレーブに４．２１ｇ（１２．０mmol）の３−ヘキシ
ル−４−ヒドロキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−
２−オン、１５mlのメタノール及びａ）に従って調製し
た触媒溶液（Ｓ／Ｃ １，０００）を充填した。６０
゜、６０バールで４８時間、激しく攪拌しながら水素添
加を実施した。冷却後その黄色の結晶スラリーから溶媒
をロータリーエバポレーターを用いて４０゜／１８ミリ
バールで蒸発させた。残渣（４．３ｇの黄色の結晶化
物）は、ＧＣ分析によると、７３％の３−ヘキシル−
５，６−ジヒドロ−４−ヒドロキシ−６−ウンデシル−
２Ｈ−ピラン−２−オン、２０％の３−ヘキシル−５，
６−ジヒドロ−４−メトキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−
ピラン−２−オン、５％の４種のジアステレオマー飽和
ラクトンの混合物からなっており、これを１５０ｇシリ
カゲルのクロマトグラフィーに付した。塩化メチレン
で、２１０mgの〔α〕D 20＝−４２．０゜（９２％ｏ．
ｐ．）の（Ｒ）−ジヒドロピロン、３．４４ｇのジヒド
ロピロン及びジヒドロピロンメチルエーテルからなる混
合物分画及び１２０mgの９２．１％ｅｅの（Ｒ）−ジヒ
ドロピロンメチルエーテルを溶出した。
トクレーブに４．２１ｇ（１２．０mmol）の３−ヘキシ
ル−４−ヒドロキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−
２−オン、１５mlのメタノール及びａ）に従って調製し
た触媒溶液（Ｓ／Ｃ １，０００）を充填した。６０
゜、６０バールで４８時間、激しく攪拌しながら水素添
加を実施した。冷却後その黄色の結晶スラリーから溶媒
をロータリーエバポレーターを用いて４０゜／１８ミリ
バールで蒸発させた。残渣（４．３ｇの黄色の結晶化
物）は、ＧＣ分析によると、７３％の３−ヘキシル−
５，６−ジヒドロ−４−ヒドロキシ−６−ウンデシル−
２Ｈ−ピラン−２−オン、２０％の３−ヘキシル−５，
６−ジヒドロ−４−メトキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−
ピラン−２−オン、５％の４種のジアステレオマー飽和
ラクトンの混合物からなっており、これを１５０ｇシリ
カゲルのクロマトグラフィーに付した。塩化メチレン
で、２１０mgの〔α〕D 20＝−４２．０゜（９２％ｏ．
ｐ．）の（Ｒ）−ジヒドロピロン、３．４４ｇのジヒド
ロピロン及びジヒドロピロンメチルエーテルからなる混
合物分画及び１２０mgの９２．１％ｅｅの（Ｒ）−ジヒ
ドロピロンメチルエーテルを溶出した。
【００５１】実施例３−１０
【００５２】
【表１】
【００５３】実施例１１−２１
【００５４】
【表２】
【００５５】実施例２２ ａ）１３．１mg（０．０４０mmol）のジ（η2 −アセタ
ト）−（η4 −シクロオクタ−１，５−ジエン）ルテニ
ウム（II）及び４１．３mg（０．０４０mmol）の（Ｓ）
−３，５−ｔＢｕ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰを、グローブボ
ックス（アルゴン、＜１ppm 酸素）中で、シュレンク管
（Schlenk tube）の２．２５mlのジエチルエーテル及び
０．７５mlのテトラヒドロフランに溶解し、その溶液を
４０゜で一晩攪拌した。冷却後、２．５mlのメタノール
中の１４mg（０．０８mmol）の５０パーセント水性ＨＢ
Ｆ4 の溶液を加えた。その黄色の触媒溶液を室温で１．
５時間攪拌した。
ト）−（η4 −シクロオクタ−１，５−ジエン）ルテニ
ウム（II）及び４１．３mg（０．０４０mmol）の（Ｓ）
−３，５−ｔＢｕ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰを、グローブボ
ックス（アルゴン、＜１ppm 酸素）中で、シュレンク管
（Schlenk tube）の２．２５mlのジエチルエーテル及び
０．７５mlのテトラヒドロフランに溶解し、その溶液を
４０゜で一晩攪拌した。冷却後、２．５mlのメタノール
中の１４mg（０．０８mmol）の５０パーセント水性ＨＢ
Ｆ4 の溶液を加えた。その黄色の触媒溶液を室温で１．
５時間攪拌した。
【００５６】ｂ）グローブボックス中で３０mlオートク
レーブのガラス・アッタチメントに０．３６ｇ（１．０
０mmol）の３−ヘキシル−４−メトキシ−６−ウンデシ
ル−２Ｈ−ピラン−２−オン、４．５mlのメタノール及
びａ）に従って調製した触媒溶液を充填した。６０゜、
６０バールで４０時間、磁石棒で攪拌しながら水素添加
を実施した。
