JPH07149769A

JPH07149769A - 光学活性な含ケイ素アゾール化合物

Info

Publication number: JPH07149769A
Application number: JP6242572A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Ito; 寛之伊藤; Hideo Takeshiba; 英雄竹柴; Hiroshi Ota; 昊太田
Original assignee: Sankyo Co Ltd
Current assignee: Sankyo Co Ltd
Priority date: 1993-10-07
Filing date: 1994-10-06
Publication date: 1995-06-13

Abstract

(57)【要約】【目的】ラセミ化合物及び他の光学活性体に比べて著し
く強い殺菌活性を有する光学活性な含ケイ素アゾール化
合物を提供すること。【構成】式（Ｉａ）【化７】で表わされる光学活性な化合物又はその塩及びそれを有
効成分として含有することを特徴とする農園芸用殺菌
剤。【効果】本発明の光学活性化合物は、ラセミ化合物及び
他の光学活性体に比べて著しく強い殺菌活性を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の目的】

【０００２】

【産業上の利用分野】本発明は、優れた殺菌作用を有す
る新規な光学活性な含ケイ素アゾール化合物に関する。

【０００３】

【従来の技術】式（Ｉａ）

【０００４】

【化２】

【０００５】で表される化合物及び、式（Ｉｂ）

【０００６】

【化３】

【０００７】で表される化合物のラセミ混合物が、優れ
た農園芸用殺菌活性を示すことは、特開平５−２２２０
６０号公報に記載されている。

【０００８】しかしながら、当該明細書に記載されてい
る方法では、純粋な光学活性体（Ｉａ）、（Ｉｂ）を得
ることは不可能である。又、当該明細書には、ラセミ混
合物のうち特に式（Ｉａ）の光学活性体が（Ｉｂ）に比
べて著しく高い農園芸用殺菌活性を有することも何ら記
載されていない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ラセミの薬物は、各光
学活性立体異性体成分とキラルな要素によって構成され
る生態との間の相互作用に大きな差異を生じるため、薬
効と毒性の両面から各光学活性体を別の化合物として扱
いことが重要視される。

【００１０】そこで本発明者等は、式（Ｉ）

【００１１】

【化４】

【００１２】で表される化合物の光学活性体の合成とそ
の薬理活性について鋭意研究を行なった結果、新規な製
造方法によって各光学活性体が純度良く得られること及
び光学活性体のうちでも特異な立体配位の一方が他の一
方よりも著しく強い農園芸用殺菌活性を有することを見
出し、本発明を完成した。

【００１３】

【発明の構成】

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、式（Ｉａ）

【００１５】

【化５】

【００１６】で表わされる光学活性な化合物又はその
塩、及びそれらを有効成分として含有することを特徴と
する農園芸用殺菌剤である。

【００１７】本発明の化合物（Ｉａ）は、塩にすること
ができる。そのような塩としては、好適には、弗化水素
酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハ
ロゲン化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸
塩等の無機酸塩；メタンスルホン酸塩、トリフルオロメ
タンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級ア
ルキルスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p-トルエ
ンスルホン酸塩のようなアリ−ルスルホン酸塩、コハク
酸塩、蓚酸塩等の有機酸塩；及びサッカリンのような有
機酸アミド化合物との付加塩を挙げることができる。

【００１８】本発明の化合物（Ｉａ）は、以下に示す方
法により製造される。

【００１９】

【化６】

【００２０】［式中、Ｒはキラルなアルコキシ基を示
し、Ｍは金属又はハロゲン化金属を示し、Ｙはアルキル
スルホニルオキシ基又はアリールスルホニルオキシ基を
示す。］上記式中、「キラルなアルコキシ基」とは、２
−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、２−ヘキ
サノール、２−ヘプタノール、２−ペンタノール、２−
オクタノール、１−ベンジルオキシ−３−トルエンスル
ホニルオキシ−２−プロパノールのような２級アルコー
ル類、１−フェニル−１−ブタノール、２−フェネチル
アルコール、２−メチル−１−フェニルプロパノール、
ヒドロベンゾイン、２−ブロモ−α−メチル−ベンジル
アルコール、３−クロロ−１−フェニル−１−プロパノ
ール、１，１，２−トリフェニル−１，２−エタンジオ
ール−２−アセテート、１−フェニル−１，２−エタン
ジオール−２−トシレート、１−フェニル−１−デカノ
ールのようなベンジルアルコール類、メチル−１−ナフ
タレンメタノール、メチル−２−ナフタレンメタノー
ル、１，１’−ビ−２−ナフトール、２，２，２−トリ
フルオロ−１−（９−アントラニル）エタノールのよう
なナフトール又はアントラニルメタノール類、２−フェ
ニルシクロヘキサノール、２−ｔ−ブチルシクロヘキサ
ノール、２−エトキシシクロヘキサノール、ノルボルネ
オール、ネオメントール、メントール、イソメントー
ル、イソソルバイド、インダノール、３−ヒドロキシテ
トラヒドロフラン、１−ベンジル−３−ピロソジノー
ル、ジヒドロカルベノール、ベルベノール、１，２，
３，４−テトラヒドロ−１−ナフトール、ピナンジオー
ル、８−フェニルメントールのような環状アルコール類
の光学活性体のアルコール残基を挙げることができ、好
適には環状アルコール類の光学活性体のアルコール残基
であり、更に好適には２−フェニルシクロヘキサノール
の光学活性体のアルコール残基である。

【００２１】上記式中、「金属」とは、リチウム原子、
ナトリウム原子、カリウム原子等のアルカリ金属類であ
り、好適にはリチウム原子である。

【００２２】上記式中、「ハロゲン化金属」とは、基Mg
Cl、基MgBr、基MgI 、基ZnCl、基ZnBr、基ZnI 、基CdC
l、基CdBr、基CdI 等であり、好適には基ＭｇＣｌ又は
基ＭｇＢｒである。

【００２３】上記式中、「アルキルスルホニルオキシ
基」とは、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメ
タンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基で
あり、好適にはメタンスルホニル基である。

【００２４】上記式中、「アリールスルホニルオキシ
基」とは、ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンス
ルホニルオキシ基であり、好適にはp-トルエンスルホニ
ル基である。

【００２５】以下、各工程を詳しく説明する。

【００２６】（工程Ａ）工程Ａは、参考例１及び２によ
り製造される４−フルオロフェニルグリオキシル酸から
キラルなアルコールを用いて光学活性なケトエステル
（ＩＩ）を得る工程である。

【００２７】キラルなアルコールは、常法によりラセミ
のアルコールより分割したり、アルドリッチ社等から容
易に入手できる。

【００２８】本工程は、4-フルオロフェニルグリオキシ
ル酸とキラルなアルコールから脱水により直接目的物を
得るルートと、一旦4-フルオロフェニルグリオキシル酸
を酸クロライドとしてキラルなアルコールと反応させて
目的物を得るルートを含む。

