JP2011077493A - Substrate manufacturing apparatus, substrate manufacturing method, spherical body-mounted substrate, and electronic component-mounted substrate - Google Patents
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本発明は、基板に球状体を搭載して球状体搭載済基板を製造する基板製造装置および基板製造方法、その基板製造装置または基板製造方法によって製造される球状体搭載済基板、並びにその球状体搭載済基板に電子部品が搭載された電子部品搭載済基板に関するものである。 The present invention relates to a substrate manufacturing apparatus and a substrate manufacturing method for manufacturing a spherical body mounted substrate by mounting a spherical body on a substrate, a spherical body mounted substrate manufactured by the substrate manufacturing apparatus or the substrate manufacturing method, and the spherical body The present invention relates to an electronic component mounted substrate in which an electronic component is mounted on the mounted substrate.
この種の球状体搭載済基板を製造する際に、基板に球状体を搭載する球状体搭載装置として、特開2003−100789号公報に開示された半田(はんだ)ボール搭載装置が知られている。この半田ボール搭載装置は、複数の吸着穴が吸着面に形成された整列マスク、および整列マスクを移動させる移動部を備えて、整列マスクで吸着した半田ボールをパッケージの接続端子に搭載可能に構成されている。また、この半田ボール搭載装置は、半田ボールよりも大きい複数の貫通穴が整列マスクの吸着穴と同じ配列で形成されて、整列マスクに対して相対的に移動可能な離脱プレートを備えている。この半田ボール搭載装置を用いてパッケージの接続端子に半田ボールを搭載する際には、整列マスクの吸着面に離脱プレートを接触させ、その状態の整列マスクおよび離脱プレートを、半田ボールが多めに収容されている半田ボール容器に嵌合させて半田ボールを供給する。この際に、離脱プレートの貫通穴を通って1つの半田ボールが整列マスクの吸着穴に吸着されると共に、その半田ボールと吸着穴との隙間から吸引される気流によってその半田ボール以外の余剰な半田ボールが吸着される。次いで、離脱プレートを下方に移動させて整列マスクの吸着面から離反させる。この際に、上記した余剰な半田ボールが、離脱プレートの移動に伴って整列マスクから引き離されて、半田ボール容器内に落下する。このため、この半田ボール搭載装置では、接続端子への余剰な半田ボールの搭載を防止することが可能となっている。 A solder ball mounting device disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2003-1000078 is known as a spherical body mounting device for mounting a spherical body on a substrate when manufacturing this type of spherical body mounted substrate. . This solder ball mounting device includes an alignment mask having a plurality of suction holes formed on the suction surface, and a moving unit that moves the alignment mask, so that the solder balls sucked by the alignment mask can be mounted on the connection terminals of the package. Has been. In addition, the solder ball mounting device includes a detachment plate in which a plurality of through holes larger than the solder balls are formed in the same arrangement as the suction holes of the alignment mask and are movable relative to the alignment mask. When mounting solder balls on the connection terminals of the package using this solder ball mounting device, the release plate is brought into contact with the suction surface of the alignment mask, and the solder mask accommodates a larger amount of the alignment mask and release plate in that state. A solder ball is supplied by being fitted in a solder ball container. At this time, one solder ball is adsorbed to the suction hole of the alignment mask through the through hole of the release plate, and surplus other than the solder ball is caused by the air current sucked from the gap between the solder ball and the suction hole. Solder balls are adsorbed. Next, the release plate is moved downward to be separated from the suction surface of the alignment mask. At this time, the excessive solder balls described above are pulled away from the alignment mask with the movement of the release plate and fall into the solder ball container. For this reason, in this solder ball mounting apparatus, it is possible to prevent mounting of excessive solder balls on the connection terminals.
ところが、上記した従来の半田ボール搭載装置には、以下の問題点がある。すなわち、この半田ボール搭載装置では、半田ボールが多めに収容されている半田ボール容器に整列マスクおよび離脱プレートを嵌合させて半田ボールを供給している。また、この半田ボール搭載装置では、離脱プレートを下方に移動させて整列マスクの吸着面から離反させることで、余剰な半田ボールを整列マスクから落下させて除去している。一方、近年のパッケージの高密度化に伴い、半田ボールの微小化が進んでいる。この場合、半田ボールが微小なほど、半田ボール間の静電気や分子間力に起因する半田ボール同士が引き合う力が、半田ボールの重量に対して相対的に大きくなる。このため、図59〜図61に示すように、上記の方法で半田ボールを供給したときに、半田ボール同士が引き合う力によって余剰な半田ボールが大量に付着して、離脱プレート702を下方に移動させただけでは、余剰な半田ボールの全てを整列マスク701から除去できないことがある。したがって、上記の半田ボール搭載装置には、半田ボールが微小なときには、接続端子への余剰な半田ボールの搭載(つまり、接続端子に対する半田ボールの過剰な搭載)を防止するのが困難となるという問題点が存在する。この結果、この半田ボール搭載装置によって基板に半田ボールを搭載し、これを用いて球状体搭載済基板を製造したときには、半田ボールの過剰な搭載に起因する不良が生じるおそれがあるという問題点が存在する。
However, the above-described conventional solder ball mounting apparatus has the following problems. That is, in this solder ball mounting apparatus, the solder ball is supplied by fitting the alignment mask and the release plate into a solder ball container in which a large number of solder balls are accommodated. Further, in this solder ball mounting apparatus, excess solder balls are dropped from the alignment mask and removed by moving the release plate downward and away from the adsorption surface of the alignment mask. On the other hand, with the recent increase in the density of packages, solder balls have been miniaturized. In this case, the smaller the solder balls are, the larger the force with which the solder balls are attracted to each other due to static electricity between the solder balls or intermolecular force, relative to the weight of the solder balls. For this reason, as shown in FIGS. 59 to 61, when the solder balls are supplied by the above-described method, a large amount of excessive solder balls are attached due to the pulling force of the solder balls, and the
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、基板に対する微小な球状体の過剰な搭載を確実に防止し得る基板製造装置および基板製造方法、その基板製造装置または基板製造方法によって製造される球状体搭載済基板、並びにその球状体搭載済基板に電子部品が搭載された電子部品搭載済基板を提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of such problems, and is manufactured by a substrate manufacturing apparatus and a substrate manufacturing method that can surely prevent an excessive mounting of a minute spherical body on the substrate, and the substrate manufacturing apparatus or the substrate manufacturing method. It is a main object to provide a spherical body mounted substrate and an electronic component mounted substrate in which electronic components are mounted on the spherical body mounted substrate.
上記目的を達成すべく請求項1記載の基板製造装置は、吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を実行する吸着ヘッドを有する球状体吸着装置を備えて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を基板に搭載する球状体搭載装置を備えて球状体搭載済基板を製造する基板製造装置であって、前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行する。
In order to achieve the above object, a substrate manufacturing apparatus according to
また、請求項2記載の基板製造装置は、吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を実行する吸着ヘッドを有する球状体吸着装置を備えて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を基板に搭載する球状体搭載装置を備えて球状体搭載済基板を製造する基板製造装置であって、前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部と、前記球状体を吸引可能な吸引部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行する。 According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate manufacturing apparatus including a spherical body suction device having a suction head for performing a suction process for sucking a spherical body at an edge of an intake port formed on the suction surface. A substrate manufacturing apparatus that manufactures a spherical body mounted substrate by including a spherical body mounting device for mounting the spherical body on a substrate, wherein the spherical body adsorption device has an opening to A storage container for storing, a suction holding section for sucking and holding the spherical body stored in the storage container at its tip, and a suction section capable of sucking the spherical body; Supply that supplies the spherical body to the suction head in a state where the suction holding portion holding the spherical body and the suction surface of the suction head are relatively close to each other and sucked from the suction port Execute the process and A suction process is performed in which the suction part and the suction surface of the suction head are relatively brought close to each other to suck and remove the excess spherical body excluding the spherical body that is sucked to the edge of the intake port. .
また、請求項3記載の基板製造装置は、吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を実行する吸着ヘッドを有する球状体吸着装置を備えて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を基板に搭載する球状体搭載装置を備えて球状体搭載済基板を製造する基板製造装置であって、前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部と、前記球状体を吸引可能な吸引部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行し、前記球状体搭載装置は、前記吸着処理の実行後の前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行する第1検出部と、前記吸着ヘッドによって吸着されている前記球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行する第1除去部と、制御部とを備え、前記制御部は、前記第1検出処理において前記球状体の過剰が検出されたときに前記第1除去処理を実行させた後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行させ、前記第1検出処理において前記球状体の不足が検出されたときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行させる。 According to a third aspect of the present invention, there is provided a substrate manufacturing apparatus comprising a spherical body suction device having a suction head for performing a suction process for sucking a spherical body at an edge of an air inlet formed on the suction surface, and suctioned by the suction head A substrate manufacturing apparatus that includes a spherical body mounting device for mounting the spherical body on a substrate to manufacture a spherical body mounted substrate, wherein the spherical body adsorption device has an opening and the spherical body is mounted on the substrate. A storage container for storing, a suction holding section for sucking and holding the spherical body stored in the storage container at its tip, and a suction section capable of sucking the spherical body; Supplying the spherical body to the suction head in a state where the suction holding portion holding the spherical body and the suction surface of the suction head are relatively close to each other and sucking from the suction port Execute the process and A suction process is performed in which a suction part and the suction surface of the suction head are relatively close to each other to suck and remove excess spherical body except the spherical body that is sucked to the edge of the suction port. The spherical body mounting device is sucked by the suction head and a first detection unit that executes a first detection process for detecting excess or deficiency of the spherical body in the suction head after the suction process is performed. A first removal unit that executes a first removal process for removing the spherical body from the suction head; and a control unit, wherein the control unit detects an excess of the spherical body in the first detection process. The suction process and the supply process are re-executed after the first removal process is executed, and the suction process and the supply process are re-executed when the shortage of the spherical body is detected in the first detection process. .
また、請求項4記載の基板製造装置は、基板に対してフラックスを塗布する塗布処理を実行するフラックス塗布装置と、吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を実行する吸着ヘッドを有する球状体吸着装置を備えて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を前記塗布処理の実行後の前記基板に搭載する球状体搭載装置とを備えて球状体搭載済基板を製造する基板製造装置であって、前記フラックス塗布装置は、供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニットと、前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板および前記スキージユニットの少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げさせる塗布機構とを備え、前記スキージユニットは、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成され、前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部と、前記球状体を吸引可能な吸引部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行する。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate manufacturing apparatus comprising: a flux coating apparatus that performs a coating process for coating a substrate with a flux; and an adsorption process for adsorbing a spherical body at an edge of an intake port formed on the adsorption surface. A spherical body mounted substrate having a spherical body suction device having a suction head to perform and mounting the spherical body sucked by the suction head on the substrate after execution of the coating process The flux coating apparatus includes a squeegee unit having a squeegee that spreads the supplied flux on the coating surface of the substrate, and an opening that exposes the flux coating region on the coating surface. At least one of the substrate and the squeegee unit with the mask provided with the substrate pressed against the application surface, The squeegee unit is moved in a first direction in which the squeegee units approach each other, and the front end of the squeegee that is linear in plan view is pressed against the surface of the mask. An application mechanism that spreads the flux in the application area by moving in a second direction, and the squeegee unit includes a first base part, a second base part, and the second base part with respect to the first base part. A connecting mechanism that connects the first base portion and the second base portion to each other while allowing relative movement along the first direction, and the first base portion and the second base portion to each other. An urging member that urges the squeegee in a separating direction, and the squeegee is connected to the second base via a rotation shaft disposed so that an axial length thereof is along the second direction. The spherical body adsorbing device is configured to be attached to a storage portion, and has an opening portion for storing the spherical body and the spherical body stored in the storage container. A suction holding portion that holds the spherical body, and the suction holding portion that holds the spherical body at the tip portion and the suction surface of the suction head relatively A supply process for supplying the spherical body to the suction head in a state of being sucked and sucked from the intake port is performed, and the suction portion and the suction surface of the suction head are relatively brought closer to each other. Then, a suction process is performed to suck and remove excess spherical bodies excluding the spherical bodies adsorbed on the edge of the intake port.
また、請求項5記載の基板製造装置は、基板に対してフラックスを塗布する塗布処理を実行するフラックス塗布装置と、吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を実行する吸着ヘッドを有する球状体吸着装置を備えて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を前記塗布処理の実行後の前記基板に搭載する球状体搭載装置とを備えて球状体搭載済基板を製造する基板製造装置であって、前記フラックス塗布装置は、供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニットと、前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板および前記スキージユニットの少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げさせる塗布機構とを備え、前記スキージユニットは、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成され、前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部と、前記球状体を吸引可能な吸引部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行し、前記球状体搭載装置は、前記吸着処理の実行後の前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行する第1検出部と、前記吸着ヘッドによって吸着されている前記球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行する第1除去部と、制御部とを備え、前記制御部は、前記第1検出処理において前記球状体の過剰が検出されたときに前記第1除去処理を実行させた後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行させ、前記第1検出処理において前記球状体の不足が検出されたときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行させる。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a substrate manufacturing apparatus comprising: a flux coating apparatus that performs a coating process for coating a substrate with a flux; and an adsorption process for adsorbing a spherical body at an edge of an air inlet formed on the adsorption surface. A spherical body mounted substrate having a spherical body suction device having a suction head to perform and mounting the spherical body sucked by the suction head on the substrate after execution of the coating process The flux coating apparatus includes a squeegee unit having a squeegee that spreads the supplied flux on the coating surface of the substrate, and an opening that exposes the flux coating region on the coating surface. At least one of the substrate and the squeegee unit that is pressed against the coating surface is attached to the substrate and the scan plate. The squeegee unit is moved in a first direction in which the squeegee units approach each other, and the front end of the squeegee that is linear in plan view is pressed against the surface of the mask. An application mechanism that spreads the flux in the application area by moving in a second direction, and the squeegee unit includes a first base part, a second base part, and the second base part with respect to the first base part. A connecting mechanism that connects the first base portion and the second base portion to each other while allowing relative movement along the first direction, and the first base portion and the second base portion to each other. An urging member that urges the squeegee in a separating direction, and the squeegee is connected to the second base via a rotation shaft disposed so that an axial length thereof is along the second direction. The spherical body adsorbing device is configured to be attached to a storage portion, and has an opening portion for storing the spherical body and the spherical body stored in the storage container. A suction holding portion that holds the spherical body, and the suction holding portion that holds the spherical body at the tip portion and the suction surface of the suction head relatively A supply process for supplying the spherical body to the suction head in a state of being sucked and sucked from the intake port is performed, and the suction portion and the suction surface of the suction head are relatively brought closer to each other. The suction process for sucking and removing the excess spherical body excluding the spherical body adsorbed on the edge of the intake port is performed, and the spherical body mounting device performs the suction process after the suction process is performed. Excess or deficiency of the spherical body in the head A first detection unit that executes a first detection process to be detected; a first removal unit that executes a first removal process that removes the spherical body adsorbed by the suction head from the suction head; and a control unit. And the control unit re-executes the adsorption process and the supply process after the first removal process is executed when an excess of the spherical body is detected in the first detection process, and the first detection process is performed. When the shortage of the spherical body is detected in the process, the adsorption process and the supply process are re-executed.
また、請求項6記載の基板製造装置は、吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を実行する吸着ヘッドを有する球状体吸着装置を備えて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を基板に搭載する球状体搭載装置を備えて球状体搭載済基板を製造する基板製造装置であって、前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行し、前記球状体搭載装置は、前記吸着処理の実行後の前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行する第1検出部と、前記吸着ヘッドによって吸着されている前記球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行する第1除去部と、制御部とを備え、前記制御部は、前記第1検出処理において前記球状体の過剰が検出されたときに前記第1除去処理を実行させた後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行させ、前記第1検出処理において前記球状体の不足が検出されたときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行させる。 According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a substrate manufacturing apparatus including a spherical body suction device having a suction head for performing a suction process for sucking a spherical body at an edge portion of an air inlet formed on the suction surface, and suctioned by the suction head. A substrate manufacturing apparatus that includes a spherical body mounting device for mounting the spherical body on a substrate to manufacture a spherical body mounted substrate, wherein the spherical body adsorption device has an opening and the spherical body is mounted on the substrate. The suction holding part that includes a holding container for holding and a suction holding part that sucks and holds the spherical body contained in the receiving container at its tip part, and holds the spherical body at the tip part A supply process for supplying the spherical body to the suction head in a state where the suction head is sucked from the suction port with the suction surface of the suction head relatively close to each other. , After execution of the adsorption process A first detection unit that executes a first detection process for detecting excess or deficiency of the spherical body in the suction head and a first removal process for removing the spherical body that is sucked by the suction head from the suction head are executed. A first removal unit that performs the first removal process when an excess of the spherical body is detected in the first detection process. The supply process is re-executed, and when the shortage of the spherical body is detected in the first detection process, the adsorption process and the supply process are re-executed.
また、請求項7記載の基板製造方法は、基板に対してフラックスを塗布する塗布処理を実行するフラックス塗布装置と、吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を実行する吸着ヘッドを有する球状体吸着装置を備えて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を前記塗布処理の実行後の前記基板に搭載する球状体搭載装置とを備えて球状体搭載済基板を製造する基板製造装置であって、前記フラックス塗布装置は、供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニットと、前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板および前記スキージユニットの少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げさせる塗布機構とを備え、前記スキージユニットは、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成され、前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行し、前記球状体搭載装置は、前記吸着処理の実行後の前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行する第1検出部と、前記吸着ヘッドによって吸着されている前記球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行する第1除去部と、制御部とを備え、前記制御部は、前記第1検出処理において前記球状体の過剰が検出されたときに前記第1除去処理を実行させた後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行させ、前記第1検出処理において前記球状体の不足が検出されたときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行させる。 According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a substrate manufacturing method comprising: a flux applying device that performs a coating process for applying a flux to a substrate; and an adsorption process for adsorbing a spherical body on an edge of an intake port formed on the adsorption surface. A spherical body mounted substrate having a spherical body suction device having a suction head to perform and mounting the spherical body sucked by the suction head on the substrate after execution of the coating process The flux coating apparatus includes a squeegee unit having a squeegee that spreads the supplied flux on the coating surface of the substrate, and an opening that exposes the flux coating region on the coating surface. At least one of the substrate and the squeegee unit that is pressed against the coating surface is attached to the substrate and the scan plate. The squeegee unit is moved in a first direction in which the squeegee units approach each other, and the front end of the squeegee that is linear in plan view is pressed against the surface of the mask. An application mechanism that spreads the flux in the application area by moving in a second direction, and the squeegee unit includes a first base part, a second base part, and the second base part with respect to the first base part. A connecting mechanism that connects the first base portion and the second base portion to each other while allowing relative movement along the first direction, and the first base portion and the second base portion to each other. An urging member that urges the squeegee in a separating direction, and the squeegee is connected to the second base via a rotation shaft disposed so that an axial length thereof is along the second direction. The spherical body adsorbing device is configured to be attached to a storage portion, and has an opening portion for storing the spherical body and the spherical body stored in the storage container. A suction holding portion that holds the spherical body at the tip portion and sucks the suction surface of the suction head relatively close to each other from the suction port. A supply process for supplying the spherical body to the suction head in a state, and the spherical body mounting device detects a first or second shortage of the spherical body in the suction head after the suction process is performed. A first detection unit that executes a process; a first removal unit that executes a first removal process that removes the spherical body that is sucked by the suction head from the suction head; and a control unit. In the first detection process When the excess of the spherical body is detected, the adsorption process and the supply process are re-executed after the first removal process is performed, and the lack of the spherical body is detected in the first detection process. Sometimes the adsorption process and the supply process are re-executed.
また、請求項8記載の基板製造装置は、基板に対してフラックスを塗布する塗布処理を実行するフラックス塗布装置と、吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を実行する吸着ヘッドを有する球状体吸着装置を備えて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を前記塗布処理の実行後の前記基板に搭載する球状体搭載装置とを備えて球状体搭載済基板を製造する基板製造装置であって、前記フラックス塗布装置は、供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニットと、前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板および前記スキージユニットの少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げさせる塗布機構とを備え、前記スキージユニットは、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成され、前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行する。
The substrate manufacturing apparatus according to
また、請求項9記載の基板製造装置は、請求項1から8のいずれかに記載の基板製造装置において、前記球状体吸着装置は、移動機構を備え、前記移動機構は、前記供給処理において、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させた状態で当該吸着保持部が当該吸着面に沿って相対的に移動するように当該吸着ヘッドおよび当該吸着保持部の少なくとも一方を移動させる。
The substrate manufacturing apparatus according to claim 9 is the substrate manufacturing apparatus according to any one of
また、請求項10記載の基板製造装置は、請求項1から9のいずれかに記載の基板製造装置において、前記球状体搭載装置は、前記吸着ヘッドを複数備えると共に、前記吸着ヘッドおよび前記基板のいずれか一方をいずれか他方に向けて移動させる移動処理を実行して当該吸着ヘッドによって保持されている前記球状体を当該基板に搭載する搭載部を備え、前記各吸着ヘッドは、前記吸気口の口径が球状体の直径に対応させて当該各吸着ヘッド毎に互いに異なるように構成され、前記搭載部は、前記各吸着ヘッド毎に前記移動処理を実行して当該各吸着ヘッドにおける前記各吸気口の前記口径に対応して前記直径が互いに異なる複数種類の前記球状体を1つの前記基板に対して搭載する。
The substrate manufacturing apparatus according to claim 10 is the substrate manufacturing apparatus according to any one of
また、請求項11記載の基板製造装置は、請求項1から10のいずれかに記載の基板製造装置において、前記球状体搭載装置は、前記収容容器に対して前記球状体を補給する補給処理を実行する球状体補給装置を備え、前記球状体補給装置は、前記球状体を収納すると共に収納している当該球状体を排出する排出口が形成された補給容器と、前記排出口を下向きにした状態の前記補給容器が載置されると共に当該載置状態において当該排出口に連通して前記球状体を収容可能な収容部が形成された載置部と、当該載置部の傾斜角度の変更が可能に当該載置部を回動させる回動機構とを備え、前記収容部は、前記補給容器の前記排出口から排出された前記球状体を貯留する貯留部と、前記載置部の縁部に形成されて前記球状体を当該載置部から落下させる補給口および前記貯留部を繋ぐ移動流路とを備えて構成され、前記回動機構は、待機状態において前記貯留部が前記補給口よりも下側に位置する第1姿勢に前記載置部を維持させると共に、前記補給処理時において前記補給口が前記貯留部よりも下側に位置する第2姿勢となるように前記載置部を回動させる。
The substrate manufacturing apparatus according to claim 11 is the substrate manufacturing apparatus according to any one of
また、請求項12記載の基板製造装置は、請求項1から11のいずれかに記載の基板製造装置において、前記基板が複数面付けされた多面付け基板を切断して当該各基板に分割する切断処理を実行する切断装置、および前記分割された各基板に対する電気的検査を実行する検査装置を備え、前記球状体搭載装置は、前記電気的検査において良品と判別された前記基板にのみ前記球状体を搭載する。
A substrate manufacturing apparatus according to
この場合、上記の基板製造装置において、前記球状体搭載装置の前記球状体吸着装置は、前記吸着保持部を回動させる回動機構を備え、前記吸着保持部は、前記収容容器の前記開口部側に配設されて、前記球状体を前記先端部で保持した状態で基端部を中心として前記回動機構によって回動可能に構成され、前記回動機構は、前記供給処理の実行時において、前記球状体を保持している前記先端部が前記吸着面に対向するように前記吸着保持部を回動させる構成を採用することができる。 In this case, in the substrate manufacturing apparatus, the spherical body suction device of the spherical body mounting device includes a rotation mechanism that rotates the suction holding portion, and the suction holding portion is the opening portion of the storage container. Arranged on the side and configured to be rotatable by the rotation mechanism around the base end portion with the spherical body held by the distal end portion. Further, it is possible to adopt a configuration in which the suction holding part is rotated so that the tip part holding the spherical body faces the suction surface.
また、上記の基板製造装置において、前記球状体搭載装置の前記球状体吸着装置における前記収容容器および前記吸着保持部を一体に構成することができる。 In the substrate manufacturing apparatus described above, the container and the suction holding unit in the spherical body suction device of the spherical body mounting device can be configured integrally.
また、上記の基板製造装置において、前記球状体搭載装置の前記球状体吸着装置における前記収容容器、前記吸着保持部および前記吸引部を一体に構成することができる。 In the substrate manufacturing apparatus, the container, the suction holding unit, and the suction unit in the spherical body suction device of the spherical body mounting device can be integrally configured.
また、上記の基板製造装置において、前記球状体搭載装置の前記球状体吸着装置が、前記吸着ヘッドに対して着脱可能に構成されると共に前記吸着面にその一面が接触するように装着された状態において前記吸気口に連通しかつ前記球状粒体が通過可能な貫通孔が形成された整列用プレートを備え、前記整列用プレートが前記吸着ヘッドに装着された状態において前記供給処理および前記吸引処理を実行する構成を採用することができる。 Further, in the substrate manufacturing apparatus, the spherical body suction device of the spherical body mounting device is configured to be detachable from the suction head and is mounted so that one surface thereof is in contact with the suction surface. In the state where the alignment plate is mounted on the suction head, and the supply process and the suction process are performed. An implementation configuration can be employed.
また、上記の基板製造装置において、前記球状体搭載装置が、前記球状体を前記基板に搭載した後の前記吸着ヘッドにおける付着物の付着の有無を検出する第2検出処理を実行する第2検出部と、前記付着物を前記吸着ヘッドから除去する第2除去処理を実行する第2除去部とを備え、前記制御部が、前記第2検出処理においてフラックスが前記付着物として検出されたときに前記第2除去処理を実行させる構成を採用することができる。 Further, in the substrate manufacturing apparatus, the spherical body mounting device executes a second detection process for detecting the presence or absence of adhered matter on the suction head after the spherical body is mounted on the substrate. And a second removal unit that executes a second removal process for removing the deposit from the suction head, and when the control unit detects the flux as the deposit in the second detection process. A configuration for executing the second removal process may be employed.
また、上記の基板製造装置において、前記球状体搭載装置が、前記球状体を前記基板に搭載した後の前記吸着ヘッドにおける付着物の付着の有無を検出する第2検出処理を実行する第2検出部と、前記付着物を前記吸着ヘッドから除去する第2除去処理を実行する第2除去部とを備え、前記制御部が、前記第2検出処理においてフラックスが前記付着物として検出されずに前記球状体が当該付着物として検出されたときに前記第1除去処理を実行させる構成を採用することができる。 Further, in the substrate manufacturing apparatus, the spherical body mounting device executes a second detection process for detecting the presence or absence of adhered matter on the suction head after the spherical body is mounted on the substrate. And a second removal unit that executes a second removal process for removing the deposit from the suction head, and the control unit does not detect the flux as the deposit in the second detection process. A configuration in which the first removal process is performed when a spherical body is detected as the attached substance can be employed.
また、上記の基板製造装置において、前記基板に既に搭載されている前記球状体との接触を回避するための凹部または切り欠きを前記球状体搭載装置の前記吸着ヘッドに形成する構成を採用することができる。 In the substrate manufacturing apparatus, a configuration in which a concave portion or a notch for avoiding contact with the spherical body already mounted on the substrate is formed in the suction head of the spherical body mounting device is adopted. Can do.
また、上記の基板製造装置において、前記吸着ヘッドを前記基板に向けて移動させる処理を前記移動処理として実行する移動機構を当該吸着ヘッドの数と同数備えて前記球状体搭載装置の前記搭載部を構成し、前記各移動機構が、前記各吸着ヘッドを個別に移動させる構成を採用することができる。 Further, in the substrate manufacturing apparatus, the mounting unit of the spherical body mounting apparatus includes the same number of moving mechanisms as the moving process for performing the process of moving the suction head toward the substrate as the moving process. It is possible to adopt a configuration in which each moving mechanism moves each suction head individually.
また、上記の基板製造装置において、前記球状体搭載装置の前記搭載部が、前記口径の小さい前記吸着ヘッドに対する前記移動処理を前記口径の大きい前記吸着ヘッドに対する前記移動処理に先立って行う構成を採用することができる。 In the substrate manufacturing apparatus, the mounting unit of the spherical body mounting device adopts a configuration in which the moving process for the suction head having the small diameter is performed prior to the moving process for the suction head having the large diameter. can do.
また、上記の基板製造装置において、前記球状体搭載装置における前記球状体補給装置の前記貯留部を平面視または側面視がU字状に形成し、前記移動流路を平面視または側面視が直線状に形成する構成を採用することができる。 Further, in the substrate manufacturing apparatus, the storage portion of the spherical body replenishing device in the spherical body mounting apparatus is formed in a U shape in a plan view or a side view, and the moving flow path is a straight line in a plan view or a side view. The structure formed in a shape can be employed.
また、上記の基板製造装置において、前記球状体搭載装置における前記球状体補給装置の前記補給容器内に酸化防止用ガスを供給する酸化防止用ガス供給部を備えた構成を採用することができる。 Further, in the substrate manufacturing apparatus described above, it is possible to employ a configuration including an antioxidant gas supply unit that supplies an antioxidant gas into the supply container of the spherical body replenishing device in the spherical body mounting apparatus.
