JPH0714147A - 磁気記録媒体および磁気記録媒体の記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 偽造、変造が極めて困難であるとともに、仮
に偽造、変造を受けた場合でも、外観上容易に識別でき
る磁気記録媒体、およびこの磁気記録媒体の記録方法を
提供する。 【構成】 基体上に、少なくとも低キュリー点、高保磁
力の磁性材料を含む磁気記録層を設け、上記基体を構成
する材料の耐熱度、融点およびガラス転移点のうち少な
くとも最も低いものが、上記キュリー点よりも低いよう
に設定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、低キュリー点、高保磁
力の磁性材料を含む磁性層を備え、偽造、変造の困難は
磁気記録媒体およびこの磁気記録媒体の記録方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】基体の片面あるいは両面の全域またはス
トライプ状に磁気記録層が形成された磁気記録媒体は、
例えば、プリペイドカード、定期券、乗車券、入場券、
車券、馬券、商品券、株券、証書、通帳、磁気タグ等の
金券、証券類や、ＩＤカード、キャッシュカード、クレ
ジットカード、会員カード等のカード類、磁気テープ、
磁気転写テープ、磁気ラベル等して幅広く使用されてい
る。従来、このような磁気記録媒体は、磁気記録層に高
い記録密度で情報を書込み、外部から簡単には記録情報
を読み出せないようにしたものである。

【０００３】しかしながら、磁気記録層の特性上、記録
された情報の書換え、消去が自在であるため、偽造、変
造が可能であり、近年、大きな社会問題としてクローズ
アップされている。特に、現在は磁気ストライプの入手
が容易であるため、類似のカードを製造することも可能
であり、さらに、現在の仕様のように、磁気記録媒体の
表面に磁気記録層が露出している場合、磁気転写技術に
より磁気記録情報を他の磁気記録層に移すことが容易に
できてしまうという問題もある。

【０００４】このような問題を解決するために、磁気ス
トライプに用いる磁性材料を保磁力の高いものとした磁
気記録媒体が開発されている。この磁気記録媒体は、磁
気ストライプを加熱して磁性材料の保磁力を低下させる
ことにより、入手容易な通常の磁気ヘッドによる記録、
再生が可能となり、常温状態では通常の磁気ヘッドによ
る記録、再生が困難であり、偽造、変造ができないもの
である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような磁気記録媒体は、従来の磁気記録媒体と比較し
て、記録、再生時に加熱を必要とすることが異なるのみ
であり、この事実が一旦判明してしまえば、何らかの加
熱手段を用いて偽造、変造を行うことは容易であるとい
う問題があった。

【０００６】上記のように、磁気記録層に記録された情
報の偽造、変造を防止するための手段が種々開発されて
いるが、簡単かつ効果的な偽造、変造防止手段は未だ確
立されていない。

【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、偽造、変造が極めて困難であるととも
に、仮に偽造、変造を受けた場合でも、外観上容易に識
別できる磁気記録媒体、およびこの磁気記録媒体の記録
方法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の磁気記録媒体は基体と、該基体上に
設けられた磁気記録層とを備え、前記磁気記録層は少な
くとも低キュリー点、高保磁力の磁性材料を含み、前記
基体を構成する材料の耐熱度、融点およびガラス転移点
のうち少なくとも最も低いものが前記磁気記録層のキュ
リー点よりも低いような構成とした。

【０００９】また、本発明の磁気記録媒体の記録方法
は、上記の磁気記録媒体の磁気記録層を、磁気記録媒体
の搬送方向と直角の方向において磁気記録層の両端より
も中央の温度が高くなるように温度分布をもたせて加熱
しながら磁気記録を行うような構成とした。

【００１０】

【作用】基体上に設けられた磁気記録層は、低キュリー
点および高保磁力の磁性材料を含むため、磁気記録層を
加熱することにより磁気記録層を構成する高保磁力の磁
性材料の飽和書込み電流値が低下し、通常の磁気記録装
置による記録、再生が可能となるが、基体を構成する材
料の耐熱度、融点およびガラス転移点のうち少なくとも
最も低いものが磁気記録層のキュリー点よりも低いた
め、偽造を目的として磁気記録媒体全体を加熱した場
合、基体に変形が生じて使用が不可能となり偽造が有効
に防止される。そして、カード発行等の正規の記録は、
磁気記録媒体の搬送方向と直角の方向において磁気記録
層の両端よりも中央の温度が高くなるように温度分布を
もたせて磁気記録層を加熱することにより、基体の熱変
形を生じさせることなく行うことができる。

【００１１】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。

【００１２】図１は本発明の磁気記録媒体の一例を示す
概略断面図である。図１において、本発明の磁気記録媒
体１は、基体２と、この基体２上に設けられた磁気記録
層３を備えている。本発明の磁気記録媒体では、上記の
磁気記録層３は、低キュリー点および高保磁力の磁性材
料を含んでおり、基体２は、耐熱度、融点およびガラス
転移点のうち少なくとも最も低いものが磁気記録層のキ
ュリー点よりも低いような材料で構成されていることを
特徴とする。すなわち、偽造等を目的として磁気記録媒
体１を加熱した際に、基体に変形が生じて使用不能とな
ることにより偽造を未然に防止するものである。この目
的のために、基体２の材料は、耐熱度、融点およびガラ
ス転移点のうち少なくとも１つがキュリー点以下、好ま
しくは４０℃乃至キュリー点の範囲にあるようにする。
これにより、磁気記録媒体１が加熱されると基体２は確
実に変形を生じることになる。

【００１３】基体２の材料としては、下記のような材料
を挙げることができる。 ・ポリエチレンフィルム：耐熱度８０〜１２０℃ 融点１１０〜１４０℃ ・エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム：耐熱度６０
℃ ・ポリプロピレンフィルム：融点１７６℃ ・ポリスチレンフィルム：ガラス転移点８０〜１００℃ ・ポリ２−クロルスチレンフィルム：ガラス転移点１１
９℃ ・ポリtert−ブチルスチレンフィルム：ガラス転移点１
３０℃ ・セロファンフィルム：耐熱度１５０℃ ・ポリ塩化ビニルフィルム：耐熱度８０℃ ガラス転移点７０〜８７℃ ・ポリふっ化ビニルフィルム：ガラス転移点５０℃ ・ポリビニルアルコールフィルム：ガラス転移点８５℃ ・ポリエステルフィルム：耐熱度１５０℃ ・ポリカーボネートフィルム：耐熱度１３０℃ 融点２２０℃ ガラス転移点１４０℃ ・ポリ４フッ化エチレンフィルム：耐熱度２６０℃ 融点３２５℃ ガラス転移点１２６℃ ・ポリ３フッ化エチレンフィルム：ガラス転移点４５℃ 融点２０５〜２１０℃ ・ポリエチルメタクリレートフィルム：ガラス転移点６
６℃ ・ポリメチルメタクリレート：ガラス転移点１０５℃ ・ポリアクリロニトリルフィルム：ガラス転移点１０５
℃ ・ポリアミドフィルム（ナイロン６）：ガラス転移点５
０℃ 融点２１５℃ ・ポリアミドフィルム（ナイロン６・６）：ガラス転移
点５７℃ ・ポリイミドフィルム：耐熱度４００℃ ・ポリアセタールフィルム：融点１７５〜１８０℃ ガラス転移点４０℃ ・セラミック基材：融点３５０〜１０００℃ ・アルミニウム箔：融点６６０℃ ・銅箔：融点１００℃ 上記のような材料は、単独あるいは組み合わせた複合体
として使用することができ、下記の磁性材料に応じて適
宜選定することができる。尚、本発明において、耐熱度
はＡＳＴＭ−Ｄ７５９−６６による値を意味する。

