JPH07153766A - Method and apparatus for jointing ball-shaped bump - Google Patents

Method and apparatus for jointing ball-shaped bump

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JPH07153766A
JPH07153766A JP3776894A JP3776894A JPH07153766A JP H07153766 A JPH07153766 A JP H07153766A JP 3776894 A JP3776894 A JP 3776894A JP 3776894 A JP3776894 A JP 3776894A JP H07153766 A JPH07153766 A JP H07153766A
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ball
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balls
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joining
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雅史 今田
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宏平 巽
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洋司 川上
Hiroshi Hoshiba
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Abstract

PURPOSE:To join a ball-shaped bump to an electrode pad easily and surely, by using an array board, on which fine metallic balls are arrayed corresponding to the electrode pads, picking up a group of metallic balls necessary at least for a semiconductor chip from the array board, and carrying the metallic balls to a jointing stage. CONSTITUTION:An array board 12, on which a plurality of balls for chips are arrayed, is mounted on a substrate suction stage 11. Each ball is sucked and put in array through a suction through hole 13. After the substrate suction stage 11 is carried to a pick-up stage 3, the array board 12 is turned over and put on the pick-up stage 3. The array board 12 is carried by a pick-up nozzle 4 in X-Y directions so that the group of balls (B) necessary for a semiconductor chip is carried to a suction position. Then, the array board 12 is aligned and the arrayed balls (B) for the semiconductor chip are sucked by the pick-up nozzle 4. Then, the pick-up nozzle 4 sucking the balls for the semiconductor chip is carried to a jointing stage 6.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、フィルムキャリアのイ
ンナーリードまたは半導体チップの電極パッド等にボー
ル状のバンプを接合するためのボール状バンプの接合方
法及び接合装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a ball-shaped bump bonding method and bonding apparatus for bonding ball-shaped bumps to inner leads of a film carrier or electrode pads of a semiconductor chip.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、半導体チップ上の電極パッド
に形成されるバンプとして、ウエハバンプとスタッドバ
ンプとがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, there are a wafer bump and a stud bump as bumps formed on electrode pads on a semiconductor chip.

【0003】ウエハバンプは、ウエハ段階の半導体素子
においてバンプを形成するものであり、ウエハプロセス
として複雑な工程を何回も行う必要があるため、歩留り
が悪く、また、少量多品種製品にはコスト高となる。
A wafer bump is used to form a bump in a semiconductor device at the wafer stage, and since a complicated process must be performed many times as a wafer process, the yield is low, and the cost is high for a small quantity and a wide variety of products. Becomes

【0004】また、スタッドバンプは、半導体チップの
電極パッドに1つずつワイヤボンディングの一次接合時
のボールボンディングを行い、接合後にワイヤのネック
部を切断することにより、スタッドバンプを形成する
が、この切断部にワイヤの残りが凸形状でかつ不均一に
残る。このため、このバンプを用いた接合信頼性はかな
り低い。また、1ピンずつバンピングするために時間が
かかる。
The stud bumps are formed by ball-bonding the electrode pads of the semiconductor chip one at a time during the primary bonding of the wires and cutting the neck portion of the wires after the bonding. The rest of the wire remains convex and uneven at the cut portion. Therefore, the bonding reliability using this bump is considerably low. Also, it takes time to bump one pin at a time.

【0005】さらに、フィルムキャリアのインナーリー
ドにバンプを接合する方法として、基板にメッキ成長さ
せたバンプをインナーリードに接合する転写バンプがあ
るが、メッキ成長によるバンプは半球状のバンプなの
で、接合に必要なバンプ高さに対してバンプ幅が大きく
なってしまい、100μm以下の狭ピッチ接合には不適
である。
Further, as a method of bonding the bumps to the inner leads of the film carrier, there is a transfer bump in which the bumps plated and grown on the substrate are bonded to the inner leads. The bump width becomes larger than the required bump height, which is not suitable for narrow pitch bonding of 100 μm or less.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述のような従来のバ
ンプ接合における問題の対策として、微小金属ボールを
用い、このボールをインナーリードに転写するものが提
案されているが、インナーリードに対応させてボールを
配列させる際に、接合ステージに1つずつボールを配列
させているので、極めて時間がかかるという問題があっ
た。
As a measure against the above-mentioned problems in conventional bump bonding, it has been proposed to use a fine metal ball and transfer this ball to the inner lead. Since the balls are arranged one by one on the joining stage when arranging the balls by one, there is a problem that it takes a very long time.

【0007】そこで本発明は、フィルムキャリアのイン
ナーリードまたは半導体チップ上の電極パッド等にボー
ル状のバンプを簡単かつ確実に接合することができるボ
ール状バンプの接合方法及び接合装置を提供することを
目的とする。
Therefore, the present invention provides a bonding method and a bonding device for a ball-shaped bump, which can easily and reliably bond a ball-shaped bump to an inner lead of a film carrier or an electrode pad on a semiconductor chip. To aim.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によるボール状バンプの接合方法は、接続す
る半導体チップの電極パッドと同一位置となるように微
小金属ボールが配列されている配列基板から、半導体チ
ップの少なくとも1つ分の金属ボール群を一括でピック
アップし、これを接合用ステージまで搬送し、被接合部
に接合するようにしたものである。
In order to achieve the above object, in the ball-shaped bump bonding method according to the present invention, fine metal balls are arranged at the same positions as the electrode pads of the semiconductor chip to be connected. At least one metal ball group of a semiconductor chip is collectively picked up from an array substrate, conveyed to a joining stage, and joined to a joined portion.

【0009】また、本発明によるボール状バンプの接合
装置は、接続する半導体チップの電極パッドと同一位置
となるように配列孔が設けられた配列基板の前記配列孔
に微小金属ボールを配列させるボール配列手段と、前記
微小金属ボールが配列された配列基板を、ピックアップ
ステージに搬送する基板搬送手段と、前記ピックアップ
ステージに搬送された配列基板から半導体チップの少な
くとも1つ分の金属ボール群を一括でピックアップする
ピックアップノズルを有するピックアップ手段と、前記
金属ボール群を一括でピックアップした前記ピックアッ
プノズルを、前記接合用ステージまで搬送するノズル搬
送手段と、前記ピックアップノズルにより前記接合用ス
テージまで搬送された前記金属ボール群を被接合部に接
合する接合手段と、を備えたものである。
Also, the ball-shaped bump bonding apparatus according to the present invention is a ball for arranging fine metal balls in the array holes of the array substrate in which the array holes are provided at the same positions as the electrode pads of the semiconductor chip to be connected. Arrangement means, board conveying means for conveying the arrangement substrate on which the fine metal balls are arranged to the pickup stage, and a group of metal balls for at least one semiconductor chip collectively from the arrangement substrate conveyed to the pickup stage. Pickup means having a pickup nozzle for picking up, nozzle transfer means for transferring the pickup nozzle that collectively picks up the metal ball group to the joining stage, and the metal carried by the pickup nozzle to the joining stage A joining means for joining the ball group to the joined portion, It is those with a.

