JPH1154517A - Method and device for arrangement of microscopic balls - Google Patents

Method and device for arrangement of microscopic balls

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JPH1154517A
JPH1154517A JP22621297A JP22621297A JPH1154517A JP H1154517 A JPH1154517 A JP H1154517A JP 22621297 A JP22621297 A JP 22621297A JP 22621297 A JP22621297 A JP 22621297A JP H1154517 A JPH1154517 A JP H1154517A
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英児 橋野
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健二 下川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a trouble wherein microscopic balls are vacuum-sucked in dumpling form on the center part of an arrangement substrate when the microscopic balls are re-vacuum-sucked to the arrangement substrate, and to shorten the time required for re-vacuum-suction when the vacuum-suction failure is caused. SOLUTION: A plurality of ball vacuum-suction holes 3a to 3d which are formed on an arrangement substrate 1 are divided into a plurality of area 11 to 14, and a plurality of pressure reducing/pressure adding systems 2a to 2d are provided corresponding to the areas 11 to 14. A pressure reducing/adding operation is conducted independently for the ball attracting holes 3a to 3d of the area 11 to 14, the vacuum-suction failure of balls is prevented as much as possible, and the re-vacuum-suction processing can be made for microscopic ball 4 on the pressure reducing/adding systems 2a to 2d only where the balls are incorrectly vacuum-sucked.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は微細ボール配列ヘッ
ド及びそれを用いた微細ボール配列方法に係わり、特
に、ボール吸着孔が複数個形成されている配列基板上に
複数の微細ボールを一括保持して、プリント基板及び半
導体チップ等の電子部品の電極上に一括配列させる装置
及び方法に用いて好適なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a fine ball arranging head and a fine ball arranging method using the same, and more particularly, to a method of holding a plurality of fine balls collectively on an array substrate having a plurality of ball suction holes formed therein. Thus, the present invention is suitable for use in an apparatus and a method for batch arrangement on electrodes of electronic components such as a printed board and a semiconductor chip.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、半導体チップ等の電極に形成
するバンプとして、蒸着バンプやスタッドバンプが知ら
れている。上記蒸着バンプは、ウエハ段階の半導体素子
上にバンプを形成するものであり、ウエハプロセスとし
て複雑な工程を何回も繰り返し行う必要がある。このた
め、真空プロセスであるためコスト高になるので、少量
多品種製品には適用できない問題があった。
2. Description of the Related Art Conventionally, vapor deposition bumps and stud bumps have been known as bumps formed on electrodes of semiconductor chips and the like. The vapor deposition bump is used to form a bump on a semiconductor element at a wafer stage, and it is necessary to repeatedly perform a complicated process as a wafer process many times. For this reason, the cost is increased due to the vacuum process, so that there is a problem that it cannot be applied to a small-quantity multi-product.

【0003】それに対して、スタッドバンプは半導体チ
ップの電極パッド等に1つずつワイヤボンディングの一
次接合時のボールボンディングを行い、接合後に上記ワ
イヤのネック部を切断して形成するものである。
On the other hand, stud bumps are formed by performing ball bonding at the time of primary bonding of wire bonding to electrode pads of a semiconductor chip one by one, and cutting the neck portion of the wire after bonding.

【0004】したがって、上記スタッドバンプの場合に
は、切断部において上記ワイヤの残りが凸形状となる上
に、上記ワイヤの高さが不均一に残ってしまう問題があ
った。また、ワイヤのボールボンディングを用いるため
に、ボール径はワイヤ径の2〜3倍の大きさとなるの
で、微小なバンプを形成するのは困難であった。
Therefore, in the case of the stud bump, there has been a problem that the rest of the wire has a convex shape at the cut portion and the height of the wire remains uneven. Further, since the ball diameter of the wire is two to three times as large as the diameter of the wire due to the use of wire ball bonding, it is difficult to form minute bumps.

【0005】これに対し、メッキでバンプ形成する方法
がある。しかし、この方法もウエハ単位で実行されるた
め、少量多品種製品には適用が困難である。そこで、均
一でかつ微細なバンプを形成することができるようにす
る技術として、微小金属ボールを用いたバンプ形成技術
が、例えば、特開平7−153765号公報にて提案さ
れている。
On the other hand, there is a method of forming bumps by plating. However, since this method is also performed for each wafer, it is difficult to apply the method to a small number of products of various types. Therefore, as a technique for forming uniform and fine bumps, a bump forming technique using minute metal balls has been proposed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-153765.

【0006】上記公報にて提案されているバンプ形成方
法は、少なくとも半導体チップの1つ分の金属ボール群
を吸着保持するようにしている。そして、複数の金属ボ
ール群を吸着保持するために、半導体チップ上のバンプ
形成位置に対応した全ての位置に吸着孔が形成されてい
るボール配列基板を用い、上記ボール配列基板に微小金
属ボールを吸着保持した後、上記ボール配列基板を接合
用ステージまで搬送して被接合部に接合するようにして
いる。
In the bump forming method proposed in the above publication, at least one metal ball group of a semiconductor chip is sucked and held. Then, in order to adsorb and hold a plurality of metal ball groups, a ball array substrate having suction holes formed at all positions corresponding to the bump forming positions on the semiconductor chip is used. After sucking and holding, the ball array substrate is transported to a bonding stage and bonded to a portion to be bonded.

【0007】したがって、この場合は均一に形成された
微小金属ボールをバンプ形成位置に一括接合することが
できるので、高い信頼性が得られるボールバンプを容易
に、かつ効率的に形成することができる。
Therefore, in this case, the uniformly formed minute metal balls can be joined together at the bump formation position, so that ball bumps with high reliability can be easily and efficiently formed. .

【0008】図6において、61は配列基板、62はボ
ール吸着孔、63は金属ボール、64は配列基板61を
取り付けている配列ヘッドである。また、65は配列基
板61と配列ヘッド64との間に設けられた真空室、6
6は真空室65に通じる通気孔、矢印で示す67は、真
空室65と減圧/加圧装置との間に設けられた通気配管
である。
In FIG. 6, reference numeral 61 denotes an array substrate, 62 denotes a ball suction hole, 63 denotes a metal ball, and 64 denotes an array head to which the array substrate 61 is attached. Reference numeral 65 denotes a vacuum chamber provided between the array substrate 61 and the array head 64;
Reference numeral 6 denotes a vent hole communicating with the vacuum chamber 65, and reference numeral 67 denotes a vent pipe provided between the vacuum chamber 65 and the pressure reducing / pressurizing device.

【0009】このように構成された従来の微細ボールの
配列装置は、複数の金属ボール63を一括して吸着保持
するために、バンプ形成位置に対応した全ての位置にボ
ール吸着孔62が形成されていて、前記配列基板61上
に複数の金属ボール63を一括保持した後、前記配列基
板61を接合用ステージ(図示せず)まで搬送して電子
部品の被接合部に接合するようにしている。
In the conventional arrangement apparatus for micro balls arranged as described above, ball suction holes 62 are formed at all positions corresponding to the bump formation positions in order to collectively hold a plurality of metal balls 63 by suction. After the plurality of metal balls 63 are collectively held on the arrangement substrate 61, the arrangement substrate 61 is transported to a joining stage (not shown) to be joined to a portion to be joined of the electronic component. .