また、上記の基板製造装置において、予め規定された条件を満たしたときに前記球状体補給装置が前記補給処理を実行する構成を採用することができる。 Further, in the above substrate manufacturing apparatus, it is possible to adopt a configuration in which the spherical body replenishing device executes the replenishing process when a predetermined condition is satisfied.
また、上記の基板製造装置において、前記フラックス塗布装置が、前記スキージがスキージ本体と前記回動軸を介して前記第2ベース部に取り付けられると共に前記スキージ本体を取り外し可能に構成された第3ベース部とを備えている構成を採用することができる。 Further, in the above substrate manufacturing apparatus, the flux applying device includes a third base configured such that the squeegee is attached to the second base portion via the squeegee main body and the rotation shaft, and the squeegee main body is removable. The structure provided with a part can be adopted.
また、上記の基板製造装置において、前記検査装置が、前記切断装置によって分割された前記基板に対して前記電気的検査を実行する構成を採用することができる。 In the substrate manufacturing apparatus described above, a configuration in which the inspection apparatus performs the electrical inspection on the substrate divided by the cutting apparatus can be employed.
また、請求項13記載の基板製造方法は、吸着ヘッドの吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を当該吸着ヘッドに実行させて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を基板に搭載して球状体搭載済基板を製造する基板製造方法であって、前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行する。 Further, in the substrate manufacturing method according to the thirteenth aspect, the suction head is caused to perform suction processing for sucking the spherical body to the edge of the suction port formed on the suction surface of the suction head, and the suction head is sucked. A substrate manufacturing method for manufacturing a spherical body-mounted substrate by mounting the spherical body on a substrate, wherein the spherical body accommodated in an accommodation container having an opening is sucked and held when the suction process is performed. The suction holding portion holding the spherical body at the tip portion and the suction surface of the suction head are sucked from the intake port relatively close to each other. Supply processing for supplying the spherical body to the suction head in the state is executed.
また、請求項14記載の基板製造方法は、吸着ヘッドの吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を当該吸着ヘッドに実行させて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を基板に搭載して球状体搭載済基板を製造する基板製造方法であって、前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記球状体を吸引可能な吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行する。 Further, in the substrate manufacturing method according to claim 14, the suction head is caused to perform suction processing for sucking a spherical body to the edge of the suction port formed on the suction surface of the suction head, and is sucked by the suction head. A substrate manufacturing method of manufacturing a spherical body mounted substrate by mounting the spherical body on a substrate, wherein the spherical body accommodated in an accommodation container having an opening is sucked and held at the time of performing the suction process The suction holding portion holding the spherical body at the tip portion and the suction surface of the suction head are sucked from the intake port relatively close to each other. A supply process for supplying the spherical body to the suction head in a state, and the suction portion capable of sucking the spherical body and the suction surface of the suction head are relatively close to each other to Adsorbed to the edge And it is sucked excess the spherical body except the spherical body executes a suction process for removal.
また、請求項15記載の基板製造方法は、吸着ヘッドの吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を当該吸着ヘッドに実行させて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を基板に搭載して球状体搭載済基板を製造する基板製造方法であって、前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記球状体を吸引可能な吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行し、前記吸着処理の実行後において前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行し、当該第1検出処理において前記球状体の過剰を検出したときに前記吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行した後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行し、前記第1検出処理において前記球状体の不足を検出したときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行する。 Further, in the substrate manufacturing method according to claim 15, the suction head is caused to perform suction processing for sucking a spherical body to the edge of the suction port formed on the suction surface of the suction head, and is sucked by the suction head. A substrate manufacturing method of manufacturing a spherical body mounted substrate by mounting the spherical body on a substrate, wherein the spherical body accommodated in an accommodation container having an opening is sucked and held at the time of performing the suction process The suction holding portion holding the spherical body at the tip portion and the suction surface of the suction head are sucked from the intake port relatively close to each other. A supply process for supplying the spherical body to the suction head in a state, and the suction portion capable of sucking the spherical body and the suction surface of the suction head are relatively close to each other to Adsorbed to the edge A suction process for sucking and removing excess spherical bodies excluding the spherical bodies that are present, and a first detection process for detecting excess or deficiency of the spherical bodies in the suction head after execution of the suction process Then, after performing the first removal process for removing the spherical body adsorbed by the adsorption head when the excess of the spherical body is detected in the first detection process, the adsorption process and the supply The process is re-executed, and when the shortage of the spherical body is detected in the first detection process, the adsorption process and the supply process are re-executed.
また、請求項16記載の基板製造方法は、基板にフラックスを塗布する塗布処理を実行し、吸着ヘッドの吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を当該吸着ヘッドに実行させて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を前記塗布処理の実行後の前記基板に搭載して球状体搭載済基板を製造する基板製造方法であって、供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニット、および前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板の少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げる前記塗布処理を、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成されている前記スキージユニットを用いて実行し、前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記球状体を吸引可能な吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行する。 Further, the substrate manufacturing method according to claim 16 executes an application process for applying a flux to the substrate, and performs an adsorption process for adsorbing a spherical body on an edge of an intake port formed on an adsorption surface of the adsorption head. A substrate manufacturing method for manufacturing a spherical body mounted substrate by mounting the spherical body that is suctioned by the suction head on the substrate after the execution of the coating process, and supplying the supplied flux A squeegee unit having a squeegee that spreads on the application surface of the substrate, and at least one of the substrates pressed against the application surface by a mask provided with an opening that exposes the application region of the flux on the application surface, The substrate and the squeegee unit are moved in the first direction approaching each other, and the tip of the squeegee that is linear in plan view is pushed onto the surface of the mask. In this state, the coating process of spreading at least one of the substrate and the squeegee unit in the second direction along the coating surface to spread the flux on the coating area is performed by the first base portion and the second base. A coupling mechanism that couples the first base portion and the second base portion to each other while allowing relative movement along the first direction of the second base portion with respect to the first base portion, An urging member that urges the first base portion and the second base portion in a direction to separate each other, and a shaft length is arranged via a rotating shaft disposed along the second direction. The squeegee is executed by using the squeegee unit configured to be attached to the second base portion, and is accommodated in an accommodation container having an opening when the adsorption process is executed. The spherical body is sucked and held at the tip portion of the suction holding portion, and the suction holding portion holding the spherical body at the tip portion and the suction surface of the suction head are relatively brought close to each other. A supply process for supplying the spherical body to the suction head sucked from the suction port is executed, and the suction portion capable of sucking the spherical body and the suction surface of the suction head are relatively A suction process is performed for sucking and removing excess spherical bodies except the spherical bodies adsorbed to the edge of the intake port in proximity to each other.
また、請求項17記載の基板製造方法は、基板にフラックスを塗布する塗布処理を実行し、吸着ヘッドの吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を当該吸着ヘッドに実行させて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を前記塗布処理の実行後の前記基板に搭載して球状体搭載済基板を製造する基板製造方法であって、供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニット、および前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板の少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げる前記塗布処理を、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成されている前記スキージユニットを用いて実行し、前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記球状体を吸引可能な吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行し、前記吸着処理の実行後において前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行し、当該第1検出処理において前記球状体の過剰を検出したときに前記吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行した後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行し、前記第1検出処理において前記球状体の不足を検出したときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行する。 According to a 17th aspect of the present invention, there is provided a substrate manufacturing method comprising: performing an application process of applying a flux to a substrate; and performing an adsorption process of adsorbing a spherical body on an edge of an air inlet formed on an adsorption surface of the adsorption head. A substrate manufacturing method for manufacturing a spherical body-mounted substrate by mounting the spherical body that is suctioned by the suction head on the substrate after execution of the coating process, and supplying the supplied flux A squeegee unit having a squeegee that spreads on the application surface of the substrate, and at least one of the substrates pressed against the application surface by a mask provided with an opening that exposes the application region of the flux on the application surface, The substrate and the squeegee unit are moved in the first direction approaching each other, and the tip of the squeegee that is linear in plan view is pushed onto the surface of the mask. In this state, the coating process of spreading at least one of the substrate and the squeegee unit in the second direction along the coating surface to spread the flux on the coating area is performed by the first base portion and the second base. A coupling mechanism that couples the first base portion and the second base portion to each other while allowing relative movement along the first direction of the second base portion with respect to the first base portion, An urging member that urges the first base portion and the second base portion in a direction to separate each other, and a shaft length is arranged via a rotating shaft disposed along the second direction. The squeegee is executed by using the squeegee unit configured to be attached to the second base portion, and is accommodated in an accommodation container having an opening when the adsorption process is executed. The spherical body is sucked and held at the tip portion of the suction holding portion, and the suction holding portion holding the spherical body at the tip portion and the suction surface of the suction head are relatively brought close to each other. A supply process for supplying the spherical body to the suction head sucked from the suction port is executed, and the suction portion capable of sucking the spherical body and the suction surface of the suction head are relatively A suction process is performed to suck and remove excess spherical bodies excluding the spherical bodies that are adsorbed to the edge of the air inlet, and after the suction process, the spherical bodies in the suction head A first detection process is performed to detect excess or deficiency of the particles, and when the excess of the spherical bodies is detected in the first detection process, the spherical bodies adsorbed by the adsorption head are removed from the adsorption head. After performing the removal process, the adsorption process and the supply process are re-executed, and when the shortage of the spherical body is detected in the first detection process, the adsorption process and the supply process are re-executed.
また、請求項18記載の基板製造方法は、吸着ヘッドの吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を当該吸着ヘッドに実行させて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を基板に搭載して球状体搭載済基板を製造する基板製造方法であって、前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行し、前記吸着処理の実行後において前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行し、当該第1検出処理において前記球状体の過剰を検出したときに前記吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行した後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行し、前記第1検出処理において前記球状体の不足を検出したときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行する。 Further, in the substrate manufacturing method according to claim 18, the suction head is caused to perform suction processing for sucking a spherical body to the edge of the suction port formed on the suction surface of the suction head, and is sucked by the suction head. A substrate manufacturing method for manufacturing a spherical body-mounted substrate by mounting the spherical body on a substrate, wherein the spherical body accommodated in an accommodation container having an opening is sucked and held when the suction process is performed. The suction holding portion holding the spherical body at the tip portion and the suction surface of the suction head are sucked from the intake port relatively close to each other. A supply process for supplying the spherical body to the suction head in a state, a first detection process for detecting excess or deficiency of the spherical body in the suction head after the execution of the suction process, 1 inspection Re-execution of the adsorption process and the supply process after performing a first removal process for removing the spherical bodies adsorbed by the adsorption head from the adsorption head when an excess of the spherical bodies is detected in the process, When the shortage of the spherical body is detected in the first detection process, the adsorption process and the supply process are re-executed.
また、請求項19記載の基板製造方法は、基板にフラックスを塗布する塗布処理を実行し、吸着ヘッドの吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を当該吸着ヘッドに実行させて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を前記塗布処理の実行後の前記基板に搭載して球状体搭載済基板を製造する基板製造方法であって、供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニット、および前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板の少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げる前記塗布処理を、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成されている前記スキージユニットを用いて実行し、前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行し、前記吸着処理の実行後において前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行し、当該第1検出処理において前記球状体の過剰を検出したときに前記吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行した後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行し、前記第1検出処理において前記球状体の不足を検出したときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行する。 Further, the substrate manufacturing method according to claim 19 executes an application process for applying a flux to the substrate, and performs an adsorption process for adsorbing a spherical body on an edge of an intake port formed on an adsorption surface of the adsorption head. A substrate manufacturing method for manufacturing a spherical body mounted substrate by mounting the spherical body that is suctioned by the suction head on the substrate after the execution of the coating process, and supplying the supplied flux A squeegee unit having a squeegee that spreads on the application surface of the substrate, and at least one of the substrates pressed against the application surface by a mask provided with an opening that exposes the application region of the flux on the application surface, The substrate and the squeegee unit are moved in the first direction in which they approach each other, and the straight tip of the squeegee in plan view is pushed onto the surface of the mask. In this state, the coating process of spreading at least one of the substrate and the squeegee unit in the second direction along the coating surface to spread the flux on the coating area is performed by the first base portion and the second base. A coupling mechanism that couples the first base portion and the second base portion to each other while allowing relative movement along the first direction of the second base portion with respect to the first base portion, An urging member that urges the first base portion and the second base portion in a direction to separate each other, and a shaft length is arranged via a rotating shaft disposed along the second direction. The squeegee is executed by using the squeegee unit configured to be attached to the second base portion, and is accommodated in an accommodation container having an opening when the adsorption process is executed. The spherical body is adsorbed and held at the tip of the suction holding unit, and the suction holding unit holding the spherical body at the tip is relatively close to the suction surface of the suction head. First detection for executing supply processing for supplying the spherical body to the suction head that is sucked from the suction port, and detecting excess or deficiency of the spherical body in the suction head after execution of the suction processing The suction process is performed after executing a first removal process for removing the spherical body sucked by the suction head when an excess of the spherical body is detected in the first detection process. The supply process is re-executed, and when the shortage of the spherical body is detected in the first detection process, the adsorption process and the supply process are re-executed.
また、請求項20記載の基板製造方法は、基板にフラックスを塗布する塗布処理を実行し、吸着ヘッドの吸着面に形成された吸気口の縁部に球状体を吸着する吸着処理を当該吸着ヘッドに実行させて当該吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を前記塗布処理の実行後の前記基板に搭載して球状体搭載済基板を製造する基板製造方法であって、供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニット、および前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板の少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げる前記塗布処理を、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成されている前記スキージユニットを用いて実行し、前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行する。 Further, the substrate manufacturing method according to claim 20 executes an application process for applying a flux to the substrate, and performs an adsorption process for adsorbing a spherical body on an edge of an intake port formed on an adsorption surface of the adsorption head. A substrate manufacturing method for manufacturing a spherical body mounted substrate by mounting the spherical body that is suctioned by the suction head on the substrate after the execution of the coating process, and supplying the supplied flux A squeegee unit having a squeegee that spreads on the application surface of the substrate, and at least one of the substrates pressed against the application surface by a mask provided with an opening that exposes the application region of the flux on the application surface, The substrate and the squeegee unit are moved in the first direction approaching each other, and the tip of the squeegee that is linear in plan view is pushed onto the surface of the mask. In this state, the coating process of spreading at least one of the substrate and the squeegee unit in the second direction along the coating surface to spread the flux on the coating area is performed by the first base portion and the second base. A coupling mechanism that couples the first base portion and the second base portion to each other while allowing relative movement along the first direction of the second base portion with respect to the first base portion, An urging member that urges the first base portion and the second base portion in a direction to separate each other, and a shaft length is arranged via a rotating shaft disposed along the second direction. The squeegee is executed by using the squeegee unit configured to be attached to the second base portion, and is accommodated in an accommodation container having an opening when the adsorption process is executed. The spherical body is adsorbed and held at the tip of the suction holding unit, and the suction holding unit holding the spherical body at the tip is relatively close to the suction surface of the suction head. Supply processing for supplying the spherical body to the suction head in a state of being sucked from the intake port is executed.
また、請求項21記載の基板製造方法は、請求項13から20のいずれかに記載の基板製造方法において、前記供給処理において、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させた状態で当該吸着保持部が当該吸着面に沿って相対的に移動するように当該吸着ヘッドおよび当該吸着保持部の少なくとも一方を移動させる。
The substrate manufacturing method according to
また、請求項22記載の基板製造方法は、請求項13から21のいずれかに記載の基板製造方法において、前記吸着ヘッドおよび前記基板のいずれか一方をいずれか他方に向けて移動させる移動処理を実行して当該吸着ヘッドによって保持されている前記球状体を当該基板に搭載する際に、前記吸気口の口径が球状体の直径に対応させて互いに異なる複数の前記吸着ヘッド毎に前記移動処理を実行して当該各吸気口の前記口径に対応して前記直径が互いに異なる複数種類の前記球状体を1つの前記基板に対して搭載する。 A substrate manufacturing method according to a twenty-second aspect is the substrate manufacturing method according to any one of the thirteenth to twenty-first aspects, wherein the moving process of moving either the suction head or the substrate toward the other is performed. When the spherical body held by the suction head is executed and mounted on the substrate, the moving process is performed for each of the plurality of suction heads having different inlet diameters corresponding to the diameter of the spherical body. As a result, a plurality of types of spherical bodies having different diameters corresponding to the diameters of the respective intake ports are mounted on one substrate.
また、請求項23記載の基板製造方法は、請求項13から22のいずれかに記載の基板製造方法において、前記収容容器に対して前記球状体を補給する補給処理を実行する際に、前記球状体を収納すると共に収納している当該球状体を排出する排出口が形成された補給容器と、前記排出口を下向きにした状態の前記補給容器が載置されると共に当該載置状態において当該排出口に連通して前記球状体を収容可能な収容部が形成された載置部と、当該載置部の傾斜角度の変更が可能に当該載置部を回動させる回動機構とを備え、前記収容部は、前記補給容器の前記排出口から排出された前記球状体を貯留する貯留部と、前記載置部の縁部に形成されて前記球状体を当該載置部から落下させる補給口および前記貯留部を繋ぐ移動流路とを備えて構成され、前記回動機構は、待機状態において前記貯留部が前記補給口よりも下側に位置する第1姿勢に前記載置部を維持させると共に、前記補給処理時において前記補給口が前記貯留部よりも下側に位置する第2姿勢となるように前記載置部を回動させる球状体補給装置を用いる。 A substrate manufacturing method according to a twenty-third aspect is the substrate manufacturing method according to any one of the thirteenth to twenty-second embodiments, wherein the spherical shape is produced when a replenishing process for replenishing the spherical body to the containing container is executed. A replenishing container having a discharge port for discharging the spherical body stored therein and the refilling container is placed, and the replenishing container with the discharge port facing downward is placed and the discharge container is placed in the placed state. A placement portion formed with a housing portion communicating with the outlet and capable of housing the spherical body, and a rotation mechanism for rotating the placement portion so that the inclination angle of the placement portion can be changed, The storage unit stores the spherical body discharged from the discharge port of the supply container, and a supply port that is formed at an edge of the mounting unit and drops the spherical body from the mounting unit. And a moving flow path connecting the storage portions. The rotation mechanism maintains the placement unit in a first posture in which the storage unit is positioned below the supply port in a standby state, and the supply port is configured to store the storage unit during the supply process. A spherical body replenishing device that rotates the placement portion so as to be in the second posture located below the lower side is used.
また、請求項24記載の基板製造方法は、請求項13から23のいずれかに記載の基板製造方法において、前記基板が複数面付けされた多面付け基板を切断して当該各基板に分割する切断処理および当該分割された各基板に対する電気的検査を実行し、前記電気的検査において良品と判別された前記基板にのみ前記球状体を搭載する。 A substrate manufacturing method according to claim 24 is the substrate manufacturing method according to any one of claims 13 to 23, wherein the substrate is cut into a plurality of substrates by dividing the substrate into a plurality of substrates. Processing and electrical inspection are performed on each of the divided substrates, and the spherical body is mounted only on the substrate that is determined to be non-defective in the electrical inspection.
この場合、上記の各基板製造方法において、前記吸着処理の実行時に、前記収容容器の前記開口部側に配設されて前記球状体を前記先端部で保持した状態で基端部を中心として回動可能な前記吸着保持部の当該先端部に当該球状体を保持させ、前記供給処理の実行時において、前記球状体を保持している前記先端部が前記吸着面に対向するように前記吸着保持部を回動させる方法を採用することができる。 In this case, in each of the substrate manufacturing methods described above, when the adsorption process is performed, the substrate is rotated around the base end portion with the spherical body held by the distal end portion while being disposed on the opening portion side of the container. The spherical body is held at the tip portion of the movable suction holding portion, and the suction holding is performed so that the tip portion holding the spherical body faces the suction surface when the supply process is executed. A method of rotating the part can be employed.
また、上記の各基板製造方法において、前記吸着処理の実行時に、一体に構成された前記収容容器および前記吸着保持部を用いて前記供給処理を実行する方法を採用することができる。 Further, in each of the substrate manufacturing methods described above, it is possible to employ a method of executing the supply process using the storage container and the suction holding unit that are integrally configured when the suction process is performed.
また、上記の各基板製造方法において、前記吸着処理の実行時に、一体に構成された前記収容容器、前記吸着保持部および前記吸引部を用いて前記供給処理および前記吸引処理を実行する方法を採用することができる。 Further, in each of the substrate manufacturing methods described above, a method of performing the supply process and the suction process using the container, the suction holding unit, and the suction unit that are integrally configured when the suction process is performed is employed. can do.
また、上記の各基板製造方法において、前記吸着処理の実行時に、前記吸着ヘッドに対して着脱可能に構成されると共に前記吸着面にその一面が接触するように装着された状態において前記吸気口に連通しかつ前記球状粒体が通過可能な貫通孔が形成された整列用プレートを当該吸着ヘッドに装着させ、その状態において前記供給処理および前記吸引処理を実行する方法を採用することができる。 Further, in each of the substrate manufacturing methods described above, when the suction process is performed, the suction port is configured so as to be detachable from the suction head, and is attached to the suction port so that one surface thereof is in contact with the suction surface. It is possible to employ a method in which an alignment plate having a through-hole through which the spherical particles can pass is attached to the suction head, and the supply process and the suction process are executed in that state.
また、上記の各基板製造方法において、前記球状体を前記基板に搭載した後に前記吸着ヘッドにおける付着物の付着の有無を検出する第2検出処理を実行し、当該第2検出処理においてフラックスを前記付着物として検出したときに当該付着物を前記吸着ヘッドから除去する第2除去処理を実行する方法を採用することができる。 Further, in each of the substrate manufacturing methods described above, after the spherical body is mounted on the substrate, a second detection process is performed to detect the presence or absence of deposits on the suction head, and the flux is used in the second detection process. A method of executing a second removal process for removing the deposit from the suction head when it is detected as a deposit can be employed.
また、上記の各基板製造方法において、前記球状体を前記基板に搭載した後に前記吸着ヘッドにおける付着物の付着の有無を検出する第2検出処理を実行し、当該第2検出処理においてフラックスを前記付着物として検出せずに前記球状体を当該付着物として検出したときに前記第1除去処理を実行する方法を採用することができる。 Further, in each of the above substrate manufacturing methods, after the spherical body is mounted on the substrate, a second detection process for detecting the presence or absence of deposits on the suction head is performed, and the flux is used in the second detection process. A method of executing the first removal process when the spherical body is detected as the attached substance without being detected as an attached substance can be employed.
また、上記の各基板製造方法において、前記基板に既に搭載されている前記球状体との接触を回避するための凹部または切り欠きを形成した前記吸着ヘッドを用いる方法を採用することができる。 In each of the above substrate manufacturing methods, a method using the suction head formed with a recess or a notch for avoiding contact with the spherical body already mounted on the substrate can be employed.
また、上記の各基板製造方法において、前記移動処理としての前記吸着ヘッドを前記基板に向けて移動させる処理を当該吸着ヘッドの数と同数の移動機構を用いて当該各吸着ヘッド毎に個別に実行する方法を採用することができる。 Further, in each of the substrate manufacturing methods described above, the process of moving the suction head as the moving process toward the substrate is performed individually for each suction head using the same number of moving mechanisms as the number of the suction heads. The method to do can be adopted.
また、上記の各基板製造方法において、前記口径の小さい前記吸着ヘッドに対する前記移動処理を前記口径の大きい前記吸着ヘッドに対する前記移動処理に先立って行う方法を採用することができる。 Further, in each of the substrate manufacturing methods described above, it is possible to employ a method in which the moving process for the suction head having the small diameter is performed prior to the moving process for the suction head having the large diameter.
また、上記の各基板製造方法において、前記貯留部を平面視または側面視がU字状に形成すると共に、前記移動流路を平面視または側面視が直線状に形成した収容部を有する前記載置部を備えた前記球状体補給装置を用いる方法を採用することができる。 Further, in each of the substrate manufacturing methods described above, the storage unit is formed in a U shape in a plan view or a side view, and has a storage unit in which the moving channel is formed in a linear shape in a plan view or a side view. A method using the spherical body replenishing device provided with a placement unit can be employed.
また、上記の各基板製造方法において、前記球状体補給装置の前記補給容器内に酸化防止用ガスを供給する方法を採用することができる。 In each of the above substrate manufacturing methods, a method of supplying an antioxidant gas into the supply container of the spherical body supply device can be employed.
また、上記の各基板製造方法において、予め規定された条件を満たしたときに前記補給処理を実行する方法を採用することができる。 In each of the above substrate manufacturing methods, a method of executing the replenishment process when a predetermined condition is satisfied can be employed.
また、上記の各基板製造方法において、スキージ本体と前記回動軸を介して前記第2ベース部に取り付けられると共に前記スキージ本体を取り外し可能に構成された第3ベース部とを備えた前記スキージを用いて前記塗布処理を実行する方法を採用することができる。 In each of the above substrate manufacturing methods, the squeegee including a squeegee main body and a third base portion that is attached to the second base portion via the rotation shaft and configured to be removable from the squeegee main body. It is possible to employ a method for performing the coating process by using.
また、上記の各基板製造方法において、前記切断処理を実行した後に前記電気的検査を実行する方法を採用することができる。 In each of the above substrate manufacturing methods, a method of performing the electrical inspection after performing the cutting process can be employed.
また、請求項25記載の球状体搭載済基板は、請求項1から12のいずれかに記載の基板製造装置によって製造されている。
A spherical body mounted substrate according to claim 25 is manufactured by the substrate manufacturing apparatus according to any one of
また、請求項26記載の球状体搭載済基板は、請求項13から24のいずれかに記載の基板製造方法によって製造されている。 A spherical body mounted substrate according to a twenty-sixth aspect is manufactured by the substrate manufacturing method according to any one of the thirteenth to twenty-fourth aspects.
また、請求項27記載の電子部品搭載済基板は、請求項25または26記載の球状体搭載済基板に固着された前記球状体を介して接続された電子部品が当該球状体搭載済基板に搭載されている。 An electronic component-mounted board according to claim 27 is mounted on the spherical-body-mounted board, with the electronic component connected via the spherical body fixed to the spherical-body-mounted board according to claim 25 or 26. Has been.