【００１４】このような基体２の厚さは、０．００５mm
〜５mm程度とすることができる。

【００１５】磁気記録層３を構成する磁性材料は、上記
のように低キュリー点Ｔｃと高保磁力を有するものであ
る。このような高保磁力、低キュリー点Ｔｃを持つ磁性
材料としては、例えばＣｒＯ₂ （Ｔｃ１２４℃）、Ｃｒ
Ｔｅ（Ｔｃ６０℃）、Ｆｅ₃Ｃ（Ｔｃ２０２℃）、Ｍｎ₂
Ｓｂ（Ｔｃ２７７℃）、Ｎｉ（Ｔｃ３５８℃）、Ｆｅ
（Ｔｃ７７０℃）、Ｆｅ₃ Ｏ₄ （Ｔｃ５８７℃）、Ｆｅ
₃ Ａｌ（Ｔｃ４２３℃）、その他、γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｃ
ｏ被着γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ
−Ｎｉ、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト、ＡＯ・ｎ
｛（Ｆｅ_1-x-y Ｃｒ_x Ｚｎ_y ）₂ Ｏ₃ ｝、ＡＯ・ｎ
｛（Ｆｅ_1-x Ｃｒ_x ）₂ Ｏ₃ ｝、ＡＯ・ｎ｛（Ｆｅ_1-x
Ａｌ_x ）₂ Ｏ₃ ｝、ＡＯ・ｎ｛（Ｆｅ_1-x Ｇａ_x ）₂ Ｏ
₃ ｝、ＡＯ・ｎ｛（Ｆｅ_1-x-y-z Ｇａ_x Ｃｒ_y Ａｌ_z ）
₂ Ｏ₃ ｝、ＡＯ・ｎ｛（Ｆｅ_1-x-y Ｃｒ_x Ｇａ_y ）₂ Ｏ
₃ ｝（上記においてＡはＳｒまたはＢａのうちの１種ま
たは２種、ｎ＝５〜６）で表されるようなＳｒフェライ
ト、Ｂａフェライト類、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ−Ｍｎ、Ｎｄ−
Ｆｅ−Ｂ−Ｍｎ−Ａｌ、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ−Ｍｎ−Ｃｒ、
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ等のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ
系合金類等が挙げられ、そのキュリー点Ｔｃは５０〜８
００℃程度である。そして、上記の磁性微粒子を適当な
樹脂あるいはインキビヒクル中に分散してなる分散物
を、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の
塗布方法に従って塗布することにより磁気記録層を形成
することができる。

【００１６】上記の磁性微粒子が分散される樹脂あるい
はインキビヒクルとしては、ブチラール樹脂、塩化ビニ
ル／酢酸ビニル共重合体樹脂、ウレタン樹脂、ポリエス
テル樹脂、セルロース樹脂、アクリル樹脂、スチレン／
マレイン酸共重合体樹脂等が用いられ、必要に応じてニ
トリルゴム等のゴム系樹脂あるいはウレタンエラストマ
ー等が添加される。また、耐熱性を考慮して、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリエーテルサルホン等のガラス転移
温度（Ｔｇ）の高い樹脂、あるいは硬化反応によりＴｇ
が上昇する系を用いることができる。上記のような樹脂
あるいはインキビヒクル中に磁性微粒子が分散されてな
る分散物中に、必要に応じて界面活性剤、シランカップ
リング剤、可塑剤、ワックス、シリコーンオイル、ガー
ボン等の顔料を添加してもよい。

【００１７】上記のような磁性材料、樹脂あるいはイン
キビヒクルを用いて形成される磁気記録層３の厚さは、
塗布方法により形成される場合には１〜１００μｍ、好
ましくは５〜２０μｍ程度である。また、真空蒸着法、
スパッタ法、メッキ法等により形成される場合には１０
０Å〜１μｍ、好ましくは５００〜２０００Å程度であ
る。

【００１８】上記の本発明の磁気記録媒体１は、磁気記
録層３のキュリー点Ｔｃよりも低い温度、例えば（Ｔｃ
−３０℃）〜Ｔｃの範囲、あるいは１／２Ｔｃ〜Ｔｃの
範囲内における加熱温度で、後述する本発明の記録方法
にしたがって磁気記録層３を加熱することにより、磁気
記録層３の保磁力が下がって飽和書込み電流値が低下
し、通常の磁気ヘッド（低保磁力磁性材料を用いた磁気
記録層の記録、再生用の磁気ヘッド）による記録が可能
となる。そして、上記のように基体２を構成する材料の
耐熱度、融点およびガラス転移点のうち少なくとも最も
低いものが、磁気記録層３のキュリー点よりも低いた
め、偽造を目的として磁気記録媒体全体を加熱した場
合、基体２に変形が生じて、偽造が容易に判別される。
さらに、本発明の磁気記録媒体１では、基体２を構成す
る材料の耐熱度、融点およびガラス転移点のうち少なく
とも最も低いものが、上記の加熱温度よりも低くなるよ
うに設定することができる。これにより、偽造を目的と
した磁気記録媒体全体の加熱により、基体２がより容易
に変形することになる。

【００１９】尚、上記の本発明の磁気記録媒体では、磁
気記録層が基体の一方の面の全面に形成されているが、
図２に示されるように、基体２の一部にストライプ状に
磁気記録層３を形成したものであってもよい。

【００２０】図３は本発明の磁気記録媒体の他の例を示
す概略断面図である。図３において、本発明の磁気記録
媒体１１は、基体１２と、この基体１２上に設けられた
磁気記録層１３、回折格子および／またはホログラム層
１４とを備えている。上記の磁気記録層１３は、基体１
２側に位置する第１磁気記録層１３ａと、この第１磁気
記録層１３ａ上に設けられた第２磁気記録層１３ｂとの
２層構成を有している。そして、第１磁気記録層１３ａ
および第２磁気記録層１３ｂに含まれる磁性材料は、互
いに異なるキュリー点および保磁力を有している。

【００２１】基体１２は、上述の例で示したような基体
を用いることができる。この場合、耐熱度、融点、ガラ
ス転移点のうち少なくとも最も低いものが、下記のよう
に第１磁気記録層１３ａおよび第２磁気記録層１３ｂの
うち高い保磁力と低いキュリー点Ｔｃを有する方の磁気
記録層のキュリー点Ｔｃよりも低いような基体を選択す
る必要がある。

【００２２】磁気記録層１３を構成する第１磁気記録層
１３ａが含有する磁性材料、および第２磁気記録層１３
ｂが含有する磁性材料は、一方が他方よりも高い保磁力
と低いキュリー点Ｔｃを有するものである。したがっ
て、第１磁気記録層１３ａが高保磁力、低キュリー点を
有する磁気記録層であり、第２磁気記録層１３ｂが低保
磁力、高キュリー点を有する磁気記録層とすることがで
き、また、その逆の構成としてもよい。

【００２３】このような構成の磁気記録層１３は、低い
キュリー点Ｔｃを有する磁気記録層のキュリー点Ｔｃよ
りも低い温度で加熱することにより、第１磁気記録層１
３ａと第２磁気記録層１３ｂの飽和書込み電流値を略同
一にできることを特徴とする。

【００２４】例えば、第１磁気記録層１３ａが高保磁
力、低キュリー点Ｔｃを有する磁気記録層であり、第２
磁気記録層１３ｂが低保磁力、高キュリー点を有する磁
気記録層である場合、キュリー点Ｔｃよりも低い温度で
加熱して高保磁力磁気記録層である第１磁気記録層１３
ａの保磁力を下げ、飽和書込み電流値を第２磁気記録層
１３ｂの飽和書込み電流値と略同一とすることができ
る。この際、加熱温度が低すぎると、高保磁力磁気記録
層である第１磁気記録層１３ａの飽和書込み電流値が第
２磁気記録層１３ｂの飽和書込み電流値と同一のレベル
にならないため、加熱条件の下限を１／２Ｔｃ乃至（Ｔ
ｃ−３０℃）の温度範囲に設定することが好ましい。ま
た、両磁気記録層１３ａ，１３ｂのキュリー点が近いと
低保磁力磁気記録層である第２磁気記録層１３ｂの保磁
力も低下を来すことになる。このため、両磁気記録層１
３ａ，１３ｂのキュリー点の差を１００℃以上に設定し
て、低保磁力磁気記録層の保磁力低下を防止することが
好ましい。さらに、第１磁気記録層１３ａと第２磁気記
録層１３ｂへの磁気記録が互いに影響を受けないように
するため、両磁気記録層１３ａ，１３ｂの保磁力の差を
２倍以上に設定することが好ましい。