【００２９】直接得るルートにおいては、溶媒の存在下
縮合剤又は酸を用いる。

【００３０】使用される溶媒としては、反応を阻害しな
いものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素
類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、
テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジオキ
サン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ）、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルリン酸トリアミド（ＨＭＰＡ）等のアミド
類又はこれらの混合溶媒であり、更に好適には、ハロゲ
ン化炭化水素類である。

【００３１】反応温度は、通常−１００℃乃至８０℃で
あり、好適には、０℃乃至６０℃である。

【００３２】反応時間は、主に反応温度、原料化合物及
び使用される溶媒の種類によって異なるが、通常５分間
乃至２４時間であり、好適には３時間乃至１０時間であ
る。

【００３３】本工程で用いられる縮合剤としては、ジシ
クロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、N-メチル-2-
フルオロピリジニウムトリフラート、ヨウ化 N-メチル
-2-クロロピリジニウムのようなピリジニウム塩、トリ
フェニルホスフィン、ジエチルリン酸シアニド（ＤＥ
ＰＣ）、ジフェニルリン酸アジド（ＤＰＰＡ）等のリン
酸、カルボジイミダゾール等であり、好適にはＤＥＰＣ
である。

【００３４】使用される酸としては、塩酸、臭化水素酸
のようなハロゲン水素酸、硝酸、硫酸、リン酸等の無機
酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン
酸、エタンスルホン酸のような低級アルキルスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸のよ
うなアリールスルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、シ
ュウ酸のような有機酸等であり、好適には塩酸、硫酸、
トリフルオロ酢酸である。

【００３５】本工程で用いられる縮合剤又は酸の量は、
４−フェニルグリオキシル酸に対して１乃至１０当量で
あり、好適には１乃至２当量である。

【００３６】後者においては、溶媒の存在下、４−フル
オロフェニルグリオキシル酸をハロゲン化剤によって４
−フルオロフェニルグリオキシル酸クロライドとした
後、溶媒の存在下キラルなアルコールを用いて、塩基の
存在下又は非存在下、エステル化する。

【００３７】ハロゲン化の過程は溶媒の存在下に行われ
る。ハロゲン化に用いられるハロゲン化剤としては、チ
オニルクロライド、オキザリルクロライド、トリフェニ
ルフォスフィン−四塩化炭素、オキシ塩化リンなどで、
好適にはオキザリルクロライドである。

【００３８】使用される溶媒としては、反応を阻害しな
いものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素
類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、
テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジオキ
サン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ）、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類又はこれらの混合溶媒であり、更に好適は、ハロゲ
ン化炭化水素類である。

【００３９】反応温度は、通常−１００℃乃至８０℃で
あり、好適は、０℃乃至６０℃である。

【００４０】反応時間は、主に反応温度、原料化合物及
び使用される溶媒の種類によって異なるが、通常５分間
乃至２４時間であり、好適には３時間乃至１０時間であ
る。

【００４１】エステル化の過程は溶媒の存在下又は非存
在下で行われる。

【００４２】使用される溶媒としては、反応を阻害しな
いものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素
類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、
テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジオキ
サン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ）、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルリン酸トリアミド（ＨＭＰＡ）等のアルド
類、アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニト
リル類又はこれらの混合溶媒であり、更に好適には、ニ
トリル類である。

【００４３】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなア
ルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩；水素化リチウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカ
リ金属水素化物；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化バリウムのようなアルカリ金属水酸化物；ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ポタシウム-t
- ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類、ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、4-（N,N-
ジメチルアミノ）ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,
N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ
-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABC
O) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク-7- エン(DB
U) のような有機塩基類又はブチルリチウム、リチウム
ジイソプロピルアミドのような有機金属塩基類であり、
更に好適には、トリエチルアミン、ピリジンのような有
機塩基類である。

【００４４】反応温度は、通常−１００℃乃至８０℃で
あり、好適には、−２０℃乃至６０℃である。

【００４５】反応時間は、主に反応温度、原料化合物及
び使用される溶媒の種類によって異なるが、通常５分間
乃至２４時間であり、好適には３時間乃至１０時間であ
る。

【００４６】（工程Ｂ）工程Ｂは、工程Ａで得たケトエ
ステル（ＩＩ）に、シリル化合物（ＩＩＩ）を付加する
ことにより、付加体（ＩＶ）を製造する工程である。

【００４７】シリル化合物（ＩＩＩ）は、ハロメチルト
リメチルシリルと金属マグネシウム又は金属リチウムか
ら常法によって得られる。

【００４８】本工程は、溶媒の存在下に行なわれる。

【００４９】本工程で用いられる式（ＩＩＩ）で表され
る有機金属化合物の量は、式（ＩＩ）の化合物に対して
好適には１乃至１０当量であり、更に好適には１乃至２
当量である。

【００５０】使用される溶媒としては、反応を阻害しな
いものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素
類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、
テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジオキ
サン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ）、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルリン酸トリアミド（ＨＭＰＡ）等のアミド
類又はこれらの混合溶媒であり、更に好適には、エーテ
ル類である。

【００５１】反応温度は、通常−１００℃乃至８０℃で
あり、好適には、−７８℃乃至−４０℃である。

【００５２】反応時間は、主に反応温度、原料化合物及
び使用される溶媒の種類によって異なるが、通常５分間
乃至２４時間であり、好適には３時間乃至１０時間であ
る。

【００５３】（工程Ｃ）工程Ｃは、工程Ｂで得た光学活
性体混合物（ＩＶ）から純粋な光学活性体（ＩＶａ）を
分離する工程である。

【００５４】本工程の光学分割は、化合物（ＩＶ）を溶
媒から再結晶するか又はカラムクロマトグラフィーに付
することにより行われる。

【００５５】再結晶溶媒としては、特に限定はないが、
好適には、メタノール、エタノール、ブタノール等のア
ルコール類、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキ
サン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類、ジクロロメ
タン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭
化水素類、又はこれらの混合溶媒であり、更に好適には
アルコール類である。

【００５６】カラムクロマトグラフィーに用いられるカ
ラムの担体としては、特に限定はないが、好適には、シ
リカゲル、シクロデキストリン、セルロース、アルミ
ナ、活性炭、硅藻土であり、更に好適にはシリカゲルで
ある。

【００５７】カラムクロマトグラフィーに用いられる溶
出溶媒としては、特に限定はないが、好適には、水、ア
ルコール、アセトニトリル、アセトン、酢酸エチル、エ
ーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素又はこれらの混
合溶媒である。

【００５８】（工程Ｄ）工程Ｄは、工程Ｃで得た光学活
性な化合物（ＩＶａ）を還元して、化合物（Ｖａ）のア
ルコールを製造する工程である。

【００５９】本工程は、溶媒の存在下に行なわれる。

【００６０】本工程で用いられる還元剤の量は、式（Ｉ
Ｖａ）の化合物に対して好適には１乃至１０当量であ
り、更に好適には１乃至２当量である。

【００６１】還元剤としては、エステルをアルコールに
還元できるものであれば特に限定はないが、好適には、
水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム
のような金属水素錯化合物であり、更に好適には水素化
リチウムアルミニウムである。