請求項1記載の基板製造装置、および請求項13記載の基板製造方法では、球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、先端部に球状体を保持している吸着保持部と吸着ヘッドの吸着面とを相対的に近接させて吸気口から吸引している状態の吸着ヘッドに対して球状体を供給する供給処理を実行する。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、適量の球状体を先端部に保持させることで、その適量の球状体を吸着ヘッドに供給させることができるため、球状体の過剰な供給を確実に防止することができる結果、余剰な球状体の付着を少なく抑えることができる。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体だけを吸着ヘッドによって保持させることができるため、余剰な球状体の基板への搭載、つまり基板に対する球状体の過剰な搭載を確実に防止することができる。
In the substrate manufacturing apparatus according to
また、請求項2記載の基板製造装置、および請求項14記載の基板製造方法では、球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、先端部に球状体を保持している吸着保持部と吸着ヘッドの吸着面とを相対的に近接させて吸気口から吸引している状態の吸着ヘッドに対して球状体を供給する供給処理を実行する。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、適量の球状体を先端部に保持させることで、その適量の球状体を吸着ヘッドに供給させることができるため、球状体の過剰な供給を確実に防止することができる結果、余剰な球状体の付着を少なく抑えることができる。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体だけを吸着ヘッドによって保持させることができるため、余剰な球状体の基板への搭載、つまり基板に対する球状体の過剰な搭載を確実に防止することができる。また、この基板製造装置および基板製造方法では、球状体を吸引可能な吸引部と吸着ヘッドの吸着面とを相対的に近接させて吸気口の縁部に吸着されている球状体を除く余剰な球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行する。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体と余剰な球状体とが静電気や分子間力によって互いに強く引き合っていたとしても、吸引部による吸引によって余剰な球状体の全てを搭載対象の球状体から強制的に引き離して吸着ヘッドから確実に除去することができる。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体だけをより確実に吸着ヘッドによって保持させることができるため、余剰な球状体の基板への搭載、つまり基板に対する球状体の過剰な搭載を一層確実に防止することができる。
Further, in the substrate manufacturing apparatus according to
また、請求項3記載の基板製造装置、および請求項15記載の基板製造方法では、球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、先端部に球状体を保持している吸着保持部と吸着ヘッドの吸着面とを相対的に近接させて吸気口から吸引している状態の吸着ヘッドに対して球状体を供給する供給処理を実行する。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、適量の球状体を先端部に保持させることで、その適量の球状体を吸着ヘッドに供給させることができるため、球状体の過剰な供給を確実に防止することができる結果、余剰な球状体の付着を少なく抑えることができる。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体だけを吸着ヘッドによって保持させることができるため、余剰な球状体の基板への搭載、つまり基板に対する球状体の過剰な搭載を確実に防止することができる。また、この基板製造装置および基板製造方法では、球状体を吸引可能な吸引部と吸着ヘッドの吸着面とを相対的に近接させて吸気口の縁部に吸着されている球状体を除く余剰な球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行する。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体と余剰な球状体とが静電気や分子間力によって互いに強く引き合っていたとしても、吸引部による吸引によって余剰な球状体の全てを搭載対象の球状体から強制的に引き離して吸着ヘッドから確実に除去することができる。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体だけをより確実に吸着ヘッドによって保持させることができるため、余剰な球状体の基板への搭載、つまり基板に対する球状体の過剰な搭載を一層確実に防止することができる。また、この基板製造装置および基板製造方法では、吸着処理の実行後において吸着ヘッドにおける球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行し、その第1検出処理の結果に基づいて、第1除去処理の実行、吸着処理の再実行、および供給処理の再実行を行う。このため、吸着処理において球状体が過剰に吸着されたとしても、吸着している球状体が除去された後に吸着処理および供給処理が再実行され、吸着処理において吸着された球状体に不足があったとしても、吸着処理および供給処理が再実行される。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、球状体を過不足なく吸着している吸着ヘッドによって球状体を基板に搭載することができる結果、球状体を基板に過不足なく確実に搭載することができる。
Further, in the substrate manufacturing apparatus according to
また、請求項4記載の基板製造装置、および請求項16記載の基板製造方法では、第1ベース部および第2ベース部と、第1ベース部に対する第2ベース部の第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ第1ベース部および第2ベース部を相互に連結する連結機構と、第1ベース部および第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が第2方向に沿うように配設された回動軸を介してスキージが第2ベース部に取り付けられて構成されているスキージユニットを用いてフラックスを塗り拡げる塗布処理を実行する。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、スキージが傾いた状態で取り付けられているとき、フラックスの塗布に際してスキージを押し付けるマスクや基板に傾きが生じているとき、および研磨によってスキージの先端部が斜め状態となっているときのいずれの場合においても、スキージユニットおよび基板の少なくとも一方を移動させてスキージ本体の先端部をマスクの表面に当接させたときに、スキージが回動軸を中心として第2ベース部に対して回動する結果、スキージにおける先端部の幅方向の全体をマスクに当接させることができる。また、スキージユニットおよび基板の少なくとも一方をさらに移動させることで付勢部材が第1ベース部に対して第2ベース部(スキージ)を離間方向に押圧する結果、第2ベース部に取り付けられているスキージの先端部を十分な押圧力でマスクの表面に押し当てることができる。これにより、この基板製造装置および基板製造方法によれば、スキージに傾きが生じないように移動機構等に対するスキージユニットの固定位置を微調整する煩雑な作業が不要となる結果、移動機構等に対してスキージユニットを容易に取り付けることができるだけでなく、上記の各種の状態において、先端部における幅方向の全体をマスクの表面に対して均一な押圧力で押し付けた状態においてフラックスを塗り拡げることができるため、塗布むらを生じさせることなく、基板の塗布領域にフラックスを均一に塗布することができる。また、この基板製造装置および基板製造方法では、球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、先端部に球状体を保持している吸着保持部と吸着ヘッドの吸着面とを相対的に近接させて吸気口から吸引している状態の吸着ヘッドに対して球状体を供給する供給処理を実行する。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、適量の球状体を先端部に保持させることで、その適量の球状体を吸着ヘッドに供給させることができるため、球状体の過剰な供給を確実に防止することができる結果、余剰な球状体の付着を少なく抑えることができる。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体だけを吸着ヘッドによって保持させることができるため、余剰な球状体の基板への搭載、つまり基板に対する球状体の過剰な搭載を確実に防止することができる。また、この基板製造装置および基板製造方法では、球状体を吸引可能な吸引部と吸着ヘッドの吸着面とを相対的に近接させて吸気口の縁部に吸着されている球状体を除く余剰な球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行する。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体と余剰な球状体とが静電気や分子間力によって互いに強く引き合っていたとしても、吸引部による吸引によって余剰な球状体の全てを搭載対象の球状体から強制的に引き離して吸着ヘッドから確実に除去することができる。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体だけをより確実に吸着ヘッドによって保持させることができるため、余剰な球状体の基板への搭載、つまり基板に対する球状体の過剰な搭載を一層確実に防止することができる。
Further, in the substrate manufacturing apparatus according to
また、請求項5記載の基板製造装置、および請求項17記載の基板製造方法では、第1ベース部および第2ベース部と、第1ベース部に対する第2ベース部の第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ第1ベース部および第2ベース部を相互に連結する連結機構と、第1ベース部および第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が第2方向に沿うように配設された回動軸を介してスキージが第2ベース部に取り付けられて構成されているスキージユニットを用いてフラックスを塗り拡げる塗布処理を実行する。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、スキージが傾いた状態で取り付けられているとき、フラックスの塗布に際してスキージを押し付けるマスクや基板に傾きが生じているとき、および研磨によってスキージの先端部が斜め状態となっているときのいずれの場合においても、スキージユニットおよび基板の少なくとも一方を移動させてスキージ本体の先端部をマスクの表面に当接させたときに、スキージが回動軸を中心として第2ベース部に対して回動する結果、スキージにおける先端部の幅方向の全体をマスクに当接させることができる。また、スキージユニットおよび基板の少なくとも一方をさらに移動させることで付勢部材が第1ベース部に対して第2ベース部(スキージ)を離間方向に押圧する結果、第2ベース部に取り付けられているスキージの先端部を十分な押圧力でマスクの表面に押し当てることができる。これにより、この基板製造装置および基板製造方法によれば、スキージに傾きが生じないように移動機構等に対するスキージユニットの固定位置を微調整する煩雑な作業が不要となる結果、移動機構等に対してスキージユニットを容易に取り付けることができるだけでなく、上記の各種の状態において、先端部における幅方向の全体をマスクの表面に対して均一な押圧力で押し付けた状態においてフラックスを塗り拡げることができるため、塗布むらを生じさせることなく、基板の塗布領域にフラックスを均一に塗布することができる。また、この基板製造装置および基板製造方法では、球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、先端部に球状体を保持している吸着保持部と吸着ヘッドの吸着面とを相対的に近接させて吸気口から吸引している状態の吸着ヘッドに対して球状体を供給する供給処理を実行する。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、適量の球状体を先端部に保持させることで、その適量の球状体を吸着ヘッドに供給させることができるため、球状体の過剰な供給を確実に防止することができる結果、余剰な球状体の付着を少なく抑えることができる。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体だけを吸着ヘッドによって保持させることができるため、余剰な球状体の基板への搭載、つまり基板に対する球状体の過剰な搭載を確実に防止することができる。また、この基板製造装置および基板製造方法では、球状体を吸引可能な吸引部と吸着ヘッドの吸着面とを相対的に近接させて吸気口の縁部に吸着されている球状体を除く余剰な球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行する。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体と余剰な球状体とが静電気や分子間力によって互いに強く引き合っていたとしても、吸引部による吸引によって余剰な球状体の全てを搭載対象の球状体から強制的に引き離して吸着ヘッドから確実に除去することができる。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体だけをより確実に吸着ヘッドによって保持させることができるため、余剰な球状体の基板への搭載、つまり基板に対する球状体の過剰な搭載を一層確実に防止することができる。また、この基板製造装置および基板製造方法では、吸着処理の実行後において吸着ヘッドにおける球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行し、その第1検出処理の結果に基づいて、第1除去処理の実行、吸着処理の再実行、および供給処理の再実行を行う。このため、吸着処理において球状体が過剰に吸着されたとしても、吸着している球状体が除去された後に吸着処理および供給処理が再実行され、吸着処理において吸着された球状体に不足があったとしても、吸着処理および供給処理が再実行される。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、球状体を過不足なく吸着している吸着ヘッドによって球状体を基板に搭載することができる結果、球状体を基板に過不足なく確実に搭載することができる。
In the substrate manufacturing apparatus according to
また、請求項6記載の基板製造装置、および請求項18記載の基板製造方法では、球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、先端部に球状体を保持している吸着保持部と吸着ヘッドの吸着面とを相対的に近接させて吸気口から吸引している状態の吸着ヘッドに対して球状体を供給する供給処理を実行する。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、適量の球状体を先端部に保持させることで、その適量の球状体を吸着ヘッドに供給させることができるため、球状体の過剰な供給を確実に防止することができる結果、余剰な球状体の付着を少なく抑えることができる。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体だけを吸着ヘッドによって保持させることができるため、余剰な球状体の基板への搭載、つまり基板に対する球状体の過剰な搭載を確実に防止することができる。また、この基板製造装置および基板製造方法では、吸着処理の実行後において吸着ヘッドにおける球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行し、その第1検出処理の結果に基づいて、第1除去処理の実行、吸着処理の再実行、および供給処理の再実行を行う。このため、吸着処理において球状体が過剰に吸着されたとしても、吸着している球状体が除去された後に吸着処理および供給処理が再実行され、吸着処理において吸着された球状体に不足があったとしても、吸着処理および供給処理が再実行される。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、球状体を過不足なく吸着している吸着ヘッドによって球状体を基板に搭載することができる結果、球状体を基板に過不足なく確実に搭載することができる。
Further, in the substrate manufacturing apparatus according to
また、請求項7記載の基板製造装置、および請求項19記載の基板製造方法では、第1ベース部および第2ベース部と、第1ベース部に対する第2ベース部の第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ第1ベース部および第2ベース部を相互に連結する連結機構と、第1ベース部および第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が第2方向に沿うように配設された回動軸を介してスキージが第2ベース部に取り付けられて構成されているスキージユニットを用いてフラックスを塗り拡げる塗布処理を実行する。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、スキージが傾いた状態で取り付けられているとき、フラックスの塗布に際してスキージを押し付けるマスクや基板に傾きが生じているとき、および研磨によってスキージの先端部が斜め状態となっているときのいずれの場合においても、スキージユニットおよび基板の少なくとも一方を移動させてスキージ本体の先端部をマスクの表面に当接させたときに、スキージが回動軸を中心として第2ベース部に対して回動する結果、スキージにおける先端部の幅方向の全体をマスクに当接させることができる。また、スキージユニットおよび基板の少なくとも一方をさらに移動させることで付勢部材が第1ベース部に対して第2ベース部(スキージ)を離間方向に押圧する結果、第2ベース部に取り付けられているスキージの先端部を十分な押圧力でマスクの表面に押し当てることができる。これにより、この基板製造装置および基板製造方法によれば、スキージに傾きが生じないように移動機構等に対するスキージユニットの固定位置を微調整する煩雑な作業が不要となる結果、移動機構等に対してスキージユニットを容易に取り付けることができるだけでなく、上記の各種の状態において、先端部における幅方向の全体をマスクの表面に対して均一な押圧力で押し付けた状態においてフラックスを塗り拡げることができるため、塗布むらを生じさせることなく、基板の塗布領域にフラックスを均一に塗布することができる。また、この基板製造装置および基板製造方法では、球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、先端部に球状体を保持している吸着保持部と吸着ヘッドの吸着面とを相対的に近接させて吸気口から吸引している状態の吸着ヘッドに対して球状体を供給する供給処理を実行する。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、適量の球状体を先端部に保持させることで、その適量の球状体を吸着ヘッドに供給させることができるため、球状体の過剰な供給を確実に防止することができる結果、余剰な球状体の付着を少なく抑えることができる。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体だけを吸着ヘッドによって保持させることができるため、余剰な球状体の基板への搭載、つまり基板に対する球状体の過剰な搭載を確実に防止することができる。また、この基板製造装置および基板製造方法では、吸着処理の実行後において吸着ヘッドにおける球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行し、その第1検出処理の結果に基づいて、第1除去処理の実行、吸着処理の再実行、および供給処理の再実行を行う。このため、吸着処理において球状体が過剰に吸着されたとしても、吸着している球状体が除去された後に吸着処理および供給処理が再実行され、吸着処理において吸着された球状体に不足があったとしても、吸着処理および供給処理が再実行される。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、球状体を過不足なく吸着している吸着ヘッドによって球状体を基板に搭載することができる結果、球状体を基板に過不足なく確実に搭載することができる。
In the substrate manufacturing apparatus according to
また、請求項8記載の基板製造装置、および請求項20記載の基板製造方法では、第1ベース部および第2ベース部と、第1ベース部に対する第2ベース部の第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ第1ベース部および第2ベース部を相互に連結する連結機構と、第1ベース部および第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が第2方向に沿うように配設された回動軸を介してスキージが第2ベース部に取り付けられて構成されているスキージユニットを用いてフラックスを塗り拡げる塗布処理を実行する。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、スキージが傾いた状態で取り付けられているとき、フラックスの塗布に際してスキージを押し付けるマスクや基板に傾きが生じているとき、および研磨によってスキージの先端部が斜め状態となっているときのいずれの場合においても、スキージユニットおよび基板の少なくとも一方を移動させてスキージ本体の先端部をマスクの表面に当接させたときに、スキージが回動軸を中心として第2ベース部に対して回動する結果、スキージにおける先端部の幅方向の全体をマスクに当接させることができる。また、スキージユニットおよび基板の少なくとも一方をさらに移動させることで付勢部材が第1ベース部に対して第2ベース部(スキージ)を離間方向に押圧する結果、第2ベース部に取り付けられているスキージの先端部を十分な押圧力でマスクの表面に押し当てることができる。これにより、この基板製造装置および基板製造方法によれば、スキージに傾きが生じないように移動機構等に対するスキージユニットの固定位置を微調整する煩雑な作業が不要となる結果、移動機構等に対してスキージユニットを容易に取り付けることができるだけでなく、上記の各種の状態において、先端部における幅方向の全体をマスクの表面に対して均一な押圧力で押し付けた状態においてフラックスを塗り拡げることができるため、塗布むらを生じさせることなく、基板の塗布領域にフラックスを均一に塗布することができる。また、この基板製造装置および基板製造方法では、球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、先端部に球状体を保持している吸着保持部と吸着ヘッドの吸着面とを相対的に近接させて吸気口から吸引している状態の吸着ヘッドに対して球状体を供給する供給処理を実行する。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、適量の球状体を先端部に保持させることで、その適量の球状体を吸着ヘッドに供給させることができるため、球状体の過剰な供給を確実に防止することができる結果、余剰な球状体の付着を少なく抑えることができる。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、搭載対象の球状体だけを吸着ヘッドによって保持させることができるため、余剰な球状体の基板への搭載、つまり基板に対する球状体の過剰な搭載を確実に防止することができる。
Moreover, in the board | substrate manufacturing apparatus of
また、請求項9記載の基板製造装置、および請求項21記載の基板製造方法では、供給処理において、先端部に球状体を保持している吸着保持部と吸着ヘッドの吸着面とを相対的に近接させた状態で吸着保持部が吸着面に沿って相対的に移動するように吸着ヘッドおよび吸着保持部の少なくとも一方を移動させる。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、吸着保持部の先端部に保持させた球状体を吸着保持部の移動に伴って分散させつつ徐々に供給させることができるため、球状体の過剰な供給を一層確実に防止することができる結果、余剰な球状体の付着をより少なく抑えることができる。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、余剰な球状体の基板への搭載、つまり基板に対する球状体の過剰な搭載をより確実に防止することができる。
In the substrate manufacturing apparatus according to claim 9 and the substrate manufacturing method according to
また、請求項10記載の基板製造装置、および請求項22記載の基板製造方法では、吸気口の口径が球状体の直径に対応させて互いに異なる複数の吸着ヘッド毎に移動処理を実行して各吸気口の口径に対応して直径が互いに異なる複数種類の球状体を1つの基板に対して搭載する。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、例えば、隣接する端子同士の間隔が領域によって異なったり、接続されるリード線の太さが領域によって異なったりする複雑な構成の基板に対して、直径(大きさ)が互いに異なる複数種類の球状体を確実に搭載することができる。
Further, in the substrate manufacturing apparatus according to claim 10 and the substrate manufacturing method according to
また、請求項11記載の基板製造装置、および請求項23記載の基板製造方法では、球状体を貯留する貯留部と、貯留部および補給口を繋ぐ移動流路とで構成された収容部が載置部に形成され、回動機構が、待機状態において補給口よりも貯留部が下側に位置する第1姿勢に載置部を維持させ、補給処理において貯留部よりも補給口が下側に位置する第2姿勢となるように載置部を回動させる球状体補給装置を用いて収容容器に対して球状体を補給する補給処理を実行する。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、精巧に製作された補給容器を用いることなく、待機状態において収容部の貯留部に予め規定された適量の球状体を貯留させることができ、また、補給処理において載置部を回動させて載置部の姿勢を第1姿勢から第2姿勢に変更するだけの簡易な構成でありながら、適量の球状体を収容容器に確実に補給することができる。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、簡易な構成の補給容器や回動機構を用いることができるため、球状体補給装置、球状体搭載装置および基板製造装置の製造コストを十分に低減することができる。 Further, in the substrate manufacturing apparatus according to claim 11 and the substrate manufacturing method according to claim 23, an accommodation portion configured by a storage portion that stores a spherical body and a moving flow path that connects the storage portion and the supply port is mounted. A rotation mechanism is formed in the mounting portion to maintain the mounting portion in a first posture in which the storage portion is located below the supply port in the standby state, and the supply port is positioned below the storage portion in the supply process. The replenishment process which replenishes a spherical body with respect to a storage container is performed using the spherical body replenishment apparatus which rotates a mounting part so that it may become a 2nd attitude | position located. For this reason, according to the substrate manufacturing apparatus and the substrate manufacturing method, it is possible to store a predetermined amount of spherical bodies in the storage unit of the storage unit in the standby state without using a precisely manufactured supply container. In addition, in the replenishment process, the proper amount of spherical body is reliably replenished to the storage container while having a simple configuration in which the placement portion is rotated to change the posture of the placement portion from the first posture to the second posture. can do. Therefore, according to the substrate manufacturing apparatus and the substrate manufacturing method, it is possible to use a replenishing container and a rotating mechanism with a simple configuration, and thus the manufacturing cost of the spherical body replenishing device, the spherical body mounting device, and the substrate manufacturing device is sufficiently increased. Can be reduced.
また、請求項12記載の基板製造装置、および請求項24記載の基板製造方法では、基板が複数面付けされた多面付け基板を切断して各基板に分割する切断処理および各基板に対する電気的検査を所定の順序で実行し、電気的検査において良品と判別された基板にのみ球状体を搭載する。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、電気的に不良な基板に対する球状体の搭載を確実に回避することができ、これによって球状体の無駄な消費を確実に抑えることができる結果、製造コストを十分に低減することができる。
Furthermore, in the substrate manufacturing apparatus according to
また、この基板製造装置および基板製造方法によれば、収容容器の開口部側に配設された吸着保持部の先端部を収容容器の底部側に対向させて球状体を先端部で吸着して保持させ、供給処理の実行時において先端部が吸着ヘッドの吸着面に対向するように吸着保持部を回動させる構成および方法を採用することで、吸着保持部を回動させるだけの簡易な構成でありながら、適量の球状体を吸着ヘッドに確実に供給することができる。 Further, according to the substrate manufacturing apparatus and the substrate manufacturing method, the tip of the suction holding unit disposed on the opening side of the container is opposed to the bottom of the container, and the spherical body is sucked by the tip. A simple configuration that simply rotates the suction holding unit by adopting a configuration and method for holding and rotating the suction holding unit so that the tip part faces the suction surface of the suction head during the supply process. However, an appropriate amount of spherical bodies can be reliably supplied to the suction head.
また、この基板製造装置および基板製造方法によれば、一体に構成された収容容器および吸着保持部を用いて供給処理を実行する構成および方法を採用することで、別体に構成された収容容器および吸着保持部を用いて、これらを複数の移動機構を用いて個別に移動させる構成および方法と比較して、1つの移動機構でこれらを一度に移動させることができる結果、球状体吸着装置、球状体搭載装置および基板製造装置を簡易に構成することができると共に処理効率を向上することができる。 Moreover, according to this board | substrate manufacturing apparatus and board | substrate manufacturing method, by adopting the structure and method which perform supply processing using the container and the adsorption | suction holding part comprised integrally, the container comprised separately As a result of being able to move these at once with one moving mechanism as compared to the configuration and method of individually moving them using a plurality of moving mechanisms using the adsorption holding unit, The spherical body mounting apparatus and the substrate manufacturing apparatus can be simply configured and the processing efficiency can be improved.
また、この基板製造装置および基板製造方法によれば、一体に構成された収容容器、吸着保持部および吸引部を用いて供給処理および吸引処理を実行する構成および方法を採用することで、別体に構成された収容容器、吸着保持部および吸引部を用いて、これらを複数の移動機構を用いて個別に移動させる構成および方法と比較して、1つの移動機構でこれらを一度に移動させることができる結果、球状体吸着装置、球状体搭載装置および基板製造装置を簡易に構成することができると共に処理効率を向上することができる。 In addition, according to the substrate manufacturing apparatus and the substrate manufacturing method, by adopting a configuration and a method for executing supply processing and suction processing using an integrally configured storage container, suction holding unit, and suction unit, separate units are provided. Compared to the configuration and method in which the storage container, the suction holding unit, and the suction unit configured in the above are used to individually move them using a plurality of moving mechanisms, these can be moved at once by one moving mechanism. As a result, the spherical body adsorption device, the spherical body mounting device, and the substrate manufacturing apparatus can be easily configured and the processing efficiency can be improved.
また、この基板製造装置および基板製造方法によれば、吸気口に連通しかつ球状体が通過可能な貫通孔が形成された整列用プレートを吸着ヘッドに装着させた状態において供給処理および吸引処理を行う構成および方法を採用することで、供給処理の際に吸着ヘッドの各吸気口に球状体を1つずつ確実に供給することができる。 Further, according to the substrate manufacturing apparatus and the substrate manufacturing method, the supply process and the suction process are performed in a state where the alignment plate having a through-hole that communicates with the air inlet and through which the spherical body can pass is mounted on the suction head. By adopting the configuration and method to be performed, one spherical body can be reliably supplied to each intake port of the suction head during the supply process.
また、この基板製造装置および基板製造方法によれば、球状体を基板に搭載した後に第2検出処理を実行し、第2検出処理の結果に基づいて第2除去処理を実行する構成および方法を採用することで、基板に塗布されているフラックスが球状体を基板に搭載する際に吸着ヘッドに付着したり、フラックスの付着に伴って球状体が吸着ヘッドに付着したりしたとしても、そのフラックスや球状体(付着物)を吸着ヘッドから確実に除去することができる結果、吸着ヘッドに付着したこれらの付着物によって次の各処理の実行に支障を来す事態を確実に防止することができる。 Moreover, according to this board | substrate manufacturing apparatus and board | substrate manufacturing method, after mounting a spherical body on a board | substrate, a 2nd detection process is performed, The structure and method of performing a 2nd removal process based on the result of a 2nd detection process By adopting the flux, even if the flux applied to the substrate adheres to the suction head when the spherical body is mounted on the substrate, or the spherical body adheres to the suction head as the flux is attached, the flux And the spherical body (adherent matter) can be reliably removed from the suction head, so that it is possible to reliably prevent the occurrence of the next processing by the adhering matter attached to the suction head. .
また、この基板製造装置および基板製造方法によれば、球状体を基板に搭載した後に第2検出処理を実行し、第2検出処理の結果に基づいて第1除去処理を実行する構成および方法を採用することで、例えば、球状体を基板に搭載する際にフラックスが付着せずに球状体だけが吸着ヘッドに付着しているときには、フラックスを除去する第2除去処理よりも高速の第1除去処理によってその球状体(付着物)を除去することができるため、処理時間を短縮することができる。 Moreover, according to this board | substrate manufacturing apparatus and board | substrate manufacturing method, the structure and method of performing a 2nd detection process after mounting a spherical body on a board | substrate, and performing a 1st removal process based on the result of a 2nd detection process. By adopting, for example, when the spherical body is mounted on the substrate, when the spherical body is not attached but only the spherical body is attached to the suction head, the first removal is faster than the second removal process for removing the flux. Since the spherical body (attachment) can be removed by the treatment, the treatment time can be shortened.
また、この基板製造装置および基板製造方法によれば、基板に既に搭載されている球状体との接触を回避するための凹部または切り欠きを形成した吸着ヘッドを用いる構成および方法を採用することで、例えば、搭載部が、吸気口の口径の大きい吸着ヘッドに対する移動処理を吸気口の口径の小さい吸着ヘッドに対する移動処理に先立って行う際に、基板に既に搭載されている球状体と吸着ヘッドとの接触を確実に回避することができる結果、接触による搭載済みの球状体の脱落を確実に防止することができる。 Further, according to the substrate manufacturing apparatus and the substrate manufacturing method, by adopting a configuration and method using a suction head formed with a recess or notch for avoiding contact with a spherical body already mounted on the substrate. For example, when the mounting unit performs the moving process for the suction head having a large inlet diameter before the moving process for the suction head having a small inlet diameter, the spherical body already mounted on the substrate and the suction head As a result, it is possible to reliably prevent the mounted spherical body from falling off due to the contact.
また、この基板製造装置および基板製造方法によれば、移動処理としての吸着ヘッドを基板に向けて移動させる処理を吸着ヘッドの数と同数の移動機構を用いて各吸着ヘッド毎に個別に実行する構成および方法を採用することで、複数の吸着ヘッドを交換して1つの移動機構で移動させる構成および方法と比較して、交換に要する時間分を短縮できるため、処理効率を十分に向上させることができる。 Further, according to the substrate manufacturing apparatus and the substrate manufacturing method, the process of moving the suction heads as the movement process toward the substrate is performed individually for each suction head using the same number of moving mechanisms as the number of suction heads. By adopting the configuration and method, the time required for replacement can be shortened compared to the configuration and method in which a plurality of suction heads are replaced and moved by a single moving mechanism, so that the processing efficiency is sufficiently improved. Can do.
また、この基板製造装置および基板製造方法によれば、吸気口の口径の小さい吸着ヘッドに対する移動処理を吸気口の口径の大きい吸着ヘッドに対する移動処理に先立って行う構成および方法を採用することで、例えば、先の移動処理によって搭載される球状体が後の移動処理によって搭載される球状体よりも十分に大きいときには、凹部や切り欠きを設けることなく、搭載済みの球状体と後の移動処理によって移動される吸着ヘッドとの接触を確実に回避することができる。このため、この基板製造装置および基板製造方法によれば、凹部や切り欠きを設けていない簡易な構成の吸着ヘッドを用いて、吸着ヘッドとの接触による搭載済みの球状体の脱落を確実に防止することができる。 Further, according to the substrate manufacturing apparatus and the substrate manufacturing method, by adopting a configuration and a method for performing the moving process for the suction head having a small inlet diameter before the moving process for the suction head having a large inlet diameter, For example, when the spherical body mounted by the previous movement process is sufficiently larger than the spherical body mounted by the subsequent movement process, the mounted spherical body and the subsequent movement process are provided without providing a recess or notch. Contact with the moved suction head can be reliably avoided. For this reason, according to the substrate manufacturing apparatus and the substrate manufacturing method, it is possible to reliably prevent the mounted spherical body from falling off due to contact with the suction head by using the suction head having a simple configuration not provided with a recess or notch. can do.
また、この基板製造装置および基板製造方法によれば、貯留部が平面視U字状または側面視U字状に形成され、移動流路が平面視直線状または側面視直線状に形成された構成およびこの構成の球状体補給装置を用いる方法を採用することで、載置部を第1姿勢とさせたときには、貯留部におけるU字状の凸部分が下側に位置するため、補給容器の排出口を貯留部の端部に連通させることで、その端部からU字状の凸部分に亘る領域に適量の球状体を確実に貯留させることができる。また、載置部を第2姿勢とさせたときには、貯留している球状体を移動流路に滑り降ろさせて補給口に向けて確実に移動させることができる。さらに、載置部を第2姿勢とさせたときには、補給容器の排出口に連通している貯留部の端部がU字状の凸部分よりも下側に位置するため、補給容器から排出される球状体が貯留部の端部によって堰き止められる結果、収容部の貯留部に貯留されていた球状体以外の球状体が載置部の表面を伝わって補給口以外から落下する事態を確実に防止することができる。 Moreover, according to this board | substrate manufacturing apparatus and board | substrate manufacturing method, the storage part was formed in planar view U-shape or side view U-shape, and the movement flow path was formed in planar view linear form or side view linear form. In addition, by adopting the method using the spherical body replenishing device having this configuration, when the mounting portion is in the first posture, the U-shaped convex portion of the storage portion is located on the lower side, so that the replenishment container can be discharged. By allowing the outlet to communicate with the end of the storage portion, an appropriate amount of the spherical body can be reliably stored in a region extending from the end to the U-shaped convex portion. In addition, when the mounting portion is in the second posture, the stored spherical body can be reliably moved toward the replenishing port by sliding down to the moving flow path. Furthermore, when the mounting portion is in the second posture, the end portion of the storage portion communicating with the discharge port of the supply container is positioned below the U-shaped convex portion, so that the discharge portion is discharged from the supply container. As a result, the spherical body other than the spherical body stored in the storage part of the storage part is transmitted through the surface of the mounting part and falls from other than the supply port. Can be prevented.
また、この基板製造装置および基板製造方法によれば、球状体補給装置の補給容器内に酸化防止用ガスを供給する酸化防止用ガス供給部を備えた構成およびこの構成の球状体補給装置を用いる方法を採用することで、補給容器に収納されている球状体の酸化を確実に防止することができるため、球状体同士が互いに固着して固まりとなって補給処理が困難となる事態を確実に防止することができる。 Further, according to the substrate manufacturing apparatus and the substrate manufacturing method, the configuration including the antioxidant gas supply unit that supplies the antioxidant gas into the supply container of the spherical body supply device and the spherical body supply device of this configuration are used. By adopting the method, it is possible to reliably prevent the spherical bodies contained in the replenishing container from being oxidized, so that it is possible to reliably prevent the spherical bodies from sticking together and becoming difficult to replenish. Can be prevented.