【００２５】高保磁力、低キュリー点Ｔｃを持つ磁気記
録層を構成する磁性材料としては、上述の例で示した磁
性材料が挙げられる。

【００２６】また、低保磁力、高キュリー点を持つ磁気
記録層を構成する磁性材料としては、例えばγ−Ｆｅ₂
Ｏ₃ 、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、Ｆｅ、Ｆ
ｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｂａ
フェライト、Ｓｒフェライト、ＣｒＯ₂ 等の磁性微粒子
が挙げられる。そして、上記の磁性微粒子が適当な樹脂
あるいはインキビヒクル中に分散されてなる分散物を、
グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布
方法に従って塗布することにより磁気記録層を形成する
ことができる。また、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、
Ｃｏ−Ｃｒ等の金属または合金、あるいはその酸化物を
用いて、真空蒸着法、スパッタ法、メッキ法等により形
成することもできる。

【００２７】尚、上記の磁性材料の平均粒子径を０．１
μｍ以下とすることにより、磁気記録層の赤外線、紫外
線の透過性が向上し、後述する磁気記録層の加熱手段が
赤外線あるいは紫外線である場合、照射された赤外線、
紫外線が加熱の不要な磁気記録層を透過して所定の磁気
記録層を加熱することが可能となる。

【００２８】このように、本発明の磁気記録媒体１１の
磁気記録層１３は、その第１磁気記録層１３ａおよび第
２磁気記録層１３ｂが上述のような特性を備えているた
め、低キュリー点Ｔｃよりも低い加熱温度、例えば（Ｔ
ｃ−３０℃）〜Ｔｃの範囲、あるいは１／２Ｔｃ〜Ｔｃ
の範囲内における加熱温度で、後述する本発明の記録方
法にしたがって、磁気記録層１３を加熱して両磁気記録
層の飽和書込み電流値を略同一とすることにより第１磁
気記録層１３ａ、第２磁気記録層１３ｂ同時の書込みが
可能となる。

【００２９】しかし、上記のように基体１２を構成する
材料の耐熱度、融点およびガラス転移点のうち少なくと
も最も低いものが、磁気記録層１３の低いキュリー点Ｔ
ｃを有する磁気記録層のキュリー点Ｔｃよりも低いた
め、偽造を目的として磁気記録媒体全体を加熱した場
合、基体１２に変形が生じて偽造が容易に判別される。

【００３０】また、例えば、第１磁気記録層１３ａが高
保磁力、低キュリー点Ｔｃを有する磁気記録層であり、
第２磁気記録層１３ｂが低保磁力、高キュリー点を有す
る磁気記録層である場合、キュリー点Ｔｃよりも低い温
度で加熱したときに、高保磁力磁気記録層である第１磁
気記録層１３ａの保磁力が低下して、第２磁気記録層１
３ｂの保磁力と同等となる点（クロスポイント）が存在
する。本発明では、基体１２を構成する材料の耐熱度、
融点およびガラス転移点のうち少なくとも最も低いもの
が、このクロスポイントよりも低いように、あるいは、
上記の加熱温度よりも低いように設定することができ
る。これにより、偽造を目的とした磁気記録媒体全体の
加熱により、基体１２がより容易に変形することにな
る。

【００３１】一方、上記のような加熱を行うことなく通
常の磁気記録装置により第１磁気記録層１３ａおよび第
２磁気記録層１３ｂの磁気情報を同時に書換えることは
困難である。すなわち、例えば第１磁気記録層１３ａが
高保磁力磁気記録層であり、第２磁気記録層１３ｂが低
保磁力磁気記録層であるとした場合、通常の磁気記録装
置により第２磁気記録層１３ｂの書換えが可能であって
も、この第２磁気記録層１３ｂの不正に書換えられた情
報と、第１磁気記録層１３ａに記録されている情報とが
混在することになり、情報の読み出しが不可能となっ
て、偽造が容易に判別される。

【００３２】また、通常の磁気記録装置による第１磁気
記録層１３ａの書換えが可能である場合、一般に高保磁
力磁気記録層の飽和書込み電流値が大きいため、低保磁
力磁気記録層である第２磁気記録層１３ｂには、その出
力飽和値以上の書込み電流が与えられることになる。し
たがって、第２磁気記録層１３ｂの出力低下が生じて書
込み不十分となり、両磁気記録層同時の書換えは不可能
となり、偽造が有効に防止される。

【００３３】また、飽和書込み電流値は、磁気記録層の
保磁力、厚さ、磁材充填率、磁気記録層と磁気ヘッドと
の距離等により変動するため、同一の飽和書込み電流値
を有するホログラム・磁気ストライプを偽造すること自
体が困難であり、さらに、上記の加熱条件と飽和書込み
電流値を見出だすことが極めて困難である。例えば、加
熱温度が５℃ずれることにより、飽和書込み電流値に１
０％以上の変動が生じる。

【００３４】図３に示される例では、磁気記録層１３は
第１磁気記録層１３ａおよび第２磁気記録層１３ｂの２
層構成であるが、３層以上の積層構造であってもよい。
また、磁気記録層１３は、保磁力およびキュリー点の異
なる３種以上の磁性材料により構成されていてもよい。
３層構造の磁気記録層としては、例えば（高保磁力・低
キュリー点）／（低保磁力・高キュリー点）／（高保磁
力・低キュリー点）とすることにより、高保磁力層と低
保磁力層の書込み波形をより同一のものとすることがで
きる。また、保磁力を３段階として中間保磁力層に更に
別の磁気データを書込んだり、キュリー点を３段階とし
て加熱温度を２段階に設定したりすることにより、記録
・再生をより高度なものとし、偽造、変造をより困難な
ものとするこができる。

【００３５】さらに、磁気記録層が積層構造ではなく、
図１あるいは図２に示されるような単一の磁気記録層で
あって、かつ保磁力およびキュリー点の異なる２種以上
の磁性材料を混合して含有するものでもよい。この場合
も、多層構造の場合と同じ効果が得られ、さらに、構成
層が少ないため、磁気記録層の最下部と磁気ヘッドとの
距離を小さくできるという利点がある。

【００３６】また、本発明の磁気記録媒体に用いられる
回折格子および／またはホログラム層１４は、一般に樹
脂から構成され、単一構造あるいは多層構造のいずれで
もよい。多層構造の場合は、例えば基材フィルム上に回
折格子やホログラムを形成するための樹脂を設けたも
の、あるいは、回折格子やホログラムを形成するための
樹脂自体が積層構造となっていてもよい。さらに、全域
が回折格子層であってもホログラム層であってもよく、
また回折格子層とホログラム層とが混在していてもよ
い。

【００３７】ホログラム層は、平面ホログラム、体積ホ
ログラムのいずれでもよく、平面ホログラムの場合、レ
リーフホログラムが量産性、耐久性およびコストとの面
から好ましく、体積ホログラムの場合、リップマンホロ
グラムが画像再現性および量産性の面から好ましい。

【００３８】その他、フルネルホログラム、フラウンホ
ーファホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラ
ム、イメージホログラム等のレーザー再生ホログラム、
およびレインボーホログラム等の白色光再生ホログラ
ム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラ
ム、コンピュータホログラム、ホログラムディスプレ
イ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィックス
テレオグラム、ホログラフィック回折格子等を用いるこ
とができる。

【００３９】回折格子層は、ホログラム記録手段を利用
した前記ホログラフィック回折格子により構成すること
もできるが、電子線描画装置等を用いて機械的に回折格
子を作成することにより、計算に基づいて任意の回折光
が得られる回折格子を作成することができる。干渉縞を
記録するための回折格子形成用感光材料あるいはホログ
ラム形成用感光材料としては、銀塩、重クロム酸ゼラチ
ン、サーモプラスチック、ジアゾ系感光材料、フォトレ
ジスト、強誘電体、フォトクロミックス材料、サーモク
ロミックス材料、カルコゲンガラス等が使用できる。