【0010】したがって、この場合は均一に形成された
微小金属ボール63を前記電子部品のバンプ形成位置に
一括接合することができるので、高い信頼性が得られる
ボールバンプを容易に、かつ効率的に形成することがで
きる。
Therefore, in this case, the uniformly formed fine metal balls 63 can be collectively joined to the bump forming position of the electronic component, so that ball bumps having high reliability can be easily and efficiently obtained. Can be formed.

【0011】ところで、最近は、半導体装置の微細化が
益々進み、電極の配線ピッチは非常に小さくなってきて
いる。そのため、前記電極上にボールバンプを形成する
場合に用いられる金属ボールは、電極の配線ピッチの微
細化に応じて非常に微細になってきている。狭ピッチか
つ多ピンの接続の信頼性を向上するために、従来の辺配
置のピンから面配置のピンに変えることは有効な方法で
ある。しかしながら、面配置のピンを対象として前記配
列基板61上に複数の金属ボール63を一括して吸着保
持する際には、以下に示すような問題が生じていた。
In recent years, semiconductor devices have been increasingly miniaturized, and the wiring pitch of electrodes has become extremely small. For this reason, metal balls used for forming ball bumps on the electrodes have become extremely fine in accordance with the miniaturization of the wiring pitch of the electrodes. It is an effective method to change the conventional side-arranged pins to the surface-arranged pins in order to improve the reliability of the narrow pitch and multi-pin connection. However, when a plurality of metal balls 63 are collectively sucked and held on the array substrate 61 for the surface-arranged pins, the following problems occur.

【0012】すなわち、配列基板61を用いてボールバ
ンプを形成する場合には、図7に示すように、まず、金
属ボール63が収容されている容器36上に配列ヘッド
64が移動される。前記配列ヘッド64の内部に形成さ
れている真空室65は、通気配管67を介して減圧/加
圧装置(図示せず)に接続されており、前記減圧/加圧
装置によってその内部が減圧/加圧される。
That is, when ball bumps are formed using the array substrate 61, as shown in FIG. 7, the array head 64 is first moved onto the container 36 in which the metal balls 63 are housed. A vacuum chamber 65 formed inside the array head 64 is connected to a decompression / pressurization device (not shown) through a ventilation pipe 67, and the inside thereof is depressurized / pressurized by the decompression / pressurization device. Pressurized.

【0013】また、前記容器36は、パーツフィーダー
等の振動発生機37上に固定されており、前記振動発生
機37が振動することにより金属ボール63は跳躍す
る。なお、前記振動発生機37により行われる振動の周
波数は金属ボール63の大きさ等に応じて、例えば0〜
1kHzまで可変に成されている。また、容器36は振
動発生機37からの脱着が可能と成されている。
The container 36 is fixed on a vibration generator 37 such as a parts feeder, and the metal ball 63 jumps when the vibration generator 37 vibrates. The frequency of the vibration performed by the vibration generator 37 is, for example, 0 to 0 depending on the size of the metal ball 63 and the like.
It is variable up to 1 kHz. Further, the container 36 can be detached from the vibration generator 37.

【0014】次に、配列基板61の吸着面に金属ボール
63を吸着させるために、配列ヘッド64を容器36の
近傍まで下降させて振幅させ、跳躍している金属ボール
63を配列基板61のボール吸着孔62に真空吸着させ
る。ここで、配列ヘッド64の下降距離及び振幅距離
は、例えば0.1mm単位で制御可能とし、振幅回数の
制御も可能としている。
Next, in order to adsorb the metal balls 63 on the adsorbing surface of the array substrate 61, the array head 64 is lowered to the vicinity of the container 36 to make it swing, and the jumping metal balls 63 are moved to the ball of the array substrate 61. Vacuum suction is performed on the suction holes 62. Here, the descending distance and the amplitude distance of the array head 64 can be controlled, for example, in units of 0.1 mm, and the number of amplitudes can be controlled.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】前述のようにして、配
列基板61のボール吸着孔に金属ボール63を真空吸着
させるときに、図7に示したように、配列基板61の中
央部に金属ボール63が団子上に吸着されてしまうこと
がある。これは、前記配列基板61を前記容器36に接
近させて金属ボール63を吸着するときに、前記配列基
板61の周辺部から流入してきた空気が、前記配列基板
61と容器36との対向空間の中心に寄りやすいからで
ある。
As described above, when the metal balls 63 are vacuum-sucked into the ball suction holes of the array substrate 61, as shown in FIG. 63 may be adsorbed on the dumplings. This is because when the arrangement substrate 61 approaches the container 36 and attracts the metal balls 63, the air flowing from the peripheral portion of the arrangement substrate 61 causes the air in the facing space between the arrangement substrate 61 and the container 36. Because it is easy to approach the center.

【0016】配列基板61の中央部に複数の金属ボール
63が団子状に真空吸着されてしまうと、ボール吸引工
程を最初からやり直さなければならなくなるので、ボー
ルバンプの製造効率が低下してしまうので好ましくなか
った。
If a plurality of metal balls 63 are vacuum-adsorbed at the center of the array substrate 61 in a dumpling manner, the ball suction step must be performed again from the beginning, so that the efficiency of manufacturing ball bumps is reduced. Not preferred.

【0017】また、金属ボール63を再吸着する場合に
おいても、従来は全数の金属ボール63を吸着しなけれ
ばならなかったので、吸着状態の不具合が再度発生する
確率が高い問題があった。さらに、全数の金属ボール6
3を再吸着させるので、金属ボール63の離脱/吸着処
理に多くの時間がかかってしまう問題があった。
Further, even when the metal balls 63 are re-adsorbed, all the metal balls 63 have to be adsorbed in the past, so that there is a problem that the malfunction of the adsorbed state is likely to occur again. Furthermore, all the metal balls 6
Since the metal balls 3 are re-adsorbed, there is a problem that it takes a lot of time to remove / adsorb the metal balls 63.