また、この基板製造装置および基板製造方法によれば、予め規定された条件を満たしたときに補給処理を実行する構成および方法を採用することで、予め規定された条件を満たしたときとして例えば球状体を基板に搭載する処理を規定回数実行したときに補給処理を実行することで、基板に搭載すべき球状体の数が不足する事態を確実に防止することができる。 Further, according to the substrate manufacturing apparatus and the substrate manufacturing method, by adopting a configuration and a method for executing the replenishment process when a predetermined condition is satisfied, for example, when the predetermined condition is satisfied, a spherical shape is obtained. By executing the replenishment process when the process of mounting the body on the substrate is performed a prescribed number of times, it is possible to reliably prevent a situation where the number of spherical bodies to be mounted on the substrate is insufficient.
また、この基板製造装置および基板製造方法によれば、スキージ本体と回動軸を介して第2ベース部に取り付けられると共にスキージ本体を取り外し可能に構成された第3ベース部とを備えたスキージを用いて塗布処理を実行する構成および方法を採用することで、スキージ本体の研磨作業時にスキージユニットの全体を取り外すことなく、スキージ本体だけを第3ベース部から取り外して作業することができる。また、複数回の研磨によってスキージ本体が短くなったときには、スキージ本体だけを新たな部品に交換することで、第1ベース部、第2ベース部および第3ベース部等を継続して使用することができるため、フラックス塗布装置のランニングコストを十分に低減することができる。 In addition, according to the substrate manufacturing apparatus and the substrate manufacturing method, the squeegee including the squeegee body and the third base portion that is attached to the second base portion via the rotation shaft and configured to be removable from the squeegee body. By adopting the configuration and the method for performing the coating process by using the squeegee main body, it is possible to work by removing only the squeegee main body from the third base portion without removing the entire squeegee unit at the time of polishing the main body. In addition, when the squeegee body becomes shorter due to multiple polishing, the first base part, the second base part, the third base part, etc. can be used continuously by replacing only the squeegee body with new parts. Therefore, the running cost of the flux coating device can be sufficiently reduced.
また、この基板製造装置および基板製造方法によれば、切断処理を実行した後に電気的検査を実行する構成および方法を採用することで、例えば、切断処理の際の振動などに起因して基板の導体パターンおよび端子やスルーホールなどに断線や短絡が生じたとしても、その基板を不良品として確実に判別することができる。したがって、この基板製造装置および基板製造方法によれば、多面付け基板の製造時において生じている不良な基板に対する球状体の搭載による球状体の無駄な消費を抑えることができるのに加えて、切断処理に起因して生じた不良な基板に対する球状体の搭載による球状体の無駄な消費も確実に抑えることができる結果、製造コストを一層低減することができる。 In addition, according to the substrate manufacturing apparatus and the substrate manufacturing method, by adopting a configuration and a method for performing an electrical inspection after performing a cutting process, for example, due to vibration during the cutting process, the substrate Even if the conductor pattern, the terminal, the through hole, or the like is disconnected or short-circuited, the substrate can be reliably determined as a defective product. Therefore, according to the substrate manufacturing apparatus and the substrate manufacturing method, it is possible to suppress the wasteful consumption of the spherical body due to the mounting of the spherical body on the defective substrate that occurs during the manufacture of the multi-sided substrate, in addition to the cutting The wasteful consumption of the spherical body due to the mounting of the spherical body on the defective substrate caused by the processing can be surely suppressed, so that the manufacturing cost can be further reduced.
また、請求項25,26記載の球状体搭載済基板は、上記の基板製造装置または基板製造方法によって製造されている。このため、この球状体搭載済基板では、基板に対する球状体の過剰な搭載が確実に防止される結果、球状体を溶融して基板に固着させる際に、過剰に搭載された球状体が溶融に伴って互いに接続される事態が回避されている。したがって、この球状体搭載済基板によれば、電子部品を実装する際に、接続された球状体(半田)を介して電子部品の端子同士が短絡する不良の発生を確実に防止することができる。 The spherical body mounted substrate according to claims 25 and 26 is manufactured by the above-described substrate manufacturing apparatus or substrate manufacturing method. For this reason, in the spherical body mounted substrate, excessive mounting of the spherical body to the substrate is surely prevented. Accordingly, the situation of being connected to each other is avoided. Therefore, according to this spherical body mounted substrate, it is possible to reliably prevent the occurrence of a defect in which the terminals of the electronic component are short-circuited via the connected spherical body (solder) when the electronic component is mounted. .
また、請求項27記載の電子部品搭載済基板では、上記の球状体搭載済基板に固着された球状体を介して接続された電子部品が球状体搭載済基板に搭載されている。このため、この電子部品搭載済基板では、過剰に搭載された球状体が溶融に伴って互いに接続される事態が回避されている結果、電子部品を実装する際に、接続された球状体(半田)を介して電子部品の端子同士が短絡する不良の発生が確実に防止されている。したがって、この電子部品搭載済基板によれば、この電子部品搭載済基板を用いた製品における不良の発生を確実に防止することができる。 In the electronic component mounted substrate according to claim 27, the electronic component connected through the spherical body fixed to the spherical body mounted substrate is mounted on the spherical body mounted substrate. For this reason, in this electronic component mounted substrate, a situation where excessively mounted spherical bodies are connected to each other with melting is avoided, so that when the electronic components are mounted, the connected spherical bodies (solder ), The occurrence of a defect in which the terminals of the electronic component are short-circuited is reliably prevented. Therefore, according to this electronic component mounted substrate, it is possible to reliably prevent the occurrence of defects in products using this electronic component mounted substrate.
以下、基板製造装置、基板製造方法、球状体搭載済基板および電子部品搭載済基板の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments of a substrate manufacturing apparatus, a substrate manufacturing method, a spherical body mounted substrate, and an electronic component mounted substrate will be described with reference to the accompanying drawings.
最初に、図1に示す半田搭載済基板製造装置1(以下、単に「製造装置1」ともいう)の構成について説明する。製造装置1は、基板製造装置(球状体搭載済基板製造装置)の一例であって、基板製造方法(球状体搭載済基板製造方法)に従って半田搭載済基板(球状体搭載済基板)600(図51参照)を製造可能に構成されている。具体的には、製造装置1は、球状体の一例としての微小な球状粒体である2種類の半田ボール(マイクロボール)300a,300b(図22,24参照:以下、区別しないときには「半田ボール300」ともいう)を、搭載対象体としての基板400の端子401(図4参照)に搭載(載置)し、その半田ボール300を溶融(リフロー)して基板400に固着させる。
First, the configuration of the solder-mounted board manufacturing apparatus 1 (hereinafter also simply referred to as “
また、半田ボール300aは、直径L1a(図22参照)が70μm程度の球状に構成され、半田ボール300bは、直径L1b(図24参照:以下、直径L1a,L1bを区別しないときには「直径L1」ともいう)が50μm程度の球状に構成されている。また、基板400は、一例として、中央部の第1領域400a(図4参照)内において、太いリード線が接続されて直径が大きな複数の端子401が形成され、外周側の第2領域400b(同図参照)内において、第1領域400a内の端子401よりも直径が短い複数の端子401が短い間隔で形成されて構成されている。このため、この基板400では、太いリード線を確実に接続するために、第1領域400a内に形成されている端子401に大きな(直径の長い)半田ボール300aが搭載され、端子401同士の短絡を防止するために、第2領域400b内に形成されている端子401に小さな(直径の短い)半田ボール300bが搭載される。なお、半田ボール300a,300bは、後述する半田ボール搭載装置5によって基板400に搭載された後に、後述する溶融装置7によって加熱溶融(リフロー処理)されることにより、基板400上にボールグリッドアレイ(BGA)を構成する。また、基板400は、図5,6に示すように、複数の基板400(ピース)を面付け(配列)した多面付け基板500を切断することによって分割される。
The
一方、製造装置1は、図1に示すように、切断装置2、検査装置3、フラックス塗布装置4、半田ボール搭載装置5(球状体搭載装置)、搬送装置6、溶融装置7および制御装置(制御部)8を備えて構成されている。
On the other hand, as shown in FIG. 1, the
切断装置2は、図2に示すように、保持台21および切断機構22を備えて、多面付け基板500を切断して複数の基板400に分割する切断処理を実行する。この場合、保持台21は、図外の基板供給装置によって供給(載置)される多面付け基板500を支持可能に構成されている。切断機構22は、保持台21に載置されている多面付け基板500に切断ブレード(ダイシングブレード)を回転させつつ接触させることによって多面付け基板500を切断する。
As shown in FIG. 2, the
検査装置3は、図3に示すように、電源部31、電圧検出部32、電流検出部33、複数のプローブ34、および検査部35を備えて、基板400に対する電気的検査を実行して、基板400の良否(具体的には、基板400に形成されている図外の導体パターンの断線や短絡の有無)を判別する。この場合、電源部31は、検査用電流I(一例として、直流電流)を出力する。電圧検出部32は、プローブ34を介して検査対象の端子401に検査用電流Iが供給されたときに端子401間に生じる電圧Vの電圧値を検出し、電流検出部33は、供給される検査用電流Iの電流値を検出する。検査部35は、電圧検出部32によって検出された電圧Vの電圧値と電流検出部33によって検出された検査用電流Iの電流値とに基づいて端子401間の抵抗値を測定し、その測定値に基づいて導体パターンの断線や短絡の有無、つまり基板400の良否を判別する。
As shown in FIG. 3, the
フラックス塗布装置4は、図28に示すように、検査装置3によって良好と判別された基板400が供給される供給位置P3と後述する第2搭載位置P2bとの間の塗布位置P4に配設されて、基板400の表面にフラックスF(図12参照)を塗布する塗布処理を実行可能に構成されている。具体的には、フラックス塗布装置4は、図7に示すように、メタルマスク41、塗布ユニット42、フラックス供給部43、塗布機構44および基板搬送機構45を備えて構成されている。
As shown in FIG. 28, the
メタルマスク41は、基板400におけるボールグリッドアレイが形成される部分(以下、「BGA形成部」ともいう)を含む広い領域を塗布領域Pa(図11参照)として規定すると共に、フラックスFを塗布する領域を制限して塗布領域PaだけにフラックスFを塗布するように構成されている。具体的には、図11〜図14に示すように、メタルマスク41は、例えばステンレススチール等の金属材料で薄板状に形成されると共に、後述するように基板400の表面(塗布面)に押し当てられた状態においてフラックスFを塗布すべき塗布領域Pa(すなわち、上記のBGA形成部を含む広い領域)を露出させるように平面視矩形状の開口部411が形成されている。また、メタルマスク41は、その厚みが塗布領域Paに塗布すべきフラックスFの塗布厚(塗布すべきフラックスFの量)に応じて規定されている。なお、フラックスFの塗布処理時に使用するマスクは、上記のメタルマスク41に限定されず、樹脂マスク(樹脂製のマスク)を使用することもできる。
The
図7に示すように、塗布ユニット42は、一例として、一対のスキージユニット421a,421bと、フラックス供給部43から供給されたフラックスFを吐出するためのノズル431とを備えている。スキージユニット421a,421b(以下、区別しないときには「スキージユニット421」ともいう)は、フラックス供給部43から供給されてノズル431から吐出されたフラックスFを基板400の塗布領域Paに塗り拡げるための機構部品であって、図8,9に示すように、ベース部422a,422b、直動案内機構423、スプリング424,424、ベース部425、回動軸426、スキージ本体427および取付け用板428,428を備えている。
As shown in FIG. 7, the
ベース部422a,422bは、第1ベース部および第2ベース部に相当し、直動案内機構423によって相互に連結されている。また、直動案内機構423は、連結機構の一例であって、ベース部422aに対するベース部422bの上下方向(図10に示す矢印Aの方向:塗布機構44によるスキージユニット421のメタルマスク41に対する押し付け方向である「第1方向」に沿った方向)に沿った相対的な移動を許容しつつベース部422a,422bを相互に連結する。この直動案内機構423は、図8,9に示すように、ベース部422a,422bの幅方向における中央部に配設されたシャフト423aと、ベース部422a,422bにおける幅方向の両端部に配設された一対のシャフト423b,423bとを備えている。また、シャフト423b,423bの周囲には、ベース部422a,422bを相互に離間させる向きに付勢するスプリング424(コイルスプリング:「付勢部材」の一例)がそれぞれ取り付けられている。
The
ベース部425は、スキージ本体427と相俟って「スキージ」を構成する。このベース部425は、第3ベース部に相当し、回動軸426を介してベース部422bに取り付けられている。この場合、回動軸426は、フラックス塗布装置4によるフラックスFの塗布処理に際して塗布機構44がスキージユニット421を移動させる方向(図12,13に示す矢印Cの向き、および、図14に示す矢印Dの向き:「第2方向」の一例)にその軸長が沿うようにして配設されて、ベース部422a,422bを相互に連結する。これにより、図10に示すように、このスキージユニット421では、ベース部422a,422b等に対して、ベース部425およびスキージ本体427(スキージ)が矢印B1,B2の向きで揺動可能となっている。これにより、このスキージユニット421では、後述するようにして、スキージ本体427の先端部427xにおける幅方向の各部がメタルマスク41の表面に対して均一な押圧力で押し付けられる。
The
また、スキージ本体427は、ベース部425とは別体に形成され、図9に示すように、一対の取付け用板428によって挟まれるようにして、ベース部425に対して取り外し可能に取り付けられている。また、スキージ本体427は、一例として、樹脂材料(ポリウレタン等)で平板状に形成された板状部427aと、この板状部427aを保持するホルダ427bとが一体化されて構成されている。また、スキージ本体427は、上記の板状部427aの先端部427xが平面視直線状となり、かつ、メタルマスク41や基板400に対して線的に接触するように先端部427xが尖らされている。なお、樹脂製の板状部427aに代えて、金属やセラミック等の各種材料で形成した板状部をホルダ427bによって保持してスキージ本体427を構成することもできるし、樹脂材料、金属およびセラミック等の各種材料で板状部およびホルダを一体形成して、スキージ本体427を構成することもできる。
Further, the squeegee
ノズル431は、図7に示すように、フラックス供給部43に連結されると共に、スキージユニット421a,421bの間に配設され、フラックス供給部43から供給されたフラックスFをスキージユニット421a,421bの間に吐出(供給)する。フラックス供給部43は、制御装置8の制御に従って規定量のフラックスFを塗布ユニット42に向けて圧送することで、基板400の塗布面(塗布面に押し当てられたメタルマスク41の表面:図12参照)にノズル431からフラックスFを供給する。
As shown in FIG. 7, the
塗布機構44は、図9に示すように、塗布ユニット42(スキージユニット421a,421bおよびノズル431)を取り付けるための取付部441を備え、制御装置8の制御に従ってメタルマスク41および基板400に対して塗布ユニット42を移動させる。具体的には、塗布機構44は、後述するようにして、基板搬送機構45によってフラックスFの塗布処理位置に搬送された基板400に向けて上記の塗布ユニット42(スキージユニット421)を下降させてスキージ本体427における先端部427xをメタルマスク41の表面に押し当てる(「マスクが押し当てられた基板およびスキージの少なくとも一方」が「スキージユニット421(塗布ユニット42)である構成の例)。また、塗布機構44は、メタルマスク41の表面にスキージ本体427の先端部427xが押し当てられた状態の両スキージユニット421を図11〜13に示す矢印C、または図11,14に示す矢印Dの向きに移動させて基板400の塗布領域PaにフラックスFを塗り拡げさせる。
As shown in FIG. 9, the
基板搬送機構45は、制御装置8の制御に従ってフラックスFを塗布すべき基板400を塗布処理位置に搬送すると共に、フラックスFの塗布が完了した基板400を塗布処理位置から搬出する。また、フラックス塗布装置4は、制御装置8によって総括的に制御される。具体的には、制御装置8は、基板搬送機構45に対して制御信号を出力して基板400を塗布処理位置に搬送させる。この場合、このフラックス塗布装置4では、一例として、メタルマスク41が塗布処理位置に固定され、基板搬送機構45がメタルマスク41の裏面に塗布面を押し当てるようにして基板400を塗布処理位置に位置決めする構成が採用されている。また、制御装置8は、塗布機構44に対して制御信号を出力して塗布ユニット42を基板400上(メタルマスク41上)に移動させると共に、フラックス供給部43に対して制御信号を出力してフラックスFを供給させる。さらに、制御装置8は、塗布機構44を制御して塗布ユニット42を移動させることによってフラックスFを基板400の塗布面に塗布する(塗り拡げる)塗布処理を実行する。
The
半田ボール搭載装置5は、基板400の端子401に半田ボール300a,300bを搭載する搭載処理(後述する第1搭載処理および第2搭載処理)を実行可能に構成されている。具体的には、半田ボール搭載装置5は、図18に示すように、半田ボール吸着装置(球状体吸着装置)51a,51b(以下、区別しないときには「半田ボール吸着装置51」ともいう)、検出部52a,52b(以下、区別しないときには「検出部52」ともいう)、第1除去部53a,53b(以下、区別しないときには「第1除去部53」ともいう)、第2除去部54a,54b(以下、区別しないときには「第2除去部54」ともいう)および半田ボール補給装置55a,55b(以下、区別しないときには「半田ボール補給装置55」ともいう)を備えて構成されている。
The solder
半田ボール吸着装置51aは、図19に示すように、吸着ヘッド511a、供給部513a、吸気装置518a、整列用プレート519aおよび移動機構520aを備えて構成されて、後述する供給処理および吸引処理を実行して半田ボール300aを吸着する。また、半田ボール吸着装置51bは、図20に示すように、吸着ヘッド511b(以下、吸着ヘッド511a,511bを区別しないときには「吸着ヘッド511」ともいう)、供給部513b(以下、供給部513a,513bを区別しないときには「供給部513」ともいう)、吸気装置518b(以下、吸気装置518a,518bを区別しないときには「吸気装置518」ともいう)、整列用プレート519b(以下、整列用プレート519a,519bを区別しないときには「整列用プレート519」ともいう)および移動機構520b(以下、移動機構520a,520bを区別しないときには「移動機構520」ともいう)を備えて構成されて、供給処理および吸引処理を実行して半田ボール300bを吸着する。この場合、供給部513a,513b、整列用プレート519a,519bおよび移動機構520a,520bによって搭載部が構成される。
As shown in FIG. 19, the solder
吸着ヘッド511a,511bは、吸着処理(保持処理)を実行して複数の半田ボール300を吸着して保持する。具体的には、吸着ヘッド511a,511bは、図21,23にそれぞれ示すように、一例として、内部に空隙512aが形成された箱状に構成されている。また、図22,24にそれぞれ示すように、吸着ヘッド511a,511bにおける底壁512bには、底壁512bの外面(吸着面として機能する面であって、以下「吸着面512c」ともいう)に開口すると共に空隙512aと連通する吸気孔512dが、底壁512bの厚み方向に沿って複数(両図では、そのうちの1個のみを図示している)形成されている。なお、吸着面512cにおける吸気孔512dの開口部が吸気口(以下、「吸気口512e」ともいう)に相当する。また、図23に示すように、吸着ヘッド511bには、第2搭載処理の実行時において基板400に既に搭載されている半田ボール300aとの接触を回避するための凹部512gが形成されている。
The suction heads 511a and 511b perform suction processing (holding processing) to suck and hold the plurality of
この場合、図22に示すように、吸着ヘッド511aにおける吸気孔512dの直径(つまり、吸気口512eの口径)L2aは、半田ボール300aの直径L1aに対応させて規定されている。具体的には、直径L2aは、直径L1a(この例では、70μm)よりも短い40μm程度に規定されている。また、図24に示すように、吸着ヘッド511bにおける吸気孔512dの直径L2bは、半田ボール300bの直径L1bに対応させて規定されている。具体的には、直径L2bは、直径L1b(この例では、50μm)よりも短い30μm程度に規定されている。また、図21,23にそれぞれ示すように、吸着ヘッド511a,511bには、空隙512a内の空気を排気するための排気孔512fが形成されている。この吸着ヘッド511a,511bでは、空隙512a内の空気の排気によって空隙512a内が負圧状態となり、それに伴って吸気口512eからの吸気が行われることにより、吸着面512cにおける吸気口512eの縁部に半田ボール300を吸着して保持することが可能となっている(図22,24参照)。
In this case, as shown in FIG. 22, the diameter of the
供給部513a,513bは、図19,20に示すように、収容容器514、吸着保持部515、吸引部516、および駆動機構517を備えてそれぞれ構成されている。また、供給部513は、制御装置8の制御に従い、半田ボール300を保持した吸着保持部515の先端部515aを整列用プレート519(整列用プレート519が装着された吸着ヘッド511の吸着面512c)に近接させた状態で、吸着保持部515および吸引部516を整列用プレート519(吸着面512c)に沿って移動させることにより、吸着ヘッド511に対して半田ボール300を供給する供給処理、および吸着面512cにおける吸気口512eの縁部に吸着された半田ボール300(以下、この半田ボール300を「搭載対象の半田ボール300」ともいう)を除く半田ボール300(以下、この半田ボール300を「余剰な半田ボール300」ともいう)を除去する吸引処理を実行する。
As shown in FIGS. 19 and 20, the
収容容器514は、図26,27に示すように、その内面が断面半円状に湾曲した容器本体514cと、容器本体514cの両側部に配設された2枚の側壁514f,514g(図27参照)とを備えて、容器本体514cおよび側壁514f,514gによって形成される収容部514a(図26参照)内に半田ボール300を収容可能に構成されている。また、収容容器514の開口部514b(同図参照)側には、側壁514f,514gに両端部が支持されたワイパー514dが配設されている。また、側壁514f,514gには、吸着保持部515を回動可能に支持するためのベアリング514e(図27参照)が配設されている。この場合、収容容器514は、供給処理の実行時において開口部514bが吸着ヘッド511の吸着面512cに対向するように配置される(図26参照)。
As shown in FIGS. 26 and 27, the
吸着保持部515は、図27に示すように、全体として直方体状に形成されると共に、図26に示すように、基端部515b側から先端部515aに至る吸気経路515cが内部に形成されて、収容容器514の収容部514a内に収容されている半田ボール300をその先端部515aで吸着して保持可能に構成されている。また、吸着保持部515の先端部515aには、通気性シート515eが取り付けられている。また、吸着保持部515は、基端部515b側に配設された軸515fおよび吸気管515dが収容容器514の側壁514f,514gに配設されたベアリング514eによって回転可能に支持されることで、収容容器514の開口部514b側において基端部515bを中心として回動可能に配設されている。
As shown in FIG. 27, the
この場合、吸着保持部515は、図26に示すように、先端部515aが収容容器514の容器本体514cの底部側に対向しているときに、収容容器514の収容部514aに収容されている半田ボール300を先端部515aで吸着して保持する。また、吸着保持部515は、供給処理の実行時において、図40に示すように、半田ボール300を保持している先端部515aが吸着ヘッド511の吸着面512cに対向するように駆動機構517によって回動させられる。
In this case, as shown in FIG. 26, the
吸引部516は、図26,27に示すように、2枚の区画壁516b,516cを備えて構成されて、収容容器514における2枚の側壁514f,514gと区画壁516b,516cとによって形成される吸引経路516a(図26参照)を介して半田ボール300を吸引可能に構成されている。この場合、この半田ボール搭載装置5では、収容容器514、吸着保持部515および吸引部516が上記のように構成されることで、これらが一体に構成されている(図25参照:以下、一体化され収容容器514、吸着保持部515および吸引部516を全体として「本体部50」ともいう)。
As shown in FIGS. 26 and 27, the
駆動機構517は、移動機構として機能し、制御装置8の制御に従って本体部50(収容容器514、吸着保持部515および吸引部516)を移動させる。また、駆動機構517は、回動機構として機能し、制御装置8の制御に従って吸着保持部515を回動させる。
The
吸気装置518a,518bは、吸気ポンプおよび電磁バルブ(いずれも図示せず)を備えてそれぞれ構成されている。また、吸気装置518a,518bは、図19,20に示すように、吸気管518cを介して、吸着ヘッド511a,511b(各吸着ヘッド511a,511bの排気孔512f)、吸着保持部515(各吸着保持部515の吸気経路515cに連通する吸気管515d)、および吸引部516(各吸引部516の吸引経路516a)にそれぞれ繋がれている。この場合、吸気装置518a,518bは、制御装置8の制御に従って作動して、吸着ヘッド511a,511bの空隙512a内を負圧状態とすることによる吸気口512eからの吸気、吸着保持部515における吸気経路515cからの吸気、吸引部516における吸引経路516aからの吸気(吸引)を行う。
The
整列用プレート519a,519bは、吸着ヘッド511に対して着脱可能に構成されると共に、図22,24にそれぞれ示すように、吸着ヘッド511の吸着面512cに上面519cが接触するように装着された状態において吸着ヘッド511の吸気口512eに連通する挿通孔519eが形成されている。この場合、図22に示すように、整列用プレート519aの厚みL3aは、吸気口512eの縁部に吸着された半田ボール300aが下面519dから突出しない80μm程度に規定されている。また、整列用プレート519aにおける挿通孔519eの直径L4aは、半田ボール300が通過可能な90μm程度に規定されている。また、図24に示すように、整列用プレート519bの厚みL3bは、吸気口512eの縁部に吸着された半田ボール300bが下面519dから突出しない60μm程度に規定されている。また、整列用プレート519bにおける挿通孔519eの直径L4bは、半田ボール300bが通過可能な70μm程度に規定されている。また、整列用プレート519は、図26に示すように、本体部50の配置位置の上方の位置に配置されている。
The
移動機構520a,520bは、制御装置8の制御に従って吸着ヘッド511a,511bを基板400に向けてそれぞれ移動させる移動処理を実行する。この場合、移動機構520aは、図28に示すように、半田ボール300aを吸着して保持する吸着処理(保持処理)が実行される吸着位置P1a(整列用プレート519aの配置位置)と基板400に半田ボール300aを搭載する第1搭載処理が実行される第1搭載位置P2aとの間で吸着ヘッド511aを移動させる。また、移動機構520bは、同図に示すように、半田ボール300bを吸着し保持する吸着処理(保持処理)が実行される吸着位置P1b(整列用プレート519bの配置位置)と基板400に半田ボール300bを搭載する第2搭載処理が実行される第2搭載位置P2bとの間で吸着ヘッド511bを移動させる。このように、この半田ボール搭載装置5では、吸着ヘッド511の数と同数(この例では、2つ)の移動機構520を備えて半田ボール搭載装置5が構成されており、1つの移動機構520が1つの吸着ヘッド511を基板400に向けて個別に移動させる処理を移動処理として実行する(つまり、半田ボール搭載装置5は、吸着ヘッド511毎に移動処理を実行する)。
The moving
検出部52aは、図28に示すように、吸着位置P1aと第1搭載位置P2aとの間に配置され、検出部52bは、吸着位置P1bと第1搭載位置P2bとの間に配置されている。また、検出部52aは、吸着ヘッド511aの吸着面512c側を撮像するカメラ(図示せず)を備えて構成され、検出部52bは、吸着ヘッド511bの吸着面512c側を撮像するカメラ(図示せず)を備えて構成されている。この場合、検出部52a,52bは、第1検出部としてそれぞれ機能し、カメラによる撮像画像を画像解析することにより、吸着処理の実行後の吸着ヘッド511a,511bにおける半田ボール300a,300bの過不足を検出する第1検出処理を実行する。また、検出部52a,52bは、第2検出部としても機能し、カメラによる撮像画像を画像解析することにより、搭載処理の実行後の吸着ヘッド511a,511bにおけるフラックスFや半田ボール300a,300bなどの付着物の付着の有無を検出する第2検出処理を実行する。
As shown in FIG. 28, the
第1除去部53a,53bは、、図29に示すように、板状にそれぞれ構成されている。また、第1除去部53の中央部には、上面531aに開口する吸引経路531bが形成されている。この場合、第1除去部53aは、図28に示すように、吸着位置P1aと第1搭載位置P2aとの間に配置されて、吸着処理の実行後において吸着ヘッド511aによって吸着されている半田ボール300a、および搭載処理の実行後において吸着ヘッド511aに付着している半田ボール300aを吸引経路531bを介して吸引することにより、吸着ヘッド511aから半田ボール300aを除去する第1除去処理を実行する。また、第1除去部53bは、同図に示すように、吸着位置P1bと第1搭載位置P2bとの間に配置されて、吸着処理の実行後において吸着ヘッド511bによって吸着されている半田ボール300b、および搭載処理の実行後において吸着ヘッド511bに付着している半田ボール300bを吸引経路531bを介して吸引することにより、吸着ヘッド511bから半田ボール300bを除去する第1除去処理を実行する。
As shown in FIG. 29, the
第2除去部54a,54bは、図30に示すように、フラックスFを溶融除去可能な除去液(例えば、溶剤)541を貯留する貯留槽542と、吸液性を有する材料(例えば、布帛やスポンジ)が先端部に取り付けられて、貯留槽542の内部に上下動可能に配設された除去部材543と、除去部材543を上下動させる図外の移動機構とを備えてそれぞれ構成されている。この場合、第2除去部54aは、図28に示すように、吸着位置P1aと第1搭載位置P2aとの間に配置されて、搭載処理の実行後の吸着ヘッド511aに付着しているフラックスF、およびフラックスFの付着に伴って吸着ヘッド511aに付着している半田ボール300aを除去する第2除去処理を実行する。また、第2除去部54bは、同図に示すように、吸着位置P1bと第1搭載位置P2bとの間に配置されて、搭載処理の実行後の吸着ヘッド511bに付着しているフラックスF、およびフラックスFの付着に伴って吸着ヘッド511bに付着している半田ボール300bを除去する第2除去処理を実行する。
As shown in FIG. 30, the