【００４０】本発明においては、回折格子層やホログラ
ム層の形成材料として、ポリ塩化ビニル、メチルメタア
クリレートのようなアクリル、ポリスチレン、ポリカー
ボネート等の熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、メラ
ミン、エポキシ、ポリエステル（メタ）アクリレート、
ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アク
リレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオ
ール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレ
ート、トリアジン系アクリレート等の熱硬化性樹脂を硬
化させたもの、あるいは上記の熱可塑性樹脂と熱硬化性
樹脂との混合物を使用することができる。

【００４１】さらに、回折格子層やホログラム層の形成
材料として、ラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性
物質が使用可能であり、これには下記の２種のものがあ
る。 （１）ガラス転移点が０〜２５０℃のポリマー中にラジ
カル重合性不飽和基を有するもの。より具体的には、下
記の〜に示される化合物を重合もしくは共重合させ
たポリマーに対して、後述する方法（イ）〜（ニ）によ
りラジカル重合性不飽和基を導入したものを挙げること
ができる。

【００４２】 水酸基を有する単量体：Ｎ−メチロー
ルアクリルアミド、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２
−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−ヒドロキシ−
３−フェノキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキ
シ−３−フェノキシプロピルアクリレート等。

【００４３】 カルボキシル基を有する単量体：アク
リル酸、メタクリル酸、アクリロイルオキシエチルモノ
サクシネート等。

【００４４】 エポキシ基を有する単量体：グリシジ
ルメタクリレート等。

【００４５】 アジリジニル基を有する単量体：２−
アジリジニルエチルメタクリレート、２−アジリジニル
プロピオン酸アリル等。

【００４６】 アミド基を有する単量体：アクリルア
ミド、メタクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミ
ド、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルア
ミノエチルメタクリレート等。

【００４７】 スルフォン基を有する単量体：２−ア
クリルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸等。

【００４８】 イソシアネート基を有する単量体：
２，４−トルエンジイソシアネートと２−ヒドロキシエ
チルアクリレートの１モル対１モル付加物等のジイソシ
アネートと、活性水素を有するラジカル重合単量体の付
加物等。

【００４９】 上記の共重合体のガラス転移点を調節
したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の
化合物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量
体と共重合させることもできる。共重合可能な単量体と
しては、メチルメタクリレート、メチルアクリレート、
エチルメタクリレート、エチルアクリレート、プロピル
メタクリレート、プロピルアクリレート、ブチルメタク
リレート、ブチルアクリレート、イソブチルメタクリレ
ート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレ
ート、ｔ−ブチルアクリレート、イソアミルメタクリレ
ート、イソアミルアクリレート、シクロヘキシルメタク
リレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルヘ
キシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレー
ト等が挙げられる。

【００５０】次に、上述のようにして得られた重合体を
以下に述べる方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジ
カル重合性不飽和基を導入することにより、回折格子形
成樹脂あるいはホログラム形成樹脂を得ることができ
る。

【００５１】（イ） 水酸基を有する単量体の重合体ま
たは共重合体の場合には、アクリル酸、メタクリル酸等
のカルボキシル基を有する単量体等を縮合反応させる。

【００５２】（ロ） カルボキシル基、スルフォン基を
有する単量体の重合体または共重合体の場合には、上記
の水酸基を有する単量体を縮合反応させる。

【００５３】（ハ） エポキシ基、イソシアネート基あ
るいはアジリジニル基を有する単量体の重合体または共
重合体の場合には、上記の水酸基を有する単量体もしく
はカルボキシル基を有する単量体を付加反応させる。

【００５４】（ニ） 水酸基あるいはカルボキシル基を
有する単量体の重合体または共重合体の場合には、エポ
キシ基を有する単量体あるいはアジリジニル基を有する
単量体、ジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル
酸エステル単量体の１対１モルの付加物を付加反応させ
る。

【００５５】上記の反応を行うには、微量のハイドロキ
ノン等の重合抑制剤を加え、乾燥空気を送りながら行う
ことが好ましい。

【００５６】（２）融点が０〜２５０℃であり、ラジカ
ル重合性不飽和基を有する化合物。具体的には、ステア
リルアクリレート、ステアリルメタクリレート、トリア
クリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジオールジア
クリレート、シクロヘキサンジオールジメタクリレー
ト、スピログリコールジアクリレート、スピログリコー
ルジメタクリレート等が挙げられる。

【００５７】また、本発明における回折格子形成樹脂あ
るいはホログラム形成樹脂としては、上記（１）、
（２）を混合して用いることもでき、さらに、それらに
対してラジカル重合性不飽和単量体を加えることもでき
る。このラジカル重合性不飽和単量体は、電離放射線照
射の際、架橋密度を向上させ、耐熱性を向上させるもの
であり、上述の単量体の他に、エチレングリコールジア
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポ
リエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレング
リコールジメタクリレート、ヘキサンジオールジアクリ
レート、ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロ
パントリメタクリレート、トリメチロールプロパンジア
クリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、
エチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、エチレングリコールジグリシジルエーテルジメタク
リレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジ
ルエーテルジメタクリレート、プロピレングリコールジ
グリシジルエーテルジアクリレート、プロピレングリコ
ールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルジ
メタクリレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテ
ルテトラアクリレート、ソルビトールテトラグリシジル
エーテルテトラメタクリレート等を用いることができ
る。このような単量体は、上記の共重合体混合物の固形
分１００重量部に対して、０．１〜１００重量部の割合
で用いることが好ましい。また、上記のものは電子線に
より充分に硬化することが可能であるが、紫外線照射で
硬化させる場合には、増感剤としてベンゾキノン、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のベンゾインエー
テル類、ハロゲン化アセトフェノン類、ビアチル類等の
紫外線照射によりラジカルを発生するものも用いること
ができる。

【００５８】また、後述する磁気記録層の加熱を効率よ
く行うために、回折格子層１４あるいはホログラム層１
４を熱伝導性の高いものとすることが好ましい。ここ
で、回折格子層１４あるいはホログラム層１４を構成す
る上記の樹脂の熱伝導率κは、０．１〜０．３（ Joule
／ｍ・sec ・ｋ）と低いものである。このため、熱伝導
率κが１０（ Joule／ｍ・sec ・ｋ）以上の添加剤、例
えばエチレングリコール、グリセリン、ジオクチルフタ
レート等の可塑剤（κは数百（ Joule／ｍ・sec・
ｋ））、ＴｉＯ2 、ＢｅＯ、ＳｉＯ2 等の酸化剤（κは
数十〜数百（ Joule／ｍ・sec ・ｋ））等を回折格子層
１４あるいはホログラム層１４に含有させることが好ま
しい。

【００５９】回折格子層１４あるいはホログラム層１４
は、従来公知の方法により形成することができる。例え
ば、ホログラムがレリーフホログラムである場合、干渉
縞が凹凸の形で記録されたホログラム原版をプレス型と
して用い、このホログラム原版上にホログラム形成用樹
脂シートを載置し、加熱ロール等の手段により両者を加
熱圧接し、ホログラム形成用樹脂シート表面にホログラ
ム原版の凹凸模様を複製する方法によって、レリーフ形
成面を有するホログラム層１４を得ることができる。ホ
ログラムが、体積ホログラムである場合、フォトポリマ
ー等を基材上にコーティング形成し、予め作成してある
ホログラム原板と重ね合わせて、スリット状のレーザー
光を照射することにより、巻取複製することができる。
その後、熱現像等の処理をしてもよい。いずれにして
も、個々の記録体ができるだけ個別の再生像を保持でき
るように複製版を多く準備したり、ランダムパターンと
したり、種々工夫することができる。

【００６０】本発明の磁気記録媒体は、図４に示される
ように、上述のような回折格子層１４あるいはホログラ
ム層１４と、磁気記録層１３との間に薄膜層１５を備え
ていてもよい。薄膜層１５は回折あるいはホログラム効
果をより効果的に発現するものであればよく、通常、一
般的な反射性金属薄膜が使用される。また、ホログラム
が透明型ホログラムの場合、後述するような磁気記録層
１３上の着色層や絵柄を隠蔽しない材質であればよく、
例えば回折格子層１４あるいはホログラム層１４とは屈
折率の異なる透明材料、厚みが２００Å以下の反射性金
属薄膜層が挙げられる。