レーブのガラス・アッタチメントに０．３６ｇ（１．０
０mmol）の３−ヘキシル−４−メトキシ−６−ウンデシ
ル−２Ｈ−ピラン−２−オン、４．５mlのメタノール及
びａ）に従って調製した触媒溶液を充填した。６０゜、
６０バールで４０時間、磁石棒で攪拌しながら水素添加
を実施した。
【００５７】その黄色の水素添加溶液から溶媒を、ロー
タリーエバポレーターを用いて３５゜／２０ミリバール
で蒸発させた。ＧＣ分析によると、残渣（０．３５ｇの
黄色の結晶）は、７１％の３−ヘキシル−５，６−ジヒ
ドロ−４−メトキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−
２−オン及び２１％の抽出物からなっていた。エナンチ
オ選択性を測定するために、残渣の塩化メチレン溶液を
少量のシリカゲルで濾過し、その溶出液から溶媒を蒸発
後ＨＰＬＣにより分析した：５３％ｅｅであった。
タリーエバポレーターを用いて３５゜／２０ミリバール
で蒸発させた。ＧＣ分析によると、残渣（０．３５ｇの
黄色の結晶）は、７１％の３−ヘキシル−５，６−ジヒ
ドロ−４−メトキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−
２−オン及び２１％の抽出物からなっていた。エナンチ
オ選択性を測定するために、残渣の塩化メチレン溶液を
少量のシリカゲルで濾過し、その溶出液から溶媒を蒸発
後ＨＰＬＣにより分析した：５３％ｅｅであった。
【００５８】実施例２３ ａ）グローブボックス中で、１２．５mlのメタノール中
の１６．４mg（０．０１２mmol）のＲｕ（ＯＡｃ）2
〔（Ｓ）−３，５−ｔＢｕ−４−ＭｅＯ−ＭｅＯＢＩＰ
ＨＥＰ〕の溶液を、２．５mlのメタノール中の１３．７
mg（０．１２mmol）のトリフルオロ酢酸の溶液で処理
し、触媒溶液を室温で１．５時間攪拌した。
の１６．４mg（０．０１２mmol）のＲｕ（ＯＡｃ）2
〔（Ｓ）−３，５−ｔＢｕ−４−ＭｅＯ−ＭｅＯＢＩＰ
ＨＥＰ〕の溶液を、２．５mlのメタノール中の１３．７
mg（０．１２mmol）のトリフルオロ酢酸の溶液で処理
し、触媒溶液を室温で１．５時間攪拌した。
【００５９】ｂ）グローブボックス中で、１８５mlオー
トクレーブに４．２１ｇ（１２．０mmol）の３−ヘキシ
ル−４−ヒドロキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−
２−オン、１５mlのメタノール、及びａ）に従って調製
した触媒溶液（Ｓ／Ｃ １，０００）を充填した。６０
゜、６０バールで２４時間、激しく攪拌しながら水素添
加を実施した。冷却後その黄色の結晶スラリーから溶媒
をロータリーエバポレーターを用いて４０゜／１８ミリ
バールで蒸発させた。残渣（４．２ｇの黄色の結晶化
物）は、ＧＣ分析によると、４６％の抽出物、４８％の
３−ヘキシル−５，６−ジヒドロ−４−ヒドロキシ−６
−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−２−オン及び１％の４種
のジアステレオマー飽和ラクトンの混合物からなってい
た。
トクレーブに４．２１ｇ（１２．０mmol）の３−ヘキシ
ル−４−ヒドロキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−
２−オン、１５mlのメタノール、及びａ）に従って調製
した触媒溶液（Ｓ／Ｃ １，０００）を充填した。６０
゜、６０バールで２４時間、激しく攪拌しながら水素添
加を実施した。冷却後その黄色の結晶スラリーから溶媒
をロータリーエバポレーターを用いて４０゜／１８ミリ
バールで蒸発させた。残渣（４．２ｇの黄色の結晶化
物）は、ＧＣ分析によると、４６％の抽出物、４８％の
３−ヘキシル−５，６−ジヒドロ−４−ヒドロキシ−６
−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−２−オン及び１％の４種
のジアステレオマー飽和ラクトンの混合物からなってい
た。
【００６０】ｅｅ測定のため、この混合物をオルトギ酸
メチル／メタノール及び触媒量のｐ−トルエンスルホン
酸で処理し、ＨＰＬＣで分析した：８７．８％ｅｅ
（Ｒ）であった。
メチル／メタノール及び触媒量のｐ−トルエンスルホン
酸で処理し、ＨＰＬＣで分析した：８７．８％ｅｅ
（Ｒ）であった。
【００６１】実施例２４ ａ）グローブボックス中で、１２．５mlのメタノール中
の１６．４mg（０．０１２mmol）のＲｕ（ＯＡｃ）2
〔（Ｓ）−３，５−ｔＢｕ−４−ＭｅＯ−ＭｅＯＢＩＰ
ＨＥＰ〕の溶液を、２．５mlのメタノール中の４．２mg
（０．０２４mmol）の５０パーセント水性ＨＢＦ4 の溶