【００６２】使用される溶媒としては、反応を阻害しな
いものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素
類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、
テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジオキ
サン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ）、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類又はこれらの混合溶媒であり、更に好適には、エー
テル類である。

【００６３】反応温度は、通常−７５℃乃至８０℃であ
り、好適には、−２０℃乃至６０℃である。

【００６４】反応時間は、主に反応温度、原料化合物及
び使用される溶媒の種類によって異なるが、通常５分間
乃至２４時間であり、好適には３時間乃至１０時間であ
る。

【００６５】（工程Ｅ）工程Ｅは、工程Ｄで得た光学活
性なアルコール（Ｖａ）の水酸基を塩基の存在下、スル
ホニル化剤を用いてスルホニル化して、化合物（ＶＩ
ａ）を製造する工程である。

【００６６】本工程は、溶媒の存在下又は非存在下に行
なわれる。

【００６７】本工程で用いられるスルホニル化剤の量
は、式（Ｖａ）の化合物に対して好適には１乃至１０当
量であり、更に好適には１乃至２当量である。

【００６８】スルホニル化剤としては、水酸基をスルホ
ニル化できるものであれば特に限定はないが、好適に
は、メタンスルホニルクロライド、トルエンスルホニル
クロライドのようなハロゲン化スルホニル化合物、無水
メタンスルホニルのような無水スルホニル化合物であ
り、更に好適にはメタンスルホニルクロライドである。

【００６９】使用される溶媒としては、反応を阻害しな
いものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素
類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、
テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジオキ
サン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ）、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルリン酸トリアミド（ＨＭＰＡ）等のアミド
類又はこれらの混合溶媒であり、更に好適には、ハロゲ
ン化炭化水素類である。

【００７０】反応温度は、通常−７８℃乃至２００℃で
あり、好適には、−２０℃乃至６０℃である。

【００７１】反応時間は、主に反応温度、原料化合物及
び使用される溶媒の種類によって異なるが、通常５分間
乃至２４時間であり、好適には３時間乃至１０時間であ
る。使用される塩基としては、通常の反応において塩基
として使用されるものであれば特に限定はないが、好適
には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金
属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのよ
うなアルカリ金属炭酸水素塩；水素化リチウム、水素化
ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素
化物；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウムのようなアルカリ金属水酸化物；ナトリウムメトキ
シド、ナトリウムエトキシド、ボタシウム-t- ブトキシ
ドのようなアルカリ金属アルコキシド類、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、N-メチルモルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチル
アミノ）ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチ
ルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エ
ン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,
8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク-7- エン(DBU) のよ
うな有機塩基類又はブチルリチウム、リチウムジイソプ
ロピルアミドのような有機金属塩基類であり、更に好適
には、トリエチルアミン、ピリジンのような有機塩基類
である。

【００７２】尚、反応を効果的に行わせるために、ベン
ジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルア
ンモニウムクロリドのような第４級アンモニウム塩類、
ヨウ化ナトリウム、臭化ナトリウム、臭化リチウムのよ
うなハロゲン化アルカリ土類金属、ジベンゾ-18-クラウ
ン-6- のようなクラウンエーテル類、溶媒の乾燥に用い
る３Å又は４Åのモレキュラーシーブ等を添加すること
もできる。

【００７３】（工程Ｆ）工程Ｆは、化合物（ＶＩａ）
に、過剰の1,2,4-トリアゾールを塩基の存在下に反応さ
せ、本発明化合物（Ｉａ）を得る工程である。

【００７４】反応は、溶媒中、一般式（ＶＩａ）の化合
物に対して１当量以上の1,2,4-トリアゾールを、１当量
以上の塩基の存在下に反応させるか、又は、1,2,4-トリ
アゾールの塩基塩を反応させることにより行なわれる。

【００７５】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエーテル類；メタノール、エタノール、n-プロパ
ノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノ
ール、t-ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキ
サノール、メチルセルソルブ、のようなアルコール類；
ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物
類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニト
リル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド、1,
3-ジメチル-2- イミダゾリジノンのようなアミド類；ジ
メチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド
類であり、更に好適には、ホルムアミド、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホ
ロトリアミド、1,3-ジメチル-2- イミダゾリジノンのよ
うなアミド類である。

【００７６】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなア
ルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩；水素化リチウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカ
リ金属水素化物；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化バリウムのようなアルカリ金属水酸化物；ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ボタシウム-t
- ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類、ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、4-(N,N-
ジメチルアミノ）ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,
N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ
-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABC
O) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク-7- エン(DB
U) のような有機塩基類又はブチルリチウム、リチウム
ジイソプロピルアミドのような有機金属塩基類であり、
更に好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような
アルカリ金属炭酸塩である。

【００７７】尚、反応を効果的に行わせるために、ベン
ジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルア
ンモニウムクロリドのような第４級アンモニウム塩類、
ヨウ化ナトリウム、臭化ナトリウム、臭化リチウムのよ
うなハロゲン化アルカリ土類金属、ジベンゾ-18-クラウ
ン-6- のようなクラウンエーテル類、溶媒の乾燥に用い
る３Å又は４Åのモレキュラーシーブ等を添加すること
もできる。

【００７８】反応温度は−７８℃乃至２００℃で行なわ
れるが、好適には、−２０℃乃至１５０℃である。

【００７９】反応時間は、主に反応温度、原料化合物又
は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常１時間
乃至２４時間であり、好適には２乃至１０時間である。

【００８０】上記各工程の反応終了後、反応目的物は常
法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混
合物に水と混和しない有機溶剤を加え水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は、
必要ならば、常法、例えば、再結晶、再沈殿、ならびに
クロマトグラフィー等によって更に精製される。

【００８１】本発明の化合物（Ｉａ）の塩を製造する工
程は、本願化合物（Ｉａ）を含む反応混合物の抽出濃縮
物、又は化合物（Ｉａ）を適当な溶媒に溶解させた液に
酸を加えることによって行なわれる。

【００８２】反応に使用される酸は、弗化水素酸、塩
酸、臭化水素酸、沃化水素酸のようなハロゲン化水素
酸、硝酸、過塩素酸、硫酸、燐酸等の無機酸；メタンス
ルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸のような低級アルキルスルホン酸、ベンゼンスル
ホン酸、p-トルエンスルホン酸のようなアリ−ルスルホ
ン酸、コハク酸、蓚酸等の有機酸塩；及びサッカリンの
ような有機酸アミド化合物を挙げることができる。

【００８３】酸は、通常１当量乃至１０当量用いられ、
好適には１当量乃至５当量である。

【００８４】反応に使用される溶媒は、本反応を阻害し
ない限り特に限定はないが、好適には、エーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、
ジオキサン等のエーテル類、メタノール、エタノール等
のアルコール類を挙げることができる。