半田ボール補給装置55a,55bは、球状体補給装置の一例であって、図31に示すように、補給容器551、載置部554、回動機構556および窒素ガス供給部557を備えてそれぞれ構成されている。また、半田ボール補給装置55a,55bは、供給部513a,513bの収容容器514に対して半田ボール300a,300bを補給する補給処理をそれぞれ実行する。この場合、各半田ボール補給装置55a,55bは、1回の補給処理において予め規定された適量の半田ボール300a,300bを補給する。また、各半田ボール補給装置55a,55bは、予め規定された条件を満たしたときに制御装置8から発せられる実行指示に従って補給処理を実行する。また、各半田ボール補給装置55a,55bは、図28に示すように、待機状態(初期状態)において、載置部554の縁部554bに形成されている補給口554f(図52参照)が、各供給部513a,513bの収容容器514(本体部50)が待機している位置の上方に位置するように配置されている。
The solder
補給容器551は、図33に示すように、例えば、光透過性を有する樹脂でそれぞれ形成された本体部551aおよび蓋部552を備えて構成されて、半田ボール300を収納可能に構成されている。本体部551aは、下部の外形が上部の外形よりも小径に形成されている。また、本体部551aの上部には、半田ボール300を投入する開口部551bが形成され、本体部551aの下部には半田ボール300を排出する排出口551cが形成されている。また、本体部551aの側面には、窒素ガス供給部557から供給される窒素ガスを本体部551aの内部に流入させるための流入口551dが形成されている。蓋部552は、同図に示すように、本体部551aの上部に嵌合可能に構成され、嵌合状態において本体部551aの開口部551bを閉塞する。
As shown in FIG. 33, the replenishing
載置部554は、図52〜図55に示すように、例えば、樹脂によって矩形の板状に形成されて、排出口551cを下向きにした状態の補給容器551がスペーサ553を介して上面554a側に載置される(図32参照)。なお、図52〜図55では、補給容器551およびスペーサ553を取り外した状態を図示している。また、載置部554の上面554aには、収容部としての溝555が形成されている。この場合、溝555は、スペーサ553によって開口部側が閉塞され、これにより、半田ボール300を溢れ出させることなく収容することが可能となっている。また、溝555は、図52,53に示すように、貯留部555aおよび移動流路555bを備えて構成され、全体として平面視がJ字状に形成されている。
As shown in FIGS. 52 to 55, the mounting
貯留部555aは、平面視がU字状に形成されて、上記した適量の半田ボール300を貯留する(つまり、半田ボール300を適量分だけ計量する)機能を有している。また、移動流路555bは、平面視が直線状に形成されて、貯留部555aにおける一方の端部と、載置部554の縁部554bに形成されている補給口554fとを繋いでおり、補給処理の際に、貯留部555aに貯留されている半田ボール300を補給口554fに向けて移動させる(滑り下りさせる)機能を有している。また、貯留部555aの他方の端部は、スペーサ553に形成されている排出孔553aを介して補給容器551における本体部551aの排出口551cに連通している(図33,56参照)。また、貯留部555aは、適量の半田ボール300を貯留可能な容積となるように、その幅や深さが規定されている。
The
回動機構556は、図52〜図55に示すように、支持板556a、ロータリーアクチュエータ556bおよび連結部556c,556dを備えて構成されている。支持板556aは、垂直方向に沿って立設されてロータリーアクチュエータ556bを支持する。ロータリーアクチュエータ556bは、カプラ557a,557bに対するエアの供給によって作動して、回動軸557c(図54,55参照)を回動させる。連結部556cは、図52,54に示すように、上部に切り欠きが形成された板状に形成されてている。また、連結部556cは、回動軸557cに取り付けられて、回動軸557cの回動に伴って回動させられる。
As shown in FIGS. 52 to 55, the
連結部556dは、図52,55に示すように、上部が幅広の板状に形成されて、上部が支持板556aに対して接離する向きに回動可能に下端部が連結部556cに連結されている。また、連結部556dの上端部には載置部554が固定されている。この半田ボール補給装置55では、図52,53に示すように、回動機構556のロータリーアクチュエータ556bが回動軸557cを回動させることにより、連結部556cが回動して、連結部556cに連結されている連結部556dの上端部に固定されている載置部554が回動させられて、載置部554の傾斜角度が連結部556cの回動に伴って変更させられる。
As shown in FIGS. 52 and 55, the connecting
この場合、この半田ボール補給装置55では、図54に示すように、待機状態(ロータリーアクチュエータ556bの非動作状態)において連結部556cが全体として垂直方向に対して同図の左側に傾斜するように、連結部556cがロータリーアクチュエータ556bの回動軸557cに固定されている。このため、連結部556cに連結された連結部556dの上端部に固定されている載置部554は、載置部554の上面554aに形成されている溝555の貯留部555a(縁部554bに対向する縁部554c側)が縁部554bに形成されている補給口554fよりも下側に位置するように、水平方向に対して例えば5°程度傾斜する姿勢(以下、この姿勢を「第1姿勢」ともいう)に維持されている。
In this case, in this solder ball replenishing device 55, as shown in FIG. 54, in the standby state (the non-operating state of the
また、この半田ボール補給装置55では、図55に示すように、連結部556dの上部が支持板556aに対して離反して、連結部556dが垂直方向に対して傾斜する状態で固定されている。このため、連結部556dの上端部に固定されている載置部554は、支持板556aから離間する側に位置する縁部554dが支持板556aに近接する側に位置する縁部554eよりも下側に位置している。また、この半田ボール補給装置55では、図52に示すように、補給処理において回動機構556のロータリーアクチュエータ556bが回動軸557cを回動させることにより、補給口554f(縁部554b)が溝555の貯留部555a(縁部554c側)よりも下側に位置して上面554aが水平方向に対して例えば15°程度傾斜する姿勢(以下、この姿勢を「第2姿勢」ともいう)となるように載置部554を回動させる。
In the solder ball replenishing device 55, as shown in FIG. 55, the upper portion of the connecting
窒素ガス供給部557は、酸化防止用ガスの一例としての窒素ガスが充填された窒素ガスボンベ(図示せず)を備えて構成されている。また、窒素ガス供給部557は、図外の供給管を介して、補給容器551における本体部551aの流入口551dに繋がれて、本体部551a内に窒素ガスを供給する。
The nitrogen
搬送装置6は、制御装置8の制御に従い、切断装置2による切断処理によって多面付け基板500を分割した後の基板400を検査装置3に搬送する。また、搬送装置6は、検査装置3によって良好と判別された基板400を供給位置P3に搬送する。さらに、搬送装置6は、図28に示すように、供給位置P3と第2搭載位置P2bとを結ぶ搬送経路Rに沿って基板400を搬送する。この場合、搬送装置6は、同図に示すように、第1搬送機構61、第2搬送機構62、第3搬送機構63および検出部64を備えて構成され、搬送経路Rを複数(例えば、3つ)に分割した各分割経路(例えば、後述する第1経路R1、第2経路R2および第3経路R3)に沿って、各搬送機構61〜63が基板400をそれぞれ搬送する。
The
第1搬送機構61は、図28に示すように、供給位置P3と引き渡し位置P5とを結ぶ第1経路R1(搬送経路Rの一部)に沿って基板400を搬送する第1搬送処理を実行する。具体的には、第1搬送機構61は、ステージ611、レール612、吸着台613および移動機構614を備えて構成されている。ステージ611は、第1経路R1に沿って配設されたレール612上を移動機構614によって移動させられる。 吸着台613は、ステージ611の上に固定されて、載置(供給)された吸着対象体としての基板400を吸着して保持する。
As shown in FIG. 28, the
第2搬送機構62は、図28に示すように、引き渡し位置P5と受け渡し位置P6とを結ぶ第2経路R2(搬送経路Rの一部)に沿って基板400を搬送する第2搬送処理を実行する。具体的には、第2搬送機構62は、同図に示すように、吸着部621および移動機構622を備えて構成されている。吸着部621は、基板400を保持する。移動機構622は、吸着部621を上下動させると共に、第2経路R2に沿って吸着部621を移動させる。
As shown in FIG. 28, the
第3搬送機構63は、図28に示すように、受け渡し位置P6と第2搭載位置P2bとを結ぶ第3経路R3(搬送経路Rの一部)に沿って基板400を搬送する第2搬送処理を実行する。具体的には、第3搬送機構63は、ステージ631、レール632、吸着台633、移動機構634および補正機構635を備えて構成されている。ステージ631は、第3経路R3に沿って配設されたレール632上を移動機構634によって移動させられる。吸着台633は、上記した第1搬送機構61の吸着台613と同様に構成されて、上面に載置された基板400を吸着して保持する。補正機構635は、吸着台633の下部に配設されて、吸着台633を上下方向に貫通する中心軸を中心として吸着台633を回動させることにより、検出部52による後述する検出処理の結果に基づいて、吸着台633によって保持されている基板400の位置ずれを補正する補正処理を実行する。
As shown in FIG. 28, the
検出部64は、第3搬送機構63の吸着台633に保持されている基板400の表面を撮像する図外のカメラを備えて構成されて、図28に示すように、受け渡し位置P6と第1搭載位置P2aとの間の所定位置(同図に示す検出位置P7)に配設されている。この場合、検出部64は、基板400の撮像画像を画像解析することにより、基板400を上下方向に貫通する中心軸を中心とする基板400の回転方向の位置ずれを検出する検出処理を実行する。
The
溶融装置7は、半田ボール搭載装置5によって半田ボール300が搭載された基板400に対してリフロー処理(溶融処理)を実行し、図51に示すように、半田ボール300を溶融させて基板400の端子401に固着させる。
The
制御装置8は、切断装置2、検査装置3、フラックス塗布装置4、半田ボール搭載装置5、搬送装置6および溶融装置7、並びにこれらの各装置を構成する各構成要素を制御する。
The
次に、製造装置1を用いて、半田搭載済基板600を製造する方法(基板製造方法)およびその際の製造装置1の動作について、図面を参照して説明する。
Next, a method for manufacturing the solder-mounted substrate 600 (substrate manufacturing method) using the
まず、製造装置1を作動させるのに先立ち、半田ボール搭載装置5の供給部513a,513bにおける各収容容器514の収容部514a内に半田ボール300a,半田ボール300bをそれぞれ収容する。また、半田ボール搭載装置5の半田ボール補給装置55a,55bにおける各補給容器551の本体部551a内に半田ボール300a,半田ボール300bをそれぞれ収納する。この場合、この半田ボール補給装置55では、待機状態(初期状態)において、載置部554の上面554aに形成されている溝555の貯留部555aが縁部554bに形成されている補給口554fよりも下側に位置するように載置部554が水平方向に対して傾斜する第1姿勢に維持され(図54参照)、かつ載置部554の縁部554dが縁部554eよりも下側に位置している(図55参照)。このため、図33に示すように、補給容器551の本体部551a内に収納された半田ボール300は、自重によって排出口551cから排出されて、適量がスペーサ553の排出孔553aを通って溝555に収容される。
First, prior to operating the
この際に、図53に示すように、貯留部555aにおけるU字状の凸部分が下側に位置しているため、収容された半田ボール300は、排出口551cに連通している貯留部555aの端部からU字状の凸部分に亘る領域(同図において斜線を付した領域)に貯留される。この場合、第1姿勢における載置部554の傾斜角度や縁部554d,554eの上下方向の高さの差(高低差)によって半田ボール300が貯留される領域(貯留される半田ボール300の量)が定まる。このため、この傾斜角度や高低差を調整することで、貯留部555aに貯留させる半田ボール300の量を所望の量に規定することができる。つまり、この半田ボール補給装置55では、載置部554の傾斜角度や縁部554d,554eの高低差を調整することで、適量の半田ボール300を貯留部555aによって正確に計量することが可能となっている。
At this time, as shown in FIG. 53, since the U-shaped convex portion of the
次いで、半田ボール補給装置55の窒素ガス供給部557から窒素ガスを供給させる。この際に、補給容器551の流入口551dから本体部551a内に窒素ガスが流入し、これによって本体部551a内に収納されている半田ボール300の酸化が防止されて、半田ボール300同士が互いに固着して固まりとなる事態が確実に防止される。
Next, nitrogen gas is supplied from the nitrogen
続いて、図外の操作部を操作して、製造装置1を作動させる。この際に、制御装置8が、切断装置2、検査装置3、フラックス塗布装置4、半田ボール搭載装置5、搬送装置6および溶融装置7に対して各処理の実行を指示する。これに応じて、切断装置2が切断処理を実行する。この切断処理では、切断装置2の保持台21が、図外の基板供給装置によって供給された多面付け基板500(図5参照)を保持する。次いで、切断装置2の切断機構22が、切断ブレードを回転させつつ多面付け基板500に接触させることによって多面付け基板500を切断する。これにより、図6に示すように、各基板400が分離される。
Subsequently, the
続いて、搬送装置6が、制御装置8による処理実行の指示に従い、切断装置2による切断処理で分離された各基板400を検査装置3に搬送する。次いで、検査装置3が、制御装置8の指示に従って電気的検査を実行する。この電気的検査では、検査装置3は、図3に示すように、電源部31によって出力された検査用電流Iをプローブ34を介して検査対象の端子401に供給する。続いて、検査装置3の電圧検出部32が検査用電流Iの供給によって端子401間に生じる電圧Vの電圧値を検出し、検査装置3の電流検出部33が検査用電流Iの電流値を検出する。次いで、検査装置3の検査部35が、電圧Vの電圧値と検査用電流Iの電流値とに基づいて端子401間の抵抗値を測定し、その測定値に基づいて図外の導体パターンの断線や短絡の有無を判別する。この場合、検査部35は、断線や短絡が存在していないときにはその基板400を良品と判別し、断線や短絡が存在しているときにはその基板400を不良品と判別する。
Subsequently, the
この場合、この製造装置1では、上記したように切断処理の実行後に基板400に対する電気的検査を実行している。このため、この製造装置1では、多面付け基板500の製造時において導体パターンに断線や短絡が生じた基板400を不良品として選別できることに加えて、例えば、切断処理の際の振動などに起因して導体パターンに断線や短絡が生じた基板400も不良品として選別することが可能となっている。
In this case, in the
続いて、搬送装置6は、搬送処理を実行することにより、上記の電気的検査において良品と判別された基板400だけを図28に示す供給位置P3に搬送して、搬送装置6における第1搬送機構61の吸着台613に載置(供給)する。また、搬送装置6は、電気的検査において不良品と判別された基板400を所定の保管場所に搬送する。なお、この状態(初期状態)では、同図に示すように、搬送装置6における第1搬送機構61のステージ611が供給位置P3に位置し、搬送装置6における第3搬送機構63のステージ631が受け渡し位置P6に位置しているものとする。
Subsequently, the carrying
次いで、搬送装置6は、第1搬送処理を実行する。この第1搬送処理では、第1搬送機構61の吸着台613が、供給(載置)された基板400を保持する。続いて、移動機構614が、図35に示すように、ステージ611を第1経路R1に沿って配設されたレール612上を移動させる。次いで、移動機構614は、ステージ611が塗布位置P4に位置した時点でその移動を停止させる。
Next, the
続いて、フラックス塗布装置4が塗布処理を実行する。この塗布処理では、制御装置8が、基板搬送機構45を制御して、塗布位置P4に位置しているステージ611に載置されている基板400を塗布処理位置に搬送(移動)させる。この際に、基板搬送機構45は、メタルマスク41の裏面に基板400の塗布面を押し当てるようにして基板400を上昇させる。次いで、制御装置8は、塗布機構44を制御して、塗布ユニット42をメタルマスク41における開口部411の外側(一例として、図11に実線で示す位置)に移動させる。続いて、制御装置8は、塗布機構44を制御して、図12に示すように、メタルマスク41の表面(基板400の塗布面)に向けて塗布ユニット42を下降させて両スキージユニット421におけるスキージ本体427の先端部427xをメタルマスク41の表面に押し付けさせる。
Subsequently, the
この際に、例えば、図10に一点鎖線で示すように、スキージユニット421aにおけるスキージ本体427に傾きが生じていたときには、塗布ユニット42の下降に伴い、まず、先端部427xにおける幅方向の一端部(この例では、同図における左端部)がメタルマスク41の表面に当接する。次いで、塗布機構44によって塗布ユニット42がさらに下降させられたときには、スキージユニット421aのベース部425が回動軸426を中心としてベース部422bに対して矢印B1の向きで回動して、先端部427xにおける幅方向の全体がメタルマスク41の表面に当接する。これにより、同図に破線で示すように、スキージユニット421aにおけるスキージ本体427の傾きが矯正される。
At this time, for example, when the squeegee
また、図10に二点鎖線で示すように、スキージユニット421bにおけるスキージ本体427に傾きが生じていたときには、塗布ユニット42の下降に伴い、まず、先端部427xにおける幅方向の一端部(この例では、同図における右端部)がメタルマスク41の表面に当接する。続いて、塗布機構44によって塗布ユニット42がさらに下降させられたときには、スキージユニット421bのベース部425が回動軸426を中心としてベース部422bに対して矢印B2の向きで回動して、先端部427xにおける幅方向の全体がメタルマスク41の表面に当接する。これにより、同図に破線で示すように、スキージユニット421bにおけるスキージ本体427の傾きが矯正される。
Further, as shown by a two-dot chain line in FIG. 10, when the squeegee
さらに、スキージユニット421を押し付けるメタルマスク41や基板400に傾きが生じてたときには(図示せず)、塗布ユニット42の下降に伴い、まず、先端部427xにおける幅方向の一端部がメタルマスク41の表面に当接する。次いで、塗布機構44によって塗布ユニット42がさらに下降させられたときには、スキージユニット421のベース部425が回動軸426を中心としてベース部422bに対して矢印B1の向きまたは矢印B2の向きで回動して、メタルマスク41や基板400に生じた傾きに応じてスキージ本体427にも同様の傾きが生じた状態となる。これにより、先端部427xにおける幅方向の全体がメタルマスク41の表面に当接する。
Further, when the
続いて、塗布機構44によって塗布ユニット42がさらに下降させられたときには、直動案内機構423の案内に従って、両スキージユニット421のベース部422aが矢印Aの向きでベース部422bに対してそれぞれ直動する(下降する)。この際には、ベース部422aの下降に伴い、両スプリング424が押し縮められるように弾性変形して、ベース部422bがメタルマスク41(基板400)に向けて付勢される。これにより、スキージユニット421a,421bの双方において、ベース部425を介してベース部422bに連結されているスキージ本体427の先端部427xが、所望の押圧力でメタルマスク41の表面に押し付けられる。
Subsequently, when the
次いで、制御装置8は、フラックス供給部43を制御して、ノズル431に向けてフラックスFを圧送させる。この際には、図12に示すように、ノズル431からスキージユニット421a,421bの間にフラックスFが供給される。続いて、制御装置8は、塗布機構44を制御して、基板400の塗布面(メタルマスク41の表面)に沿って塗布ユニット42を矢印Cの方向に移動させる。この際には、図13に示すように、ノズル431から供給されたフラックスFが、塗布ユニット42の移動に伴ってスキージユニット421aによって矢印Cの方向に移動させられ、開口部411の口縁部においてメタルマスク41上から基板400における塗布面に移動させられる。この際に、スキージユニット421aが開口部411の上方に位置した状態においては、同図に示すように、その先端部427xがメタルマスク41の表面とほぼ同じ高さに維持されて基板400(塗布面)から離間した状態となる。これにより、スキージユニット421aの移動に伴って塗布面上に移動させられたフラックスFがメタルマスク41の厚み分だけ塗布面に残留させられるようにして均一に平される。
Next, the
次いで、図11に一点鎖線で示す位置に向けて塗布ユニット42を矢印Cの方向にさらに移動させる。この際には、図14に示すように、スキージユニット421aの移動に伴って塗布面上を移動させられたフラックスFのうちの塗布領域Paに塗布されなかった余分なフラックスFが塗布面上からメタルマスク41の上に移動させられる。これにより、1枚目の基板400の塗布面における塗布領域Paに対するフラックスFの塗布処理が完了する。この後、制御装置8は、基板搬送機構45を制御して塗布処理が完了した基板400を、塗布位置P4に位置している第1搬送機構61のステージ611に塗布処理位置から搬出(移動)させる。また、制御装置8は、次にフラックスFを塗布すべき基板400を載置したステージ611が塗布位置P4に位置したときには、フラックス供給部43を制御してノズル431からスキージユニット421a,421bの間にフラックスFを供給させた後に、塗布機構44を制御して、塗布ユニット42を矢印Dの向きに移動させる。これにより、塗布ユニット42を矢印Cの向きに移動させた上記の例におけるスキージユニット421aに代えて、スキージユニット421bによって基板400の塗布領域PaにフラックスFが塗り拡げられる。これにより、2枚目の基板400に対するフラックスFの塗布処理が完了する。
Next, the
一方、複数枚の基板400に対するフラックスFの塗布処理を繰り返して実行したときには、図15に示すように、両スキージユニット421のスキージ本体427における先端部427xに欠け(傷付き)や摩耗が生じることがある。このように欠けや摩耗が生じたスキージ本体427では、基板400の塗布領域Paにおける全域に対してフラックスFを均一に塗布するのが困難となり、フラックスFの塗布厚が規定の厚みよりも厚い領域が塗布機構44による塗布ユニット42の移動方向に沿って筋状に形成される(筋状の塗布むらが生じる)こととなる。したがって、このフラックス塗布装置4では、先端部427xに欠けや摩耗が生じたときに、ベース部425とは別体に構成されたスキージ本体427を取り外し、同図に破線で示す位置まで先端部427xを研磨することができるように構成されている。なお、同図では、先端部427xに生じた欠けや摩耗を誇張して大きく図示している。
On the other hand, when the application process of the flux F to the plurality of
この場合、スキージ本体427の研磨に際しては、板状部427aの先端部427xがその基端部側(ホルダ427bによって保持されている部位)と平行となるように研磨するのが好ましいが、図16に示すように、先端部427xが基端部に対して斜めとなるように研磨されることがある。なお、同図では、研磨に際して先端部427xが斜めとなった度合いを誇張して図示している。このような状態に研磨されたスキージ本体427を取り付けたスキージユニット421では、フラックスFの塗布処理に際して塗布ユニット42が塗布機構44によって下降させられたときに、まず、研磨後の先端部427xにおける幅方向の一端部(この例では、図16における左端部)がメタルマスク41の表面に当接する。続いて、塗布機構44によって塗布ユニット42がさらに下降させられたときには、図17に示すように、ベース部425が回動軸426を中心としてベース部422bに対して矢印B1の向きで回動して、先端部427xにおける幅方向の全体がメタルマスク41の表面に当接する。これにより、同図に示すように、研磨によって斜めとなった状態の先端部427xにおける幅方向の全体がメタルマスク41の表面に対してほぼ均一に押し付けられる結果、フラックスFの塗布むらが生じる事態が回避される。
In this case, when the squeegee
次いで、第1搬送機構61の移動機構614が、ステージ611を引き渡し位置P5に向けて移動させ、ステージ611が引き渡し位置P5に位置した時点でその移動を停止させる。これにより、供給位置P3と引き渡し位置P5とを結ぶ第1経路R1に沿って基板400が第1搬送機構61によって搬送される。
Next, the moving
続いて、制御装置8は、搬送装置6の第2搬送機構62に対して第2搬送処理を実行させる。この第2搬送処理では、第2搬送機構62の移動機構622が、図36に示すように、引き渡し位置P5の上方に吸着部621を移動させる。次いで、移動機構622は、吸着部621を下降させることにより、第1搬送機構61の吸着台613によって保持されている基板400に対して吸着部621を近接させる。続いて、制御装置8が、吸着台613による基板400の吸着を解除させる。これにより、吸着部621によって基板400が吸着されて、基板400が第1搬送機構61から第2搬送機構62に引き渡される。次いで、移動機構622は、吸着部621を上昇させた後に、第2経路R2に沿って吸着部621を移動させて受け渡し位置P6の上方に位置させる。続いて、移動機構622は、吸着部621を下降させることにより、搬送装置6における第3搬送機構63の吸着台633の上面に基板400を載置する。これにより、引き渡し位置P5と受け渡し位置P6とを結ぶ第2経路R2に沿って基板400が第2搬送機構62によって搬送される。
Subsequently, the
また、第1搬送機構61の移動機構614は、基板400が第1搬送機構61から第2搬送機構62に引き渡された時点で、図37に示すように、ステージ611を引き渡し位置P5から供給位置P3に移動(初期位置に復帰)させる。
The moving
次いで、制御装置8は、搬送装置6の第3搬送機構63に対して第3搬送処理を実行させる。この第3搬送処理では、第3搬送機構63の吸着台633が、第2搬送機構62によって載置された基板400を吸着して保持し、移動機構634が、図37に示すように、ステージ631を第3経路R3に沿って配設されたレール632上を移動させる。続いて、移動機構634は、同図に示すように、ステージ631が検出位置P7に位置した時点でその移動を停止させる。
Next, the
次いで、制御装置8は、検出部64に対して検出処理を実行させる。この検出処理では、検出部64は、第3搬送機構63の吸着台633によって保持されている基板400を吸着台633の上方から撮像して、その撮像画像を画像解析することにより、基板400を上下方向に貫通する中心軸を中心とする回転方向の基板400の位置ずれを検出する。
Next, the
続いて、制御装置8は、第3搬送機構63の補正機構635に対して補正処理を実行させる。この補正処理では、補正機構635は、検出部64による検出処理の結果に基づき、吸着台633を上下方向に貫通する中心軸を中心として吸着台633を回動させることにより、吸着台633によって保持されている基板400の位置ずれを補正する。
Subsequently, the
次いで、第3搬送機構63の移動機構634が、図38に示すように、ステージ631を第1搭載位置P2aに向けて移動させ、ステージ631が第1搭載位置P2aに位置した時点でその移動を停止させる。これにより、受け渡し位置P6と第1搭載位置P2aとを結ぶ第3経路R3に沿って基板400が第3搬送機構63によって搬送される。また、制御装置8は、第3搬送処理の開始から所定時間が経過した時点で、同図に示すように、第2搬送機構62に対して吸着部621を引き渡し位置P5近傍の位置に移動(初期位置に復帰)させる。
Next, as shown in FIG. 38, the moving
一方、制御装置8は、例えば、上記の第1搬送処理の開始から所定時間が経過した時点で、図34に示す第1搭載工程200を開始する。なお、初期状態では、図26に示すように、半田ボール搭載装置5の半田ボール吸着装置51における吸着保持部515の先端部515aが、収容容器514における容器本体514cの底部側に対向している(先端部515aが下向きとなっている)ものとする。この第1搭載工程200では、制御装置8は、半田ボール搭載装置5における半田ボール吸着装置51aの移動機構520aを制御して、同図に示すように、整列用プレート519aの配置位置に吸着ヘッド511aを搬送させる。この際に、図22に示すように、吸着ヘッド511aにおける底壁512bの吸着面512cと整列用プレート519aの上面519cとが接触する。
On the other hand, for example, the
続いて、制御装置8は、半田ボール吸着装置51aの吸着ヘッド511aに対して吸着処理を実行させると共に、供給部513aに対して供給処理および吸引処理を実行させる(ステップ201)。具体的には、制御装置8は、半田ボール吸着装置51aの吸気装置518aを作動させる。これにより、吸着ヘッド511aの空隙512a内が負圧状態となって吸気口512eからの吸気が開始される。また、供給部513aの吸着保持部515における吸気経路515cからの吸気、および供給部513aの吸引部516における吸引経路516aからの吸気が開始される。
Subsequently, the
次いで、吸着保持部515における吸気経路515cからの吸気に伴い、供給部513aの収容容器514に収容されている半田ボール300aが吸着保持部515の先端部515aに吸着されて保持される。続いて、制御装置8は、駆動機構517を制御して、吸着保持部515の基端部515bに取り付けられている吸気管515dを回転させることにより、図39に示すように、基端部515bを中心として吸着保持部515を回動させる。この際に、先端部515aに保持されている半田ボール300aが吸着保持部515の回動に伴い、収容容器514の開口部514b側に移動させられる。また、開口部514b側に移動させられた半田ボール300aの一部が、開口部514b側に配設されているワイパー514dによって払い落とされる。このため、吸着ヘッド511aに供給される半田ボール300aの量(数)が適正な量に制限される。
Next, with the suction from the
次いで、制御装置8は、図40に示すように、吸着保持部515の先端部515aが吸着ヘッド511aの吸着面512cに対向した時点(吸着保持部515が180°回動した時点)で、駆動機構517を制御して、吸気管515dの回転を停止させる。続いて、制御装置8は、駆動機構517を制御して、図41に示すように、吸着ヘッド511aの吸着面512c(整列用プレート519a)に向けて(同図における上方に向けて)本体部50を移動させて、先端部515aを整列用プレート519a(吸着面512c)の一端側に近接させる。この際に、整列用プレート519aに近接させられた先端部515aに保持されている半田ボール300aのうちの整列用プレート519a側(上部)に位置している半田ボール300aが、吸着ヘッド511aの吸気口512eからの吸気に伴う吸引力によって吸着保持部515の吸引力に抗して吸着ヘッド511aに引き寄せられて、吸着ヘッド511aに供給される。また、供給された半田ボール300aの一部が、吸気口512eに引き寄せられて、整列用プレート519aの各挿通孔519eを通って吸着ヘッド511aの吸着面512cにおける吸気口512eの縁部に吸着される。
Next, as shown in FIG. 40, the
次いで、制御装置8は、駆動機構517を制御して、図42に示すように、先端部515aを整列用プレート519aに近接させた状態で、本体部50を整列用プレート519a(吸着面512c)に沿って整列用プレート519aの他端側(同図における右側)に向けて(同図に矢印で示す方向に)移動させる。この際に、上記したように、先端部515aに保持されている半田ボール300aのうちの整列用プレート519a側に位置している半田ボール300aが、吸着ヘッド511aの吸引力によって吸着保持部515の吸引力に抗して吸着ヘッド511aに引き寄せられて、吸着ヘッド511aに供給され、その一部が整列用プレート519aの各挿通孔519eを通って吸着ヘッド511aの吸着面512cにおける吸気口512eの縁部に吸着される。このようにして、吸着保持部515の先端部515aに保持されている半田ボール300aが、吸着保持部515の移動に伴って徐々に(分散されつつ)吸着ヘッド511aに供給されると共に、供給された半田ボール300aの一部が吸着ヘッド511aの吸着面512cにおける各吸気口512eの縁部に1つずつ吸着される。
Next, the
ここで、半田ボール300aは、上記したように微小なため、静電気や分子間力による半田ボール300a同士が互いに引き合う力が半田ボールの重量に対して相対的に大きくなっている。このため、吸気口512eの縁部に吸着された搭載対象の半田ボール300aに、他の余剰な半田ボール300aが付着する。この場合、この半田ボール搭載装置5では、上記したように、整列用プレート519aの厚みL3aが半田ボール300aの直径L1aよりもやや厚い80μm程度に規定され、挿通孔519eの直径L4aが、半田ボール300aの直径L1aよりもやや大きい90μm程度に規定されている。このため、搭載対象の半田ボール300aだけが挿通孔519e内に収容され、余剰な半田ボール300aは、その一部分(体積的な一部分)またはその全体が挿通孔519eの下面519dよりも外側(下側)に突出した状態で付着している。また、この半田ボール搭載装置5では、上記したように、先端部515aに保持されている半田ボール300aが分散されつつ供給されるため、半田ボール300aの過剰な供給が防止されて、余剰な半田ボール300aの付着が少なく抑えられている。
Here, since the
続いて、制御装置8は、駆動機構517を制御して、図43に示すように、本体部50を整列用プレート519aに沿って(同図に矢印で示す方向に)さらに移動させる。この際に、同図に示すように、吸着保持部515に次いで吸引部516が移動させられて、吸引部516における吸引経路516aからの吸気によって余剰な半田ボール300aが吸引される。このため、搭載対象の半田ボール300aと余剰な半田ボール300aとが互いに強く引き合っていたとしても、余剰な半田ボール300aの全てが搭載対象の半田ボール300aから強制的に引き離されて吸着ヘッド511aまたは整列用プレート519aから確実に除去される。
Subsequently, the
続いて、制御装置8は、移動機構520aを制御して、図44に示すように、吸着ヘッド511aが整列用プレート519aから離反するように、吸着ヘッド511aを同図に示す矢印の向きに移動させる。次いで、制御装置8は、移動機構520aを制御して、吸着ヘッド511aを検出部52aの配置位置の上方に搬送させる。続いて、制御装置8は、検出部52に対して第1検出処理を実行させる(第1搭載工程200のステップ202)。この場合、検出部52aは、吸着ヘッド511aの吸着面512c側を図外のカメラで撮像し、カメラによる撮像画像を画像解析することにより、吸着処理の実行後の吸着ヘッド511aにおける半田ボール300aの過不足を検出する。
Subsequently, the
次いで、制御装置8は、第1検出処理において半田ボール300aの過剰が検出された(1つの吸気口512eの縁部に複数の半田ボール300aが吸着されている(ダブルボールが発生してる))か否かを判別する(ステップ203)。この場合、半田ボール300aの過剰が検出されたと判別したときには、制御装置8は、移動機構520aを制御して、第1除去部53aの配置位置に吸着ヘッド511aを搬送させる。続いて、制御装置8は、移動機構520aを制御して、図29に示すように、第1除去部53aの上面531aに吸着ヘッド511aの吸着面512cを近接させた状態で上面531aに沿って吸着ヘッド511aを移動させる。この際に、同図に示すように、吸着ヘッド511aに吸着されている半田ボール300aが吸引経路531bからの吸気によって吸引される。これにより、吸着ヘッド511aに吸着している全ての半田ボール300aを吸着ヘッド511aから除去する第1除去処理が実行される(ステップ204)。次いで、制御装置8は、第1除去処理を実行させた後に、移動機構520aを制御して、整列用プレート519aの配置位置に吸着ヘッド511aを搬送させて、上記した吸着処理、供給処理および吸引処理を再実行させ(ステップ201)、続いて、上記したステップ202〜ステップ203を実行する。
Next, the
次いで、制御装置8は、上記したステップ203において半田ボール300aの過剰が検出されないと判別したときには、第1検出処理において半田ボール300aの不足が検出された(その縁部に半田ボール300aが吸着されていない吸気口512eが存在している)か否かを判別する(ステップ205)。この場合、半田ボール300aの不足が検出されたと判別したときには、制御装置8は、移動機構520aを制御して、整列用プレート519aの配置位置に吸着ヘッド511aを搬送させて、上記した吸着処理、供給処理および吸引処理を再実行させ(ステップ201)、続いて、上記したステップ202〜ステップ203を実行する。
Next, when the