【００６１】前者の場合、透明ざいりょうの屈折率は回
折格子層１４あるいはホログラム層１４よりも大きくて
も小さくてもよいが、屈折率の差は０．１以上、好まし
くは０．５以上であり、屈折率の値は１．０以上である
ことが好ましい。このように、屈折率の異なる透明薄膜
層を設けることにより、回折あるいはホログラム効果を
発現でき、しかも、下層の着色や絵柄を隠蔽させない作
用が得られる。

【００６２】また、後者の場合は、反射性金属薄膜では
あるが、厚みが２００Å以下であるため、光波の透過率
が大きく、そのため回折あるいはホログラム効果の発現
作用とともに、表示部非隠蔽作用を発揮する。すなわ
ち、反射性金属薄膜中を光波が通過する場合、その振幅
は一波長当たり、ｅｘｐ（−２πＫ）で急激に減少する
ため、その膜厚が２００Åを越えると透過率はかなり小
さいものとなる。したがって、膜厚を２００Å以下とす
ることにより透過率は充分なものとなり、回折あるいは
ホログラム効果を発現させることができる。また、膜厚
を２００Å以下とすることにより、従来みられた高い輝
度の銀白色による外観上の違和感も解消する。

【００６３】上記のような薄膜層１の形成に用いられる
材料としては、以下のような（１）〜（６）の材料が挙
げられる。 （１）回折格子層またはホログラム層よりも屈折率が大
きい透明連続薄膜 これには、可視領域で透明なものと、赤外あるいは紫外
領域で透明なものとがあり、前者は表１に、後者は表２
にそれぞれ示す。表中、ｎは屈折率を示す（以下、
（２）〜（６）においても同様）。

【００６４】

【表１】

【００６５】

【表２】 （２）回折格子層またはホログラム層よりも屈折率が大
きい透明強誘電体 上記の透明強誘電体の例を表３に示す。

【００６６】

【表３】 （３）回折格子層またはホログラム層よりも屈折率が小
さい透明連続薄膜 上記の透明連続薄膜の例を表４に示す。

【００６７】

【表４】 （４）厚さ２００Å以下の反射性金属薄膜 反射性金属薄膜は、複素屈折率を有し、この複素屈折率
ｎ＊はｎ＊＝ｎ−ｉＫで表される。ここで、ｎは屈折
率、Ｋは吸収係数を示す。

【００６８】本発明に使用できる反射性金属薄膜の材質
を表５に示し、併せて上記のｎおよびＫの値を示す。

【００６９】

【表５】 また、上記の表５に挙げた材質の他に、Ｓｎ，Ｉｎ，Ｔ
ｅ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｚｎ，Ｇｅ，Ｐｂ，Ｃｄ，Ｂ
ｉ，Ｓｅ，Ｇａ，Ｒｂ等の金属が使用可能である。さら
に、上記の金属の酸化物、窒化物等も使用可能であり、
また、金属、その酸化物、窒化物等は、単独で用いるこ
ともでき、あるいは、２種以上を組み合わせて用いても
よい。 （５）回折格子層またはホログラム層と屈折率の異なる
樹脂 回折格子層またはホログラム層に対して屈折率が大きい
もの、小さいもの、いずれでもよい。これらの例を表６
に示す。

【００７０】

【表６】 また、上記の表６に挙げた樹脂の他に、一般的な合成樹
脂が使用可能であるが、特に回折格子層またはホログラ
ム層との屈折率の差が大きい樹脂が好ましい。 （６）上記の（１）〜（５）に示される材質を適宜組み
合わせてなる積層体 上記の（１）〜（５）の材質の組み合わせは任意であ
り、また層構成における各層の上下位置関係も任意に選
択できる。

【００７１】上記の（１）〜（６）の薄膜層のうち、
（４）の薄膜層の厚さは２００Å以下が好ましく、
（１）〜（３）および（５）、（６）の薄膜層の厚さ
は、薄膜層が透明性を維持できる範囲であればよく、使
用する材質により適宜設定することができ、一般的には
１０〜１００００Å程度、好ましくは１００〜５０００
Å程度である。

【００７２】上記の（１）〜（４）に示されるような材
質を用いて薄膜層を形成する方法としては、真空蒸着
法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法、電気メッキ法等の一般的薄膜形成
手段を用いることができる。また、上記の（５）に示さ
れるような材質を用いて薄膜層を形成する場合は、一般
的なコーティング方法等を用いることができる。さら
に、上記の（６）に示されるような材質を用いて薄膜層
を形成する場合は、上記の各手段、方法等を適宜組み合
わせて用いることができる。

【００７３】尚、上記の（５）に示されるような材質を
用いる場合、透明材料である限り薄膜でなくてもよく、
０．５μｍ以上、好ましくは１．０〜３．０μｍの厚み
を有する樹脂層を形成してもよい。特に、透明型とする
ことで、磁気記録層、絵柄層との積層であることが一目
で判別できるようにする。また、光学的加熱の際は、光
が直接磁気記録層へ届くため、より効果的である。

【００７４】上述のように、本発明の磁気記録媒体１１
では磁気記録層１３上に回折格子層１４またはホログラ
ム層１４が存在することにより、磁気記録層が露出する
のが防止され、磁気記録層に書き込まれている情報を直
接別のカードの磁気ストライプに移す磁気転写が困難と
なる。そして、回折格子層１４またはホログラム層１４
は、外観上美しく、それ自体の製造が容易ではなく、類
似品の作製は困難であり、本発明の磁気記録媒体は、偽
造、変造の困難な磁気記録媒体である。

【００７５】また、本発明の磁気記録媒体は、回折格子
層１４またはホログラム層１４上に保護層を備えるもの
でもよい。回折格子層１４またはホログラム層１４上へ
の保護層の形成は、合成樹脂フィルムをラミネートする
か、エクストルージョンコート法によるか、あるいは合
成樹脂塗料を塗布することにより行うことができる。保
護層を構成する樹脂としては、耐久性、耐熱性あるいは
他の層との密着性等を考慮して、上述の着色層を形成す
るに際して用いられる合成樹脂類と同様のものでもよ
く、また、物理的特性の高い紫外線・電子線硬化型の樹
脂がより好ましい。

【００７６】保護層形成用の電離放射線硬化性樹脂とし
ては、分子中に重量性不飽和結合またはエポキシ基を有
するプレポリマ−、オリゴマー、および／または単量体
等による混合樹脂組成物が利用される。尚、上記のプレ
ポリマ−やオリゴマーの具体例は、不飽和ジカルボン酸
と多価アルコールとの縮合物等による不飽和ポリエステ
ル類をはじめ、ポリエステルメタクリレート、ポリエー
テルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラ
ミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステ
ルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアク
リレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアク
リレート、メラミンアクリレート等のアクリレート類等
が挙げられる。さらに、単量体の具体例は、スチレン、
α・メチルスチレン等によるスチレン系単量体、アクリ
ル酸メチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリ
ル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸
フェニル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタ
クリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチ
ル、メタクリル酸フェニル等のメタクリル酸エステル
類、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチ
ル、メタクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エ
チル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）
エチル、メタクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノ）メチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミ
ノ）プロピル等の不飽和酸の置換アミノアルコールエス
テル類、アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和
カルボン酸アミド、エチレングリコールジアクリレー
ト、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート等のジアク
リレート化合物、ジプロピレングリコールジアクリレー
ト、エチレングリコールアクリレート、プロピレングリ
コールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタ
クリレート等の多官能性化合物、トリメチロールプロパ
ントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリ
チオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグ
リコール等の分子中に２個以上のチオール基を有するポ
リチオール化合物等が利用される。保護層を上記のよう
な電離放射線硬化型樹脂により形成する場合、電離放射
線硬化型樹脂によるコーティング剤の塗工適性を考慮し
て、通常、上述のプレポリマーまたはオリゴマーの５〜
９５重量％と、単量体および／またはポリチオール化合
物の９５〜５重量％との混合組成物が利用される。ま
た、電離放射線硬化型樹脂によるコーティング剤中に
は、このコーティング剤が紫外線の照射により硬化され
る場合、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α・アミロキシ
ムエステル、テトラメチルメウラムモノサルファイド、
チオキサントン類等による光重合開始剤と、必要に応じ
てｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブ
チルホスフィン等の光増感剤とを添加してもよいことは
勿論である。