【0010】[0010]

【作用】上記のように構成された本発明によれば、バン
プとして微小金属ボールを用いるため、基板メッキによ
り形成するバンプに比べて、バンプ幅(径)を小さくす
ることが可能で、狭ピッチ接合が容易になる。そして、
配列基板から半導体チップの少なくとも1つ分の金属ボ
ール群を一括でピックアップするので、フィルムキャリ
アのインナーリードまたは半導体チップ上の電極パッド
に金属ボールを一括で確実に接合することができ、量産
化タクトタイムが大幅に短縮され、コストが抑えられ
る。
According to the present invention constructed as described above, since the fine metal balls are used as the bumps, the bump width (diameter) can be made smaller than that of the bumps formed by the substrate plating, and the narrow pitch can be achieved. Joining becomes easy. And
Since at least one metal ball group of the semiconductor chips is picked up from the array substrate at a time, the metal balls can be surely bonded to the inner leads of the film carrier or the electrode pads on the semiconductor chip at one time. Significantly reduced time and cost.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0012】まず、図1に示すように、この装置は、主
要構成として、ボール配列機構1と、基板搬送機構2
と、ピックアップステージ3と、ピックアップノズル4
と、ノズル搬送機構5と、接合用ステージ6とを備えて
いる。なお、この装置は、インナーリードボンダ等の接
合機構を有する装置に微小金属ボールを配列・接合する
機能を付加させることによって構成することができる。
First, as shown in FIG. 1, this apparatus has a ball arranging mechanism 1 and a substrate transfer mechanism 2 as main components.
, Pickup stage 3, pickup nozzle 4
And a nozzle transport mechanism 5 and a joining stage 6. This device can be constructed by adding a function of arranging and bonding the fine metal balls to a device having a bonding mechanism such as an inner lead bonder.

【0013】次に、ボール配列機構1においては、図2
に示すように、吸着機能を有する基板吸着ステージ11
に、図3に示す複数チップのボール配列が可能な配列基
板12を装着する。そして、図4に示すように、配列基
板12に形成されている貫通吸着孔13に1つずつボー
ルBを吸着・配列させる。ボールBは凹部14内に1つ
ずつ配列される。また、基板吸着ステージ11の吸引孔
15は配列基板12の吸着孔13よりも大径であり、こ
れにより配列基板12が基板吸着ステージ11に保持さ
れる。
Next, in the ball arranging mechanism 1, FIG.
As shown in FIG.
Then, the array substrate 12 capable of arranging balls of a plurality of chips shown in FIG. 3 is mounted. Then, as shown in FIG. 4, the balls B are sucked and arranged one by one in the through suction holes 13 formed in the array substrate 12. The balls B are arranged in the recess 14 one by one. Further, the suction holes 15 of the substrate suction stage 11 have a larger diameter than the suction holes 13 of the array substrate 12, so that the array substrate 12 is held by the substrate suction stage 11.

【0014】図5に示すように、ボールBの配列は、時
間短縮のため、ボールストック皿16に対して配列基板
12を下降・上昇させることにより一括で行う。なお図
5においては、配列基板12を保持する基板吸着ステー
ジ11の図示は省略されている。次に、真空吸着された
ボールB以外の余剰ボールB′を板状部材17等により
機械的に除去し、回収する。このとき、吸着孔13に正
常に配列されたボールBは凹部14内にあるので、この
ボールBが除去されることはない。
As shown in FIG. 5, the balls B are arrayed in a lump by lowering and raising the array substrate 12 with respect to the ball stock tray 16 in order to shorten the time. Note that, in FIG. 5, the substrate suction stage 11 that holds the array substrate 12 is not shown. Next, the excess balls B ′ other than the vacuum-adsorbed balls B are mechanically removed by the plate member 17 or the like and collected. At this time, since the balls B normally arranged in the suction holes 13 are in the recesses 14, the balls B are not removed.

【0015】次に、図1の基板搬送機構2により、配列
基板12を吸着している基板吸着ステージ11(図示せ
ず)をピックアップステージ3まで搬送する。この搬送
時には、振動等によりボールBが欠落することがないよ
うにする。既にピックアップを終了した配列基板12は
ボール配列機構1まで戻す。尚、基板吸着ステージ11
は、2組設けてもよい。
Next, the substrate transfer mechanism 2 shown in FIG. 1 transfers the substrate suction stage 11 (not shown) that holds the array substrate 12 to the pickup stage 3. At the time of this conveyance, the ball B is prevented from being dropped due to vibration or the like. The array substrate 12 that has already been picked up is returned to the ball array mechanism 1. The substrate suction stage 11
May be provided in two sets.

【0016】次に、図6に示すように、配列基板12を
反転させてピックアップステージ3上に載置する。この
とき、ピックアップステージ3に対する配列基板12の
ズレ量は、ピックアップ時の位置補正が可能な範囲にあ
るようにする。そして、ピックアップノズル4により半
導体チップ1個分が配列されたボールBを吸着する位置
(ピックアップ位置)まで、配列基板12をXY移動す
る。そして、ボール配列認識手段7によって、ピックア
ップ前に配列基板12に吸着されたボールBの有無、余
剰ボールB′の有無を1チップ単位で認識する。このと
き、ボール1個分でも不良を認識した場合は次の1チッ
プ分に移動する。
Next, as shown in FIG. 6, the array substrate 12 is inverted and placed on the pickup stage 3. At this time, the amount of displacement of the array substrate 12 with respect to the pickup stage 3 is set within a range in which position correction during pickup can be performed. Then, the array substrate 12 is moved XY by the pick-up nozzle 4 to a position (pick-up position) where the balls B on which one semiconductor chip is arranged are attracted. Then, the ball array recognition means 7 recognizes the presence / absence of the balls B adsorbed on the array substrate 12 and the presence / absence of the surplus balls B ′ before picking up on a chip basis. At this time, if a defect is recognized even for one ball, the process moves to the next one chip.