一方、制御装置8は、上記したステップ203において半田ボール300aの過剰が検出されないと判別し、かつ上記したステップ205において半田ボール300aの不足が検出されないと判別したとき(つまり、半田ボール300aが過不足なく吸着ヘッド511aに吸着されているとき)には、半田ボール搭載装置5に対して第1搭載処理(搭載処理)を実行させる(ステップ206)。この第1搭載処理では、制御装置8は、移動機構520aを制御して、半田ボール300aを保持している吸着ヘッド511aを第1搭載位置P2aに搬送させ、次いで、図45に示すように、吸着ヘッド511aによって吸着されている半田ボール300aが基板400の端子401に塗布されているフラックスFに接触するように吸着ヘッド511aを基板400に向けて(同図に示す矢印の向きに)移動させる。
On the other hand, when the
続いて、制御装置8は、吸気装置518aを制御して、吸着ヘッド511aにおける吸気口512eからの吸気を停止させる。この際に、図46に示すように、吸着ヘッド511aによる吸着が解除されて、半田ボール300aが基板400の端子401に塗布されているフラックスFの上に載置される。以上により、基板400の第1領域400aに形成されている端子401に半田ボール300aを搭載する第1搭載処理が終了する。この場合、この半田ボール搭載装置5では、上記した供給処理を実行することで半田ボール300aの過剰な供給が防止されると共に、上記した吸引処理を実行することで余剰な半田ボール300aが確実に除去されている。このため、この半田ボール搭載装置5では、余剰な半田ボール300aの基板400への搭載(つまり、基板400に対する半田ボール300aの過剰な搭載)が確実に防止される。
Subsequently, the
次いで、制御装置8は、移動機構520aを制御して、図46に示すように、吸着ヘッド511aを上方に向けて(同図に示す矢印の向きに)移動させた後に、検出部52aの配置位置の上方に搬送させる。続いて、制御装置8は、検出部52aに対して第2検出処理を実行させる(ステップ207)。この場合、検出部52は、吸着ヘッド511aの吸着面512cを図外のカメラで撮像し、カメラによる撮像画像を画像解析することにより、搭載処理の実行後の吸着ヘッド511aにおける付着物の付着(具体的には、フラックスFだけの付着、フラックスFと半田ボール300aとの付着、および半田ボール300aだけの付着)の有無を検出する。
Next, the
次いで、制御装置8は、ステップ207(第2検出処理)において付着物としてのフラックスFの付着(フラックスFだけの付着、またはフラックスFと半田ボール300aとの付着)が検出されたか否かを判別する(ステップ208)。この場合、フラックスFの付着が検出されたと判別したときには、制御装置8は、移動機構520aを制御して、第2除去部54aの配置位置に吸着ヘッド511aを搬送させる。続いて、第2除去部54aに対して、除去部材543の先端部が除去液541の液面よりも上方に突出するように除去部材543を上方に移動させる。次いで、制御装置8は、移動機構520aを制御して、図30に示すように、第2除去部54aにおける除去部材543の先端部に吸着ヘッド511aの吸着面512cを当接させつつ吸着ヘッド511aを移動させる。この際に、除去部材543の先端部に含まれている除去液541によってフラックスFが溶融し、吸着ヘッド511aに付着している付着物(フラックスFや半田ボール300a)が除去部材543の先端部によって拭き取られる(払い落とされる)。これにより、フラックスFや半田ボール300aを吸着ヘッド511aから除去する第2除去処理が実行される(ステップ209)。続いて、制御装置8は、上記したステップ207,208を実行する。
Next, the
また、制御装置8は、ステップ208においてフラックスFの付着が検出されないと判別したときには、半田ボール300aだけの付着が検出されたか否かを判別する(ステップ210)。この場合、付着物としての半田ボール300aだけの付着が検出されたと判別したとき(つまり、フラックスFが付着物として検出されずに半田ボール300aが付着物として検出されたとき)には、制御装置8は、移動機構520aを制御して、第1除去部53aの配置位置に吸着ヘッド511aを搬送させて、上記した第1除去処理(吸着ヘッド511aからの半田ボール300aの除去)を実行させる(ステップ211)。次いで、制御装置8は、上記したステップ207,208,210を実行する。この場合、ステップ210において、半田ボール300aだけの付着が検出されないと判別したときには、制御装置8は、移動機構520aを制御して、吸着ヘッド511aを初期位置に搬送させる。以上により、第1搭載工程200が完了する。
When it is determined in
この場合、この半田ボール搭載装置5(製造装置1)では、吸着処理において半田ボール300aが過剰に吸着されたとしても、第1検出処理によってその旨が検出され、その検出結果に基づき、吸着している半田ボール300aが全て除去された後に吸着処理および供給処理が再実行される。このため、この半田ボール搭載装置5では、半田ボール300aを過剰に吸着したままの吸着ヘッド511aによって搭載処理が行われることによる、基板400の端子401に対する半田ボール300aの過剰な搭載が確実に防止されている。また、この半田ボール搭載装置5では、吸着処理において吸着された半田ボール300aに不足があったとしても、第1検出処理によってその旨が検出され、その検出結果に基づき、吸着処理および供給処理が再実行される。このため、この半田ボール搭載装置5では、吸着した半田ボール300aが不足している吸着ヘッド511aによって搭載処が行われることによる半田ボール300aの欠落が確実に防止されている。
In this case, in this solder ball mounting apparatus 5 (manufacturing apparatus 1), even if the
続いて、搬送装置6における第3搬送機構63の移動機構634が、図47に示すように、ステージ631を第2搭載位置P2bに向けて移動させ、ステージ631が第2搭載位置P2bに位置した時点でその移動を停止させる。
Subsequently, as shown in FIG. 47, the moving
一方、制御装置8は、第1搭載工程200の開始時点または第1搭載工程200の開始から所定時間が経過した時点で、第1搭載工程200と同様の第2搭載工程を開始する。この第2搭載工程では、制御装置8は、移動機構520bを制御して、整列用プレート519bの配置位置に吸着ヘッド511bを搬送させて、吸着ヘッド511bにおける底壁512bの吸着面512cと整列用プレート519bの上面519cとを接触させる。次いで、制御装置8は、吸着ヘッド511bに対して吸着処理を実行させると共に、供給部513bに対して供給処理および吸引処理を実行させる。続いて、制御装置8は、検出部52bに対して第1検出処理を実行させ、その検出結果に応じて、第1除去処理、吸着処理、供給処理および吸引処理を実行または再実行(または非実行)させる。次いで、制御装置8は、半田ボール搭載装置5に対して第2搭載処理を実行させる。
On the other hand, the
この第2搭載処理では、制御装置8は、移動機構520bを制御して、半田ボール300bを保持している吸着ヘッド511bを第2搭載位置P2bに搬送させ、続いて、図48に示すように、吸着ヘッド511bによって吸着されている半田ボール300bが基板400の端子401に塗布されているフラックスFに接触するように吸着ヘッド511bを基板400に向けて(同図に示す矢印の向きに)移動させる。
In this second mounting process, the
ここで、この半田ボール搭載装置5では、半田ボール搭載装置5が、第1搭載処理を実行した後に第2搭載処理を実行して大径の半田ボール300aを搭載した後に小径の半田ボール300bを搭載する。つまり、半田ボール搭載装置5が、吸気口512eの口径の大きい吸着ヘッド511aに対する移動処理を吸気口512eの口径の小さい吸着ヘッド511bに対する移動処理に先立って行う。この場合、図48に示すように、吸着ヘッド511bに凹部512gが形成されているため、半田ボール搭載装置5が上記の順番で移動処理を行う際に、搭載済みの半田ボール300a(大径の半田ボール300)と吸着ヘッド511bの吸着面512cとが接触する事態が確実に回避される。
Here, in this solder
次いで、制御装置8は、吸気装置518bを制御して、吸着ヘッド511bにおける吸気口512eからの吸気を停止させる。この際に、図49に示すように、吸着ヘッド511bによる吸着が解除されて、半田ボール300bが基板400の端子401に塗布されているフラックスFの上に載置される。
Next, the
以上により、基板400の第2領域400bに形成されている端子401に半田ボール300bを搭載する第2搭載処理が終了して、全ての端子401への半田ボール300の搭載が完了する。
Thus, the second mounting process for mounting the
続いて、制御装置8は、移動機構520bを制御して、吸着ヘッド511bを検出部52bの配置位置の上方に搬送させ、検出部52bに対して第2検出処理を実行させ、その検出結果に応じて、第2除去処理または第1除去処理を実行(または非実行)させた後に、移動機構520bを制御して、吸着ヘッド511bを初期位置に搬送させる。以上により、第2搭載工程が完了する。
Subsequently, the
この場合、この製造装置1(製造方法)では、上記したように、搬送装置6が制御装置8の指示に従って搬送処理を実行して電気的検査において良品と判別された基板400だけを供給位置P3に搬送するため、良品と判別された基板400にのみ半田ボール搭載装置5によって半田ボール300が搭載される。したがって、この製造装置1では、電気的に不良な基板400に対する半田ボール300の搭載が確実に回避されて、半田ボール300の無駄な消費が抑えられる結果、製造コストを十分に低減することが可能となっている。
In this case, in the manufacturing apparatus 1 (manufacturing method), as described above, the
次いで、制御装置8は、搬送装置6を制御して、半田ボール300a,300bの搭載が完了した基板400を溶融装置7に搬送させると共に、ステージ631を第2搭載位置P2bから受け渡し位置P6に移動(初期位置に復帰)させる。続いて、溶融装置7が、半田ボール300a,300bが搭載されている基板400に対してリフロー処理(溶融処理)を実行する。この際に、図51に示すように、溶融された半田ボール300a,300b半球状(同図に示す半田301)となった状態で、基板400の各端子401に固着する。また、固着された半田301によって基板400上にボールグリッドアレイ(BGA)が構成される。これにより、同図に示すように、半田搭載済基板600が完成する。次いで、半田搭載済基板600は、図外の電子部品搭載装置に搬送され、続いて、電子部品搭載装置によって半田搭載済基板600に電子部品801が搭載される。次いで、例えばリフロー処理により、半田搭載済基板600における基板400の端子401に固着された半田ボール300(半田301)が溶融されることで、搭載された電子部品801における図外の端子が、溶融された半田ボール300(半田301)を介して基板400の端子401に接続される。これにより、図58に示すように、電子部品搭載済基板800が製造される。
Next, the
一方、制御装置8は、上記した第1搭載処理および第2搭載処理が実行されている間に、次の基板400に対する第1搬送処理を第1搬送機構61に開始させ、次いで、その基板400に対する塗布処理をフラックス塗布装置4に実行させる。つまり、この製造装置1では、塗布処理を搭載処理と並行して行うことが可能となっている。このため、第3搬送機構63の吸着台633(ステージ631)が受け渡し位置P6において長時間待機させられることなく、次の基板400が吸着台633に載置される。また、制御装置8は、次の基板400に対する第1搬送処理の開始から所定時間が経過した時点で、次の基板400に対する第1搭載処理および第2搭載処理(吸着処理、供給処理および吸引処理)を半田ボール搭載装置5に開始させる。このため、この製造装置1では、次の基板400が第1搭載位置P2aおよび第2搭載位置P2bに搬送されるまでの間に吸着処理、供給処理および吸引処理を完了(またはほぼ完了)させることができるため、第3搬送機構63の吸着台633が第1搭載位置P2aや第2搭載位置P2bにおいて待機する時間を短縮することが可能となっている。したがって、この製造装置1では、1つの基板400当たりの処理時間を十分に短縮することができる結果、生産性を十分に向上させることが可能となっている。
On the other hand, the
一方、制御装置8は、予め規定された規定回数の搭載処理が終了したとき(「予め規定された条件を満たしたとき」の一例)に半田ボール補給装置55に対して補給処理の実行を指示し、これに従い、半田ボール補給装置55が、補給処理を実行する。この補給処理では、半田ボール補給装置55における回動機構556のロータリーアクチュエータ556bが、回動軸557cを図54に示す矢印E1の向きに回動させる。この際に、回動軸557cに取り付けられている連結部556c、連結部556cに連結されている連結部556d、および連結部556dの上端部に固定されている載置部554が矢印E1の向きに回動させられる。
On the other hand, the
続いて、ロータリーアクチュエータ556bは、図56に示すように、補給口554f(載置部554の縁部554b)が溝555の貯留部555a(縁部554c側)よりも下側に位置して上面554aが水平方向に対して15°程度傾斜する第2姿勢となった時点で回動軸557cの回動を停止する。この際に、載置部554の傾斜に伴い、溝555の貯留部555aに貯留されている半田ボール300が移動流路555bを滑り下りる。次いで、移動流路555bを滑り下りた半田ボール300は、補給口554fから下方に落下して、半田ボール搭載装置5における収容容器514の収容部514a内に補給される。
Subsequently, as shown in FIG. 56, the
この場合、この半田ボール補給装置55では、待機状態において溝555の貯留部555aに予め規定された適量の半田ボール300が貯留されている。このため、この半田ボール補給装置55では、載置部554を回動させて載置部554の姿勢を第1姿勢から第2姿勢に変更するだけで、適量の半田ボール300が半田ボール搭載装置5における収容容器514の収容部514a内に確実に補給される。また、この半田ボール補給装置55では、図52,56に示すように、載置部554を第2姿勢とさせたときに、補給容器551の排出口551cに連通している貯留部555aの端部がU字状の凸部分よりも下側に位置するため、補給容器551から排出される半田ボール300が貯留部555aの端部と溝555の開口部側を閉塞しているスペーサ553とによって堰き止められる。このため、溝555の貯留部555aに貯留されていた半田ボール300以外の半田ボール300が載置部554の表面を伝わって補給口554f以外から落下する事態を確実に防止することが可能となっている。
In this case, in this solder ball replenishing device 55, an appropriate amount of
続いて、ロータリーアクチュエータ556bは、回動軸557cを図54に示す矢印E2の向きに回動させる。この際に、回動軸557cに取り付けられている連結部556c、連結部556cに連結されている連結部556d、および連結部556dの上端部に固定されている載置部554が矢印E2の向きに回動させられる。次いで、ロータリーアクチュエータ556bは、溝555の貯留部555a(縁部554c側)が補給口554f(縁部554b)よりも下側に位置して上面554aが水平方向に対して5°程度傾斜する第1姿勢となった時点で、回動軸557cの回動を停止する。これにより、半田ボール補給装置55が待機状態に復帰する。この際に、待機状態への復帰により、排出口551cから排出された補給容器551内の半田ボール300が、スペーサ553の排出孔553aを通って溝555に収容される。また、収容された半田ボール300は、上記したように、排出口551cに連通している貯留部555aの端部からU字状の凸部分に亘る領域(図53において斜線を付した領域)に適量分だけ貯留される。以上により、半田ボール補給装置55による補給処理が完了する。その後、制御装置8は、規定回数の搭載処理が終了する毎に半田ボール補給装置55に対して補給処理の実行を指示し、これに従って半田ボール補給装置55が、補給処理を実行する。
Subsequently, the
以下、制御装置8は、製造装置1を構成する各装置(各構成要素)に対して上記の各処理を実行させることにより、基板400に対する半田ボール300a,300bの搭載を連続して行わせると共に、半田ボール300a,300bが搭載された基板400に対するリフロー処理を実行させることにより、半田搭載済基板600を連続して製造する。
Hereinafter, the
このように、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、半田ボール300を吸着保持部515の先端部515aで吸着させて保持させ、先端部515aに半田ボール300を保持している吸着保持部515と吸着ヘッド511の吸着面512cとを相対的に近接させて吸気口512eから吸引している状態の吸着ヘッド511に対して半田ボール300を供給する供給処理を実行する。このため、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、適量の半田ボール300を先端部515aに保持させることで、その適量の半田ボール300を吸着ヘッド511に供給させることができるため、半田ボール300の過剰な供給を確実に防止することができる結果、余剰な半田ボール300の付着を少なく抑えることができる。したがって、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、搭載対象の半田ボール300だけを吸着ヘッド511によって保持させることができるため、余剰な半田ボール300の基板400への搭載、つまり基板400に対する半田ボール300の過剰な搭載を確実に防止することができる。
As described above, in the solder mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、半田ボール300を吸引可能な吸引部516と吸着ヘッド511の吸着面512cとを相対的に近接させて吸気口512eの縁部に吸着されている半田ボール300を除く余剰な半田ボール300を吸引させて除去する吸引処理を実行する。このため、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、搭載対象の半田ボール300と余剰な半田ボール300とが静電気や分子間力によって互いに強く引き合っていたとしても、吸引部による吸引によって余剰な半田ボール300の全てを搭載対象の半田ボール300から強制的に引き離して吸着ヘッド511から確実に除去することができる。したがって、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、搭載対象の半田ボール300だけをより確実に吸着ヘッド511によって保持させることができるため、余剰な半田ボール300の基板400への搭載、つまり基板400に対する半田ボール300の過剰な搭載を一層確実に防止することができる。
Further, in the solder mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、吸着処理の実行後に第1検出処理を実行し、その第1検出処理の結果に基づいて、第1除去部53による第1除去処理の実行、吸着ヘッド511による吸着処理の再実行、および供給部513による供給処理の再実行を行う。このため、吸着処理において半田ボール300が過剰に吸着されたとしても、吸着している半田ボール300が除去された後に吸着処理および供給処理が再実行され、吸着処理において吸着された半田ボール300に不足があったとしても、吸着処理および供給処理が再実行される。したがって、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、半田ボール300を過不足なく吸着している吸着ヘッド511によって搭載処理を行うことができる結果、半田ボール300を基板400の端子401に過不足なく確実に搭載することができる。
In addition, in the solder mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、ベース部422a,422bと、ベース部422aに対するベース部422bの第1方向(図4に示す矢印Aの方向)に沿った相対的な移動を許容しつつベース部422a,422bを相互に連結する直動案内機構423と、ベース部422a,422bを相互に離間させる方向に付勢するスプリング424,424とを備えると共に、軸長が基板400に対する移動方向(図11〜13に示す矢印Cの向き、および図11,14に示す矢印Dの向き:第2方向)に沿うように配設された回動軸426を介してベース部422bにスキージ(この例では、ベース部425およびスキージ本体427)を取り付けたスキージユニット421a,421bを使用して基板400の塗布面にフラックスFを塗り拡げる塗布処理を実行する。
Further, in this solder mounted
したがって、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、ベース部425およびスキージ本体427(スキージ)が傾いた状態で取り付けられているとき、フラックスFの塗布に際してスキージ本体427を押し付けるメタルマスク41や基板400に傾きが生じているとき、および研磨によって先端部427xが斜め状態となっているときのいずれの場合においても、塗布機構44によってスキージユニット421(塗布ユニット42)を下降させてスキージ本体427の先端部427xをメタルマスク41の表面に当接させたときに、ベース部425およびスキージ本体427(スキージ)が回動軸426を中心としてベース部422bに対して回動する結果、スキージ本体427における先端部427xの幅方向の全体をメタルマスク41に当接させることができる。また、塗布機構44によってスキージユニット421(塗布ユニット42)をさらに下降させることでスプリング424が縮長してベース部422a(塗布機構44)に対してベース部422b(ベース部425およびスキージ本体427)を下向きに押圧する結果、ベース部422bに取り付けられているスキージ本体427の先端部427xを十分な押圧力でメタルマスク41の表面に押し当てることができる。これにより、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、ベース部425およびスキージ本体427(スキージ)に傾きが生じないように塗布機構44に対するスキージユニット421の固定位置を微調整する煩雑な作業が不要となる結果、塗布機構44に対してスキージユニット421を容易に取り付けることができるだけでなく、上記の各種の状態において、先端部427xにおける幅方向の全体をメタルマスク41の表面に対して均一な押圧力で押し付けた状態においてフラックスFを塗り拡げることができるため、塗布むらを生じさせることなく、基板400の塗布領域PaにフラックスFを均一に塗布することができる。
Therefore, according to the solder mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、供給処理において、先端部515aに半田ボール300を保持している吸着保持部515と吸着ヘッド511の吸着面512cとを相対的に近接させた状態で吸着保持部515が吸着面512cに沿って相対的に移動するように吸着ヘッド511および吸着保持部515の少なくとも一方を移動させる。このため、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、吸着保持部515の先端部515aに保持させた半田ボール300を吸着保持部515の移動に伴って分散させつつ徐々に供給させることができるため、半田ボール300の過剰な供給を一層確実に防止することができる結果、余剰な半田ボール300の付着をより少なく抑えることができる。したがって、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、余剰な半田ボール300の基板400への搭載、つまり基板400に対する半田ボール300の過剰な搭載をより確実に防止することができる。
Further, in the solder mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、半田ボール300を保持する吸気口512eの口径が互いに異なるように構成された複数の吸着ヘッド511毎に移動処理を実行して各吸着ヘッド511における各吸気口512eの口径に対応して直径L1が互いに異なる複数種類の半田ボール300を1つの基板400に対して搭載する。このため、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、隣接する端子401同士の間隔が領域によって異なったり、接続されるリード線の太さが領域によって異なったりする複雑な構成の基板400に対して、直径L1(大きさ)が互いに異なる複数種類の半田ボール300を確実に搭載することができる。
Further, in this solder-mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、半田ボール300を貯留する貯留部555aと、貯留部555aおよび補給口554fを繋ぐ移動流路555bとで構成された溝555が載置部554に形成され、回動機構556が、待機状態において補給口554fよりも貯留部555aが下側に位置する第1姿勢に載置部554を維持させ、補給処理において貯留部555aよりも補給口554fが下側に位置する第2姿勢となるように載置部554を回動させる半田ボール補給装置55を用いて半田ボール搭載装置5における半田ボール吸着装置51の収容容器514に対して半田ボール300を補給する補給処理を実行する。このため、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、精巧に製作された補給容器551を用いることなく、待機状態において溝555の貯留部555aに予め規定された適量の半田ボール300を貯留させることができ、また、補給処理において載置部554を回動させて載置部554の姿勢を第1姿勢から第2姿勢に変更するだけの簡易な構成でありながら、適量の半田ボール300を収容容器514の収容部514a内に確実に補給することができる。したがって、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、簡易な構成の補給容器551や回動機構556を用いることができるため、半田搭載済基板製造装置1の製造コストを十分に低減することができる。
In addition, in this solder mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、基板400が複数面付けされた多面付け基板500を切断して各基板400に分割する切断処理および各基板400に対する電気的検査を所定の順序で実行し、電気的検査において良品と判別された基板400にのみ半田ボール300を搭載する。このため、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、電気的に不良な基板400に対する半田ボール300の搭載を確実に回避することができ、これによって半田ボール300の無駄な消費を確実に抑えることができる結果、製造コストを十分に低減することができる。
Further, in this solder-mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、収容容器514の開口部514b側に配設された吸着保持部515の先端部515aを収容容器514における容器本体514cの底部側に対向させて半田ボール300を先端部515aで吸着して保持させ、供給処理の実行時において先端部515aが吸着ヘッド511の吸着面512cに対向するように吸着保持部515を回動させる。このため、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、吸着保持部515を回動させるだけの簡易な構成でありながら、適量の半田ボール300を吸着ヘッド511に確実に供給することができる。
Further, in the solder mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、一体に構成された収容容器514および吸着保持部515を用いて供給処理を実行する。このため、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、別体に構成された収容容器514および吸着保持部515を用いて、これらを複数の駆動機構を用いて個別に移動させる構成および方法と比較して、1つの駆動機構517でこれらを一度に移動させることができる結果、半田ボール吸着装置51a,51b、半田ボール搭載装置5および半田搭載済基板製造装置1を簡易に構成することができると共に処理効率を向上することができる。
Further, in the solder mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、収容容器514、吸着保持部515および吸引部516を一体に構成した本体部50を用いて供給処理および吸引処理を実行する。このため、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、別体に構成された収容容器514、吸着保持部515および吸引部516を用いて、これらを複数の駆動機構を用いて個別に移動させる構成および方法と比較して、1つの駆動機構517でこれらを一度に移動させることができる結果、半田ボール吸着装置51a,51b、半田ボール搭載装置5および半田搭載済基板製造装置1を簡易に構成することができると共に処理効率を向上することができる。
Further, in the solder mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、吸気口512eに連通しかつ半田ボール300が通過可能な貫通孔519eが形成された整列用プレート519を吸着ヘッド511に装着させた状態において供給処理および吸引処理を行う。このため、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、供給処理の際に吸着ヘッド511の各吸気口512eに半田ボール300を1つずつ確実に供給することができる。
In the solder mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、検出部52が搭載処理の実行後に第2検出処理を実行し、制御装置8が第2検出処理の結果に基づいて第2除去部54による第2除去処理の実行を制御する。このため、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、基板400の端子401に塗布されているフラックスが搭載処理の実行時に吸着ヘッド511に付着したり、フラックスの付着に伴って半田ボール300が吸着ヘッド511に付着したりしたとしても、そのフラックスや半田ボール300(両者の少なくとも一方を含む付着物)を確実に除去することができる結果、吸着ヘッド511に付着したこれらの付着物によって次の各処理の実行に支障を来す事態を確実に防止することができる。
Moreover, in this solder mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、検出部52が搭載処理の実行後に第2検出処理を実行し、制御装置8が第2検出処理の結果に基づいて第1除去部53による第1除去処理の実行を制御する。このため、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、例えば、搭載処理の実行後においてフラックスが付着せずに半田ボール300だけが吸着ヘッド511に付着しているときには、フラックスを除去する第2除去処理よりも高速の第1除去処理によってその半田ボール300を除去することができるため、処理時間を十分に短縮することができる。
Further, in the solder mounted
また、この半田ボール搭載装置5では、吸着ヘッド511bに凹部512gが形成され、半田ボール搭載装置5が、吸気口512eの口径の大きい吸着ヘッド511aに対する移動処理を吸気口512eの口径の小さい吸着ヘッド511bに対する移動処理に先立って行う。このため、この半田ボール搭載装置5によれば、基板400に既に搭載されている半田ボール300aと吸着ヘッド511bとの接触を確実に回避することができる結果、接触による搭載済みの半田ボール300aの脱落を確実に防止することができる。
Further, in this solder
また、この半田ボール搭載装置5によれば、移動機構520を吸着ヘッド511の数と同数備え、各移動機構520が各吸着ヘッド511を個別に移動させることにより、例えば、複数の吸着ヘッド511を交換して1つの移動機構520で移動させる構成と比較して、交換に要する時間分を短縮できるため、処理効率を十分に向上させることができる。
Further, according to the solder
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、貯留部555aが平面視U字状に形成され、移動流路555bが平面視直線状に形成されている。このため、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、載置部554を第1姿勢とさせたときには、貯留部555aにおけるU字状の凸部分が下側に位置するため、補給容器551の排出口551cを貯留部555aの端部に連通させることで、その端部からU字状の凸部分に亘る領域に適量の半田ボール300を確実に貯留させることができる。また、載置部554を第2姿勢とさせたときには、貯留している半田ボール300を移動流路555bに滑り降ろさせて補給口554fに向けて確実に移動させることができる。さらに、載置部554を第2姿勢とさせたときには、補給容器551の排出口551cに連通している貯留部555aの端部がU字状の凸部分よりも下側に位置するため、補給容器551から排出される半田ボール300が貯留部555aの端部と溝555の開口部側を閉塞しているスペーサ553とによって堰き止められる結果、溝555の貯留部555aに貯留されていた半田ボール300以外の半田ボール300が載置部554の表面を伝わって補給口554f以外から落下する事態を確実に防止することができる。
Further, in the solder mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、補給容器551内に窒素ガスを供給する窒素ガス供給部557を備えたことにより、補給容器551に収納されている半田ボール300の酸化を確実に防止することができるため、半田ボール300同士が互いに固着して固まりとなって補給処理が困難となる事態を確実に防止することができる。
Further, according to the solder mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、制御装置8が予め規定された条件を満たしたときに半田ボール補給装置55に対して補給処理を実行させることにより、予め規定された条件を満たしたときとして例えば搭載処理を規定回数実行したときに補給処理を実行させることで、基板400に搭載すべき半田ボール300の数が不足する事態を確実に防止することができる。
Further, according to the solder mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、スキージ本体427と、回動軸426を介してベース部422bに取り付けられると共にスキージ本体427を取り外し可能に構成されたベース部425とを備えたスキージを用いて塗布処理を実行することにより、スキージ本体427(板状部427a)の研磨作業時に塗布機構44からスキージユニット421の全体を取り外すことなく、スキージ本体427だけをベース部425から取り外して作業することができる。また、複数回の研磨によってスキージ本体427(板状部427a)が短くなったときには、スキージ本体427だけを新たな部品に交換することで、ベース部422a,422b,14等を継続して使用することができるため、半田搭載済基板製造装置1のランニングコストを十分に低減することができる。
In addition, according to the solder mounted
また、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、切断処理を実行した後に電気的検査を実行する。このため、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法では、例えば、切断処理の際の振動などに起因して導体パターンに断線や短絡が生じたとしても、その基板400を不良品として確実に判別することができる。したがって、この半田搭載済基板製造装置1および基板製造方法によれば、多面付け基板500の製造時において生じている不良な基板400に対する半田ボール300の搭載による半田ボール300の無駄な消費を抑えることができるのに加えて、切断処理に起因して生じた不良な基板400に対する半田ボール300の搭載による半田ボール300の無駄な消費も確実に抑えることができる結果、製造コストを一層低減することができる。
Moreover, in this solder mounted
また、この半田搭載済基板600は、上記の半田搭載済基板製造装置1または上記の基板製造方法によって製造されている。このため、この半田搭載済基板600では、基板400に対する半田ボール300の過剰な搭載が確実に防止される結果、半田ボール300を溶融して基板400の端子401に固着させる際に、過剰に搭載された半田ボール300が溶融に伴って互いに接続される事態が回避されている。したがって、この半田搭載済基板600によれば、電子部品を実装する際に、接続された半田ボール300(半田301)を介して電子部品の端子同士が短絡する不良の発生を確実に防止することができる。
The solder-mounted
また、この電子部品搭載済基板800では、上記の半田搭載済基板600に固着された半田ボール300(半田301)を介して接続された電子部品801が半田搭載済基板600に搭載されている。このため、この電子部品搭載済基板800では、過剰に搭載された半田ボール300が溶融に伴って互いに接続される事態が回避されている結果、電子部品801を搭載(実装)する際に、接続された半田ボール300(半田301)を介して電子部品801の端子同士が短絡する不良の発生が確実に防止されている。したがって、この電子部品搭載済基板800によれば、この電子部品搭載済基板800を用いた製品における不良の発生を確実に防止することができる。