【００７７】保護層を形成する際のコーティング剤の塗
工方法は、ロールコート、カーテンフローコート、ワイ
ヤーバーコート、リバースコート、グラビアコート、グ
ラビアリバースコート、エアナイフコート、キスコー
ト、ブレードコート、スムーズコート、コンマコート等
の公知の方法を用いることができる。

【００７８】また、電離放射線硬化型樹脂による保護層
形成における硬化には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低
圧水銀灯、カーボンアーク、ブラックライトランプ、メ
タルハライドランプ等の光源からの紫外線照射、あるい
は、コックロフトワルトン型、ハンデグラフ型、共振変
圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン
型、高周波型等の各種電子線加速器による１００〜１０
００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネル
ギーの電子線照射が用いられる。

【００７９】尚、保護層には、耐久性、耐熱性を向上さ
せるために、テフロンパウダー等の粉体、好ましくは軟
化点が１００℃以上であり透明性が高い粒径が数μｍ、
さらにはサブミクロン程度の微粉体が含有されてもよ
い。また、保護層中にシリコーン、ポリエチレンワック
ス等を添加して表面に剥離性を与えてもよい。

【００８０】尚、このような保護層と、回折格子層１４
あるいはホログラム層１４との間に、両層の接着性を高
め、かつ回折格子層１４あるいはホログラム層１４の耐
久性を高めるために、硬化型アクリル系樹脂、セルロー
ス系樹脂、ビニル系樹脂等からなるオーバプリント層を
設けてもよい。また、上記の薄膜層１５と磁気記録層１
３との間には、両層の接着性を高めるために、塩化ビニ
ル／酢酸ビニル共重合体、アクリル系樹脂、ウレタン系
樹脂等からなるアンカー層を設けてもよい。

【００８１】また、本発明の磁気記録媒体は、各層間に
必要に応じて接着層を備えていてもよい。この場合の接
着層は、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、エチレン／
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル／プロピオン酸共重合
体、ゴム系樹脂、シアノアクリレート樹脂、セルロース
系樹脂、アイオノマー樹脂、ポリオレフィン系共重合体
等のバインダーに、必要に応じて可塑剤、安定剤、硬化
剤等を添加した後、溶剤あるいは希釈剤で充分に混練し
てなる接着層用塗料を用いて塗布することにより形成す
ることができる。接着層用塗料の塗布は、グラビア法、
ロール法、ナイフエッジ法等の塗布方法により行うこと
ができる。特に、磁気記録層上に接着層を設ける場合、
磁気記録層の再溶解を防止するため、熱可塑性樹脂をエ
マルジョン化して塗布し、乾燥してヒートシール型の接
着層とすることが好ましい。

【００８２】本発明では、磁気記録媒体１の磁気記録層
３上に、あるいは磁気記録媒体１１の磁気記録層１３上
に、あるいは、図５〜図７に示されるように、隠蔽・装
飾効果をもたせるための着色層や絵柄を設けてもよい。

【００８３】図５に示される磁気記録媒体１１は、レリ
ーフホログラムの方式により記録されたホログラム層１
４と、ホログラム層１４を構成する材料の屈折率と異な
る屈折率を有する上述の透明材料からなる薄膜層１５と
からなる透明型ホログラムを有している。そして、磁気
記録層１３と薄膜層１５との間に接着剤層１７が存在す
るとともに、絵柄１６が形成されている。絵柄１６は図
のように、磁気記録層１３に接していても、薄膜層１５
に接していてもよく、さらに、接着剤層１７中にあって
もよい。このように、絵柄１６を薄膜層１５の下に設け
ると、ホログラムの照明光と観察者に対する角度依存性
により、ホログラム再生像が見える角度から磁気記録媒
体１１を観察すれば、絵柄１６がホログラム再生像に隠
蔽され、また、上記の角度と異なる角度から観察すれ
ば、ホログラム再生像に隠蔽されずに絵柄１６を観察す
ることができる。

【００８４】図６に示される例では、磁気記録媒体１１
は、体積ホログラムであるリップマンホログラムの方式
により記録されたホログラム層１４と磁気記録層１３と
の間に、着色層１８が形成されている。リップマンホロ
グラムからなるホログラム層１４は実質的に透明であ
り、ホログラム再生像の見やすさの点および磁気記録層
を隠蔽するという点から、暗色の着色塗料によって着色
層１８を構成することが好ましい。また、リップマンホ
ログラムは反射再生光の波長選択性を有しているため、
反射再生光の波長と異なる反射波長をもつ着色塗料で着
色層１８を構成したり、あるいは反射再生光によるホロ
グラム再生像の色と補色の関係にある着色塗料を用いる
ことが、装飾性を考慮すると好ましい。尚、接着剤に着
色塗料を混入して着色接着剤としても同様の効果が得ら
れる。

【００８５】図７に示される例では、磁気記録媒体１１
は、電子線描画装置により機械的に描画することにより
回折格子が記録された回折格子層１４上に、または回折
格子層１４と反射性金属からなる薄膜層１５との間に絵
柄１６が形成されている。このように、薄膜層１５の上
に絵柄層１６を形成すると、薄膜層１５で反射された光
を背景として、絵柄１６を常時観察することができる。
また、回折格子層１４上に絵柄１６を形成する場合に
は、記録・再生時における磁気ヘッドの走査等のこすれ
により絵柄１６が消失することを防ぐために、上述した
ような保護層１９を設けることが好ましい。

【００８６】着色層や絵柄はエチルセルロース、硝酸セ
ルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、セルロ
ースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース等のセ
ルロース誘導体、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチ
レン等のスチレン樹脂、あるいはスチレン共重合樹脂、
ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポ
リアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリ
ル樹脂またはメタクリル樹脂の単独あるいは共重合樹
脂、ロジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フ
ェノール樹脂、重合ロジン等のロジンエステル樹脂、ポ
リ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹脂、ビニルトルエン樹
脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂、ブチラール樹脂等のバインダーに、着色すべき色
に応じて各種の顔料を添加し、さらに必要に応じて、可
塑剤、安定剤、ワックス、グリース、乾燥剤、乾燥補助
剤、硬化剤、増粘剤、分散剤を添加した後、溶剤あるい
は希釈剤で充分に混練してなる着色塗料あるいはインキ
を用いて、通常のグラビア法、ロール法、ナイフエッジ
法、オフセット法等の塗布方法あるいは印刷方法によ
り、所望部分に形成できる。

【００８７】尚、上述の本発明の磁気記録媒体は、基体
の全面に磁気記録層を設けたものであるが、図２に示さ
れるように、基体の一部にストライプ状に磁気記録層を
設けてもよい。

【００８８】上記の磁気記録層１３および回折格子層１
４および／またはホログラム層１４を基体１２上に設け
る方法としては、磁気転写シートを作製し、従来公知の
方法に従って接着剤層、第１磁気記録層、第２磁気記録
層、薄膜層および回折格子および／またはホログラムを
基体１２上に転写することが簡便である。

【００８９】図８、本発明の磁気記録媒体の製造に用い
ることのできる磁気転写シートの一例を示す概略断面図
である。図８において磁気転写シート２１は、基材２２
上に剥離層２３を介して回折格子および／またはホログ
ラムとなる樹脂層を形成し、レリーフ母型への熱圧接等
の上述の方法により回折格子あるいはホログラムレリー
フパターンを形成して回折格子層および／またはホログ
ラム層２４とする。次に、反応性蒸着、スパッタリング
等の方法を用いて回折格子層および／またはホログラム
層２４上に薄膜層２５を形成し、この薄膜層２５上に第
２磁気記録層２６ｂおよび第１磁気記録層２６ａからな
る磁気記録層２６を印刷法、コーティング法等により形
成する。そして、最後に第１磁気記録層２６ａ上に接着
剤層２７を形成する。この場合、回折格子層および／ま
たはホログラム層２４から接着剤層２７までが転写層と
なる。