【0017】次に、配列基板12をXYθでアライメン
トし、配列された半導体チップ1個分のボールBをピッ
クアップノズル4で吸着する。図7に示すように、この
ピックアップノズル4の表面には吸着孔41を配列した
基板42が装着され、吸引孔43により吸引される。こ
のピックアップ時には、図2に示す基板吸着ステージ1
1側の真空ポンプ18の調整弁19と、図7に示すピッ
クアップノズル4側の吸着用ポンプ44の調整弁45と
によって、配列基板12とピックアップノズル4との真
空吸着の切り替えを行えるようにしてもよい。
Next, the array substrate 12 is aligned by XYθ, and the ball B for one arrayed semiconductor chip is adsorbed by the pickup nozzle 4. As shown in FIG. 7, a substrate 42 in which suction holes 41 are arranged is mounted on the surface of the pickup nozzle 4, and suction is performed by the suction holes 43. At the time of this pickup, the substrate suction stage 1 shown in FIG.
By using the adjusting valve 19 of the vacuum pump 18 on the first side and the adjusting valve 45 of the suction pump 44 on the pickup nozzle 4 side shown in FIG. 7, the vacuum suction between the array substrate 12 and the pickup nozzle 4 can be switched. Good.

【0018】次に、図1のノズル搬送機構5により、ボ
ールを吸着したピックアップノズル4を接合用ステージ
6まで搬送する。この搬送時には振動等によりボールが
欠落することがないようにする。
Next, the pick-up nozzle 4 which has sucked the ball is carried to the joining stage 6 by the nozzle carrying mechanism 5 shown in FIG. During this transportation, the balls should not drop out due to vibration or the like.

【0019】図8に示すように、ピックアップノズル4
を接合用ステージ6まで搬送する際、ボール認識手段8
によってボールBの有無を確認する。また、図9に示す
ように、接合用ステージ6の表面には吸着孔61を配列
した基板62が装着され、吸引孔63により吸引され
る。なお、接合用ステージ6の面積は半導体チップと同
等にする。
As shown in FIG. 8, the pickup nozzle 4
When conveying the wafer to the joining stage 6, the ball recognition means 8
Check for the presence of ball B by. Further, as shown in FIG. 9, a substrate 62 in which suction holes 61 are arranged is mounted on the surface of the bonding stage 6, and suction is performed by the suction holes 63. The bonding stage 6 has the same area as that of the semiconductor chip.

【0020】次に、接合用ステージ6の吸着孔61と搬
送されたノズル4のボールBとのアライメント(ピック
アップノズル4に対して、ステージ6をXYθ補正)を
行う。そして、ピックアップノズル4を下降させて、接
合用ステージ6上の吸着孔61にボールBを載せ替え
る。これは、図7に示すピックアップノズル4側の吸着
用ポンプ44の調整弁45と、図9に示す接合用ステー
ジ6側の吸着用ポンプ64の調整弁65との真空吸着の
切り替えによって行う。これにより、ボールBが接合用
ステージ6に吸着される。
Next, the suction holes 61 of the joining stage 6 and the conveyed balls B of the nozzles 4 are aligned (XY stage of the pickup nozzle 4 is corrected by XYθ). Then, the pickup nozzle 4 is lowered and the ball B is replaced in the suction hole 61 on the joining stage 6. This is performed by switching vacuum suction between the adjustment valve 45 of the suction pump 44 on the pickup nozzle 4 side shown in FIG. 7 and the adjustment valve 65 of the suction pump 64 on the joining stage 6 side shown in FIG. As a result, the ball B is attracted to the joining stage 6.

【0021】そして、接合用ステージ6上に吸着配列さ
れたボールBをボール認識手段9により全数認識する。
なお、この認識はなくてもよく、インナーリードボンダ
の認識機能を利用してもよい。ボール欠落等による不良
が認識されたときは、機械的にボールBを除去し、再度
吸着させる。
Then, all the balls B attracted and arranged on the joining stage 6 are recognized by the ball recognition means 9.
It should be noted that this recognition may be omitted, and the recognition function of the inner lead bonder may be used. When a defect such as a missing ball is recognized, the ball B is mechanically removed and re-adsorbed.

【0022】最後に、接合ステージ6上に配列されたボ
ールBと、フィルムキャリアのインナーリード70とを
アライメント後、ボールBをインナーリード70に接合
(転写)する。この接合はインナーリードボンダ装置本
体の機能を用いて行うことができる。
Finally, after aligning the balls B arranged on the joining stage 6 with the inner leads 70 of the film carrier, the balls B are joined (transferred) to the inner leads 70. This joining can be performed using the function of the inner lead bonder device main body.

【0023】次に、半導体チップの電極パッドにボール
を接合する場合は、図10に示すように、接合用ステー
ジ6上に半導体チップ80を載置する。そして、ピック
アップノズル4を下降させてボールBを半導体チップ8
0の電極パッドに接触させ、加熱ツール81によりピッ
クアップノズル4を押圧して、ボールBを電極パッドに
接合する。なお、この接合時にヒーター付きノズル82
を用いてもよい。
Next, when the balls are bonded to the electrode pads of the semiconductor chip, the semiconductor chip 80 is placed on the bonding stage 6 as shown in FIG. Then, the pickup nozzle 4 is lowered to move the ball B to the semiconductor chip 8
Then, the heating tool 81 presses the pickup nozzle 4 to bond the ball B to the electrode pad. In addition, at the time of this joining, the nozzle with heater 82
May be used.

【0024】次に、本発明の他の実施例を説明する。こ
の実施例は、特に吸引系統を2系統で構成し、適正な吸
引機能を発揮するようにしたものである。
Next, another embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, in particular, the suction system is composed of two systems so as to exhibit an appropriate suction function.