【００８５】反応温度は、−２０℃乃至５０℃である
が、好適には−１０℃乃至３０℃である。

【００８６】反応時間は、用いられる温度又は溶媒の種
類によって異なるが、通常１０分間乃至１時間である。

【００８７】生成した塩は常法によって単離される。即
ち、結晶として析出する場合は濾取によって、水溶性の
塩の場合には、有機溶媒と水との分液によって水溶液と
して単離される。

【００８８】

【発明の効果】本発明化合物は農業用殺菌剤として用い
られ、宿主植物に被害を与えることなく、植物の病気に
対して治療的且つ予防的効果を示す。

【００８９】即ち、本願発明化合物は極めて高い浸透移
行性を示すので、茎葉散布剤としてのみならず、従来ト
リアゾール化合物として実用化されていない水面施用剤
としても、稲作での重要病害である稲紋枯病を始めとす
る多くの菌核病及びいもち病を特に強力に防除すること
ができる。

【００９０】又、土壌処理剤或いは種子処理剤として
は、イネ、ムギ、ビート、棉、野菜類等各種作物の苗立
枯病やジャガイモ黒あざ病等のリゾクトニア病に特に有
効である他、各種作物のフザリウム病やバーティシリウ
ム病及びムギ類の眼紋病、立枯病、黒穂病、セプトリア
病等の土壌伝染性病害や種子伝染性病害を有効に防除す
ることができる。

【００９１】更に、茎葉散布剤としては各種作物のうど
んこ病、さび病、黒星病等多くの空気伝染性病害にも有
効である。

【００９２】一方、実用薬量では稲、麦、トマト、ジャ
ガイモ、棉、ナス、キュウリ、インゲン等の作物は薬害
を受けることはない。

【００９３】更に、果樹園、非農耕地、山林等において
も殺菌剤として有効に使用することができる。

【００９４】又、木材の防カビ、防腐剤として、更に医
療用抗真菌剤としても使用することができる。

【００９５】本発明の化合物は、担体及び必要に応じて
他の補助剤と混合して、農業用殺菌剤として通常用いら
れる製剤形態、例えば、粉剤、粗粉剤、微粒剤、粒剤、
水和剤、フロアブル剤、乳剤、水溶液剤、水溶剤、油懸
濁剤等に調製されて使用される。もちろん、精製の任意
の段階で精製を中止し、粗製物を有効成分とすることも
できる。

【００９６】ここでいう担体とは、処理すべき部位へ有
効成分化合物の到達性を助け、又、有効成分化合物の貯
蔵、輸送或いは取り扱いを容易にするために、農業用殺
菌剤中に混合される合成又は天然の無機若しくは有機物
質を意味する。

【００９７】適当な固体担体としては、カオリナイト
群、モンモリロナイト群又はアタバルジャイト群等で代
表されるクレー類、タルク、雲母、葉ロウ石、軽石、パ
ーミュキライト、石こう、炭酸カルシウム、ドロマイ
ト、珪藻土、マグネシウム石灰、燐灰石、ゼオライト、
無水珪酸、合成珪酸カルシウム等の無機物質、大豆粉、
タバコ粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、澱粉、結晶セルロ
ース等の植物性有機物質、クマロン樹脂、石油樹脂、ア
ルキド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレングリコー
ル、ケトン樹脂、エステルガム、コーパルガム、ダンマ
ルガム等の合成又は天然の高分子化合物、カルナパロ
ウ、蜜ロウ等のワックス類、或いは尿素等が挙げられ
る。

【００９８】適当な液体担体としては、ケロシン、鉱
油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフイン系若
しくはナフテン系炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼン、クメン、メチルナフタリン等の
芳香族炭化水素、四塩化炭素、クロロホルム、トリクロ
ルエチレン、モノクロルベンゼン、ｏ−クロルトルエン
等の塩素化炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン
のようなエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、
ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフエノ
ン、イソホロン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸アミ
ル、エチレングリコールアセテート、ジエチレングリコ
ールアセテート、マレイン酸ジブチル、コハク酸ジエチ
ル等のエステル類、メタノール、ｎ−ヘキサノール、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、シクロヘキ
サノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、エチ
レングリコールエチルエーテル、エチレングリコールフ
ェニルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールブチルエーテル等のエーテル
アルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド等の極性溶媒或いは水等が挙げられる。

【００９９】乳化、分散、湿潤、拡展、結合、崩壊性調
節、有効成分安定化、流動性改良、防錆等の目的で使用
される界面活性剤は、非イオン性、陰イオン性、陽イオ
ン性及び両性イオン性のいずれのものをも使用しうる
が、通常は非イオン性及び/ 又は陰イオン性のものが使
用される。

【０１００】適当な非イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、オ
レイルアルコール等の高級アルコールにエチレンオキシ
ドを重合付加させたもの、イソオクチルフェノール、ノ
ニルフェノール等のアルキルフェノールにエチレンオキ
シドを重合付加させたもの、ブチルナフトール、オクチ
ルナフトール等のアルキルナフトールにエチレンオキシ
ドを重合付加させたもの、パルミチン酸、ステアリン
酸、オレイン酸等の高級脂肪酸にエチレンオキシドを重
合付加させたもの、ステアリン燐酸、ジラウリル燐酸等
のモノ若しくはジアルキル燐酸にエチレンオキシドを重
合付加させたもの、ドデシルアミン、ステアリン酸アミ
ド等のアミンにエチレンオキシドを重合付加させたも
の、ソルビタン等の多価アルコールの高級脂肪酸エステ
ル及びそれにエチレンオキシドを重合付加させたもの、
エチレンオキシドとプロピレンオキシドを重合付加させ
たもの等が挙げられる。適当な陰イオン性界面活性剤と
しては、例えば、ラウリン硫酸ナトリウム、オレイルア
ルコール硫酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステ
ル塩、スルホこはく酸ジオクチルエステルナトリウム、
２−エチルヘキセンスルホン酸ナトリウム等のアルキル
スルホン酸塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナト
リウム、メチレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウ
ム、リグニンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム等のアリールスルホン酸塩等が挙
げられる。

【０１０１】更に、本発明の農業用殺菌剤には製剤の性
状を改善し、生物効果を高める目的で、カゼイン、ゼラ
チン、アルブミン、ニカワ、アルギン酸ソーダ、カルボ
キシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、ポリビニルアルコール等の高分子化
合物や他の補助剤を併用することもできる。

【０１０２】上記の担体及び種々の補助剤は製剤の剤
型、適用場面等を考慮して、目的に応じてそれぞれ単独
に或いは組合せて適宜使用される。

【０１０３】粉剤は、例えば、有効成分化合物を通常0.
1 乃至25重量部含有し、残部は固体担体である。

【０１０４】水和剤は、例えば、有効成分化合物を通常
1 乃至80重量部含有し、残部は固体担体、分散湿潤剤で
あって、必要に応じて保護コロイド剤、チキソトロビー
剤、消泡剤等が加えられる。