【００９０】このように作製した磁気転写シート２１
を、接着剤層２７が基体１２上に当接するように熱圧着
（例えば、１５０℃、１０分間、１００kg/cm² のよう
な条件）し、その後、剥離層２３によりベース基材２２
を剥離することによって、基体１２上に接着剤層、第１
磁気記録層、第２磁気記録層、薄膜層および回折格子層
および／またはホログラム層を設けることができる。

【００９１】磁気転写シート２１を構成する回折格子層
および／またはホログラム層２４、薄膜層２５、磁気記
録層２６は、上述の磁気記録媒体を構成する磁気記録層
１３、回折格子層および／またはホログラム層１４、薄
膜層１５の形成と同様にして形成することができる。ま
た、上記の接着剤層２７は、アクリル系樹脂、ビニル系
樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系
樹脂、エポキシ系樹脂、ゴム系樹脂、アイオノマー系樹
脂等の公知の接着剤を用いて形成することができる。こ
の接着剤層２２の厚さは、０．１〜５０μｍ、好ましく
は１〜１０μｍ程度とすることができる。勿論、剥離層
とホログラム層との間に上述の保護層を形成してもよ
い。

【００９２】次に、本発明の磁気記録媒体の記録方法に
ついて説明する。

【００９３】本発明の磁気記録媒体の記録方法は、上述
のような磁気記録媒体の磁気記録層を加熱しながら磁気
記録を行うことを特徴とする。すなわち、磁気記録層を
加熱することにより、磁気記録層を構成する高保磁力の
磁性材料の飽和書込み電流値を低下させて書込みを行う
ものであり、あるいは、磁気記録層を構成する磁性材料
が高保磁力の磁性材料と低保磁力の磁性材料からなる場
合、磁気記録層を加熱することにより、磁気記録層を構
成する高保磁力の磁性材料の飽和書込み電流値を低保磁
力の磁性材料の飽和書込み電流値と略同一にし、磁気記
録層を構成しているすべての磁性材料に同時に書込みを
行うものである。

【００９４】より具体的には、上記の磁気記録媒体の加
熱において、磁気記録領域のみを媒体搬送方向に均一に
加熱するとともに、媒体搬送方向と直角な方向に所定の
温度分布を設けるものである。上記の温度分布は、磁気
記録領域の両端よりも中央部の温度を高くするものであ
り、その温度差は５〜５０℃程度が好ましい。また、磁
気記録領域の加熱温度範囲は、磁気記録層を構成する高
保磁力、低キュリー点の磁性材料のキュリー点Ｔｃとし
たときに、（Ｔｃ−３０℃）〜Ｔｃあるいは１／２Ｔｃ
〜Ｔｃの範囲とする。

【００９５】上記のように、磁気記録領域のみの加熱に
おいて、さらに磁気記録領域の幅方向に温度分布を設け
ることにより、磁気記録領域の周辺の基体の温度上昇を
有効に防ぐことができる。このため、上述の本発明の磁
気記録媒体のように基体を構成する材料の耐熱度、融点
およびガラス転移点のうち少なくとも最も低いものがキ
ュリー点Ｔｃよりも低いような場合であっても、基体に
加熱の悪影響を与えることなく記録、再生が可能とな
る。

【００９６】上記のような加熱を行うための加熱手段と
しては、加熱ローラ、遠赤外線ランプ、レーザー加熱、
磁気ヘッドによる加熱等が用いられる。

【００９７】加熱ローラは、回折格子層あるいはホログ
ラム層の表面を傷付けないように、シリコンラバーのよ
うな軟質部材により周面を覆われたものが好ましい。ま
た、ローラ径は一周で加熱領域をすべて加熱できるよう
な大きさとし、一周目の表面温度と二周目の表面温度の
差に起因した加熱ムラを防止することが好ましい。例え
ば、長さ８５mmのカードの全長に亘って加熱する場合
は、直径を２５mm以上に設定した１個の加熱ローラを用
いることができ、あるいは直径が５mm以下のローラを回
転方向に複数配列した加熱ローラを用いることもでき
る。このような加熱ローラの表面温度は５０〜３００℃
の範囲で適宜設定し、加熱ローラの速度は１０〜２００
mm／sec.とすることが好ましい。

【００９８】遠赤外線ランプによる加熱は、例えば１５
０Ｗハロゲンランプを所定の磁気記録幅に集光して照射
し、書込み領域の磁気記録層を５０〜３００℃の範囲で
任意に加熱することにより行える。この遠赤外線ランプ
による加熱によれば、回折格子層あるいはホログラム層
に熱ダメージを与えることなく磁気記録層のみを加熱す
ることができる。さらに、集光時に焦点を磁気記録層近
傍に設定することにより、より効率的に磁気記録層を加
熱することができる。

【００９９】レーザー加熱は、気体レーザー装置、固体
レーザー装置、半導体レーザー装置等を使用して行うこ
とができる。この中でも、特にヘリウム−ネオンレーザ
ー、アルゴンガスレーザー、炭酸ガスレーザー等の気体
レーザー、ＹＡＧレーザー等の固体レーザーが好まし
く、レーザーパワーは１０〜１０００Ｗ程度とする。ま
た、後述するように、加熱と同時に回折格子あるいはホ
ログラムの再生を行う場合にも、同様のレーザーを使用
することができる。尚、受光素子への熱ダメージを防止
するために、光減衰フィルターあるいはビームスリッタ
ーを受光素子の直前に配設することが好ましい。また、
回折格子あるいはホログラムの再生専用としては、レー
ザーパワーが１〜５０ｍＷ程度のヘリウム−ネオンレー
ザー、半導体レーザーが好ましい。

【０１００】磁気ヘッドによる加熱は、磁気ヘッドを５
０〜１２０℃程度まで加熱して行うことができる。磁気
ヘッドの加熱には、例えば磁気ヘッドを構成するリング
ヘッドに巻着したニクロム線に通電するか、あるいは赤
外線ランプを用いて磁気ヘッドを加熱する等の方法があ
る。

【０１０１】次に、実験例を示して本発明の磁気記録媒
体を更に詳細に説明する。 （実験例１）厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレー
トフィルムの片面に、下記の組成の剥離層形成用の塗工
液をグラビアコート法により塗布し、その後、溶剤を除
去して剥離層（厚さ１μｍ）を形成した。さらに、この
剥離層上に、下記の組成を有する各塗工液をグラビアコ
ート法により塗布して、第２磁気記録層（厚さ１０μ
ｍ）、第１磁気記録層（厚さ１０μｍ）および接着剤層
（厚さ５μｍ）を順次形成して転写シートを作製した。

【０１０２】 （剥離層形成用の塗工液） ・酢酸セルロース樹脂 … ５重量部 ・メタノール … ２５重量部 ・メチルエチルケトン … ４５重量部 ・トルエン … ２５重量部 ・メチロール化メラミン樹脂 … ０．５重量部 ・パラトルエンスルフォン酸 …０．０５重量部 （第２磁気記録層形成用の塗工液） ・γ−Ｆｅ2 Ｏ3 （保磁力＝300 Ｏe 、キュリー点＝575 ℃） … ３６重量部 ・ウレタン樹脂 … １２重量部 ・トルエン … ２０重量部 ・メチルエチルケトン … １５重量部 ・メチルイソブチルケトン … １５重量部 ・イソシアネート系硬化剤 ２重量部 （第１磁気記録層形成用の塗工液） ・Ｓｒフェライト （保磁力＝6000 Ｏe 、キュリー点＝140 ℃）… ３６重量部 ・ウレタン樹脂 … １２重量部 ・トルエン … ２０重量部 ・メチルエチルケトン … １５重量部 ・メチルイソブチルケトン … １５重量部 ・イソシアネート系硬化剤 ２重量部 （接着剤層形成用の塗工液） ・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 … ２０重量部 ・アクリル樹脂 … １０重量部 ・酢酸エチル … ２０重量部 ・トルエン … ５０重量部 上記のように作製した転写シートを１２．７mm幅にスリ
ットして転写テープとし、この磁気転写テープを耐熱度
（ＡＳＴＭ−Ｄ７５９−６６）６０℃のポリエチレンフ
ィルム（三井東圧（株）製 厚さ１００μｍ）上に、接
着層が当接するように重ね合わせ、転写テープ側から５
０℃、２ｍ／分の条件で加熱して仮転写した。その後、
転写テープのポリエステルフィルムを剥離して接着剤
層、第１磁気記録層、第２磁気記録層が、この順に積層
されたストライプを設けた。