液で処理し、この溶液を室温で１．５時間攪拌した。続
いて４４．６mg（０．０９６mmol）の過フッ素化ペラル
ゴン酸を加え、この触媒溶液を室温で１５分間攪拌し
た。
の１６．４mg（０．０１２mmol）のＲｕ（ＯＡｃ）2
〔（Ｓ）−３，５−ｔＢｕ−４−ＭｅＯ−ＭｅＯＢＩＰ
ＨＥＰ〕の溶液を、２．５mlのメタノール中の４．２mg
（０．０２４mmol）の５０パーセント水性ＨＢＦ4 の溶
液で処理し、この溶液を室温で１．５時間攪拌した。続
いて４４．６mg（０．０９６mmol）の過フッ素化ペラル
ゴン酸を加え、この触媒溶液を室温で１５分間攪拌し
た。
【００６２】ｂ）グローブボックス中で、１８５mlオー
トクレーブに４．２１ｇ（１２．０mmol）の３−ヘキシ
ル−４−ヒドロキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−
２−オン、１５mlのメタノール、及びａ）に従って調製
した触媒溶液（Ｓ／Ｃ １，０００）を充填した。６０
゜、６０バールで２０時間、激しく攪拌しながら水素添
加を実施した。冷却後その黄色の結晶スラリーから溶媒
をロータリーエバポレーターを用いて４０゜／１８ミリ
バールで蒸発させた。残渣（４．２ｇの黄色の結晶化
物）は、ＧＣ分析によると、５１％の抽出物、４４％の
３−ヘキシル−５，６−ジヒドロ−４−ヒドロキシ−６
−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−２−オン、２％の３−ヘ
キシル−５，６−ジヒドロ−４−メトキシ−６−ウンデ
シル−２Ｈ−ピラン−２−オン及び１％の４種のジアス
テレオマー飽和ラクトンの混合物からなっていた。
トクレーブに４．２１ｇ（１２．０mmol）の３−ヘキシ
ル−４−ヒドロキシ−６−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−
２−オン、１５mlのメタノール、及びａ）に従って調製
した触媒溶液（Ｓ／Ｃ １，０００）を充填した。６０
゜、６０バールで２０時間、激しく攪拌しながら水素添
加を実施した。冷却後その黄色の結晶スラリーから溶媒
をロータリーエバポレーターを用いて４０゜／１８ミリ
バールで蒸発させた。残渣（４．２ｇの黄色の結晶化
物）は、ＧＣ分析によると、５１％の抽出物、４４％の
３−ヘキシル−５，６−ジヒドロ−４−ヒドロキシ−６
−ウンデシル−２Ｈ−ピラン−２−オン、２％の３−ヘ
キシル−５，６−ジヒドロ−４−メトキシ−６−ウンデ
シル−２Ｈ−ピラン−２−オン及び１％の４種のジアス
テレオマー飽和ラクトンの混合物からなっていた。
【００６３】ｅｅ測定のため、この混合物をオルトギ酸
メチル／メタノール及び触媒量のｐ−トルエンスルホン
酸で処理し、ＨＰＬＣで分析した：９２．８％ｅｅ
（Ｒ）であった。
メチル／メタノール及び触媒量のｐ−トルエンスルホン
酸で処理し、ＨＰＬＣで分析した：９２．８％ｅｅ
（Ｒ）であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 309/34 Ｃ０７Ｍ 7:00 (72)発明者 マルチン・カルプ スイス国、ツェーハー−4153、ライナハ、 イン・デア・ハーゼルマッテ ４ (72)発明者 ウルリッヒ・ツッター スイス国、ツェーハー−4051 バーゼル、 ゾーチンシュトラーセ 33
Claims (7)
- 【請求項１】 式（Ｉ）： 【化１】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は、αもしくはβ位以外の位置が
Ｏ原子により場合により中断されていてもよいアルキ
ル、または場合により置換されていてもよいベンジルを
表し；Ｒ3 は、水素、低級アルキル、場合により置換さ
れていてもよいベンジル、−ＣＯ−Ｒ4 、−ＣＯＯＲ4
または−ＣＯＮＲ4 2を表し；そしてＲ4 は、低級アルキ
ルまたはアリールを表す）で示される光学活性化合物を
エナンチオ選択的に製造する方法であって、一般式（I
I）： 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 は、上記の意味を有する）で
示される化合物を、光学活性アトロプ異性のジホスフィ
ン配位子と第VIII属金属との錯体の存在下で、不斉水素
化することを特徴とする方法。 - 【請求項２】 式（III-ａ）、（III-ｂ）、（III-ｃ）
または（III-ａ）： 【化３】 （式中、Ｘは、ＢＦ4 - 、ＣｌＯ4 - 、Ｂ（フェニル）
4 - 、ＳｂＦ6 - 、ＰＦ6 - またはＺ1 −ＳＯ3 - を表
し；Ｘ1 は、ハロゲン化物を表し；Ｘ2 は、ベンゼン、
ヘキサメチルベンゼンまたはｐ−シメンを表し；Ｘ3