【０１０５】粒剤は、例えば、有効成分化合物を通常1
乃至35重量部含有し、残部は大部分が固体担体である。

【０１０６】使用する場合において、他の殺菌剤、殺虫
剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤、肥
料、土壌改良剤等と混合し、適用範囲を拡大し、省力化
を図ることもできる。

【０１０７】その処理量は、気象条件、製剤形態、処理
時期、処理方法、場所、対象病害、対象作物等により異
なるが、通常、有効成分として、１アール当たり0.1 g
乃至100 g であり、好ましくは、５ｇ乃至４０ｇであ
り、乳剤、水和剤、懸濁剤等は、通常、その所定量を１
アール当たり１リットル乃至１０リットルの水（所望に
より、界面活性剤、ポリオキシエチレン樹脂酸、リグニ
ンスルホン酸塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジ
スルホン酸塩、パラフィンのような展着剤を添加でき
る。）で希釈して処理し、粒剤等は、通常なんら希釈す
ることなく処理する。

【０１０８】以下に、製剤例、参考例及び試験例を示
し、更に本発明を詳しく説明する。

【０１０９】

【製剤例】

【０１１０】

【製剤例１】（水和剤）化合物（Ｉａ）８０％、ナトリウムアルキル
ナフタレンスルホネ−ト２％、ナトリウムリグニンスル
ホネ−ト２％、合成アモルファスシリカ３％、カオリナ
イト１３％を混合し、ハンマ−ミルで粉砕し、再び混合
して包装した。

【０１１１】

【製剤例２】（水和剤）化合物（Ｉａ）２５％、ナトリウムドデシル
ベンゼンスルホネート２．５％、ナトリウムリグニンス
ルホネート２．５％及び珪藻土５５％、合成アモルファ
スシリカ１５％を混合粉砕して水和剤とした。

【０１１２】

【製剤例３】（乳剤）化合物（Ｉａ）１５％、シクロヘキサノン３５
％、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル１１
％、カルシウムドデシルベンゼンスルホネート４％及び
メチルナフタリン３５％を均一に溶解し乳剤とした。

【０１１３】

【製剤例４】（乳剤）化合物（Ｉａ）１５％、カルシウムドデシルベ
ンゼンスルホネ−トと非イオン系界面活性剤とのブレン
ド２５％、キシレン６０％を合わせ、撹拌して活性成分
を溶解させた。

【０１１４】

【製剤例５】（粒剤）化合物（Ｉａ）５％、ナトリウムラウリルサル
フェート２％、ナトリウムリグニンスルホネート５％、
ナトリウムカルボキシメチルセルロース２％及びクレー
８６％を均一に混合し粉砕する。この混合物１００重量
部に水２０重量部を加えて練合し、押出式造粒機を用い
て、１４〜３２メッシュの粒状に加工した後、乾燥して
粒剤とした。

【０１１５】

【製剤例６】（粒剤）化合物（Ｉａ）５％、ベントナイト３０％、タ
ルク６２％、ナトリウムリグニンスルホネート２％及び
ナトリウムドデシルベンゼンスルホネート１％を均一に
混合し粉砕する。この混合物１００重量部に水２０重量
部を加えて練合し、押出式造粒機を用いて、１４〜３２
メッシュの粒状に加工した後、乾燥して粒剤とした。

【０１１６】

【製剤例７】（粒剤）化合物（Ｉａ）４％、ベントナイト３０％、ク
レー６３％、ポリビニルアルコール１％及びナトリウム
ドデシルベンゼンスルホネート２％を均一に混合し粉砕
する。この混合物１００重量部に水２０重量部を加えて
練合し、押出式造粒機を用いて、14〜32メッシュの粒状
に加工した後、乾燥して粒剤とした。

【０１１７】

【製剤例８】（粒剤）化合物（Ｉａ）４％、ベントナイト３５％、タ
ルク５８．８％、ナトリウムアルキルナフタリンスルホ
ネート２％及びナトリウムジオクチルスルホサクシネー
ト０．２％を均一に混合し粉砕する。この混合物１００
重量部に水２０重量部を加えて練合し、押出式造粒機を
用いて、１４〜３２メッシュの粒状に加工した後、乾燥
して粒剤とした。

【０１１８】

【製剤例９】（粒剤）化合物（Ｉａ）５％、ホワイトカーボン１％、
ナトリウムリグニンスルホネート５％、クレー８４％及
びナトリウムカルボキシメチルセルロース５％をよく粉
砕混合し、水を加えてよく練り合わせた後、造粒乾燥し
て粒剤とした。

【０１１９】

【製剤例１０】（粉剤）化合物（Ｉａ）２％、珪藻土５％及びクレー９
３％を均一に混合粉砕して粉剤とした。

【０１２０】

【製剤例１１】（液剤）化合物（Ｉａ）１０％、ナトリウムドデシルベ
ンゼンスルホネート２％及び水８８％を溶解させて液剤
とした。

【０１２１】

【製剤例１２】（液剤）化合物（Ｉａ）３０％、ジメチルスルホキサイ
ド７０％を合わせ、撹拌して溶液を得た。

【０１２２】

【製剤例１３】（粒剤）ベントナイト３０％、タルク６４．５％、ナト
リウムジオクチルスルホサクシネート０．５％を均一に
混合した。混合物９５部に水１８部を加えて練合し、押
し出し造粒機を用いて造粒、乾燥したのち、ふるい分け
て１４〜３２メッシュの粒状キャリヤーを得た。この粒
状キャリヤー９５％に化合物（Ｉａ）５％を加えて吸収
させ、均一に混合して粒剤とした。

【０１２３】

【製剤例１４】（粒剤）クレー８６％、ナトリウムジオクチルスルホサ
クシネート０．５％、デキストリン７％、ナトリウムカ
ルボキシメチルセルロース１．５％を均一に混合した。
混合物９５部に水１４部を加えて練合し、押し出し造粒
機を用いて造粒、乾燥したのち、ふるい分けて１４〜３
２メッシュの粒状キャリヤーを得た。この粒状キャリヤ
ー９５％に化合物（Ｉａ）５％を加えて吸収させ、均一
に混合して粒剤とした。

【０１２４】

【製剤例１５】（フロアブル）ナトリウムドデシルベンゼンスルホネー
ト１％、ナトリウムナフタリンスルホネートの縮合物５
％を水４１．８％中に溶解した中に化合物（Ｉａ）３０
％を懸濁させた。懸濁液をサンドミルで粉砕し、平均粒
子径１．５μm とした。別に、キサンタンガム０．２
％、マグネシウムアルミノシリケート２％を水２０％に
溶解、分散させた液を調製し、先の粉砕スラリーに加え
均一に攪拌して懸濁型のフロアブルを得た。