【0025】ところで、前述したように、配列基板12
の吸着孔13は、高精度に配列する必要があるため専用
の基板とし、また配列基板12に対する吸引機能は、基
板吸着ステージ11に備わるようにして、2つの部材に
より構成されている。この場合、配列基板12に対する
吸着を、ボールBに対する吸引力を利用して行うように
なっているが、このためその吸引力をボールBの吸着を
基準にして設定すると、配列基板12に対する吸引力が
弱まるので、配列基板12がずれてしまう場合がある。
一方、吸引力を強く設定すると、吸着孔13を介して外
気からのリークが生じ、余分なボールBを吸引・付着す
るという危険がある。
By the way, as described above, the array substrate 12
Since the suction holes 13 of 1 are required to be arrayed with high precision, they are used as dedicated substrates, and the suction function for the array substrate 12 is provided by the substrate suction stage 11 and is configured by two members. In this case, the suction on the array substrate 12 is performed by using the suction force on the balls B. Therefore, if the suction force is set based on the suction of the balls B, the suction force on the array substrate 12 is set. Is weakened, the array substrate 12 may be displaced.
On the other hand, if the suction force is set to be strong, there is a risk that leakage from the outside air will occur via the suction holes 13 and the extra balls B will be sucked and attached.

【0026】図11及び図12は、この実施例における
配列基板112及び基板吸着ステージ111の構成例を
それぞれ示している。配列基板112は、4個分の半導
体チップに対するボール配列が可能になっている。基板
吸着ステージ111は、4個分の半導体チップに対応す
る格子状(例えば「田」の字状)に形成された吸引溝1
20を有し、この吸引溝120は、図13(A)に示し
たように吸引管121を介して真空ポンプ等の真空源と
接続されている。また基板吸着ステージ111には、4
つの吸引孔115が形成されていて、各吸引孔115
は、吸引管122を介して真空ポンプ等の真空源と接続
されている(図13(B)参照)。
11 and 12 show examples of the arrangement of the array substrate 112 and the substrate suction stage 111 in this embodiment, respectively. The array substrate 112 is capable of ball array for four semiconductor chips. The substrate suction stage 111 is a suction groove 1 formed in a lattice shape (for example, a “T” shape) corresponding to four semiconductor chips.
20, the suction groove 120 is connected to a vacuum source such as a vacuum pump via a suction pipe 121 as shown in FIG. In addition, the substrate suction stage 111 has 4
One suction hole 115 is formed, and each suction hole 115 is formed.
Is connected to a vacuum source such as a vacuum pump via a suction pipe 122 (see FIG. 13B).

【0027】そして、配列基板112は、図14に示し
たように基板吸着ステージ111と整合するように重合
され、吸引孔115を介して吸着・固定される。かかる
配列基板112の各吸着孔113にて、その凹部114
内にボールBを吸着・配列させる。このように配列基板
112を固定するための吸引系とボールBを吸着するた
めの吸引系とが2つの別系統で構成される。この場合、
特にボールBを吸着するための吸引系において、図13
(A)に示したように、吸引管121に真空圧制御用の
レギュレータ123が付設され、配列基板112の吸着
孔113にてボールBを吸着する際の吸引力の強弱を調
整し得るようになっている。
Then, the array substrate 112 is superposed so as to be aligned with the substrate suction stage 111 as shown in FIG. 14, and is sucked and fixed through the suction holes 115. The recess 114 is formed in each suction hole 113 of the array substrate 112.
The balls B are attracted and arranged inside. In this way, the suction system for fixing the array substrate 112 and the suction system for sucking the balls B are composed of two separate systems. in this case,
Particularly in the suction system for sucking the ball B, FIG.
As shown in (A), a suction pipe 121 is provided with a regulator 123 for controlling a vacuum pressure, so that the strength of the suction force when sucking the ball B in the suction holes 113 of the array substrate 112 can be adjusted. Has become.

【0028】尚ここで、図15及び図16は、半導体チ
ップ1個分に対応する基板吸着ステージ111′及び配
列基板112′の構成例を示している。図15に示され
るように基板吸着ステージ111′は、その周辺に沿っ
た吸引溝120′を有し、この吸引溝120′は、図1
6(B)に示したように吸引管121′を介して真空ポ
ンプ等の真空源と接続されている。また基板吸着ステー
ジ111′の中央部には、吸引孔115′が形成されて
いて、この吸引孔115′は、吸引管122′を介して
真空ポンプ等の真空源と接続されている(図16(A)
参照)。このように半導体チップ1個分のボールBを配
列可能な配列基板112′の場合においても、吸引系統
が2系統で構成される。
Here, FIGS. 15 and 16 show examples of the structure of the substrate suction stage 111 'and the array substrate 112' corresponding to one semiconductor chip. As shown in FIG. 15, the substrate suction stage 111 'has a suction groove 120' along its periphery, and this suction groove 120 'is shown in FIG.
As shown in FIG. 6 (B), it is connected to a vacuum source such as a vacuum pump via a suction pipe 121 '. A suction hole 115 'is formed in the center of the substrate suction stage 111', and this suction hole 115 'is connected to a vacuum source such as a vacuum pump via a suction pipe 122' (FIG. 16). (A)
reference). Even in the case of the array substrate 112 'in which the balls B for one semiconductor chip can be arrayed in this way, the suction system is composed of two systems.

【0029】この半導体チップ1個分に対応する配列基
板112′の場合においても、図16(A)に示したよ
うに吸引管121′に真空圧制御用のレギュレータ12
3′が付設されるが、この例の場合の配列基板112′
では、孔径30μmの吸着孔が328個(各辺毎に82
個)程度形成されている場合、ボールBを吸着するため
の真空圧は、50〜60mmHg程度が好適である。
Also in the case of the array substrate 112 'corresponding to one semiconductor chip, the suction tube 121' is provided with the regulator 12 for controlling the vacuum pressure as shown in FIG. 16 (A).
3'is attached, but the array substrate 112 'in the case of this example
Then, there are 328 suction holes with a diameter of 30 μm (82 per side).
In the case where the balls B are formed, the vacuum pressure for adsorbing the balls B is preferably about 50 to 60 mmHg.

【0030】次に、上述の2系統の吸引系統で成る基板
吸着ステージ111及び配列基板112等を用いた場合
の具体的な接合工程における本実施例の作用を説明す
る。
Next, the operation of this embodiment in a specific bonding process when the substrate suction stage 111 and the array substrate 112, which are composed of the above-described two suction systems, are used will be described.