【0018】本発明は前述の問題点にかんがみ、配列基
板の中央部に微細ボールが集中的に吸引されるのを防止
して、配列基板の全面に微細ボールを万遍なく真空吸着
できるようにすることを第1の目的とする。また、配列
基板上に微細ボールを再吸着させる際に不具合が生じる
確率を低下させるとともに、再吸着処理に要する時間を
短縮できるようにすることを第2の目的とする。
In view of the above-mentioned problems, the present invention prevents fine balls from being intensively attracted to the central portion of the array substrate, so that the fine balls can be uniformly vacuum-sucked on the entire surface of the array substrate. The first purpose is to do so. It is a second object of the present invention to reduce the probability of occurrence of a problem when re-adsorbing the fine balls on the array substrate and to reduce the time required for the re-adsorption process.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明の微細ボールの配
列装置は、微細ボールの吸着面にボール吸着孔が複数個
形成されている配列基板と、前記配列基板を保持してい
る微細ボール配列ヘッドの内部に形成されている真空室
を減圧/加圧して、前記ボール吸着孔のそれぞれに微細
ボールを吸着/離脱させるようにする減圧/加圧系統と
を備え、前記配列基板上に複数の微細ボールを一括保持
して、プリント基板及び半導体チップを少なくとも含む
電子部品の電極上に一括配列させるようにする微細ボー
ルの配列装置において、前記配列ヘッドの内部に形成さ
れている真空室を複数のエリアに区画するとともに、前
記減圧/加圧系統を前記複数のエリア毎に設け、前記各
エリアにおける減圧タイミング及び減圧の大きさを、前
記各エリア毎に制御可能としたことを特徴としている。
According to the present invention, there is provided an apparatus for arranging fine balls, comprising: an array substrate having a plurality of ball suction holes formed on a suction surface of the fine balls; and a fine ball array holding the array substrate. A decompression / pressurization system for depressurizing / pressurizing a vacuum chamber formed inside the head so as to adsorb / remove the fine ball in each of the ball suction holes; In an apparatus for arranging micro balls, which collectively holds micro balls and arranges them on electrodes of electronic components including at least a printed circuit board and a semiconductor chip, a plurality of vacuum chambers formed inside the arrangement head are provided. In addition to dividing into areas, the decompression / pressurization system is provided for each of the plurality of areas, and the decompression timing and the magnitude of the decompression in each area are controlled for each area. It is characterized in that was possible.

【0020】また、本発明の微細ボールの配列装置の他
の特徴とするところは、微細ボールの吸着面にボール吸
着孔が複数個形成されている配列基板と、前記配列基板
を保持している微細ボール配列ヘッドの内部に形成され
ている真空室を減圧/加圧して、前記ボール吸着孔のそ
れぞれに微細ボールを吸着/離脱させるようにする減圧
/加圧系統とを備え、前記配列基板上に複数の微細ボー
ルを一括保持して、プリント基板及び半導体チップを少
なくとも含む電子部品の電極上に一括配列させるように
する微細ボールの配列装置において、前記配列ヘッドの
内部に形成されている真空室を複数のエリアに区画する
とともに、前記複数のエリア毎に前記減圧/加圧系統を
設け、前記微細ボールの吸着/離脱を前記各エリア毎に
制御可能としたことを特徴としている。
Further, another feature of the arrangement apparatus of the present invention is that the arrangement substrate has a plurality of ball suction holes formed on the suction surface of the fine balls, and the arrangement substrate is held. A pressure reducing / pressurizing system for depressurizing / pressurizing a vacuum chamber formed inside the fine ball arranging head so as to adsorb / remove the fine ball to / from each of the ball suction holes; A plurality of micro-balls are collectively held on the electrodes of an electronic component including at least a printed circuit board and a semiconductor chip. Is divided into a plurality of areas, and the decompression / pressurization system is provided for each of the plurality of areas so that the suction / release of the fine ball can be controlled for each of the areas. It is characterized in.

【0021】また、本発明の微細ボールの配列装置のそ
の他の特徴とするところは、微細ボールの吸着面にボー
ル吸着孔が複数個形成されている配列基板と、前記配列
基板を保持している微細ボール配列ヘッドの内部に形成
されている真空室を減圧/加圧して、前記ボール吸着孔
のそれぞれに微細ボールを吸着/離脱させるようにする
減圧/加圧系統とを備え、前記配列基板上に複数の微細
ボールを一括保持して、プリント基板及び半導体チップ
を少なくとも含む電子部品の電極上に一括配列させるよ
うにする微細ボールの配列装置において、前記配列ヘッ
ドの内部に形成されている真空室を複数のエリアに区画
するとともに、前記複数のエリア毎に前記減圧/加圧系
統を設け、前記各エリアにおける減圧タイミング及び減
圧の大きさ、並びに前記微細ボールの吸着/離脱を前記
各エリア毎に制御可能としたことを特徴としている。
Another feature of the arrangement apparatus for fine balls of the present invention is that the arrangement substrate has a plurality of ball suction holes formed on the suction surface of the fine balls, and holds the arrangement substrate. A pressure reducing / pressurizing system for depressurizing / pressurizing a vacuum chamber formed inside the fine ball arranging head so as to adsorb / remove the fine ball to / from each of the ball suction holes; A plurality of micro-balls are collectively held on the electrodes of an electronic component including at least a printed circuit board and a semiconductor chip. Is divided into a plurality of areas, and the decompression / pressurization system is provided for each of the plurality of areas. It is characterized in that the adsorption / separation of the fine balls was controllable to said each area.

【0022】また、本発明の微細ボールの配列方法は、
微細ボールの吸着面にボール吸着孔が複数個形成されて
いる配列基板を保持している微細ボール配列ヘッドの内
部に形成されている真空室を減圧/加圧して、前記ボー
ル吸着孔のそれぞれに微細ボールを吸着/離脱させるよ
うにして、前記配列基板上に複数の微細ボールを一括保
持し、プリント基板及び半導体チップを少なくとも含む
電子部品の電極上に一括配列させる微細ボールの配列方
法において、前記配列ヘッドの内部に形成されている真
空室真空室が複数のエリアに区画されているとともに、
前記複数のエリア毎に減圧/加圧系統が設けられている
配列ヘッドを用い、前記各エリアにおける減圧タイミン
グ及び減圧の大きさを、前記複数のエリア毎に制御しな
がら前記吸着面に一括吸着して複数の微細ボールを一括
配列することを特徴としている。
Further, the method for arranging fine balls of the present invention
A vacuum chamber formed inside a fine ball array head holding an array substrate in which a plurality of ball suction holes are formed on the suction surface of the fine balls is decompressed / pressurized, and each of the ball suction holes is The method of arranging fine balls, wherein a plurality of fine balls are collectively held on the array substrate so as to attract / release the fine balls and are collectively arrayed on electrodes of an electronic component including at least a printed circuit board and a semiconductor chip. A vacuum chamber formed inside the array head is divided into a plurality of areas,
Using an array head provided with a decompression / pressurization system for each of the plurality of areas, the decompression timing and the magnitude of the decompression in each of the areas are collectively adsorbed on the adsorption surface while being controlled for each of the plurality of areas. In which a plurality of fine balls are collectively arranged.