In the electronic component mounted
なお、基板製造装置および基板製造方法は、上記の例に限定されない。例えば、収容容器514、吸着保持部515および吸引部516を一体に構成した本体部50を用いる構成および方法について上記したが、別体にした収容容器514、吸着保持部515および吸引部516を用いて、これらを個別に駆動する構成および方法を採用することもできる。また、収容容器514および吸着保持部515を一体に構成すると共に、吸引部516を別体に構成し、一体に構成した収容容器514および吸着保持部515と、別体に構成した吸引部516とを個別に駆動する構成および方法を採用することもできる。また、静止状態の吸着ヘッド511に対して本体部50を移動させて供給処理および吸引処理を実行する構成および方法について上記したが、静止状態の本体部50に対して吸着ヘッド511(または、吸着ヘッド511および整列用プレート519の双方)を移動させて供給処理および吸引処理を実行する構成および方法を採用することもできる。また、吸着ヘッド511および本体部50の双方を移動させて供給処理および吸引処理を実行する構成および方法を採用することもできる。さらに、収容容器514、吸着保持部515および吸引部516を別体にしたときには、収容容器514および吸着保持部515の一方または双方(つまり、両者の1つ以上)を移動させて吸着保持部515に半田ボール300を保持させた後に、吸着ヘッド511および収容容器514の一方または双方(つまり、両者の1つ以上)を移動させて供給処理を行い、吸着ヘッド511および吸引部516の一方または双方(つまり、両者の1つ以上)を移動させて吸引処理を行う構成および方法を採用することができる。また、収容容器514および吸着保持部515を一体に構成すると共に(以下、両者による構成体を「一体構成体」という)、吸引部516を別体に構成したときには、吸着ヘッド511および一体構成体の一方または双方(つまり、両者の1つ以上)を移動させて供給処理を行い、吸着ヘッド511および吸引部516の一方または双方(つまり、両者の1つ以上)を移動させて吸引処理を行う構成および方法を採用することができる。
In addition, a board | substrate manufacturing apparatus and a board | substrate manufacturing method are not limited to said example. For example, the configuration and method using the
また、吸引部516を用いて余剰な半田ボール300を吸引して除去する吸引処理を実行する構成および方法について上記したが、吸引部516を備えずに吸引処理を実行しない構成および方法を採用することもできる。また、吸引部516に代えて、吸着ヘッド511の吸着面512c(または整列用プレート519の下面519d)に沿ってスキージを移動させるスキージ機構を備え、このスキージ機構を用いて余剰な半田ボール300を掻き取って除去する構成および方法を採用することもできる。
Further, the configuration and method for performing the suction process for sucking and removing the
また、供給処理において、半田ボール300を保持した吸着保持部515を吸着ヘッド511の吸着面512cに沿って移動させて吸着ヘッド511に対して半田ボール300を供給する構成および方法について上記したが、先端部515aが吸着ヘッド511の吸着面512cと同じ程度の大きさに形成された吸着保持部515に半田ボール300を保持させ、その吸着保持部515の先端部515aを吸着ヘッド511の吸着面512cに近接させて、吸着保持部515を吸着面512cに沿って移動させることなく半田ボール300を吸着ヘッド511に供給する構成および方法を採用することもできる。
In the supply process, the
また、整列用プレート519を用いる構成および方法について上記したが、整列用プレート519を用いない構成および方法を採用することもできる。また、基板400の表面に塗布した半田フラックス上に半田ボール300を載置する構成に代えて、吸着ヘッド511によって吸着された半田ボール300の先端部をトレイに収容した半田フラックスに浸してその先端部に半田フラックスを付着させた後に、半田フラックスが塗布されていない基板400の上にその半田ボール300を載置する構成を採用することもできる。
Further, although the configuration and method using the
また、基板400の端子401にフラックスを塗布するフラックス塗布装置4を備えた例について上記したが、吸着ヘッド511によって吸着された半田ボール300の先端部にフラックスを塗布する塗布部を備えた構成を採用することもできる。また、吸引部516を有する供給部513を備えた例について上記したが、供給部513の構成はこれに限定されず、例えば、吸引部516を備えていない構成を採用することができる。
In addition, the example in which the
また、検出部52が第1検出処理および第2検出処理の双方を実行する例について上記したが、各検出処理を個別に実行する2つの検出部(第1検出部および第2検出部)を備えた構成を採用することもできる。また、吸着ヘッド511に付着したフラックスを除去液541を用いて拭き取るように第2除去部54を構成した例について上記したが、付着したフラックスを吸引によって除去する構成を採用することもできる。また、搭載処理の実行後の吸着ヘッド511に半田ボール300だけが付着しているときにその半田ボール300を第1除去部53に除去させる(第1除去処理を実行する)構成および方法について上記したが、付着物が半田ボール300だけの場合においても、その付着物(半田ボール300)を第2除去部54に除去させる(第2除去処理を実行する)構成および方法を採用することもできる。
In addition, the example in which the detection unit 52 executes both the first detection process and the second detection process has been described above. However, two detection units (first detection unit and second detection unit) that individually execute each detection process are provided. It is also possible to adopt a configuration provided. In addition, although the example in which the second removing
また、第1搭載処理を実行した後に第2搭載処理を実行して大径の半田ボール300aを搭載した後に小径の半田ボール300bを搭載する構成および方法、つまり、吸気口512eの口径が大きい吸着ヘッド511aに対する移動処理を吸気口512eの口径が小さい吸着ヘッド511bに対する移動処理に先立って行う構成および方法について上記したが、第2搭載処理を実行した後に第1搭載処理を実行して小径の半田ボール300bを搭載した後に大径の半田ボール300aを搭載する構成および方法、つまり吸気口512eの口径が小さい吸着ヘッド511bに対する移動処理を吸気口512eの口径が大きい吸着ヘッド511aに対する移動処理に先立って行う構成および方法を採用することもできる。この構成によれば、例えば、半田ボール300aが半田ボール300bよりも十分に大きいときには、図50に示すように、吸着ヘッド511aに凹部や切り欠きを設けることなく、第1搭載処理の実行時における搭載済みの半田ボール300bと吸着ヘッド511aとの接触を確実に回避することができる。このため、この構成によれば、凹部や切り欠きを設けていない簡易な構成の吸着ヘッド511aを用いて、吸着ヘッド511aとの接触による搭載済みの半田ボール300bの脱落を確実に防止することができる。
In addition, a configuration and method for mounting the small-
また、2つの移動機構520a,520bを備えて、各移動機構520a,520bが各吸着ヘッド511a,511bをそれぞれ個別に移動させる構成例について上記したが、吸着ヘッド511a,511bを手動または自動で交換することによって1つの移動機構520で各吸着ヘッド511a,511bを移動させる構成を採用することもできる。
In addition, the configuration example in which the two moving
また、1つの基板400に直径L1が互いに異なる2種類の半田ボール300a,300bを搭載する例について上記したが、吸気口512eの口径(保持対象の半田ボール300の直径L1)が互いに異なる3つ以上の吸着ヘッド511を備えて、直径L1が互いに異なる3種類以上の半田ボール300を1つの基板400に搭載する構成を採用することもできる。
In addition, although an example in which two types of
また、複数の半田ボール搭載装置を用いて直径L1が互いに異なる複数種類の半田ボール300を基板400に搭載する搭載方法(球状体搭載方法)を採用することもできる。この球状体搭載方法では、例えば、2台の半田ボール搭載装置を用いて上記した半田ボール300a,300bを1つの基板400に搭載するときには、1台の半田ボール搭載装置に対して吸着ヘッド511aを用いた移動処理を実行させて半田ボール300aを基板400に搭載させ、他の1台の半田ボール搭載装置に対して吸着ヘッド511bを用いた移動処理を実行させて半田ボール300bを基板400に搭載させる(つまり、2つの半田ボール搭載装置を用いて吸着ヘッド511毎に移動処理を実行させる)。この球状体搭載方法においても、上記の半田ボール搭載装置5による搭載処理と同様の効果を実現することができる。
In addition, a mounting method (spherical body mounting method) in which a plurality of types of
さらに、吸着ヘッド511を基板400に向けて移動させる処理を移動処理として実行する例について上記したが、半田ボール300を保持している吸着ヘッド511に向けて基板400を移動させる処理を移動処理として実行する構成を採用することもできる。また、搭載済みの半田ボール300との接触を回避するための凹部512gを吸着ヘッド511に形成した例について上記したが、凹部512gに代えて、切り欠きを吸着ヘッド511に形成し、この切り欠きによって搭載済みの半田ボール300との接触を回避する構成を採用することもできる。この場合、切り欠きには、吸着ヘッド511の外周部の一部を切り欠いたものや、厚み方向に貫通する孔が含まれ、基板400の端子401の形成位置等に応じて、これらを任意に組み合わせることができる。
Further, the example of executing the process of moving the
また、制御装置8が、予め規定された条件を満たしたときの一例として、予め規定された規定回数の搭載処理が終了したときに半田ボール補給装置55に対して補給処理を実行させる例について上記したが、基板400に対する半田ボール300の搭載状態を検出する検査部を備えて、この検査部によって半田ボール300の搭載不足が検出されたときを予め規定された条件を満たしたときとして、半田ボール補給装置55に対して補給処理を実行させる構成を採用することもできる。また、収容容器514に収容されている半田ボール300の量(残量)を例えば光センサで検出して、その量が予め規定した量以下となったとき(予め規定された条件を満たしたとき)に補給処理を実行する構成を採用することもできる。また、手動操作によって回動機構556を作動させて載置部554を回動させることにより、補給処理を任意のタイミングで実行させる構成を採用することもできる。
Further, as an example when the
また、載置部554の上面554aに形成した溝555によって収容部を構成した例について上記したが、図57に示すように、載置部558の内部に形成した孔559によって収容部を構成することもできる。なお、上記の半田ボール補給装置55と同一の機能を有する要素については、同一の符号を付して重複した説明を省略する。この場合、孔559は、同図に示すように、側面視がU字状に形成された貯留部559a、および側面視が直線状に形成された移動流路559bを備えて構成されており、この孔559を備えた構成においても、上記した溝555を備えた構成と同様の効果を実現することができる。
Further, the example in which the accommodating portion is configured by the
また、矩形の板状に形成した載置部554を採用した例について上記したが、載置部554の形状はこれに限定されず、立方体や直方体の形状、並びに、平面視円形、側面視半円形(U字形)、および側面視三角形等の各種の立体形状を採用することができる。また、補給容器551や載置部554を形成する材料は、上記した材料に限定されず任意の材料を用いることができる。
In addition, the example in which the mounting
また、酸化防止用ガスの一例としての窒素ガスを用いる例について上記したが、酸化防止用ガスとしては窒素ガスGに限定されず、アルゴンガス等の半田ボール300の酸化を防止可能な各種のガスを用いることができる。
Moreover, although the example using nitrogen gas as an example of the antioxidant gas has been described above, the antioxidant gas is not limited to the nitrogen gas G, and various gases that can prevent the
また、スキージユニット421a,421bの2枚のスキージを有するフラックス塗布装置4を例に挙げて説明したが、1枚のスキージユニット421だけを備えてフラックス塗布装置を構成することもできる。具体的には、一例として、上記の例において塗布ユニット42を矢印Cの方向に移動させるときにだけフラックスFを塗布する(スキージユニット421aだけでフラックスを塗布する)場合には、上記の塗布ユニット42におけるスキージユニット421bを不要とすることができる。また、3枚以上のスキージユニット421を備えてフラックス塗布装置を構成することもできる。これらの構成を採用した場合においても、上記のスキージユニット421a,421bを備えたフラックス塗布装置4と同様の効果を奏することができる。
Further, although the
また、上記のフラックス塗布装置4では、スキージユニット421a,421bの2枚を塗布機構44(取付部441)に取り付けて両スキージユニット421a,421bを同時に同じ方向に移動させる構成を採用しているが、スキージユニット421aを移動させる移動機構、およびスキージユニット421bを移動させる移動機構を別個に設けて両スキージユニット421a,421bを別個独立して移動させる構成を採用することもできる。さらに、上記のフラックス塗布装置4では、塗布機構44によって塗布ユニット42をメタルマスク41および基板400に対して第2方向に移動させてフラックスFを塗り拡げる構成を採用しているが、予め決められた位置(例えば、フラックス塗布装置のフレーム)に固定した塗布ユニット42(スキージユニット421)に対して、例えば基板搬送機構45によってメタルマスク41および基板400を第2方向に移動させてフラックスFを塗り拡げる構成を採用することもできる。また、塗布機構44によって塗布ユニット42を第2方向に移動させると共に、基板搬送機構45等によってメタルマスク41および基板400を第2方向に移動させてフラックスFを塗り拡げる構成を採用することもできる。これらの構成においても、上記のフラックス塗布装置4と同様の効果を奏することができる。
Further, the
さらに、コイルスプリングで構成されたスプリング424を付勢部材として配設したスキージユニット421a,421bを例に挙げて説明したが、コイルスプリングに代えて、リーフスプリングおよびエアスプリング等の各種スプリングや、弾性樹脂等で付勢部材を構成して配設することもできる。
Further, the
また、多面付け基板500を切断して各基板400に分割する切断処理を実行した後に基板400に対する電気的検査を実行する方法および構成について上記したが、基板400に対する電気的検査を実行した後に搭載処理を実行し、その後に切断処理を実行する方法および構成を採用することもできる。具体的には、この方法および構成では、検査装置3が、多面付け基板500の状態における各基板400(未切断の状態の各基板400)に対して電気的検査を実行する。次いで、半田ボール搭載装置5が、多面付け基板500の状態における各基板400に対して半田ボール300を搭載する。この場合、半田ボール搭載装置5は、フラックス塗布装置4の指示に従い、多面付け基板500における各基板400の中から電気的検査において良品と判別された基板400を選別して、その良品の基板400のみに半田ボール300を搭載する。続いて、半田ボール300が、搭載された多面付け基板500に対してリフロー処理を行う。次いで、切断装置2が、その多面付け基板500を切断して各基板400に分割する。この搭載方法および構成においても、電気的検査において良品と判別された基板400にのみ半田ボール300を搭載するため、電気的に不良な基板400に対する半田ボール300の搭載を確実に回避することができ、これによって半田ボール300の無駄な消費を確実に抑えることができる結果、製造コストを十分に低減することができる。
In addition, the method and the configuration for performing the electrical inspection on the
また、基板400に対する電気的検査を実行した後に切断処理を実行し、その後に搭載処理を実行する方法および構成を採用することもできる。具体的には、この方法および構成では、検査装置3が、多面付け基板500の状態における各基板400(未切断の状態の各基板400)に対して電気的検査を実行する。続いて、切断装置2が、多面付け基板500を切断して各基板400に分割する。次いで、切断した各基板400の中から電気的検査において良品と判別された基板400を選別する。続いて、半田ボール搭載装置5が、良品として選別した基板400のみに対して半田ボール300を搭載する。この搭載方法および構成においても、電気的検査において良品と判別された基板400にのみ半田ボール300を搭載するため、電気的に不良な基板400に対する半田ボール300の搭載を確実に回避することができ、これによって半田ボール300の無駄な消費を確実に抑えることができる結果、製造コストを十分に低減することができる。
In addition, a method and a configuration in which a cutting process is performed after an electrical inspection on the
1 半田搭載済基板製造装置
2 切断装置
3 検査装置
4 フラックス塗布装置
5 半田ボール搭載装置
7 溶融装置
8 制御装置
41 メタルマスク
44 塗布機構
51a,51b 吸着装置
52a,52b 検出部
54a,54b 第2除去部
55a,55b 半田ボール補給装置
300a,300b 半田ボール
301 半田
400 基板
411 開口部
421a,421b スキージユニット
422a,422b ベース部
423 直動案内機構
424 スプリング
426 回動軸
427 スキージ本体
500 多面付け基板
511a,511b 吸着ヘッド
512c 吸着面
512e 吸気口
513a,513b 供給部
514 収容容器
514b 開口部
515 吸着保持部
515a 先端部
516 吸引部
519a,519b 整列用プレート
520a,520b 移動機構
551 補給容器
551c 排出口
554 載置部
554f 補給口
555 溝
555a 貯留部
555b 移動流路
556 回動機構
559 孔
559a 貯留部
559b 移動流路
600 半田搭載済基板
800 電子部品搭載済基板
801 電子部品
F フラックス
L1a,L1b 直径
Pa 塗布領域
DESCRIPTION OF
Claims (27)
前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行する基板製造装置。 A sphere having a sphere adsorbing device having an adsorption head that performs an adsorption process for adsorbing a sphere on the edge of the suction port formed on the adsorption surface and mounting the sphere adsorbed by the adsorption head on a substrate A substrate manufacturing apparatus for manufacturing a spherical body mounted substrate with a body mounting device,
The spherical body adsorption device includes an accommodation container that has an opening and accommodates the spherical body, and an adsorption holding unit that adsorbs and holds the spherical body accommodated in the accommodation container at a tip end portion thereof. The suction holding portion holding the spherical body at the tip portion and the suction head of the suction head are relatively close to each other, and the suction head is sucked from the suction port. A substrate manufacturing apparatus that performs supply processing for supplying a spherical body.
前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部と、前記球状体を吸引可能な吸引部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行する基板製造装置。 A sphere having a sphere adsorbing device having an adsorption head that performs an adsorption process for adsorbing a sphere on the edge of the suction port formed on the adsorption surface and mounting the sphere adsorbed by the adsorption head on a substrate A substrate manufacturing apparatus for manufacturing a spherical body mounted substrate with a body mounting device,
The spherical body adsorbing device includes an accommodating container that has an opening and accommodates the spherical body, an adsorption holding unit that adsorbs and holds the spherical body accommodated in the accommodating container at a tip portion thereof, A suction part capable of sucking the spherical body, and sucking from the suction port with the suction holding part holding the spherical body at the tip part and the suction surface of the suction head relatively close to each other. The supply process of supplying the spherical body to the suction head in a state of being in the suction state is performed, and the suction portion and the suction surface of the suction head are relatively close to each other and sucked to the edge of the suction port A substrate manufacturing apparatus that performs a suction process of sucking and removing excess spherical bodies excluding the spherical bodies.
前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部と、前記球状体を吸引可能な吸引部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行し、
前記球状体搭載装置は、前記吸着処理の実行後の前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行する第1検出部と、前記吸着ヘッドによって吸着されている前記球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行する第1除去部と、制御部とを備え、
前記制御部は、前記第1検出処理において前記球状体の過剰が検出されたときに前記第1除去処理を実行させた後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行させ、前記第1検出処理において前記球状体の不足が検出されたときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行させる基板製造装置。 A sphere having a sphere adsorbing device having an adsorption head that performs an adsorption process for adsorbing a sphere on the edge of the suction port formed on the adsorption surface and mounting the sphere adsorbed by the adsorption head on a substrate A substrate manufacturing apparatus for manufacturing a spherical body mounted substrate with a body mounting device,
The spherical body adsorbing device includes an accommodating container that has an opening and accommodates the spherical body, an adsorption holding unit that adsorbs and holds the spherical body accommodated in the accommodating container at a tip portion thereof, A suction part capable of sucking the spherical body, and sucking from the suction port with the suction holding part holding the spherical body at the tip part and the suction surface of the suction head relatively close to each other. The supply process of supplying the spherical body to the suction head in a state of being in the suction state is performed, and the suction portion and the suction surface of the suction head are relatively close to each other and sucked to the edge of the suction port Performing a suction process of sucking and removing the excess spherical body excluding the spherical body that is,
The spherical body mounting device includes a first detection unit that performs a first detection process for detecting excess or deficiency of the spherical body in the suction head after the suction process is performed, and the spherical body that is sucked by the suction head. A first removal unit that executes a first removal process for removing the body from the suction head, and a control unit,
The controller re-executes the adsorption process and the supply process after executing the first removal process when an excess of the spherical body is detected in the first detection process, and in the first detection process, The substrate manufacturing apparatus which re-executes the said adsorption | suction process and the said supply process when the shortage of the said spherical body is detected.
前記フラックス塗布装置は、供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニットと、前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板および前記スキージユニットの少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げさせる塗布機構とを備え、
前記スキージユニットは、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成され、
前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部と、前記球状体を吸引可能な吸引部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行する基板製造装置。 A flux applying device that performs a coating process for applying flux to a substrate, and a spherical body suction device that has a suction head that performs a suction process for sucking a spherical body at the edge of an air inlet formed on the suction surface. A substrate manufacturing apparatus for manufacturing a spherical body mounted substrate, comprising a spherical body mounting device that mounts the spherical body sucked by the suction head on the substrate after execution of the coating process,
The flux application device includes a squeegee unit having a squeegee for spreading the supplied flux on the application surface of the substrate, and a mask provided with an opening for exposing the application region of the flux on the application surface. At least one of the pressed substrate and the squeegee unit is moved in a first direction in which the substrate and the squeegee unit approach each other, and the front end of the squeegee that is linear in plan view is pressed against the surface of the mask. An application mechanism that spreads the flux on the application region by moving at least one of the substrate and the squeegee unit in the second direction along the application surface in the state;
The squeegee unit includes a first base portion and a second base portion, and the first base portion and the second base portion while allowing relative movement of the second base portion with respect to the first base portion along the first direction. A coupling mechanism that couples the second base parts to each other; and a biasing member that biases the first base part and the second base part in a direction separating them from each other, and an axial length in the second direction. The squeegee is configured to be attached to the second base portion via a rotation shaft disposed along the axis,
The spherical body adsorbing device includes an accommodating container that has an opening and accommodates the spherical body, an adsorption holding unit that adsorbs and holds the spherical body accommodated in the accommodating container at a tip portion thereof, A suction part capable of sucking the spherical body, and sucking from the suction port with the suction holding part holding the spherical body at the tip part and the suction surface of the suction head relatively close to each other. The supply process of supplying the spherical body to the suction head in a state of being in the suction state is performed, and the suction portion and the suction surface of the suction head are relatively close to each other and sucked to the edge of the suction port A substrate manufacturing apparatus that performs a suction process of sucking and removing excess spherical bodies excluding the spherical bodies.