【0031】ボール配列機構1において、図17に示す
ように、吸着機能を有する基板吸着ステージ111に、
4個分の半導体チップのボール配列が可能な配列基板1
12を装着する(図14参照)。また、ボールストック
皿16に振動が与えられている。即ち、このボールスト
ック皿16にボールBを入れて、パーツフィーダー等の
振動発生機124により振動させる。これによりボール
Bは効果的に浮遊する。この時の振動周波数は、ボール
Bの大きさ等に応じて0〜1kHzまで可変とし、好適
には300〜400Hzである。また、ボールストック
皿16は振動発生機124からの脱着が可能とする。
In the ball arranging mechanism 1, as shown in FIG. 17, a substrate suction stage 111 having a suction function,
An array substrate 1 capable of ball array of four semiconductor chips
12 is mounted (see FIG. 14). Further, the ball stock tray 16 is vibrated. That is, the ball B is put into the ball stock tray 16 and vibrated by the vibration generator 124 such as a parts feeder. As a result, the ball B floats effectively. The vibration frequency at this time is variable from 0 to 1 kHz according to the size of the ball B and the like, and is preferably 300 to 400 Hz. Further, the ball stock tray 16 can be attached to and detached from the vibration generator 124.

【0032】そして、配列基板112を、図17にて矢
印により示されるようにボールストック皿16の近傍ま
で下降させ、上下に振幅させながらボールBを配列基板
112の吸着孔113に真空吸着させる。この吸着孔1
13においてボールBを吸着するための吸引力は、レギ
ュレータ123(図13参照)によって最適に設定され
ており、各吸着孔113に余分なボールBが付着し得な
いようにすることができる。
Then, the array substrate 112 is lowered to the vicinity of the ball stock tray 16 as indicated by an arrow in FIG. 17, and the balls B are vacuum-sucked in the suction holes 113 of the array substrate 112 while swinging vertically. This adsorption hole 1
The suction force for sucking the ball B in 13 is optimally set by the regulator 123 (see FIG. 13), and it is possible to prevent the excessive ball B from adhering to each suction hole 113.

【0033】配列基板112を、図17にて矢印により
示されるように上昇させ、次に制御装置(超音波発振
器)125により超音波振動子126を作動させると、
配列基板112に対して超音波振動が付与される。これ
により配列基板112に付着した余分なボールB′は、
すべて瞬間的に配列基板112から離脱し落下する。な
お、超音波振動子126を作動させるタイミングは、ボ
ールBの吸着と同時に配列基板112を超音波振動させ
るように設定してもよい。
When the array substrate 112 is raised as shown by the arrow in FIG. 17, and then the ultrasonic transducer 126 is operated by the controller (ultrasonic oscillator) 125,
Ultrasonic vibration is applied to the array substrate 112. As a result, the extra balls B ′ attached to the array substrate 112 are
All are instantaneously separated from the array substrate 112 and fall. The timing of operating the ultrasonic oscillator 126 may be set so that the array substrate 112 is ultrasonically vibrated at the same time as the ball B is attracted.

【0034】次に、図1の基板搬送機構2により、配列
基板112を吸着している基板吸着ステージ111(図
示せず)をピックアップステージ3まで搬送する。この
搬送時には、振動等によりボールBが欠落することがな
いようにする。既にピックアップを終了した配列基板1
12はボール配列機構1まで戻す。尚、基板吸着ステー
ジ111は、2組設けてもよい。そしてボール配列認識
手段7によって、ピックアップ前に配列基板112に吸
着されたボールBの有無、余剰ボールB′の有無を1チ
ップ単位で認識する。このとき、ボール1個分でも不良
を認識した場合は次の1チップ分に移動する。
Next, the substrate transfer mechanism 2 shown in FIG. 1 transfers the substrate suction stage 111 (not shown) that holds the array substrate 112 to the pickup stage 3. At the time of this conveyance, the ball B is prevented from being dropped due to vibration or the like. Array board 1 that has already been picked up
12 returns to the ball arranging mechanism 1. Two sets of the substrate suction stage 111 may be provided. Then, the ball array recognition means 7 recognizes the presence / absence of the balls B adsorbed on the array substrate 112 and the presence / absence of the surplus balls B ′ before picking up, on a chip-by-chip basis. At this time, if a defect is recognized even for one ball, the process moves to the next one chip.

【0035】図18に示すように、配列基板112を反
転させてピックアップステージ3上に載置する。そし
て、ピックアップノズル104により半導体チップ1個
分が配列されたボールBを吸着する位置(ピックアップ
位置)まで、配列基板112をXY移動する。配列基板
112をXYθでアライメントし、配列された半導体チ
ップ1個分のボールBをピックアップノズル104で吸
着する。
As shown in FIG. 18, the array substrate 112 is inverted and placed on the pickup stage 3. Then, the array substrate 112 is moved XY by the pickup nozzle 104 to a position (pickup position) where the balls B on which one semiconductor chip is arrayed are attracted. The array substrate 112 is aligned by XYθ, and the ball B for one arrayed semiconductor chip is adsorbed by the pickup nozzle 104.

【0036】ここで、ピックアップノズル104におい
て、図19に示すように、表面には吸着孔141を配列
した基板142が装着され、その吸引孔143により吸
着孔141にてボールBを吸着するようになっている。
吸引孔143は、レギュレータ145を介して真空ポン
プ144と接続されている。かかるボールBを吸着する
ための吸引系とは別に、基板142を固定するための図
示されていない吸引系を備えており、つまり、このピッ
クアップノズル104は、基板142を固定するための
吸引系とボールBを吸着するための吸引系の2つの吸引
系統を有している。なお、このピックアップノズル10
4は、必要に応じて適宜選択的に用いるようにしてもよ
い。即ち、ピックアップノズル104の代わりに、前述
したピックアップノズル4を用いることができる。
Here, in the pick-up nozzle 104, as shown in FIG. 19, a substrate 142 having suction holes 141 arranged on the surface is mounted, and the suction holes 143 suck the balls B through the suction holes 141. Has become.
The suction hole 143 is connected to the vacuum pump 144 via the regulator 145. In addition to the suction system for sucking the balls B, a suction system (not shown) for fixing the substrate 142 is provided, that is, the pickup nozzle 104 serves as a suction system for fixing the substrate 142. It has two suction systems for sucking the ball B. The pickup nozzle 10
4 may be selectively used as needed. That is, instead of the pickup nozzle 104, the pickup nozzle 4 described above can be used.