【0023】また、本発明の微細ボールの配列方法の他
の特徴とするところは、微細ボールの吸着面にボール吸
着孔が複数個形成されている配列基板を保持している微
細ボール配列ヘッドの内部に形成されている真空室を減
圧/加圧して、前記ボール吸着孔のそれぞれに微細ボー
ルを吸着/離脱させるようにして、前記配列基板上に複
数の微細ボールを一括保持し、プリント基板及び半導体
チップを少なくとも含む電子部品の電極上に一括配列さ
せる微細ボールの配列方法において、前記ボール配列ヘ
ッドの内部に形成されている真空室が複数のエリアに区
画されているとともに、前記複数のエリア毎に減圧/加
圧系統が設けられている配列ヘッドを用い、前記微細ボ
ールの吸着/離脱を前記複数のエリア毎に制御しながら
前記吸着面に一括吸着して複数の微細ボールを一括配列
することを特徴としている。
Another feature of the method for arranging fine balls of the present invention is that a fine ball arranging head which holds an array substrate having a plurality of ball suction holes formed on a suction surface of the fine balls is provided. The vacuum chamber formed therein is depressurized / pressurized so that the fine balls are sucked / released from the respective ball sucking holes. In a method of arranging micro balls at a time on an electrode of an electronic component including at least a semiconductor chip, a vacuum chamber formed inside the ball arranging head is divided into a plurality of areas, and the plurality of areas are separated from each other. Using an array head provided with a decompression / pressurization system, the suction / release of the fine balls is controlled collectively on the suction surface while controlling for each of the plurality of areas. Wear to is characterized by collectively arranging a plurality of micro balls.

【0024】また、本発明の微細ボールの配列方法のそ
の他の特徴とするところは、微細ボールの吸着面にボー
ル吸着孔が複数個形成されている配列基板を保持してい
る微細ボール配列ヘッドの内部に形成されている真空室
を減圧/加圧して、前記ボール吸着孔のそれぞれに微細
ボールを吸着/離脱させるようにして、前記配列基板上
に複数の微細ボールを一括保持し、プリント基板及び半
導体チップを少なくとも含む電子部品の電極上に一括配
列させる微細ボールの配列方法において、前記ボール配
列ヘッドの内部に形成されている真空室が複数のエリア
に区画されているとともに、前記複数のエリア毎に減圧
/加圧系統が設けられている配列ヘッドを用い、前記各
エリアにおける減圧タイミング及び減圧の大きさ、並び
に前記微細ボールの吸着/離脱を前記複数のエリア毎に
制御しながら前記吸着面に一括吸着して複数の微細ボー
ルを一括配列することを特徴としている。
Another feature of the method for arranging fine balls of the present invention is that a fine ball arranging head which holds an array substrate having a plurality of ball suction holes formed on a suction surface of the fine balls is provided. The vacuum chamber formed therein is depressurized / pressurized so that the fine balls are sucked / released from the respective ball sucking holes. In a method of arranging micro balls at a time on an electrode of an electronic component including at least a semiconductor chip, a vacuum chamber formed inside the ball arranging head is divided into a plurality of areas, and the plurality of areas are separated from each other. The pressure reduction timing and the magnitude of the pressure reduction in each of the areas, and the fine balls It is characterized by collectively arranging a plurality of fine balls collectively adsorbed on the suction surface while controlling the suction / detachment for each of the plurality of areas.

【0025】[0025]

【作用】本発明は前記技術手段よりなるので、配列基板
の吸着面に形成されている複数のボール吸着孔の位置に
応じて微細ボールの吸引タイミング及び吸引力を異なら
せることが可能となり、減圧/加圧系統を制御すること
で、配列基板の周辺部に位置するボール吸着孔において
は早いタイミングで微細ボールの吸着を開始するととも
に大きな吸引力が得られるようにし、また、配列基板の
中央部に形成されているボール吸着孔においては吸引タ
イミングを遅くし、かつ吸引力を小さくするようにする
ことで、配列基板の中央部に微細ボールが集中的に吸着
されてしまう不都合を防止することができる。
Since the present invention comprises the above technical means, it is possible to make the suction timing and the suction force of the fine balls different according to the positions of the plurality of ball suction holes formed on the suction surface of the arrayed substrate. By controlling the pressurizing system, the suction of fine balls is started at an early timing in the ball suction holes located in the peripheral portion of the array substrate, and a large suction force is obtained. By delaying the suction timing and reducing the suction force in the ball suction hole formed in the above, it is possible to prevent the inconvenience that the fine balls are intensively sucked at the center of the array substrate. it can.

【0026】また、本発明の他の特徴によれば、配列基
板上に形成されている複数のボール吸着孔に微細ボール
をそれぞれ吸着保持して、これらの微細ボールを電子部
品の電極上に一括配列させる際に、微細ボールの吸着に
関して不具合が生じた場合には、前記不具合が生じたエ
リアに対応する減圧/加圧系統についてのみ再吸着処理
を行えば済むので、配列基板上に微細ボールを再吸着さ
せる際に不具合が再度生じる確率を大幅に低下できると
ともに、再吸着処理に要する時間を短縮することができ
る。
According to another feature of the present invention, fine balls are sucked and held in a plurality of ball sucking holes formed on an array substrate, and these fine balls are collectively placed on electrodes of an electronic component. If there is a problem with the suction of the fine balls during the arrangement, it is sufficient to perform the re-suction process only on the decompression / pressurization system corresponding to the area where the problem has occurred. It is possible to greatly reduce the probability of occurrence of a problem again when re-adsorbing, and to shorten the time required for the re-adsorption process.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、本発明の微細ボールの配列
装置及び方法の実施形態を図面を参照して説明する。図
1及び図2の例は、配列ヘッド10の真空室を複数のエ
リアに分割するとともに各エリア毎に減圧/加圧系統を
設けた例を示し、図1はエリア分割の一例を説明するた
めの配列基板1の表面図、図2は要部の概略構成を示す
断面図である。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a device for arranging fine balls according to an embodiment of the present invention. 1 and 2 show an example in which the vacuum chamber of the array head 10 is divided into a plurality of areas and a decompression / pressurization system is provided for each area. FIG. 1 illustrates an example of area division. 2 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a main part.

【0028】図1に示したように、本実施形態のボール
配列装置は、配列ヘッド10とボール配列基板1とで構
成されている。上記ボール配列基板1は、ボールを吸引
する系とは別の吸引系で真空吸引されることにより上記
配列ヘッド10に保持されている。なお、上記ボール配
列基板1は接着等により上記配列ヘッド10に一体に構
成されていてもよい。
As shown in FIG. 1, the ball arranging apparatus of the present embodiment comprises an arranging head 10 and a ball arranging substrate 1. The ball array substrate 1 is held on the array head 10 by being vacuum-sucked by a suction system different from a system for sucking balls. The ball array substrate 1 may be integrally formed with the array head 10 by bonding or the like.

【0029】本実施形態においては、配列基板1の吸着
面を第1のエリア11〜第4のエリア14の4つに分割
している(なお、実際には配列ヘッド10の内部に形成
された真空室5内を分割しているが、便宜上配列基板1
の吸着面を分割しているように示している)。そして、
図2に示したように、配列基板1の裏面側に設けられる
減圧/加圧系統2を、各エリア11〜14に対応させて
複数系統設けている。
In the present embodiment, the suction surface of the array substrate 1 is divided into four first areas 11 to fourth areas 14 (actually, it is formed inside the array head 10). Although the inside of the vacuum chamber 5 is divided,
Is shown as if the adsorption surface is divided). And
As shown in FIG. 2, a plurality of decompression / pressurization systems 2 provided on the back side of the array substrate 1 are provided corresponding to the areas 11 to 14.