【０１２５】

【製剤例１６】（フロアブル）化合物（Ｉａ）５％、ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテル３．５％、カルシウムドデシ
ルベンゼンスルホネート１．５％を均一に溶解した。攪
拌下、水５６．６５％にこの溶液を加え乳化させたの
ち、ホモゲナイザーを用いて微細な乳化液とした。別に
キサンタンガム０．３５％、マグネシウムアルミノシリ
ケート３％を水３０％に溶解、分散させた液を調製し、
先の乳化液と合わせて均一に攪拌し、乳化型のフロアブ
ルを得た。

【０１２６】

【製剤例１７】（顆粒水和剤）化合物（Ｉａ）６０％、ナトリウムリグ
ニンスルホネート１５％、クレー１７％、粒状炭酸カル
シウム５％、ナトリウムドデシルベンゼンスルホネート
３％を混合し、ジェットミルを用いて粉砕した。粉砕品
を流動層造粒乾燥機に仕込み、水を噴霧しながら造粒
し、乾燥したのち、３２〜１００メッシュ区分をふるい
分けて顆粒水和剤を得た。

【０１２７】

【参考例】

【０１２８】

【参考例１】４−フルオロフェニルグリオキシル酸エチルフルオロベンゼン（18.4g,0.19モル）と塩化アルミニウ
ム(42.6g,0.32 モル）のジクロロエタン(80ml)溶液に塩
化エチルオキザリル(21.8g,0.16 モル）のジクロロエタ
ン(8ml) 溶液を滴下した。その後更にジクロロエタン(1
0ml)を加えた。室温で３時間攪拌した後、反応液を氷に
あけ、酢酸エチルで抽出し、塩化アンモニウム水で洗浄
後、乾燥、濃縮して得た残渣を蒸留（１２０度／１０mm
Hg）して表題の化合物(28.7g,0.15 モル）を得た。収率
９１％。

【０１２９】200MHzNMR in CDCl₃ δ：1.40(3H,t,J=7.3Hz),4.43(2H,q,J=7.3Hz),7.18(2H,
t,J=8.7Hz),8.06(2H,dd,J=5.0,8.7Hz)。

【０１３０】

【参考例２】４−フルオロフェニルグリオキシル酸８５％水酸化カリウム（12g,0.18モル）の水溶液(120m
l) に参考例１で製造した４−フルオロフェニルグリオ
キシル酸エチル（23.6g,0.12モル）を加え、室温で２時
間攪拌した後、濃塩酸で中和し、反応液を濾過し、酢酸
エチルで水層を1N塩酸で酸性にして酢酸エチルで抽出し
て表題の化合物（13.1g,78ミリモル）を得た。収率６５
％。

【０１３１】融点９２度 200MHzNMR in DMSO-d₆ δ：7.39(2H,t,J=8.7Hz),7.97(2H,dd,J=5.5,8.7Hz) low MS m/z ：168(M⁺),123,95

【０１３２】

【参考例３】４−フルオロフェニルグリオキシル酸トランス２−フェ
ニルシクロヘキシル（ＩＩ−１）−工程Ａ参考例２で製造した４−フルオロフェニルグリオキシル
酸（13.1g,78ミリモル）の塩化メチレン(100ml) 溶液に
塩化オキザリル（40g,0.31モル）を加えて室温で３時間
攪拌した後、濃縮して得られた残渣をアセトニトリル(1
00ml) に溶かした。この溶液をトランス２−フェニルシ
クロヘキサノール（3.1g，17.6ミリモル）のアセトニト
リル(50ml)溶液に加えて、室温で３時間攪拌した。反応
液を氷にあけ、酢酸エチルで抽出し、１Ｎ塩酸、炭酸ナ
トリウム水、塩化アンモニウム水で洗浄した後、乾燥、
濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、表題の化合物（4.4g,13.5 ミリモル）を得
た。収率７７％。

【０１３３】融点９６度 200MHzNMR in CDCl₃ δ：1.30-2.31(8H,m),2.76(1H,dt,J=3.9,10.7Hz),5.41
(1H,dt,J=4.6,10.7Hz),6.90(2H,t,J=8.5Hz),7.16-7.40
(7H,m) low MS m/z ：326(M⁺),214,160 同様の操作で光学活性な２−フェニルシクロヘキサノー
ルを用いて(1'R,2'S)−４−フルオロフェニルグリオキ
シル酸トランス２−フェニルシクロヘキシル（収率４３
％ [α]²³ _D−9.33度（ｃ＝3.75,CHCl₃))と、(1'S,2'R)
−４−フルオロフェニルグリオキシル酸トランス２−フ
ェニルシクロヘキシル( 収率３７％［α]²³ _D＋11.99 度
（ｃ＝2.75,CHCl₃))を得た。

【０１３４】

【参考例４】２−（４−フルオロフェニル）−２−ハイドロキシ−３
−トリメチルシリルプロピオン酸トランス−２−フェニ
ルシクロヘキシル（ＩＶ−１）−工程Ｂ参考例３により製造した４−フルオロフェニルグリオキ
シル酸トランス２−フェニルシクロヘキシル（ＩＩ−
１）（320 mg,1.0ミリモル）のエーテル(2ml) 溶液に−
７０度で、１．０規定塩化トリメチルシリルメチルマグ
ネシウムのエーテル溶液(1.0ml,1.0ミリモル）を加え−
７０度で１時間攪拌した後、反応液を氷にあけ、酢酸エ
チルで抽出し、塩化アンモニウム水で洗浄した後、乾
燥、濃縮して表題の化合物(400mg,0.91 ミリモル）を得
た。収率９６％。

【０１３５】融点９２−９５度 200MHzNMR in CDCl₃（ジアステレオ混合物３対１） δ：-0.25(9 ×1/4H,s),-0.13(9 ×3/4H,s),1.00(1×1/
4H,d,J=14.4Hz),1.18(1 ×1/4H,d,J=14.4Hz),1.20-2.10
(10 ×3/4+8 ×1/4H,m),2.20-2.35(1H,m),2.69(1H,bt),
4.89(1×1/4H,dt,J=4.4,10.9Hz),4.96(1×3/4H,dt,J=4.
4,10.9Hz),6.68(2H,t,J=8.6Hz),6.95-7.30(7H,m) low MS m/z ：414(M⁺),211,195,121 同様の操作で、(1'R,2'S) −４−フルオロフェニルグリ
オキシル酸トランス２−フェニルシクロヘキシルから
(1'R,2'S) −２−（４−フルオロフェニル）−２−ハイ
ドロキシ−３−トリメチルシリルプロピオン酸トランス
−２−フェニルシクロヘキシル（収率９０％）、(1'S,
2'R) −４−フルオロフェニルグリオキシル酸トランス
２−フェニルシクロヘキシルから(1'S,2'R) −２−（４
−フルオロフェニル）−２−ハイドロキシ−３−トリメ
チルシリルプロピオン酸トランス−２−フェニルシクロ
ヘキシル（収率９２％）を得た。