【0037】次に、図1のノズル搬送機構5により、ボ
ールBを吸着したピックアップノズル104を接合用ス
テージ6まで搬送する(図20)。この搬送時には振動
等によりボールが欠落することがないようにする。特
に、半導体チップの電極パッドにボールBを接合する場
合は、図20に示すように、接合用ステージ6上に半導
体チップ80を載置する。そして、ピックアップノズル
104を接合用ステージ6に対してアライメントした
後、下降させてボールBを半導体チップ80の電極パッ
ドに接触させてピックアップノズル104を押圧して、
ボールBを電極パッドに接合する。なお、この接合時に
ヒーター付きノズルを用いてもよい。
Next, the pick-up nozzle 104 which has attracted the ball B is carried to the joining stage 6 by the nozzle carrying mechanism 5 of FIG. 1 (FIG. 20). During this transportation, the balls should not drop out due to vibration or the like. In particular, when the ball B is bonded to the electrode pad of the semiconductor chip, the semiconductor chip 80 is placed on the bonding stage 6 as shown in FIG. Then, after the pickup nozzle 104 is aligned with the joining stage 6, it is lowered to bring the ball B into contact with the electrode pad of the semiconductor chip 80 to press the pickup nozzle 104,
The ball B is bonded to the electrode pad. A nozzle with a heater may be used during this joining.

【0038】ところで、上述した実施例において、例え
ば、ボールBを吸着している配列基板12から、そのボ
ールBをピックアップする際、図7に示したピックアッ
プノズル4の代わりに、ピックアップノズル104を用
いることができる。この場合においても、2つの吸引系
統を有するピックアップノズル104を用いることによ
り、配列基板12からボールBをピックアップする際に
余分なボールB′が付着しないようにすることができ
る。
By the way, in the above-mentioned embodiment, for example, when picking up the ball B from the array substrate 12 which attracts the ball B, the pickup nozzle 104 is used instead of the pickup nozzle 4 shown in FIG. be able to. Even in this case, by using the pickup nozzle 104 having two suction systems, it is possible to prevent extra balls B ′ from adhering when the balls B are picked up from the array substrate 12.

【0039】以上、本発明の実施例に付き説明したが、
本発明は上記実施例に限定されることなく、本発明の技
術的思想に基づいて各種の有効な変更並びに応用が可能
である。特にフィルムキャリアのインナーリード70ま
たは半導体チップ80の電極パッドにボールBを接合す
る場合を説明したが、プリント回路基板の電極パッドに
接合する場合においても有効に適用することができる。
また、バンプを構成するボールBの例を説明したが、導
電性ゴム材料で成る微小球を用いて、この種の接合を行
う場合においても、本発明を有効に適用することができ
る。
The embodiments of the present invention have been described above.
The present invention is not limited to the above embodiments, and various effective modifications and applications are possible based on the technical idea of the present invention. In particular, the case where the ball B is bonded to the inner lead 70 of the film carrier or the electrode pad of the semiconductor chip 80 has been described, but the invention can be effectively applied to the case of bonding to the electrode pad of the printed circuit board.
Further, although the example of the ball B forming the bump has been described, the present invention can be effectively applied to the case of performing this type of bonding using a microsphere made of a conductive rubber material.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
バンプとして微小金属ボールを用いるため、基板メッキ
により形成するバンプに比べて、バンプ幅(径)を小さ
くすることが可能で、狭ピッチ接合が容易になる。そし
て、配列基板から半導体チップ1つ分の金属ボール群を
一括でピックアップするので、フィルムキャリアのイン
ナーリードまたは半導体チップ上の電極パッドに金属ボ
ールを一括で確実に接合することができ、量産化タクト
タイムが大幅に短縮され、コストが抑えられる。これに
よって、ボールバンプ付きフィルムキャリアの量産が可
能となり、また、半導体チップの電極パッドへのバンプ
付けが容易かつ低コストに可能となる。
As described above, according to the present invention,
Since the minute metal balls are used as the bumps, the bump width (diameter) can be made smaller than that of the bumps formed by substrate plating, and the narrow pitch bonding becomes easy. Since the metal balls for one semiconductor chip are collectively picked up from the array substrate, the metal balls can be surely bonded to the inner leads of the film carrier or the electrode pads on the semiconductor chip all at once. Significantly reduced time and cost. As a result, the film carrier with ball bumps can be mass-produced, and the bumps can be easily attached to the electrode pads of the semiconductor chip at low cost.

【0041】更に配列基板にて金属ボールを吸着する際
に、その吸引系統を2系統で構成することにより、適正
な吸引機能を発揮させ、また配列基板に超音波振動を付
与することにより該配列基板に余分な金属が付着するの
を完全に防止することができる等の利点を有している。
Further, when the metal balls are attracted to the array substrate, the suction system is constituted by two systems so that an appropriate suction function is exerted, and the array substrate is subjected to ultrasonic vibration to provide the array. It has advantages such as being able to completely prevent extra metal from adhering to the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例における装置全体の構成を示す
概略平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view showing the configuration of the entire apparatus in an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例における基板吸着ステージ及び
配列基板を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a substrate suction stage and an array substrate in an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例における配列基板を示す平面図
である。
FIG. 3 is a plan view showing an array substrate in an example of the present invention.

【図4】本発明の実施例における基板吸着ステージ及び
配列基板の要部を示す拡大断面図である。
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing a main part of a substrate suction stage and an array substrate in an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施例におけるボール配列機構による
ボール配列動作を示す概略図である。
FIG. 5 is a schematic view showing a ball arranging operation by the ball arranging mechanism in the embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施例におけるピックアップノズルに
よるボールの一括ピックアップ動作を示す概略図であ
る。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a collective pickup operation of balls by a pickup nozzle in the embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施例におけるピックアップノズルを
示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a pickup nozzle according to an embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施例におけるフィルムキャリアのリ
ードへのボール接合を示す概略図である。
FIG. 8 is a schematic diagram showing ball bonding to leads of a film carrier in an example of the present invention.

【図9】本発明の実施例における接合用ステージを示す
断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a joining stage in an example of the present invention.

【図10】本発明の実施例における半導体チップの電極
パッドへのボール接合を示す概略図である。
FIG. 10 is a schematic diagram showing ball bonding to an electrode pad of a semiconductor chip in an example of the present invention.