【0030】図2の例では、ボール吸着孔3が3a〜3
dとして示されているように4個設けられていて、これ
らのボール吸着孔3a〜3dのそれぞれに対応させて、
減圧/加圧系統を2a〜2dの4系統設けた例を示して
いる。すなわち、この場合は4つのエリアのそれぞれに
ボール吸着孔3を1個ずつ設けた例を示しているが、実
際には各エリア11〜14には数百個、或いは数千個の
ボール吸着孔3がそれぞれ設けられる。
In the example of FIG. 2, the ball suction holes 3 are 3a to 3a.
As shown as d, four are provided, corresponding to each of these ball suction holes 3a to 3d,
An example is shown in which four decompression / pressurization systems 2a to 2d are provided. That is, in this case, an example is shown in which one ball suction hole 3 is provided in each of the four areas, but in reality, hundreds or thousands of ball suction holes are provided in each of the areas 11 to 14. 3 are provided.

【0031】図2において、配列基板1の内部に形成さ
れている真空室5は、間仕切り板6によって第1の真空
室5a〜第4の真空室5dの4つに分割されている。そ
して、前記第1の真空室5a〜第4の真空室5dのそれ
ぞれに、減圧/加圧系統2a〜2dが設けられている。
In FIG. 2, the vacuum chamber 5 formed inside the array substrate 1 is divided into four, namely, a first vacuum chamber 5a to a fourth vacuum chamber 5d by a partition plate 6. Each of the first to fourth vacuum chambers 5a to 5d is provided with a decompression / pressurization system 2a to 2d.

【0032】すなわち、配列基板1の裏面側に取り付け
られた配列ヘッド10に、前記第1の真空室5a〜第4
の真空室5dのそれぞれに連通する通気孔10a〜10
dが形成されており、これらの通気孔10a〜10dと
減圧装置及び加圧装置(共に図示せず)とを、通気配管
(図示せず)を介してそれぞれ接続して減圧/加圧系統
2a〜2dを構成している。
That is, the first vacuum chambers 5a to 4th are attached to the array head 10 attached to the back side of the array substrate 1.
Ventilation holes 10a to 10d communicating with the respective vacuum chambers 5d
d are formed, and these ventilation holes 10a to 10d are connected to a decompression device and a pressurization device (both not shown) via ventilation pipes (not shown), respectively. To 2d.

【0033】そして、本実施形態においては上記減圧/
加圧系統2a〜2dを制御することにより各エリア11
〜14内の圧力、及び加圧タイミング(減圧タイミン
グ)を独立的に制御できるようにしている。これによ
り、各エリア11〜14において最適な吸引タイミング
(離脱タイミング)を得ることができるとともに、最適
な吸引力を得ることができる。
In this embodiment, the pressure reduction /
Each area 11 is controlled by controlling the pressurizing system 2a to 2d.
14 and the pressurization timing (decompression timing) can be independently controlled. This makes it possible to obtain an optimum suction timing (separation timing) in each of the areas 11 to 14 and also obtain an optimum suction force.

【0034】また、本実施形態の微細ボールの配列装置
においては、各減圧/加圧系統2a〜2d毎に独立して
微細ボール4を各ボール吸着孔3a〜3dに吸着した
り、各ボール吸着孔3a〜3dに吸着している微細ボー
ル4を配列基板1から離脱させたりすることができる。
In the arrangement apparatus for fine balls according to the present embodiment, the fine balls 4 are independently sucked into the ball suction holes 3a to 3d for each of the pressure reducing / pressurizing systems 2a to 2d, The fine balls 4 adsorbed in the holes 3a to 3d can be separated from the array substrate 1.

【0035】次に、図3を参照しながら、前述のように
構成された本実施形態の微細ボールの配列装置を用いて
微細ボール4を配列基板1上に吸着して、半導体チップ
20に形成されている電極21上に接着接合する動作を
説明する。
Next, referring to FIG. 3, the fine balls 4 are adsorbed onto the array substrate 1 by using the fine ball arranging apparatus of the present embodiment configured as described above, and formed on the semiconductor chip 20. The operation of adhesively bonding on the electrode 21 is described.

【0036】図3に示すように、微細ボール4(例え
ば、それはAu等の貴金属、あるいは低融点の金属より
なる)が収容されている容器22上に配列基板1を移動
させ、所定の至近距離まで降下させる。この容器22
は、小さい振幅で振動させられていて、内部に収容され
ている微細ボール4は振動により跳躍している。
As shown in FIG. 3, the array substrate 1 is moved onto a container 22 containing fine balls 4 (for example, it is made of a noble metal such as Au or a metal having a low melting point), and a predetermined close distance To lower. This container 22
Is vibrated with a small amplitude, and the fine ball 4 accommodated therein is jumping due to the vibration.

【0037】したがって、前記配列基板1に連設されて
いる減圧装置(図示せず)を動作させて全てのボール吸
着孔3a〜3dを吸着状態にすると、容器22上で跳躍
している微細ボール4を各ボール吸着孔3a〜3dに吸
着することができる。
Accordingly, when a pressure reducing device (not shown) connected to the array substrate 1 is operated to bring all the ball suction holes 3a to 3d into a suction state, the fine balls jumping on the container 22 4 can be sucked into each of the ball suction holes 3a to 3d.

【0038】本実施形態においては、減圧/加圧系統2
a〜2dを介して各真空室5a〜5d内の空気が吸引さ
れる際に、配列基板1の周辺部に位置する真空室5a及
び5dから減圧を開始するようにしている。このため、
容器22内に収容されている微細ボール4は、配列基板
1の周辺部に位置するボール吸着孔3a及び3dから吸
着される。なお、減圧タイミングを調整することによ
り、配列基板1の中央部の真空室5b,5c及び周辺部
の真空室5a,5dにおいて微細ボール4を同時に吸着
させるようにすることもできる。
In this embodiment, the pressure reduction / pressure system 2
When the air in each of the vacuum chambers 5a to 5d is sucked through the holes a to 2d, the decompression is started from the vacuum chambers 5a and 5d located in the peripheral portion of the array substrate 1. For this reason,
The fine balls 4 accommodated in the container 22 are sucked from the ball suction holes 3a and 3d located in the peripheral portion of the array substrate 1. By adjusting the pressure reduction timing, the fine balls 4 can be simultaneously adsorbed in the vacuum chambers 5b and 5c at the center of the array substrate 1 and the vacuum chambers 5a and 5d at the peripheral part.

【0039】また、本実施形態においては、配列基板1
の中央部及び周辺部において、微細ボール4を吸引する
力がバランスさせることができるので、従来のように配
列基板1の中央部のみに微細ボール4が集中的に吸着さ
れてしまう不都合が生じ難く、配列基板1の全面に渡っ
て微細ボール4を良好に吸着することができる。
In this embodiment, the array substrate 1
In the central portion and the peripheral portion, the force for attracting the fine balls 4 can be balanced, so that the inconvenience that the fine balls 4 are intensively attracted only to the central portion of the array substrate 1 unlike the related art hardly occurs. Thus, the fine balls 4 can be satisfactorily sucked over the entire surface of the array substrate 1.