は、ハロゲン化物、ＣｌＯ4 - 、Ｂ（フェニル）4 - 、
ＳｂＦ6 - 、ＰＦ6 - 、Ｚ1 −ＳＯ3 - またはＢＦ4 -
を表し；Ｘ4 は、アニオンＺ2 −ＣＯＯ- またはアニオ
ンＺ3 −ＳＯ3 - を表し；Ｚ1 は、ハロゲン化低級アル
キルまたはハロゲン化フェニルを表し；Ｚ2 は、低級ア
ルキル、フェニル、ハロゲン化低級アルキルまたはハロ
ゲン化フェニルを表し；Ｚ3 は、低級アルキルまたはフ
ェニルを表し；そしてＬは、（Ｓ）または（Ｒ）型の、
一般式（IV）または（Ｖ）： 【化４】 （上記式中、Ｒ5 及びＲ6 は、各々独立に、低級アルキ
ル、低級アルコキシ、ジ−（低級アルキル）−アミノ、
ヒドロキシ、保護されたヒドロキシ、ヒドロキシメチル
もしくは保護されたヒドロキシメチルを表すか、または
Ｒ5 及びＲ6 は、一緒になって、下記式： 【化５】 で示される２価の基を表し；Ｒ7 は、水素、低級アルキ
ルまたは低級アルコキシを表し；Ｒ8 及びＲ9 は、各々
独立に、シクロアルキル、非置換もしくは置換フェニル
または五員複素芳香環を表すが、但し残基Ｒ8 及びＲ9
の少なくとも一方は、置換フェニル環または五員複素芳
香環を表し；Ｒ10は、好適には５，５’位の、ハロゲ
ン、ヒドロキシ、低級アルキル、アミノ、アセトアミ
ド、ニトロまたはスルホを表し；Ｒ11は、低級アルキ
ル、フェニルまたはベンジルを表し；Ｒ12は、低級アル
キルを表すか、または両方のＲ12は、一緒になって、ジ
もしくはトリメチレン基を表し；ｐは、ゼロまたは１、
２もしくは３の数を表し；そしてｑは、３、４または５
である）で示される光学活性アトロープ異性のジホスフ
ィン配位子を表す）で示される光学活性ルテニウム−ジ
ホスフィン錯体の存在下で、不斉水素化を実施する請求
項１記載の方法。 - 【請求項３】 式（III-ａ）： 【化６】 （式中、Ｘは、ＢＦ4 - またはＣＦ3 ＳＯ3 - を表し、
そしてＬは、（Ｓ）または（Ｒ）型の式（IV）： 【化７】 （式中、Ｒ5 及びＲ6 は、同一であり、かつメチルまた
はメトキシを表し；ｐは、ゼロであり；そしてＲ8 及び
Ｒ9 は、同一であり、かつ置換フェニルである）で示さ
れる光学活性アトロプ異性の配位子を意味する）で示さ
れる光学活性なジホスフィン錯体の存在下で、エナンチ
オ選択水素化する請求項１または２記載の方法。 - 【請求項４】 式（IV）の光学活性配位子のＲ8 及びＲ
9 が、同一の意味を有し、かつ式（VI- ａ）： 【化８】 （式中、Ｒ13及びＲ14は、各々独立に，低級アルキル、
低級アルコキシ、トリアルキルシリル、シクロアルキル
もしくはベンジルを表すか、または残基Ｒ13もしくはＲ
14の１つは、また水素を表し；そして、Ｒ15は、水素、
ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、トリアル
キルシリルまたはジ−（低級アルキル）−アミノを表
す）で示される残基である請求項１〜３のいずれか１項
記載の方法。 - 【請求項５】 Ｒ13及びＲ14が、同一であり、かつメチ
ル、メトキシ、イソプロピル、tert−ブチル、tert−ペ
ンチルまたはトリメチルシリルを表し；そしてＲ15は、
水素またはメトキシを表す請求項４記載の方法。 - 【請求項６】 式（II）の化合物のエナンチオ選択水素
化を、低級アルコールまたは低級アルコールのエーテル
もしくは水との混合物中で、０゜〜１００℃の温度で実
施する請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。 - 【請求項７】 式（Ｉ）（式中、Ｒ1 は、炭素原子数５
−１７の直鎖アルキル基を表し、Ｒ2 は、炭素原子数１
から７の直鎖アルキル基を表し、そしてＲ3は、水素を
表す）で示される化合物を製造するための、式（III
-ａ）の光学活性ルテニウム−ジホスフィン錯体の存在
下で、式（II）の化合物をエナンチオ選択水素化する請
求項１〜６のいずれか１項記載の方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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| CH2738/93-3 | 1993-09-13 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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| DE (1) | DE59401319D1 (ja) |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003509513A (ja) * | 1999-09-20 | 2003-03-11 | ザ ペン ステイト リサーチ ファンデーション | キラルホスフィン、その遷移金属錯体および不斉反応でのその使用 |