【図11】本発明の別の実施例における半導体チップ複
数個分のボールを吸着可能な配列基板の構成例を示す平
面図である。
FIG. 11 is a plan view showing a configuration example of an array substrate capable of attracting balls for a plurality of semiconductor chips according to another embodiment of the present invention.

【図12】本発明の別の実施例における上記配列基板に
対応する基板吸着ステージの構成例を示す平面図であ
る。
FIG. 12 is a plan view showing a configuration example of a substrate suction stage corresponding to the array substrate in another embodiment of the present invention.

【図13】(A)は図12のK−K線に沿う断面図、
(B)は図12のL−L線に沿う断面図である。
13A is a sectional view taken along line KK of FIG.
FIG. 13B is a sectional view taken along the line LL in FIG.

【図14】上記半導体チップ複数個分のボールを吸着可
能な配列基板及びその基板吸着ステージの断面図であ
る。
FIG. 14 is a cross-sectional view of an array substrate capable of attracting balls for the plurality of semiconductor chips and a substrate suction stage thereof.

【図15】本発明の別の実施例における半導体チップ1
個分のボールを吸着可能な配列基板の構成例を示す平面
図である。
FIG. 15 is a semiconductor chip 1 according to another embodiment of the present invention.
It is a top view showing an example of composition of an array substrate which can adsorb the balls for an individual piece.

【図16】(A)は図15のK′−K′線に沿う断面
図、(B)は図15のL′−L′線に沿う断面図であ
る。
16A is a sectional view taken along line K′-K ′ of FIG. 15, and FIG. 16B is a sectional view taken along line L′-L ′ of FIG. 15.

【図17】本発明の別の実施例におけるボール配列機構
によるボール配列動作を示す概略図である。
FIG. 17 is a schematic view showing ball arranging operation by the ball arranging mechanism in another embodiment of the present invention.

【図18】本発明の別の実施例における配列基板のピッ
クアップステージへの移送工程を示す概略図である。
FIG. 18 is a schematic view showing a step of transferring an array substrate to a pickup stage according to another embodiment of the present invention.

【図19】本発明の別の実施例におけるピックアップノ
ズルを示す断面図である。
FIG. 19 is a sectional view showing a pickup nozzle according to another embodiment of the present invention.

【図20】本発明の別の実施例における半導体チップの
電極パッドへのボール接合を示す概略図である。
FIG. 20 is a schematic view showing ball bonding to an electrode pad of a semiconductor chip according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ボール配列機構 11,111 基板吸着ステージ 12,112 配列基板 13,113 貫通吸着孔 14,114 凹部 16 ボールストック皿 2 基板搬送機構 3 ピックアップステージ 4,104 ピックアップノズル 41,141 吸着孔 5 ノズル搬送機構 6 接合用ステージ 61 吸着孔 7 ボール配列認識手段 8 ボール認識手段 9 ボール認識手段 70 フィルムキャリアのリード 80 半導体チップ 81 加熱ツール 82 ヒーター付きノズル B ボール 1 Ball Arrangement Mechanism 11,111 Substrate Adsorption Stage 12,112 Arranged Substrate 13,113 Through Adsorption Hole 14,114 Recess 16 Ball Stock Dish 2 Substrate Transfer Mechanism 3 Pickup Stage 4,104 Pickup Nozzle 41,141 Adsorption Hole 5 Nozzle Transfer Mechanism 6 Bonding Stage 61 Adsorption Holes 7 Ball Array Recognition Means 8 Ball Recognition Means 9 Ball Recognition Means 70 Film Carrier Leads 80 Semiconductor Chips 81 Heating Tools 82 Heater Nozzles B Balls

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 干場 日朗志 川崎市中原区井田1618番地 新日本製鐵株 式会社先端技術研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hiroshi Hiba 1618 Ida, Nakahara-ku, Kawasaki City Nippon Steel Corp. Advanced Technology Research Laboratories