【0040】前述のようにして、各ボール吸着孔3a〜
3dのそれぞれに微細ボール4を吸着保持したら、次
に、半導体チップ20上の所定位置に配列基板1を移動
させて位置合わせを行う。そして、配列基板1を所定の
位置に合わせたら、次に、半導体チップ20の至近距離
まで降下させ、前記吸着保持している微細ボール4を電
極21の特定箇所の上に熱圧着等にて接合する。
As described above, each of the ball suction holes 3a to 3a
After the fine balls 4 are sucked and held in each of the 3d, next, the alignment substrate 1 is moved to a predetermined position on the semiconductor chip 20 for alignment. Then, when the array substrate 1 is adjusted to a predetermined position, it is lowered to a short distance from the semiconductor chip 20 and the fine ball 4 held by suction is bonded to a specific portion of the electrode 21 by thermocompression or the like. I do.

【0041】ここで、半導体チップ20を載置するステ
ージは加熱機構を持っていてもよい。また、あらかじめ
フラックスを前記電極21上に供給しておけば、半田等
の低融点合金よりなる微細ボール4を仮接着し、その後
で炉に搬送してリフローしてもよい。この場合は、ステ
ージを加熱しなくてもよい。
Here, the stage on which the semiconductor chip 20 is mounted may have a heating mechanism. If a flux is supplied on the electrode 21 in advance, the fine balls 4 made of a low-melting-point alloy such as solder may be temporarily bonded and then transferred to a furnace for reflow. In this case, the stage need not be heated.

【0042】このようにして、複数の微細ボール4を半
導体チップ20上に一括配列する際に、前述した団子状
の吸着の他にも、一つのボール吸着孔3に微細ボール4
を複数個吸着したり、または微細ボール4の吸着漏れが
生じることがある。
As described above, when a plurality of fine balls 4 are collectively arranged on the semiconductor chip 20, in addition to the above-described dumpling-like suction, the fine balls 4 are inserted into one ball suction hole 3.
May be adsorbed, or leakage of the fine balls 4 may be caused.

【0043】本実施形態の微細ボールの配列装置は、各
減圧/加圧系統2a〜2d毎に独立して減圧/加圧を行
うことが可能なので、吸着に不具合が生じた減圧/加圧
系統のみについて再吸着するようにすることができる。
The arrangement apparatus for fine balls according to the present embodiment can perform pressure reduction / pressure independently for each of the pressure reduction / pressure systems 2a to 2d. Only the re-adsorption can be performed.

【0044】例えば、第1のボール吸着孔3aに余分な
微細ボール4が吸着されていた場合には、第1の減圧/
加圧系統2aを加圧してそこに吸着している微細ボール
4を離脱させる。このときに、微細ボール4を正常に吸
着している第2〜第4の減圧/加圧系統2b〜2dにつ
いては加圧されないので、これらの減圧/加圧系統2b
〜2dに吸着されている微細ボール4は離脱されない。
For example, when an extra fine ball 4 is adsorbed in the first ball suction hole 3a, the first pressure reduction /
The pressurizing system 2a is pressurized to release the fine balls 4 adsorbed thereon. At this time, since the second to fourth decompression / pressurization systems 2b to 2d that normally adsorb the fine balls 4 are not pressurized, these depressurization / pressurization systems 2b
The fine ball 4 adsorbed to the area 2d is not released.

【0045】したがって、本実施形態の微細ボールの配
列装置の場合には、ボールの吸着に関して不具合が生じ
た減圧/加圧系統、この場合には第1の減圧/加圧系統
2aについてのみ微細ボール4の再吸着を行えばよいの
で、再吸着時に不具合が再度生じる確率を大幅に減少さ
せることができるとともに、再吸着処理に必要な時間を
格段と短縮することができる。
Therefore, in the case of the arrangement apparatus for fine balls according to the present embodiment, only the first depressurizing / pressing system 2a has the fine balls in the depressurizing / pressing system in which a problem occurs with the suction of the balls. Since the re-adsorption may be performed, it is possible to greatly reduce the probability of occurrence of a problem at the time of re-adsorption, and to significantly reduce the time required for the re-adsorption.

【0046】なお、前述の実施形態においては、説明を
容易にするために、配列基板1上に4つのボール吸着孔
3a〜3dを構成し、これらのボール吸着孔3a〜3d
毎に減圧/加圧系統2a〜2dを設けた例を示したが、
実際には、例えば50〜500個のような、非常に多く
の微細ボール4を配列基板1上に一括保持するようにし
ている。
In the above-described embodiment, for ease of explanation, four ball suction holes 3a to 3d are formed on the array substrate 1, and these ball suction holes 3a to 3d are formed.
Although the example in which the decompression / pressurization systems 2a to 2d are provided for each is shown,
In practice, a very large number of fine balls 4 such as 50 to 500 are collectively held on the array substrate 1.

【0047】前記真空室5内を複数のエリアに分割する
仕方は任意に設定することができる。例えば、図4に示
すように枡目状に分割してもよく、また、図5に示すよ
うに、縦方向に分割するようにしてよい。
The manner of dividing the inside of the vacuum chamber 5 into a plurality of areas can be set arbitrarily. For example, it may be divided into meshes as shown in FIG. 4 or may be divided in the vertical direction as shown in FIG.

【0048】また、前述した実施形態において、減圧/
加圧装置を各減圧/加圧系統毎に設けてよいが、減圧/
加圧装置は1個だけ設けるようにして、減圧/加圧配管
中に電磁弁を介設し、各電磁弁の開閉動作を制御するこ
とにより、各エリア毎に独立して減圧/加圧動作を行う
ようにしてもよい。また、本発明においては、配列基板
に微小振動(例えば、超音波振動)よりなる余剰ボール
を除去する手段を含めてもよい。
In the above embodiment, the pressure reduction /
A pressurizing device may be provided for each decompression / pressurization system.
Only one pressurizing device is provided, a solenoid valve is interposed in the pressure reducing / pressurizing pipe, and the opening / closing operation of each solenoid valve is controlled, so that the pressure reducing / pressurizing operation is performed independently for each area. May be performed. Further, in the present invention, the array substrate may include means for removing an extra ball made of minute vibration (for example, ultrasonic vibration).

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明は前述したように、本発明によれ
ば、微細ボールを吸引するタイミング及び吸引力を、配
列基板の吸着面に形成されている複数のボール吸着孔の
位置に応じて異ならせることができるので、配列基板の
周辺部に位置するボール吸着孔においては早いタイミン
グで微細ボールの吸着を開始するとともに大きな吸引力
が得られるようにし、また、配列基板の中央部に形成さ
れているボール吸着孔においては吸引タイミングを遅く
し、かつ吸引力を小さくすることが可能となり、配列基
板の中央部に微細ボールが集中的に吸着されてしまう不
都合を防止することができ、ボール配列基板の全面に渡
って微細ボールを良好に吸着することができる。
According to the present invention, as described above, according to the present invention, the timing and the suction force for sucking the fine balls are changed according to the positions of the plurality of ball suction holes formed on the suction surface of the array substrate. Because it can be different, in the ball suction hole located in the peripheral part of the array substrate, the suction of the fine ball is started at an early timing and a large suction force is obtained, and the ball suction hole is formed in the center of the array substrate. In the ball suction holes, the suction timing can be delayed and the suction force can be reduced, so that the inconvenience of intensive suction of fine balls at the center of the array substrate can be prevented, and the ball arrangement can be prevented. Fine balls can be satisfactorily adsorbed over the entire surface of the substrate.