【０１３６】

【参考例５】 (1'R,2'S,2R)−２−（４−フルオロフェニル）−２−ハ
イドロキシ−３−トリメチルシリルプロピオン酸２−フ
ェニルシクロヘキシル（ＩＶａ−１）−工程Ｃ参考例４により製造した(1'R,2'S) −２−（４−フルオ
ロフェニル）−２−ハイドロキシ−３−トリメチルシリ
ルプロピオン酸２−フェニルシクロヘキシル(590mg,1.4
ミリモル）をエタノール(6ml) に加熱溶解させ、濾過
後、濾液を放冷して＞９６％ジアステレオエクセスの表
題の化合物(529mg,1.27 ミリモル）を得た。同じ操作を
繰り返して、純粋な表題化合物(500mg,1.2ミリモル）を
得た。この化合物はエックス線で構造と立体を決定し
た。収率４６％。 [α]²⁶ _D−61.26 度（ｃ＝3.15,CHC
l₃) 融点１０１度 200MHzNMR in CDCl₃ δ：-0.13(9H,s),1.20-1.60(7H,m),1.70-1.95(3H,m),2.
20-2.35(1H,m),2.69(1H,dt,J=3.7,10.9Hz),3.67(1H,s),
4.96(1H,dt,J=4.4,10.9Hz),6.68(2H,t,J=8.6Hz),6.95-
7.14(7H,m) 同様の操作で、(1'S,2'R) −２−（４−フルオロフェニ
ル）−２−ハイドロキシ−３−トリメチルシリルプロピ
オン酸２−フェニルシクロヘキシルから(1'S,2'R,2S)−
２−（４−フルオロフェニル）−２−ハイドロキシ−３
−トリメチルシリルプロピオン酸２−フェニルシクロヘ
キシル（ＩＶｂ−１）を得た。収率３２％。 [α]²⁶ _D＋
64.39 度（ｃ＝2.05,CHCl₃) 。

【０１３７】

【参考例６】２−（４−フルオロフェニル）−３−トリメチルシリル
プロパン−１，２−ジオール（Ｖ）−工程Ｄ参考例５と同様にして製造した２−（４−フルオロフェ
ニル）−２−ハイドロキシ−３−トリメチルシリルプロ
ピオン酸２−フェニルシクロヘキシル（ＩＶ−１）(414
mg,1.0ミリモル）のテトラヒドロフラン(40ml)溶液に氷
冷下、水素化リチウムアルミニウム(75mg,2.0 ミリモ
ル）を加え、その温度で１時間、続いて室温で１時間攪
拌した後、反応液に酢酸エチル(10ml)、メタノール(10m
l)、水(1ml) を順次加え、更に塩化アンモニウムを過剰
量加えた。反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで洗浄
し、濾液を濃縮して得られた残渣をシリカゲル薄層クロ
マトグラフィーに付し、表題の化合物(170mg,0.7ミリモ
ル）を得た。収率７０％。

【０１３８】融点５０度 200MHzNMR in CDCl₃ δ：-0.17(9H,s),1.14(1H,d,J=14.7Hz),1.27(1H,d,J=1
4.7Hz),1.85(1H,bs),2.70(1H,bs),3.58(1H,d,J=11.0H
z),3.73(1H,d,J=11.0Hz),7.03(2H,t,J=8.9Hz),7.39(2H,
dd,J=5.5,8.9Hz) low MS m/z ： 224(M⁺-18),211,195,121 同様の操作で、（ＩＶａ−１）から(2R)−２−（４−フ
ルオロフェニル）−３−トリメチルシリルプロパン−
１，２−ジオール（Ｖａ）（収率４１％、 [α]² ⁷ _D＋4.
69度（ｃ＝4.05,CHCl₃))、（ＩＶｂ−１）から(2S)−２
−（４−フルオロフェニル）−３−トリメチルシリルプ
ロパン−１，２−ジオール（Ｖｂ）（収率５０％、
[α]²⁷ _D−3.22度（ｃ＝3.10,CHCl₃))を得た。

【０１３９】

【参考例７】２−（４−フルオロフェニル）−１−メタンスルホニル
オキシ−３−トリメチルシリルプロパン−２−オール
（ＶＩ−１）−工程Ｅ参考例６により製造した２−（４−フルオロフェニル）
−３−トリメチルシリルプロパン−１，２−ジオール
（Ｖ）(280mg,1.16 ミリモル）のピリジン(5ml)溶液に
氷冷下、塩化メタンスルホニル(200mg,1.75 ミリモル）
を加え、０度で２時間攪拌した。反応液を氷にあけ、酢
酸エチルで抽出し、塩化アンモニウム水で洗浄し、乾
燥、濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、表題の化合物(250mg,0.78 ミリモル）を
得た。収率６７％。

【０１４０】融点１０１度 200MHzNMR in CDCl₃ δ：-0.17(9H,s),1.24(1H,d,J=14.8Hz),1.38(1H,d,J=1
4.8Hz),2.47(1H,s),2.91(3H,s),4.27(2H,s),7.05(2H,t,
J=8.8Hz),7.41(2H,dd,J=5.2,8.8Hz) low MS m/z ： 320(M⁺),211,195,121 同様の操作で、（Ｖａ）から(2R)−２−（４−フルオロ
フェニル）−１−メタンスルホニルオキシ−３−トリメ
チルシリルプロパン−２−オール（ＶＩａ−１）（収率
３６％、 [α]²⁷ _D−7.88度（ｃ＝2.89,CHCl₃))、（Ｖ
ｂ）から(2S)−２−（４−フルオロフェニル）−１−メ
タンスルホニルオキシ−３−トリメチルシリルプロパン
−２−オール（ＶＩｂ−１）（収率７４％、 [α]²⁶ _D＋
8.49度（ｃ＝2.53,CHCl₃))、（Ｖ−２）から２−（４−
フルオロフェニル）−１−メタンスルホニルオキシ−３
−トリメチルシリルプロパン−２−オール（ＶＩ−２）
（収率８４％、 [α]²⁷ _D−3.90度（ｃ＝3.00,CHCl₃))を
得た。

【０１４１】

【参考例８】２−（４−フルオロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２，
４−トリアゾール−１−イル）−３−トリメチルシリル
−２−プロパノール（Ｉ）−工程Ｆ参考例７により製造した２−（４−フルオロフェニル）
−１−メタンスルホニルオキシ−３−トリメチルシリル
プロパン−２−オール（ＶＩ−１）(1.0g,3.12ミリモ
ル）のジメチルホルムアミド(30ml)溶液に１，２，４−
トリアゾール(860mg,12.5 ミリモル）のジメチルホルム
アミド(10ml)溶液に水素化ナトリウム６０％オイル懸濁
液(500mg,12.5 ミリモル）を加えてつくったものを加え
８０度で５時間攪拌した。反応液を氷にあけ、酢酸エチ
ルで抽出し、塩化アンモニウム水で洗浄し、乾燥、濃縮
して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、表題の化合物(300mg,1.02 ミリモル）を得た。収
率３３％。