前記フラックス塗布装置は、供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニットと、前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板および前記スキージユニットの少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げさせる塗布機構とを備え、
前記スキージユニットは、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成され、
前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部と、前記球状体を吸引可能な吸引部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行し、
前記球状体搭載装置は、前記吸着処理の実行後の前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行する第1検出部と、前記吸着ヘッドによって吸着されている前記球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行する第1除去部と、制御部とを備え、
前記制御部は、前記第1検出処理において前記球状体の過剰が検出されたときに前記第1除去処理を実行させた後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行させ、前記第1検出処理において前記球状体の不足が検出されたときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行させる基板製造装置。 A flux applying device that performs a coating process for applying flux to a substrate, and a spherical body suction device that has a suction head that performs a suction process for sucking a spherical body at the edge of an air inlet formed on the suction surface. A substrate manufacturing apparatus for manufacturing a spherical body mounted substrate, comprising a spherical body mounting device that mounts the spherical body sucked by the suction head on the substrate after execution of the coating process,
The flux application device includes a squeegee unit having a squeegee for spreading the supplied flux on the application surface of the substrate, and a mask provided with an opening for exposing the application region of the flux on the application surface. At least one of the pressed substrate and the squeegee unit is moved in a first direction in which the substrate and the squeegee unit approach each other, and the front end of the squeegee that is linear in plan view is pressed against the surface of the mask. An application mechanism that spreads the flux on the application region by moving at least one of the substrate and the squeegee unit in the second direction along the application surface in the state;
The squeegee unit includes a first base portion and a second base portion, and the first base portion and the second base portion while allowing relative movement of the second base portion with respect to the first base portion along the first direction. A coupling mechanism that couples the second base parts to each other; and a biasing member that biases the first base part and the second base part in a direction separating them from each other, and an axial length in the second direction. The squeegee is configured to be attached to the second base portion via a rotation shaft disposed along the axis,
The spherical body adsorbing device includes an accommodating container that has an opening and accommodates the spherical body, an adsorption holding unit that adsorbs and holds the spherical body accommodated in the accommodating container at a tip portion thereof, A suction part capable of sucking the spherical body, and sucking from the suction port with the suction holding part holding the spherical body at the tip part and the suction surface of the suction head relatively close to each other. The supply process of supplying the spherical body to the suction head in a state of being in the suction state is performed, and the suction portion and the suction surface of the suction head are relatively close to each other and sucked to the edge of the suction port Performing a suction process of sucking and removing the excess spherical body excluding the spherical body that is,
The spherical body mounting device includes a first detection unit that performs a first detection process for detecting excess or deficiency of the spherical body in the suction head after the suction process is performed, and the spherical body that is sucked by the suction head. A first removal unit that executes a first removal process for removing the body from the suction head, and a control unit,
The controller re-executes the adsorption process and the supply process after executing the first removal process when an excess of the spherical body is detected in the first detection process, and in the first detection process, The substrate manufacturing apparatus which re-executes the said adsorption | suction process and the said supply process when the shortage of the said spherical body is detected.
前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行し、
前記球状体搭載装置は、前記吸着処理の実行後の前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行する第1検出部と、前記吸着ヘッドによって吸着されている前記球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行する第1除去部と、制御部とを備え、
前記制御部は、前記第1検出処理において前記球状体の過剰が検出されたときに前記第1除去処理を実行させた後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行させ、前記第1検出処理において前記球状体の不足が検出されたときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行させる基板製造装置。 A sphere having a sphere adsorbing device having an adsorption head that performs an adsorption process for adsorbing a sphere on the edge of the suction port formed on the adsorption surface and mounting the sphere adsorbed by the adsorption head on a substrate A substrate manufacturing apparatus for manufacturing a spherical body mounted substrate with a body mounting device,
The spherical body adsorption device includes an accommodation container that has an opening and accommodates the spherical body, and an adsorption holding unit that adsorbs and holds the spherical body accommodated in the accommodation container at a tip end portion thereof. The suction holding portion holding the spherical body at the tip portion and the suction head of the suction head are relatively close to each other, and the suction head is sucked from the suction port. Execute the supply process to supply the spherical body,
The spherical body mounting device includes a first detection unit that performs a first detection process for detecting excess or deficiency of the spherical body in the suction head after the suction process is performed, and the spherical body that is sucked by the suction head. A first removal unit that executes a first removal process for removing the body from the suction head, and a control unit,
The controller re-executes the adsorption process and the supply process after executing the first removal process when an excess of the spherical body is detected in the first detection process, and in the first detection process, The substrate manufacturing apparatus which re-executes the said adsorption | suction process and the said supply process when the shortage of the said spherical body is detected.
前記フラックス塗布装置は、供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニットと、前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板および前記スキージユニットの少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げさせる塗布機構とを備え、
前記スキージユニットは、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成され、
前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行し、
前記球状体搭載装置は、前記吸着処理の実行後の前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行する第1検出部と、前記吸着ヘッドによって吸着されている前記球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行する第1除去部と、制御部とを備え、
前記制御部は、前記第1検出処理において前記球状体の過剰が検出されたときに前記第1除去処理を実行させた後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行させ、前記第1検出処理において前記球状体の不足が検出されたときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行させる基板製造装置。 A flux applying device that performs a coating process for applying flux to a substrate, and a spherical body suction device that has a suction head that performs a suction process for sucking a spherical body at the edge of an air inlet formed on the suction surface. A substrate manufacturing apparatus for manufacturing a spherical body mounted substrate, comprising a spherical body mounting device that mounts the spherical body sucked by the suction head on the substrate after execution of the coating process,
The flux application device includes a squeegee unit having a squeegee for spreading the supplied flux on the application surface of the substrate, and a mask provided with an opening for exposing the application region of the flux on the application surface. At least one of the pressed substrate and the squeegee unit is moved in a first direction in which the substrate and the squeegee unit approach each other, and the front end of the squeegee that is linear in plan view is pressed against the surface of the mask. An application mechanism that spreads the flux on the application region by moving at least one of the substrate and the squeegee unit in the second direction along the application surface in the state;
The squeegee unit includes a first base portion and a second base portion, and the first base portion and the second base portion while allowing relative movement of the second base portion with respect to the first base portion along the first direction. A coupling mechanism that couples the second base parts to each other; and a biasing member that biases the first base part and the second base part in a direction separating them from each other, and an axial length in the second direction. The squeegee is configured to be attached to the second base portion via a rotation shaft disposed along the axis,
The spherical body adsorption device includes an accommodation container that has an opening and accommodates the spherical body, and an adsorption holding unit that adsorbs and holds the spherical body accommodated in the accommodation container at a tip end portion thereof. The suction holding portion holding the spherical body at the tip portion and the suction head of the suction head are relatively close to each other, and the suction head is sucked from the suction port. Execute the supply process to supply the spherical body,
The spherical body mounting device includes a first detection unit that performs a first detection process for detecting excess or deficiency of the spherical body in the suction head after the suction process is performed, and the spherical body that is sucked by the suction head. A first removal unit that executes a first removal process for removing the body from the suction head, and a control unit,
The controller re-executes the adsorption process and the supply process after executing the first removal process when an excess of the spherical body is detected in the first detection process, and in the first detection process, The substrate manufacturing apparatus which re-executes the said adsorption | suction process and the said supply process when the shortage of the said spherical body is detected.
前記フラックス塗布装置は、供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニットと、前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板および前記スキージユニットの少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げさせる塗布機構とを備え、
前記スキージユニットは、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成され、
前記球状体吸着装置は、開口部を有して前記球状体を収容する収容容器と、当該収容容器に収容されている前記球状体をその先端部で吸着して保持する吸着保持部とを備え、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行する基板製造装置。 A flux applying device that performs a coating process for applying flux to a substrate, and a spherical body suction device that has a suction head that performs a suction process for sucking a spherical body at the edge of an air inlet formed on the suction surface. A substrate manufacturing apparatus for manufacturing a spherical body mounted substrate, comprising a spherical body mounting device that mounts the spherical body sucked by the suction head on the substrate after execution of the coating process,
The flux application device includes a squeegee unit having a squeegee for spreading the supplied flux on the application surface of the substrate, and a mask provided with an opening for exposing the application region of the flux on the application surface. At least one of the pressed substrate and the squeegee unit is moved in a first direction in which the substrate and the squeegee unit approach each other, and the front end of the squeegee that is linear in plan view is pressed against the surface of the mask. An application mechanism that spreads the flux on the application region by moving at least one of the substrate and the squeegee unit in the second direction along the application surface in the state;
The squeegee unit includes a first base portion and a second base portion, and the first base portion and the second base portion while allowing relative movement of the second base portion with respect to the first base portion along the first direction. A coupling mechanism that couples the second base parts to each other; and a biasing member that biases the first base part and the second base part in a direction separating them from each other, and an axial length in the second direction. The squeegee is configured to be attached to the second base portion via a rotation shaft disposed along the axis,
The spherical body adsorption device includes an accommodation container that has an opening and accommodates the spherical body, and an adsorption holding unit that adsorbs and holds the spherical body accommodated in the accommodation container at a tip end portion thereof. The suction holding portion holding the spherical body at the tip portion and the suction head of the suction head are relatively close to each other, and the suction head is sucked from the suction port. A substrate manufacturing apparatus that performs supply processing for supplying a spherical body.
前記移動機構は、前記供給処理において、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させた状態で当該吸着保持部が当該吸着面に沿って相対的に移動するように当該吸着ヘッドおよび当該吸着保持部の少なくとも一方を移動させる請求項1から8のいずれかに記載の基板製造装置。 The spherical body adsorption device includes a moving mechanism,
In the supply process, the moving mechanism is configured so that the suction holding unit holds the spherical body at the tip and the suction surface of the suction head is relatively close to the suction holding unit. The substrate manufacturing apparatus according to claim 1, wherein at least one of the suction head and the suction holding unit is moved so as to relatively move along the suction surface.
前記各吸着ヘッドは、前記吸気口の口径が球状体の直径に対応させて当該各吸着ヘッド毎に互いに異なるように構成され、
前記搭載部は、前記各吸着ヘッド毎に前記移動処理を実行して当該各吸着ヘッドにおける前記各吸気口の前記口径に対応して前記直径が互いに異なる複数種類の前記球状体を1つの前記基板に対して搭載する請求項1から9のいずれかに記載の基板製造装置。 The spherical body mounting device includes a plurality of the suction heads, and performs a moving process for moving either the suction head or the substrate toward the other, and is held by the suction head. A mounting portion for mounting the body on the substrate;
Each of the suction heads is configured such that the diameter of the suction port corresponds to the diameter of the spherical body and is different from each other for each of the suction heads,
The mounting portion executes the movement process for each of the suction heads, so that the plurality of types of the spherical bodies having different diameters corresponding to the diameters of the suction ports of the suction heads are combined into one substrate. The board | substrate manufacturing apparatus in any one of Claim 1 to 9 mounted with respect to.
前記球状体補給装置は、前記球状体を収納すると共に収納している当該球状体を排出する排出口が形成された補給容器と、前記排出口を下向きにした状態の前記補給容器が載置されると共に当該載置状態において当該排出口に連通して前記球状体を収容可能な収容部が形成された載置部と、当該載置部の傾斜角度の変更が可能に当該載置部を回動させる回動機構とを備え、
前記収容部は、前記補給容器の前記排出口から排出された前記球状体を貯留する貯留部と、前記載置部の縁部に形成されて前記球状体を当該載置部から落下させる補給口および前記貯留部を繋ぐ移動流路とを備えて構成され、
前記回動機構は、待機状態において前記貯留部が前記補給口よりも下側に位置する第1姿勢に前記載置部を維持させると共に、前記補給処理時において前記補給口が前記貯留部よりも下側に位置する第2姿勢となるように前記載置部を回動させる請求項1から10のいずれかに記載の基板製造装置。 The spherical body mounting device includes a spherical body replenishing device that performs a replenishment process for replenishing the spherical body to the storage container,
The spherical body replenishing device stores the spherical body and a replenishing container in which a discharge port for discharging the stored spherical body is formed, and the replenishing container in a state in which the discharge port faces downward. In addition, the mounting portion is formed so as to be capable of changing the inclination angle of the mounting portion, and a mounting portion formed with a receiving portion that can communicate with the discharge port and store the spherical body in the mounting state. A rotating mechanism to move,
The storage unit stores the spherical body discharged from the discharge port of the supply container, and a supply port that is formed at an edge of the mounting unit and drops the spherical body from the mounting unit. And a moving flow path connecting the storage portions,
The rotating mechanism maintains the placement unit in a first posture in which the storage unit is positioned below the supply port in a standby state, and the supply port is more than the storage unit during the supply process. The board | substrate manufacturing apparatus in any one of Claim 1 to 10 which rotates the said mounting part so that it may become a 2nd attitude | position located in a lower side.
前記球状体搭載装置は、前記電気的検査において良品と判別された前記基板にのみ前記球状体を搭載する請求項1から11のいずれかに記載の基板製造装置。 A cutting device that performs a cutting process of cutting a multi-sided substrate having a plurality of substrates mounted thereon and dividing the substrate into the substrates, and an inspection device that performs an electrical inspection on the divided substrates;
The said spherical body mounting apparatus is a board | substrate manufacturing apparatus in any one of Claim 1 to 11 which mounts the said spherical body only on the said board | substrate discriminate | determined by the said electrical test | inspection.
前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行する基板製造方法。 Mounts the spherical body sucked by the suction head on the substrate by causing the suction head to perform a suction process for sucking the spherical body to the edge of the suction port formed on the suction surface of the suction head. A substrate manufacturing method for manufacturing a finished substrate,
At the time of performing the adsorption process, the spherical body accommodated in a container having an opening is adsorbed and held at the tip portion of the suction holding portion, and the spherical body is held at the tip portion. A substrate manufacturing method for performing a supply process of supplying the spherical body to the suction head in a state of sucking from the suction port with a holding unit and the suction surface of the suction head relatively close to each other.
前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記球状体を吸引可能な吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行する基板製造方法。 Mounts the spherical body sucked by the suction head on the substrate by causing the suction head to perform a suction process for sucking the spherical body to the edge of the suction port formed on the suction surface of the suction head. A substrate manufacturing method for manufacturing a finished substrate,
At the time of performing the adsorption process, the spherical body accommodated in a container having an opening is adsorbed and held at the tip portion of the suction holding portion, and the spherical body is held at the tip portion. A supply process for supplying the spherical body to the suction head in a state of sucking from the suction port with the holding unit and the suction surface of the suction head relatively close to each other is executed, and the spherical body Suction that removes the excess spherical body excluding the spherical body that is adsorbed to the edge of the intake port by relatively bringing the suction portion capable of sucking the suction head and the suction surface of the suction head relatively close to each other A substrate manufacturing method for performing processing.
前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記球状体を吸引可能な吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行し、
前記吸着処理の実行後において前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行し、当該第1検出処理において前記球状体の過剰を検出したときに前記吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行した後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行し、前記第1検出処理において前記球状体の不足を検出したときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行する基板製造方法。 Mounts the spherical body sucked by the suction head on the substrate by causing the suction head to perform a suction process for sucking the spherical body to the edge of the suction port formed on the suction surface of the suction head. A substrate manufacturing method for manufacturing a finished substrate,
At the time of performing the adsorption process, the spherical body accommodated in a container having an opening is adsorbed and held at the tip portion of the suction holding portion, and the spherical body is held at the tip portion. A supply process for supplying the spherical body to the suction head in a state of sucking from the suction port with the holding unit and the suction surface of the suction head relatively close to each other is executed, and the spherical body Suction that removes the excess spherical body excluding the spherical body that is adsorbed to the edge of the intake port by relatively bringing the suction portion capable of sucking the suction head and the suction surface of the suction head relatively close to each other Execute the process,
After the suction process is executed, a first detection process is performed to detect the excess or deficiency of the spherical bodies in the suction head, and when the excess of the spherical bodies is detected in the first detection process, the suction heads are attracted. The suction process and the supply process are re-executed after executing the first removal process for removing the spherical body from the suction head, and the suction is performed when the shortage of the spherical body is detected in the first detection process. A substrate manufacturing method for re-executing the process and the supply process.
供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニット、および前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板の少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げる前記塗布処理を、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成されている前記スキージユニットを用いて実行し、
前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記球状体を吸引可能な吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行する基板製造方法。 An application process for applying a flux to the substrate is executed, and an adsorption process for adsorbing a spherical body to the edge of the suction port formed on the adsorption surface of the adsorption head is executed by the adsorption head to be adsorbed by the adsorption head. A substrate manufacturing method for manufacturing a spherical body mounted substrate by mounting the spherical body on the substrate after execution of the coating process,
The squeegee unit having a squeegee that spreads the supplied flux on the application surface of the substrate, and the substrate provided with a mask provided with an opening for exposing the application region of the flux on the application surface. Is moved in a first direction in which the substrate and the squeegee unit approach each other, and a straight tip portion of the squeegee in plan view is pressed against the surface of the mask, and the substrate and the squeegee unit are in that state. At least one of the first base portion and the second base portion, and the first base portion with respect to the first base portion. The first base portion and the second base portion while allowing relative movement of the two base portions along the first direction. A coupling mechanism that couples the two base parts to each other; and a biasing member that biases the first base part and the second base part in a direction that separates them from each other; Using the squeegee unit configured to be attached to the second base portion via a rotating shaft arranged in the manner described above,
At the time of performing the adsorption process, the spherical body accommodated in a container having an opening is adsorbed and held at the tip portion of the suction holding portion, and the spherical body is held at the tip portion. A supply process for supplying the spherical body to the suction head in a state of sucking from the suction port with the holding unit and the suction surface of the suction head relatively close to each other is executed, and the spherical body Suction that removes the excess spherical body excluding the spherical body that is adsorbed to the edge of the intake port by relatively bringing the suction portion capable of sucking the suction head and the suction surface of the suction head relatively close to each other A substrate manufacturing method for performing processing.
供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニット、および前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板の少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げる前記塗布処理を、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成されている前記スキージユニットを用いて実行し、
前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行すると共に、前記球状体を吸引可能な吸引部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口の縁部に吸着されている前記球状体を除く余剰な前記球状体を吸引させて除去する吸引処理を実行し、
前記吸着処理の実行後において前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行し、当該第1検出処理において前記球状体の過剰を検出したときに前記吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行した後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行し、前記第1検出処理において前記球状体の不足を検出したときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行する基板製造方法。 An application process for applying a flux to the substrate is executed, and an adsorption process for adsorbing a spherical body to the edge of the suction port formed on the adsorption surface of the adsorption head is executed by the adsorption head to be adsorbed by the adsorption head. A substrate manufacturing method for manufacturing a spherical body mounted substrate by mounting the spherical body on the substrate after execution of the coating process,
The squeegee unit having a squeegee that spreads the supplied flux on the application surface of the substrate, and the substrate provided with a mask provided with an opening for exposing the application region of the flux on the application surface. Is moved in a first direction in which the substrate and the squeegee unit approach each other, and a straight tip portion of the squeegee in plan view is pressed against the surface of the mask, and the substrate and the squeegee unit are in that state. At least one of the first base portion and the second base portion, and the first base portion with respect to the first base portion. The first base portion and the second base portion while allowing relative movement of the two base portions along the first direction. A coupling mechanism that couples the two base parts to each other; and a biasing member that biases the first base part and the second base part in a direction that separates them from each other; Using the squeegee unit configured to be attached to the second base portion via a rotating shaft arranged in the manner described above,
At the time of performing the adsorption process, the spherical body accommodated in a container having an opening is adsorbed and held at the tip portion of the suction holding portion, and the spherical body is held at the tip portion. A supply process for supplying the spherical body to the suction head in a state of sucking from the suction port with the holding unit and the suction surface of the suction head relatively close to each other is executed, and the spherical body Suction that removes the excess spherical body excluding the spherical body that is adsorbed to the edge of the intake port by relatively bringing the suction portion capable of sucking the suction head and the suction surface of the suction head relatively close to each other Execute the process,
After the suction process is executed, a first detection process is performed to detect the excess or deficiency of the spherical bodies in the suction head, and when the excess of the spherical bodies is detected in the first detection process, the suction heads are attracted. The suction process and the supply process are re-executed after executing the first removal process for removing the spherical body from the suction head, and the suction is performed when the shortage of the spherical body is detected in the first detection process. A substrate manufacturing method for re-executing the process and the supply process.
前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行し、
前記吸着処理の実行後において前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行し、当該第1検出処理において前記球状体の過剰を検出したときに前記吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行した後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行し、前記第1検出処理において前記球状体の不足を検出したときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行する基板製造方法。 Mounts the spherical body sucked by the suction head on the substrate by causing the suction head to perform a suction process for sucking the spherical body to the edge of the suction port formed on the suction surface of the suction head. A substrate manufacturing method for manufacturing a finished substrate,
At the time of performing the adsorption process, the spherical body accommodated in a container having an opening is adsorbed and held at the tip portion of the suction holding portion, and the spherical body is held at the tip portion. A supply process for supplying the spherical body to the suction head in a state of sucking from the suction port with the holding unit and the suction surface of the suction head relatively close to each other;
After the suction process is executed, a first detection process is performed to detect the excess or deficiency of the spherical bodies in the suction head, and when the excess of the spherical bodies is detected in the first detection process, the suction heads are attracted. The suction process and the supply process are re-executed after executing the first removal process for removing the spherical body from the suction head, and the suction is performed when the shortage of the spherical body is detected in the first detection process. A substrate manufacturing method for re-executing the process and the supply process.
供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニット、および前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板の少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げる前記塗布処理を、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成されている前記スキージユニットを用いて実行し、
前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行し、
前記吸着処理の実行後において前記吸着ヘッドにおける前記球状体の過不足を検出する第1検出処理を実行し、当該第1検出処理において前記球状体の過剰を検出したときに前記吸着ヘッドによって吸着されている当該球状体を当該吸着ヘッドから除去する第1除去処理を実行した後に前記吸着処理および前記供給処理を再実行し、前記第1検出処理において前記球状体の不足を検出したときに前記吸着処理および前記供給処理を再実行する基板製造方法。 An application process for applying a flux to the substrate is executed, and an adsorption process for adsorbing a spherical body to the edge of the suction port formed on the adsorption surface of the adsorption head is executed by the adsorption head to be adsorbed by the adsorption head. A substrate manufacturing method for manufacturing a spherical body mounted substrate by mounting the spherical body on the substrate after execution of the coating process,
The squeegee unit having a squeegee that spreads the supplied flux on the application surface of the substrate, and the substrate provided with a mask provided with an opening for exposing the application region of the flux on the application surface. Is moved in a first direction in which the substrate and the squeegee unit approach each other, and a straight tip portion of the squeegee in plan view is pressed against the surface of the mask, and the substrate and the squeegee unit are in that state. At least one of the first base portion and the second base portion, and the first base portion with respect to the first base portion. The first base portion and the second base portion while allowing relative movement of the two base portions along the first direction. A coupling mechanism that couples the two base parts to each other; and a biasing member that biases the first base part and the second base part in a direction that separates them from each other; Using the squeegee unit configured to be attached to the second base portion via a rotating shaft arranged in the manner described above,
At the time of performing the adsorption process, the spherical body accommodated in a container having an opening is adsorbed and held at the tip portion of the suction holding portion, and the spherical body is held at the tip portion. A supply process for supplying the spherical body to the suction head in a state of sucking from the suction port with the holding unit and the suction surface of the suction head relatively close to each other;
After the suction process is executed, a first detection process is performed to detect the excess or deficiency of the spherical bodies in the suction head, and when the excess of the spherical bodies is detected in the first detection process, the suction heads are attracted. The suction process and the supply process are re-executed after executing the first removal process for removing the spherical body from the suction head, and the suction is performed when the shortage of the spherical body is detected in the first detection process. A substrate manufacturing method for re-executing the process and the supply process.
供給されたフラックスを前記基板の塗布面に塗り拡げるスキージを有するスキージユニット、および前記塗布面における前記フラックスの塗布領域を露出させる開口部が設けられたマスクが当該塗布面に押し当てられた前記基板の少なくとも一方を、当該基板および当該スキージユニットが互いに接近する第1方向に移動させて前記スキージの平面視直線状の先端部を当該マスクの表面に押し当て、その状態において当該基板および当該スキージユニットの少なくとも一方を前記塗布面に沿った第2方向に移動させて前記塗布領域に前記フラックスを塗り拡げる前記塗布処理を、第1ベース部および第2ベース部と、前記第1ベース部に対する前記第2ベース部の前記第1方向に沿った相対的な移動を許容しつつ当該第1ベース部および当該第2ベース部を相互に連結する連結機構と、前記第1ベース部および前記第2ベース部を相互に離間させる方向に付勢する付勢部材とを備えると共に、軸長が前記第2方向に沿うように配設された回動軸を介して前記スキージが前記第2ベース部に取り付けられて構成されている前記スキージユニットを用いて実行し、
前記吸着処理の実行時において、開口部を有する収容容器に収容されている前記球状体を吸着保持部の先端部で吸着させて保持させ、前記先端部に前記球状体を保持している前記吸着保持部と前記吸着ヘッドの前記吸着面とを相対的に近接させて前記吸気口から吸引している状態の前記吸着ヘッドに対して当該球状体を供給する供給処理を実行する基板製造方法。 An application process for applying a flux to the substrate is executed, and an adsorption process for adsorbing a spherical body to the edge of the suction port formed on the adsorption surface of the adsorption head is executed by the adsorption head to be adsorbed by the adsorption head. A substrate manufacturing method for manufacturing a spherical body mounted substrate by mounting the spherical body on the substrate after execution of the coating process,
The squeegee unit having a squeegee that spreads the supplied flux on the application surface of the substrate, and the substrate provided with a mask provided with an opening for exposing the application region of the flux on the application surface. Is moved in a first direction in which the substrate and the squeegee unit approach each other, and a straight tip portion of the squeegee in plan view is pressed against the surface of the mask, and the substrate and the squeegee unit are in that state. At least one of the first base portion and the second base portion, and the first base portion with respect to the first base portion. The first base portion and the second base portion while allowing relative movement of the two base portions along the first direction. A coupling mechanism that couples the two base parts to each other; and a biasing member that biases the first base part and the second base part in a direction that separates them from each other; Using the squeegee unit configured to be attached to the second base portion via a rotating shaft arranged in the manner described above,
At the time of performing the adsorption process, the spherical body accommodated in a container having an opening is adsorbed and held at the tip portion of the suction holding portion, and the spherical body is held at the tip portion. A substrate manufacturing method for performing a supply process of supplying the spherical body to the suction head in a state of sucking from the suction port with a holding unit and the suction surface of the suction head relatively close to each other.
前記吸気口の口径が球状体の直径に対応させて互いに異なる複数の前記吸着ヘッド毎に前記移動処理を実行して当該各吸気口の前記口径に対応して前記直径が互いに異なる複数種類の前記球状体を1つの前記基板に対して搭載する請求項13から21のいずれかに記載の基板製造方法。 When mounting the spherical body held by the suction head by performing a moving process for moving either the suction head or the substrate toward the other,
The moving process is performed for each of the plurality of suction heads having different diameters of the air inlets corresponding to the diameter of the spherical body, and a plurality of types of the different diameters corresponding to the diameters of the respective air intakes are used. The method for manufacturing a substrate according to claim 13, wherein a spherical body is mounted on one of the substrates.
前記球状体を収納すると共に収納している当該球状体を排出する排出口が形成された補給容器と、前記排出口を下向きにした状態の前記補給容器が載置されると共に当該載置状態において当該排出口に連通して前記球状体を収容可能な収容部が形成された載置部と、当該載置部の傾斜角度の変更が可能に当該載置部を回動させる回動機構とを備え、前記収容部は、前記補給容器の前記排出口から排出された前記球状体を貯留する貯留部と、前記載置部の縁部に形成されて前記球状体を当該載置部から落下させる補給口および前記貯留部を繋ぐ移動流路とを備えて構成され、前記回動機構は、待機状態において前記貯留部が前記補給口よりも下側に位置する第1姿勢に前記載置部を維持させると共に、前記補給処理時において前記補給口が前記貯留部よりも下側に位置する第2姿勢となるように前記載置部を回動させる球状体補給装置を用いる請求項13から22のいずれかに記載の基板製造方法。 When performing a replenishment process for replenishing the spherical body to the storage container,
The replenishing container in which a discharge port for discharging the spherical body stored and the spherical body is formed, and the replenishment container in a state in which the discharge port is faced down are mounted and in the mounted state A mounting portion formed with a receiving portion communicating with the discharge port and capable of storing the spherical body, and a rotation mechanism for rotating the mounting portion so that the inclination angle of the mounting portion can be changed. And the storage portion is formed at a storage portion for storing the spherical body discharged from the discharge port of the replenishing container and an edge portion of the placement portion, and drops the spherical body from the placement portion. The revolving port is configured to include a replenishing port and a moving flow path that connects the reserving unit, and the rotating mechanism includes the mounting unit in a first posture in which the reserving unit is positioned below the replenishing port in a standby state. And maintaining the replenishment port during the replenishment process. Substrate manufacturing method according to any one of claims 13 22 using the spherical body supply device for rotating the placing part such that the second position is located below the engaging portion.
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