【0050】また、本発明の他の特徴によれば、配列基
板上に設けられている複数のボール吸着孔を複数のエリ
アに分割し、ボール吸着孔の減圧/加圧を各エリア毎に
行うことができるようにしたので、ボール吸着に関して
不具合が生じたエリアのみについて再吸着を行うように
することができる。したがって、本発明の微細ボールの
配列装置及び方法によれば、再吸着時にボール吸着の不
具合が発生する確率を数分の1以下に減少させることが
できるとともに、再吸着に要する時間も数分の1以下に
減少させることができる。
According to another feature of the present invention, the plurality of ball suction holes provided on the array substrate are divided into a plurality of areas, and the pressure of the ball suction holes is reduced / pressurized for each area. Because of this, it is possible to perform re-suction only in an area where a problem has occurred with respect to ball suction. Therefore, according to the apparatus and method for arranging fine balls of the present invention, it is possible to reduce the probability of occurrence of the problem of ball suction at the time of re-sucking to a fraction or less, and to reduce the time required for re-sucking to several minutes. It can be reduced to 1 or less.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】吸着面をエリア分割する一例を説明するための
配列ヘッドと基板の表面図である。
FIG. 1 is a front view of an arrangement head and a substrate for explaining an example of dividing an adsorption surface into areas.

【図2】配列ヘッドと基板の要部の概略構成を示す断面
図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a schematic configuration of a main part of an array head and a substrate.

【図3】実施形態の微細ボールの配列装置の動作を説明
するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining the operation of the arrangement apparatus for fine balls according to the embodiment;

【図4】配列基板に複数個設けられているボール吸着孔
を複数のエリアに分割する例を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an example in which a plurality of ball suction holes provided on an array substrate are divided into a plurality of areas.

【図5】配列基板に複数個設けられているボール吸着孔
を複数のエリアに分割する他の例を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing another example of dividing a plurality of ball suction holes provided on an array substrate into a plurality of areas.

【図6】従来の配列ヘッドの構成例を示す断面図であ
る。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a configuration example of a conventional array head.

【図7】従来の微細ボールの配列装置を用いて微細ボー
ルを吸着する様子を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a state in which fine balls are sucked using a conventional fine ball arrangement device.

【符号の説明】 1 配列基板 2a〜2d 減圧/加圧系統 3a〜3d ボール吸着孔 4 微細ボール 5a〜5d 真空室 6 間仕切り板 10 基板本体 10a〜10d 通気孔 11 第1のエリア 12 第2のエリア 13 第3のエリア 14 第4のエリア[Description of Signs] 1 Array substrate 2a to 2d Decompression / pressurization system 3a to 3d Ball suction hole 4 Fine ball 5a to 5d Vacuum chamber 6 Partition plate 10 Substrate body 10a to 10d Vent hole 11 First area 12 Second Area 13 Third area 14 Fourth area

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 21/92 604Z (72)発明者 山本 利夫 川崎市中原区井田3−35−1 新日本製鐵 株式会社技術開発本部内──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI H01L 21/92 604Z (72) Inventor Toshio Yamamoto 3-35-1 Ida, Nakahara-ku, Kawasaki Nippon Steel Corporation