【０１４２】融点１１８−１１９℃ ２００ＭＨｚＮＭＲｉｎＣＤＣｌ_３ δ：−０．１８（９Ｈ，ｓ），１．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１４．５Ｈｚ），１．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．５
Ｈｚ），４．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ），
４．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ），６．９３−
７．０１（２Ｈ，ｍ），７．２６−７．３１（２Ｈ，
ｍ），７．９１（１Ｈ，ｓ），７．９７（１Ｈ，ｓ） low MS m/z ： 293(M⁺),278,211 同様の操作で、（ＶＩａ−１）から(2R)−２−（４−フ
ルオロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾ
ール−１−イル）−３−トリメチルシリル−２−プロパ
ノール（Ｉａ）（収率１１％、 [α]²⁷ _D−70.47 度（ｃ
＝3.75,CHCl₃))、（ＶＩｂ−１）から(2S)−２−（４−
フルオロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリア
ゾール−１−イル）−３−トリメチルシリル−２−プロ
パノール（Ｉｂ）（収率６％、 [α]²⁷ _D＋70.12 度（ｃ
＝3.62,CHCl₃))、（ＶＩ−２）から２−（４−フルオロ
フェニル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−
１−イル）−３−トリメチルシリル−２−プロパノール
（Ｉ−２）（収率３４％、[α]²⁷ _D−38.41 度（ｃ＝3.0
9,CHCl₃))を得た。

【０１４３】

【参考例９】４−フルオロフェニルグリオキシル酸８’−フェニル
メンチル（ＩＩ−２）−工程Ａ参考例２で製造した４−フルオロフェニルグリオキシル
酸（１４．３ｇ、８５．１ミリモル）の塩化メチレン
（２００ｍｌ）溶液にオキザリルクロライド（５４ｇ、
４２５．５ミリモル）を加え、室温で１時間攪拌した
後、溶媒を留去した。これを塩化メチレン（５０ｍｌ）
に溶かして８−フェニルメンソール（７．０ｇ、３０．
１２ミリモル）のピリジン（７０ｍｌ）溶液に氷冷下加
えて室温で３時間攪拌した。反応液を氷にあけ、酢酸エ
チルで抽出し、塩化アンモニウム水で洗浄して得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、さ
らにイソプロピルエーテルから再結して、表題の化合物
（９．４１ｇ、２４．６ミリモル）を得た。収率８２％融点１２１〜１２２℃ 200MHzNMR in CDCl₃ δ：0.85-1.72(7H,m),0.93(3H,d,J=8.6Hz),1.30(3H,s),
1.37(3H,s),2.08(1H,dt,J=4.8,12.0Hz),5.01(1H,dt,J=
4.8,12.0Hz),6.84-7.28(7H,m),8.01(2H,dd,J=5.7,10.0H
z) low MS m/z ： 382(M⁺),330,193,165

【０１４４】

【参考例１０】２−（４−フルオロフェニル）−２−ハイドロキシ−３
−トリメチルシリルプロピオン酸８’−フェニルメン
チル（ＩＶ−２）−工程Ｂ参考例９により製造した４−フルオロフェニルグリオキ
シル酸８’−フェニルメンチル（ＩＩ−２）（８．６
６ｇ、２２．６ミリモル）のエーテル（５０ｍｌ）溶液
に−７０℃で１．０規定塩化トリメチルシリルメチルマ
グネシウムのエーテル溶液（４０ｍｌ、４０ミリモル）
を加え３時間攪拌した。反応液を氷にあけ、酢酸エチル
で抽出し、塩化アンモニウム水で洗浄して得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、表題の
化合物（７．５３ｇ、１５．８ミリモル）を得た。収率
７０％ 200MHzNMR in CDCl₃ δ：-0.10(9H,s),0.70-2.15(7H,m),0.82(3H,d,J=7.1H
z),0.97(3H,s),1.06(3H,s),4.79(1H,dt,J=4.7,11.8Hz),
6.95(2H,t,J=8.5Hz),7.20-7.54(7H,m)

【０１４５】

【参考例１１】２−（４−フルオロフェニル）−３−トリメチルシリル
プロパン−１，２−ジオール（Ｖ−２）−工程Ｄ参考例１０により製造した２−（４−フルオロフェニ
ル）−２−ハイドロキシ−３−トリメチルシリルプロピ
オン酸８’−フェニルメンチル（ＩＶ−２）（６．６
ｇ、１４．０ミリモル）のテトラヒドロフラン（５０ｍ
ｌ）溶液に水素化リチウムアルミニウム（５３０ｍｇ、
１４．０ミリモル）を０℃で加えて１時間攪拌し、さら
に室温で１時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（５０ｍ
ｌ）、エタノール（５０ｍｌ）、水（５ｍｌ）を加え、
塩化アンモニウムで中和してからセライト濾過して得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
て表題の化合物（９００ｍｇ、３．７ミリモル）を得
た。収率２７％

【０１４６】

【試験例】

農業用殺菌剤としての効果供試化合物の原体をジメチルスルフオキシドとTween-20
とを加えて乳化させ、殺菌水を加えて試験設定濃度１０
０ppm の１０倍の乳化液を作った。供試希釈液１mlを殺
菌シャーレに入れ、加熱溶解したDifco PDA 培地９mlと
よく混合した後平板状に固化し、供試化合物１００ppm
のPDA 培地を作った。

【０１４７】その後、糸状菌の場合は各菌の菌そうディ
スク（直径４mm) を平板中央に移植して２５℃で培養し
た後、生育した菌そう直径を測定した。また細菌の場合
は平板中央に線状に塗抹し、２５℃で培養した後−〜++
+ の間で生育調査した。

【０１４８】供試菌としてはピリキュラリアオリザエ(P
yricularia oryzae)（以下菌Ａという）、リゾクトニア
ソラニ(Rhizoctonia solani)（以下菌Ｂという）を用い
本発明品を含むジャガイモ寒天PDA 培地を用いた寒天希
釈法での菌糸伸長速度をもって検定した。本発明品の設
定１０倍濃度の水溶液１ccとPDA 培地の９ccをシャーレ
の中でまぜ合わせ固化させた後、あらかじめ前培養して
おいた供試菌株の菌そうをコルクボーラーで打ち抜き寒
天上に接種した後２４時間後、４８時間後に調査し、そ
の伸長速度を算出し、無処理の菌糸伸長速度と比較して
５０％阻害濃度（I₅₀(ppm)）を算出した。結果を表１に
示す。

【０１４９】

【表１】以上に示したように、（Ｉａ）はその光学異性体（Ｉ
ｂ）に比べて著しく強い殺菌効果を有しており、ラセミ
（Ｉ）と比較しても十分に強い殺菌活性を有している。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】式（Ｉａ）【化１】で表わされる光学活性な化合物又はその塩。
【請求項２】請求項１に記載した化合物又はその塩を有
効成分として含有することを特徴とする農園芸用殺菌
剤。
【請求項３】請求項１に記載した化合物又はその塩を有
効成分として含有し、他の異性体を含有しない農園芸用
殺菌剤。