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 接続する半導体チップの電極パッドと同
一位置となるように微小金属ボールが配列されている配
列基板から、半導体チップの少なくとも1つ分の金属ボ
ール群を一括でピックアップし、これを接合用ステージ
まで搬送し、被接合部に接合するようにしたことを特徴
とするボール状バンプの接合方法。
1. A metal ball group for at least one semiconductor chip is collectively picked up from an array substrate in which fine metal balls are arranged so as to be at the same position as an electrode pad of a semiconductor chip to be connected, and this is picked up. A method of joining ball-shaped bumps, which is characterized in that the bumps are conveyed to a joining stage and joined to a joined portion.
【請求項2】 前記一括でピックアップした金属ボール
群を、前記接合用ステージ上に配列し、この金属ボール
群をフィルムキャリアのインナーリードに接合すること
を特徴とする請求項1記載のボール状バンプの接合方
法。
2. The ball-shaped bump according to claim 1, wherein the group of metal balls picked up at one time is arranged on the joining stage, and the group of metal balls is joined to an inner lead of a film carrier. How to join.
【請求項3】 前記一括でピックアップした金属ボール
群を、前記接合用ステージ上に載置された半導体チップ
の電極パッドに接合することを特徴とする請求項1記載
のボール状バンプの接合方法。
3. The method of bonding ball-shaped bumps according to claim 1, wherein the group of metal balls picked up at a time is bonded to the electrode pads of the semiconductor chip mounted on the bonding stage.
【請求項4】 接続する半導体チップの電極パッドと同
一位置となるように配列孔が設けられた配列基板の前記
配列孔に微小金属ボールを配列させるボール配列手段
と、 前記微小金属ボールが配列された配列基板を、ピックア
ップステージに搬送する基板搬送手段と、 前記ピックアップステージに搬送された配列基板から半
導体チップの少なくとも1つ分の金属ボール群を一括で
ピックアップするピックアップノズルを有するピックア
ップ手段と、 前記金属ボール群を一括でピックアップした前記ピック
アップノズルを、前記接合用ステージまで搬送するノズ
ル搬送手段と、 前記ピックアップノズルにより前記接合用ステージまで
搬送された前記金属ボール群を被接合部に接合する接合
手段と、を備えたことを特徴とするボール状バンプの接
合装置。
4. A ball arranging means for arranging fine metal balls in the arrangement hole of an arrangement substrate having an arrangement hole provided at the same position as an electrode pad of a semiconductor chip to be connected, and the fine metal balls are arranged. And a pickup means having a pickup nozzle for collectively picking up at least one metal ball group of semiconductor chips from the array substrate transported to the pickup stage. Nozzle transporting means for transporting the pickup nozzle that collectively picks up the metal ball group to the joining stage, and joining means for joining the metal ball group transported by the pickup nozzle to the joining stage to a joined portion. And a ball-shaped bump of Coupling devices.
【請求項5】 前記配列基板に半導体チップ複数個分の
ボールを配列可能に構成したことを特徴とする請求項4
記載のボール状バンプの接合装置。
5. The ball for a plurality of semiconductor chips can be arranged on the array substrate.
The ball-shaped bump bonding apparatus described.
【請求項6】 前記配列基板及び/又は前記ピックアッ
プ手段におけるボール配列は、真空吸着により行われ、 前記配列基板を固定するための第1の真空吸着手段と、 前記金属ボールを吸着するための第2の真空吸着手段
と、を備えたことを特徴とする請求項4記載のボール状
バンプの接合装置。
6. The ball arrangement in the array substrate and / or the pick-up means is performed by vacuum suction, and a first vacuum suction means for fixing the array substrate and a first vacuum suction means for sucking the metal balls. 5. The ball-shaped bump bonding apparatus according to claim 4, further comprising: 2 vacuum suction means.
【請求項7】 前記微小金属ボールが予め所定の容器に
収容されており、その容器に微振動を付与することによ
り、前記金属ボールが浮遊するようにしたことを特徴と
する請求項4記載のボール状バンプの接合装置。
7. The metal ball is stored in a predetermined container in advance, and the metal ball is made to float by applying a slight vibration to the container. Bonding device for ball-shaped bumps.
【請求項8】 前記ピックアップノズルによるピックア
ップ前のボール配列状態を確認し、かつ前記ピックアッ
プノズルとのアライメントを可能にするボール認識手段
及びアライメント手段を有することを特徴とする請求項
4記載のボール状バンプの接合装置。
8. The ball shape according to claim 4, further comprising a ball recognition means and an alignment means for confirming a ball arrangement state before being picked up by the pickup nozzle and enabling alignment with the pickup nozzle. Bump bonding device.
【請求項9】 前記ボール配列手段と前記ピックアップ
手段とがそれぞれ独立して配置されていることを特徴と
する請求項4記載のボール状バンプの接合装置。
9. The ball-shaped bump bonding apparatus according to claim 4, wherein the ball arranging means and the pickup means are arranged independently of each other.
【請求項10】 前記ピックアップノズルにより一括で
ピックアップした金属ボール群を、前記接合用ステージ
上に配列し、この金属ボール群を前記接合手段によりフ
ィルムキャリアのインナーリードに接合することを特徴
とする請求項4記載のボール状バンプの接合装置。
10. The group of metal balls collectively picked up by the pickup nozzle is arranged on the joining stage, and the group of metal balls is joined to the inner lead of the film carrier by the joining means. Item 4. A ball-shaped bump bonding apparatus according to Item 4.
【請求項11】 前記ピックアップノズルにより一括で
ピックアップした金属ボール群を、前記接合用ステージ
上に載置された半導体チップの電極パッドに接合するこ
とを特徴とする請求項4記載のボール状バンプの接合装
置。
11. The ball-shaped bump according to claim 4, wherein the group of metal balls collectively picked up by the pickup nozzle is bonded to an electrode pad of a semiconductor chip mounted on the bonding stage. Joining device.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998034273A1 (en) * 1997-01-30 1998-08-06 Nippon Steel Corporation Ball arranging substrate for forming bump, ball arranging head, ball arranging device, and ball arranging method
US6255132B1 (en) 1999-02-26 2001-07-03 Ando Electric Co., Ltd. Method of lining up micro-balls
KR100479912B1 (en) * 1997-08-27 2005-09-30 삼성테크윈 주식회사 Absorption die of solder ball for bga package
JP2010212659A (en) * 2009-02-10 2010-09-24 Hioki Ee Corp Ball vacuum chucking device, ball mounting device, ball vacuum chucking method, ball mounting method, ball mounted substrate and electronic component mounted substrate
JP2011077493A (en) * 2009-02-10 2011-04-14 Hioki Ee Corp Substrate manufacturing apparatus, substrate manufacturing method, spherical body-mounted substrate, and electronic component-mounted substrate

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61242759A (en) * 1985-04-19 1986-10-29 Hitachi Ltd Placing equipment for formed solder
JPH02278831A (en) * 1989-04-20 1990-11-15 Fujitsu Ltd Formation of solder bump

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61242759A (en) * 1985-04-19 1986-10-29 Hitachi Ltd Placing equipment for formed solder
JPH02278831A (en) * 1989-04-20 1990-11-15 Fujitsu Ltd Formation of solder bump

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998034273A1 (en) * 1997-01-30 1998-08-06 Nippon Steel Corporation Ball arranging substrate for forming bump, ball arranging head, ball arranging device, and ball arranging method
US6571007B1 (en) 1997-01-30 2003-05-27 Nippon Steel Corporation Ball-arranging substrate for forming bump, ball-arranging head, ball-arranging device, and ball-arranging method
EP0964442A4 (en) * 1997-01-30 2006-11-08 Nippon Steel Corp Ball arranging substrate for forming bump, ball arranging head, ball arranging device, and ball arranging method
EP2256793A1 (en) * 1997-01-30 2010-12-01 Nippon Steel Corporation Ball-arranging substrate for forming bumps, ball-arranging head, ball-arranging apparatus and method for arranging balls
KR100479912B1 (en) * 1997-08-27 2005-09-30 삼성테크윈 주식회사 Absorption die of solder ball for bga package
US6255132B1 (en) 1999-02-26 2001-07-03 Ando Electric Co., Ltd. Method of lining up micro-balls
JP2010212659A (en) * 2009-02-10 2010-09-24 Hioki Ee Corp Ball vacuum chucking device, ball mounting device, ball vacuum chucking method, ball mounting method, ball mounted substrate and electronic component mounted substrate
JP2011077493A (en) * 2009-02-10 2011-04-14 Hioki Ee Corp Substrate manufacturing apparatus, substrate manufacturing method, spherical body-mounted substrate, and electronic component-mounted substrate

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