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 微細ボールの吸着面にボール吸着孔が複
数個形成されている配列基板と、前記配列基板を保持し
ている微細ボール配列ヘッドの内部に形成されている真
空室を減圧/加圧して、前記ボール吸着孔のそれぞれに
微細ボールを吸着/離脱させるようにする減圧/加圧系
統とを備え、前記配列基板上に複数の微細ボールを一括
保持して、プリント基板及び半導体チップを少なくとも
含む電子部品の電極上に一括配列させるようにする微細
ボールの配列装置において、 前記配列ヘッドの内部に形成されている真空室を複数の
エリアに区画するとともに、前記減圧/加圧系統を前記
複数のエリア毎に設け、 前記各エリアにおける減圧タイミング及び減圧の大きさ
を、前記各エリア毎に制御可能としたことを特徴とする
微細ボールの配列装置。
1. An array substrate in which a plurality of ball suction holes are formed on a suction surface of fine balls, and a vacuum chamber formed inside a micro ball array head holding the array substrate is decompressed / pressurized. A pressure reducing / pressurizing system for causing the fine balls to be sucked / released from each of the ball suction holes by pressurizing, and holding a plurality of the fine balls on the array substrate at a time, thereby forming a printed board and a semiconductor chip. An arrangement apparatus for fine balls, which is arranged at least on electrodes of electronic components including at least, wherein a vacuum chamber formed inside the arrangement head is divided into a plurality of areas, and the pressure reducing / pressurizing system is A minute ball arrangement device provided for each of a plurality of areas, wherein the pressure reduction timing and the magnitude of the pressure reduction in each area can be controlled for each of the areas. .
【請求項2】 微細ボールの吸着面にボール吸着孔が複
数個形成されている配列基板と、前記配列基板を保持し
ている微細ボール配列ヘッドの内部に形成されている真
空室を減圧/加圧して、前記ボール吸着孔のそれぞれに
微細ボールを吸着/離脱させるようにする減圧/加圧系
統とを備え、前記配列基板上に複数の微細ボールを一括
保持して、プリント基板及び半導体チップを少なくとも
含む電子部品の電極上に一括配列させるようにする微細
ボールの配列装置において、 前記配列ヘッドの内部に形成されている真空室を複数の
エリアに区画するとともに、前記複数のエリア毎に前記
減圧/加圧系統を設け、 前記微細ボールの吸着/離脱を前記各エリア毎に制御可
能としたことを特徴とする微細ボールの配列装置。
2. An array substrate in which a plurality of ball suction holes are formed on a suction surface of fine balls, and a vacuum chamber formed inside a fine ball array head holding the array substrate is decompressed / pressurized. A pressure reducing / pressurizing system for causing the fine balls to be sucked / released from each of the ball suction holes by pressurizing, and holding a plurality of the fine balls on the array substrate at a time, thereby forming a printed board and a semiconductor chip. In an arrangement apparatus for fine balls, which is arranged at least on electrodes of electronic components including at least, a vacuum chamber formed inside the arrangement head is divided into a plurality of areas, and the decompression is performed for each of the plurality of areas. An arrangement apparatus for fine balls, wherein a pressure system is provided, and suction / release of the fine balls can be controlled for each of the areas.
【請求項3】 微細ボールの吸着面にボール吸着孔が複
数個形成されている配列基板と、前記配列基板を保持し
ている微細ボール配列ヘッドの内部に形成されている真
空室を減圧/加圧して、前記ボール吸着孔のそれぞれに
微細ボールを吸着/離脱させるようにする減圧/加圧系
統とを備え、前記配列基板上に複数の微細ボールを一括
保持して、プリント基板及び半導体チップを少なくとも
含む電子部品の電極上に一括配列させるようにする微細
ボールの配列装置において、 前記配列ヘッドの内部に形成されている真空室を複数の
エリアに区画するとともに、前記複数のエリア毎に前記
減圧/加圧系統を設け、 前記各エリアにおける減圧タイミング及び減圧の大き
さ、並びに前記微細ボールの吸着/離脱を前記各エリア
毎に制御可能としたことを特徴とする微細ボールの配列
装置。
3. An array substrate in which a plurality of ball suction holes are formed on a suction surface of a fine ball, and a vacuum chamber formed inside a micro ball array head holding the array substrate is decompressed / pressurized. A pressure reducing / pressurizing system for causing the fine balls to be sucked / released from each of the ball suction holes by pressurizing, and holding a plurality of the fine balls on the array substrate at a time, thereby forming a printed board and a semiconductor chip. In an arrangement apparatus for fine balls, which is arranged at least on electrodes of electronic components including at least, a vacuum chamber formed inside the arrangement head is divided into a plurality of areas, and the decompression is performed for each of the plurality of areas. A pressure system is provided to control the pressure reduction timing and the pressure reduction in each area, and the suction / release of the fine ball for each area. Apparatus for arranging fine ball characterized.
【請求項4】 微細ボールの吸着面にボール吸着孔が複
数個形成されている配列基板を保持している微細ボール
配列ヘッドの内部に形成されている真空室を減圧/加圧
して、前記ボール吸着孔のそれぞれに微細ボールを吸着
/離脱させるようにして、前記配列基板上に複数の微細
ボールを一括保持し、プリント基板及び半導体チップを
少なくとも含む電子部品の電極上に一括配列させる微細
ボールの配列方法において、 前記配列ヘッドの内部に形成されている真空室真空室が
複数のエリアに区画されているとともに、前記複数のエ
リア毎に減圧/加圧系統が設けられている配列ヘッドを
用い、 前記各エリアにおける減圧タイミング及び減圧の大きさ
を、前記複数のエリア毎に制御しながら前記吸着面に一
括吸着して複数の微細ボールを一括配列することを特徴
とする微細ボールの配列方法。
4. A vacuum chamber formed inside a fine ball array head holding an array substrate having a plurality of ball suction holes formed on a suction surface of the fine ball, the pressure of the ball is reduced / pressurized. A plurality of micro-balls are collectively held on the array substrate by adsorbing / desorbing the micro-balls in each of the suction holes, and the micro-balls to be collectively arrayed on electrodes of electronic components including at least a printed board and a semiconductor chip. In the arranging method, a vacuum chamber formed inside the arranging head is divided into a plurality of areas, and an arranging head provided with a decompression / pressurizing system for each of the plurality of areas is used. While controlling the decompression timing and the magnitude of the decompression in each of the areas, the plurality of fine balls are collectively distributed by collectively adsorbing to the adsorption surface while controlling each of the plurality of areas. Method of arranging fine balls, which comprises.
【請求項5】 微細ボールの吸着面にボール吸着孔が複
数個形成されている配列基板を保持している微細ボール
配列ヘッドの内部に形成されている真空室を減圧/加圧
して、前記ボール吸着孔のそれぞれに微細ボールを吸着
/離脱させるようにして、前記配列基板上に複数の微細
ボールを一括保持し、プリント基板及び半導体チップを
少なくとも含む電子部品の電極上に一括配列させる微細
ボールの配列方法において、 前記ボール配列ヘッドの内部に形成されている真空室が
複数のエリアに区画されているとともに、前記複数のエ
リア毎に減圧/加圧系統が設けられている配列ヘッドを
用い、 前記微細ボールの吸着/離脱を前記複数のエリア毎に制
御しながら前記吸着面に一括吸着して複数の微細ボール
を一括配列することを特徴とする微細ボールの配列方
法。
5. A vacuum chamber formed inside a fine ball array head holding an array substrate having a plurality of ball suction holes formed on a suction surface of the fine ball, the pressure of the ball is reduced / pressurized. A plurality of micro-balls are collectively held on the array substrate by adsorbing / desorbing the micro-balls in each of the suction holes, and the micro-balls to be collectively arrayed on electrodes of electronic components including at least a printed board and a semiconductor chip. In the arrangement method, a vacuum chamber formed inside the ball arrangement head is partitioned into a plurality of areas, and an arrangement head provided with a decompression / pressurization system for each of the plurality of areas is used. A plurality of micro balls being collectively adsorbed on the adsorbing surface and a plurality of micro balls are arranged collectively while controlling the suction / release of the fine balls for each of the plurality of areas; Method of arranging Lumpur.
【請求項6】 微細ボールの吸着面にボール吸着孔が複
数個形成されている配列基板を保持している微細ボール
配列ヘッドの内部に形成されている真空室を減圧/加圧
して、前記ボール吸着孔のそれぞれに微細ボールを吸着
/離脱させるようにして、前記配列基板上に複数の微細
ボールを一括保持し、プリント基板及び半導体チップを
少なくとも含む電子部品の電極上に一括配列させる微細
ボールの配列方法において、 前記ボール配列ヘッドの内部に形成されている真空室が
複数のエリアに区画されているとともに、前記複数のエ
リア毎に減圧/加圧系統が設けられている配列ヘッドを
用い、 前記各エリアにおける減圧タイミング及び減圧の大き
さ、並びに前記微細ボールの吸着/離脱を前記複数のエ
リア毎に制御しながら前記吸着面に一括吸着して複数の
微細ボールを一括配列することを特徴とする微細ボール
の配列方法。
6. A vacuum chamber formed inside a fine ball array head holding an array substrate having a plurality of ball suction holes formed on a suction surface of the fine ball, the pressure of the ball is reduced / pressurized. A plurality of micro-balls are collectively held on the array substrate by adsorbing / desorbing the micro-balls in each of the suction holes, and the micro-balls to be collectively arrayed on electrodes of electronic components including at least a printed board and a semiconductor chip. In the arrangement method, a vacuum chamber formed inside the ball arrangement head is partitioned into a plurality of areas, and an arrangement head provided with a decompression / pressurization system for each of the plurality of areas is used. The decompression timing and the magnitude of the decompression in each area, and the suction / release of the fine ball are controlled collectively on the suction surface while controlling for each of the plurality of areas. Method of arranging fine balls, which comprises collectively arranging a plurality of micro balls and wear.
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JP2003007752A (en) * 2001-06-26 2003-01-10 Nippon Steel Corp Ball mounting equipment
KR100394415B1 (en) * 2001-01-11 2003-08-09 조수제 Micro ball array substrate and its fabrication

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