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| DE19532320A1 (de) * | 1995-09-01 | 1997-03-06 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von optisch aktiven ortho-substituierten 4-Aryl-Dihydropyridinen |
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| US6914140B1 (en) | 1996-04-17 | 2005-07-05 | Hoffmann-La Roche Inc. | Asymmetric synthesis process |
| US6222039B1 (en) | 1998-07-13 | 2001-04-24 | Hoffman-La Roche Inc. | Process for the preparation of chiral lactones |
| EP0974590A1 (en) * | 1998-07-13 | 2000-01-26 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Process for the preparation of chiral lactones by asymetrical hydrogenation |
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| ATE128140T1 (de) * | 1989-05-18 | 1995-10-15 | Hoffmann La Roche | Phosphorverbindungen. |
| CA2035972C (en) * | 1990-02-23 | 2006-07-11 | Martin Karpf | Process for the preparation of oxetanones |
| US5274143A (en) * | 1991-07-23 | 1993-12-28 | Hoffmann-La Roche Inc. | Process for the preparation of (R)-3-hexyl-5,6-dihydro-4-hydroxy-6-undecyl-2H-pyran-2-one and (R)-5,6-dihydro-6-undecyl-2H-pyran-2,4(3H)-dione |
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-
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- 1994-09-05 DE DE59401319T patent/DE59401319D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-09-05 AT AT94113871T patent/ATE146465T1/de active
- 1994-09-05 ES ES94113871T patent/ES2096388T3/es not_active Expired - Lifetime
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- 1994-09-05 EP EP94113871A patent/EP0643052B1/de not_active Expired - Lifetime
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- 1994-09-12 RU RU94033115A patent/RU2127267C1/ru active
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|---|---|---|---|---|
| JP2003509513A (ja) * | 1999-09-20 | 2003-03-11 | ザ ペン ステイト リサーチ ファンデーション | キラルホスフィン、その遷移金属錯体および不斉反応でのその使用 |
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