【０１０３】次に、予めオフセット印刷により文字、絵
柄を印刷した厚さ５６０μｍの硬質塩化ビニルコアを、
上記のようにストライプを設けたポリエチレンフィルム
と、ストライプを設けていない同じポリエチレンフィル
ムとで挟んだ状態で熱圧着（１５０℃、１００kg／cm
² 、１０分間）して一体化し、８６mm×５４mmの大きさ
のカード状に打ち抜いて本発明の磁気記録媒体を得た。

【０１０４】以上のようにして作成した磁気記録媒体
を、第１磁気記録層の磁性材料のキュリー点（１４０
℃）付近である１００℃まで加熱したところ、基体を構
成するポリエチレンフィルム層が熱変形を生じ、使用不
能となった。

【０１０５】一方、磁気記録媒体の１２．７mm幅の磁気
ストライプの略中央の５mm幅程度の領域のみを記録方向
全長に亘ってヒートロール方式により１３０℃まで加熱
して、第１磁気記録層、第２磁気記録層の飽和書込み電
流値を約６０ｍＡとした状態で、書込み電流８０ｍＡで
磁気情報を記録した。この書込みにおいて、基体の熱変
形は全く発生しなかった。そして、磁気記録媒体を冷却
した後に読取りを行ったところ、約５００ｍＶの出力で
磁気情報を良好に読み取ることができた。

【０１０６】次に、上記の磁気情報が記録された磁気記
録媒体に室温において書込み電流８０ｍＡで別の磁気情
報を記録し、その後、読取りを行ったところ、約４００
〜６００ｍＶの出力が得られたものの、２種の磁気デー
タが混在しており、磁気情報を読み取ることができなか
った。 （実験例２）磁気記録媒体の基体を構成する樹脂フィル
ムとして、耐熱度（ＡＳＴＭ−Ｄ７５９−６６）６０℃
のポリエチレンフィルム（三井東圧（株）製 厚さ１０
０μｍ）の代わりに、融点が２２０℃のポリエステルフ
ィルム（東レ（株）製 厚さ２５０μｍ）を使用し、第
１磁気記録層形成用の塗工液としてキュリー点＝300℃
のＳｒフェライトを含有したものを使用した他は、実験
例１と同様にして本発明の磁気記録媒体を得た。

【０１０７】この磁気記録媒体を、第１磁気記録層の磁
性材料のキュリー点（３００℃）付近である２３０℃ま
で加熱したところ、基体を構成するポリエステルフィル
ム層が熱変形を生じ、使用不能となった。

【０１０８】また、実験例１と同様に、磁気記録媒体の
１２．７mm幅の磁気ストライプの略中央の５mm幅程度の
領域のみを記録方向全長に亘って赤外線加熱方式により
２５０℃まで加熱して磁気情報の書込み、読取りを行っ
たところ、実験例１と同様の結果を得た。 （実験例３）磁気記録媒体の基体を構成する樹脂フィル
ムとして、耐熱度（ＡＳＴＭ−Ｄ７５９−６６）６０℃
のポリエチレンフィルム（三井東圧（株）製 厚さ１０
０μｍ）の代わりに、ガラス転移点が１００℃のポリス
チレン（東レ（株）製 厚さ１００μｍ）を使用した他
は、実験例１と同様にして本発明の磁気記録媒体を得
た。

【０１０９】この磁気記録媒体を、第１磁気記録層の磁
性材料のキュリー点（１４０℃）付近である１２０℃ま
で加熱したところ、基体を構成するポリスチレンフィル
ム層が熱変形を生じ、使用不能となった。

【０１１０】また、実験例１と同様に、磁気記録媒体の
１２．７mm幅の磁気ストライプの略中央の５mm幅程度の
領域のみを記録方向全長に亘ってレーザー加熱方式によ
り１３０℃まで加熱して磁気情報の書込み、読取りを行
ったところ、実験例１と同様の結果を得た。

【０１１１】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば磁
気記録層を構成する低キュリー点、高保磁力の磁性材料
を、キュリー点よりも低い温度で加熱することにより、
飽和書込み電流値を低下させた状態で磁気情報の記録を
行い、その後は、通常の磁気記録装置により加熱を行わ
ないで磁気記録層の磁気情報を書換えることは困難であ
り、また、飽和書込み電流値は、磁気記録層を構成する
磁性材料の保磁力、磁気記録層の厚さ、磁性材料の充填
率、磁気記録層と磁気ヘッドとの距離等により変動する
ため、同一の飽和書込み電流値を有する磁気記録層を偽
造すること自体が困難であり、さらに、上記の加熱条件
と飽和書込み電流値を見出すことが困難であり、また、
基体を構成する材料の耐熱度、融点およびガラス転移点
のうち少なくとも最も低いものが磁気記録層のキュリー
点よりも低いため、単純に加熱すると、基体に変形が生
じて使用不可能となり、偽造、変造が極めて困難であ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の一例を示す概略断面図
である。

【図２】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面
図である。

【図３】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面
図である。

【図４】本発明の磁気記録媒体の一例を示す概略断面図
である。

【図５】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面
図である。

【図６】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面
図である。

【図７】本発明の磁気記録媒体の一例を示す概略断面図
である。

【図８】本発明の磁気記録媒体の製造に用いることので
きる磁気転写シートの一例を示す概略断面図である。

【符号の説明】

１，１１…磁気記録媒体 ２，１２…基体 ３，１３…磁気記録層 １３ａ…第１磁気記録層 １３ｂ…第２磁気記録層 １４…回折格子および／またはホログラム層 １５…薄膜層 ２１…磁気転写シート ２２…基材 ２３…剥離層 ２４…回折格子および／またはホログラム層 ２５…薄膜層 ２６…磁気記録層 ２６ａ…第１磁気記録層 ２６ｂ…第２磁気記録層 ２７…接着剤層

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基体と、該基体上に設けられた磁気記録
   層とを備え、前記磁気記録層は少なくとも低キュリー
   点、高保磁力の磁性材料を含み、前記基体を構成する材
   料の耐熱度、融点およびガラス転移点のうち少なくとも
   最も低いものが前記磁気記録層のキュリー点よりも低い
   ことを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記磁気記録層は異なるキュリー点およ
   び保磁力を有する２種以上の磁性材料を含み、前記基体
   を構成する材料の耐熱度、融点およびガラス転移点のう
   ち少なくとも最も低いものが、加熱した際の前記各磁性
   材料のキュリー点のクロスポイントよりも低いことを特
   徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 前記基体を構成する材料の耐熱度、融点
   およびガラス転移点のうち少なくとも最も低いものが、
   前記磁気記録媒体の記録あるいは再生時の加熱温度より
   も低いことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 前記磁気記録層は、２種以上の磁性材料
   が混合して含まれる１つの層で構成されていることを特
   徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の磁気記録媒
   体。
5. 【請求項５】 前記磁気記録層は、互いに異なった磁性
   材料を含む複数の層が積層さて構成されていることを特
   徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の磁気記録媒
   体。
6. 【請求項６】 前記磁気記録層の少なくとも一部に回折
   格子および／またはホログラムを備えることを特徴とす
   る請求項１乃至５のいずれかに記載の磁気記録媒体。
7. 【請求項７】 請求項１乃至６のいずれかに記載の磁気
   記録媒体の磁気記録層を、磁気記録媒体の搬送方向と直
   角の方向において磁気記録層の両端よりも中央の温度が
   高くなるように温度分布をもたせて加熱しながら磁気記
   録を行うことを特徴とする磁気記録媒体の記録方法。