JPH07138260A - フロベンゾピラン誘導体及びそれらを有効成分とする除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 水稲、大豆、綿等の有用作物には極めて安全
でしかも優れた除草活性を示すフロベンゾピラン誘導
体、及びそれを有効成分として含有する除草剤を提供す
る。 【構成】 一般式（Ｉ）で表されるフロベンゾピラン誘
導体及びそれらを有効成分として含有する除草剤。 〔式中Ｒ_１は低級アルキル基；Ｒ_２は低級アルケニル
基、低級アルキニル基、Ｃ_３〜Ｃ_７シクロアルキル−メ
チル基、ベンジル基、ピリジルメチル基、フリルメチル
基、チエニルメチル基、チアゾリルメチル基、オキサゾ
リルメチル基等；Ｒ_３は低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、フエノキシ基、ベンジルオキシ基、低級アルキル
スルホニル基等；Ｒ_４は水素原子又は低級アルキル基；
を表し、ｍは０〜４の整数である〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規なフロベンゾピラン
誘導体と、それを有効成分とする除草剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】フロベンゾピラン環を有する化合物の合
成例は極めて少なく、さらに除草活性を示す化合物は全
く知られていない。フロベンゾピラン誘導体で生理活性
を示す事が報告されているのは、唯一下記構造式（化
５）で表されるモノセリン（ＭＯＮＯＣＥＲＩＮ）だけ
である。

【０００３】

【化５】

【０００４】この化合物は、Helminthosporium monocer
as の抗菌性代謝産物としてＪ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．
（Ｃ）２５９８（１９７０）に初めて紹介された。さら
に、抗菌性化合物として米国特許ＵＳＰ ３，６６１，
９３５に記載されている。

【０００５】また、Ｏ．Ｒ．ＭａｒｔｉｎらがＣａｒｂ
ｏｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．，１９６，４１−５８（１９９
０）に下記式（化６）の化合物群を記載している。

【０００６】

【化６】

【０００７】また、Ｏ．Ｒ．ＭａｒｔｉｎはＣａｒｂｏ
ｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．，１７１，２１１−２２２（１９８
７）に下記のような化合物（化７、化８）を記載してい
る。

【０００８】

【化７】

【０００９】

【化８】

【００１０】しかしながらこれらの化合物についても、
除草活性を含む生理活性の有無についてなんら記載され
ていない。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】現在までに多くの畑あ
るいは水田用除草剤が開発されているが、除草活性や作
物に対する選択性において十分なものはない。

【００１２】従って畑及び水田において用いた場合、有
用作物にいかなる条件下でも薬害を与えず、しかも除草
活性の優れた化合物を見出すことを本発明の課題とす
る。

【００１３】すなわち、本発明は水稲に対して十分に安
全である一方、ノビエ、タマガヤツリ、コナギ、キカシ
グサ等の一年生雑草並びにホタルイ、ミズガヤツリ、ク
ログワイ、マツバイ等の多年生雑草に対して強い除草活
性を示し、水稲用除草剤として優れた性能を有する化合
物を見出すことを課題とする。

【００１４】また、畑において土壌処理または茎葉処理
により、メヒシバ、ハコベ、タデ、イヌビユ、コゴメカ
ヤツリ、スベリヒユ、ノボロギク、シロザ、ハマスゲ、
ヒルガオ、ツメクサ、ヤエムグラ、スズメノテッポウ、
スズメノカタビラ、ナズナ、エノコログサ等にも有効で
あり、水稲用除草剤としてのみならず、畑作用除草剤そ
の他の非農耕地用除草剤としても有効である化合物を見
出すことを課題とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段および作用】本発明者ら
は、上記課題を解決すべく新規のフロベンゾピラン系化
合物を多数合成し、それらの除草活性について種々検討
した。その結果、水稲用除草剤として有効であるのみな
らず、畑作用除草剤その他の非農耕地用除草剤としても
有効である化合物を見出し本発明を完成した。

【００１６】すなわち本発明は、一般式（Ｉ）（化９）

【００１７】

【化９】

【００１８】［式中Ｒ₁ は低級アルキル基を表し、Ｒ₂
は低級アルケニル基、低級アルキニル基、炭素数３〜７
のシクロアルキル基で置換されたメチル基、または下記
の一般式（ＩＩ〜ＸＩ）（化１０）で表される基を表
し、

【００１９】

【化１０】 ｛式中Ｒ₅ はヒドロキシ基、シアノ基、ハロゲン置換低
級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルケニル
基、低級アルキニル基を表し、Ｒ₆ は水素原子または低
級アルキル基を表し、Ｒ₇は低級アルキル基を表し、Ｒ₈
は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、
ハロゲン置換低級アルキル基を表し、Ｘはメチレン、酸
素原子、硫黄原子または（低級アルキル基もしくは低級
アシル基で置換されていてもよい）窒素原子を表し、ま
た隣接炭素原子と二重結合を形成してもよく、Ｙは酸素
原子または硫黄原子を表し、ｎは１〜４の整数を、ｐは
０〜３の整数を表し、ｎおよびｐが２以上の時、Ｒ₅お
よびＲ₈はそれぞれ同じでも異なっていても良く、ｑは
０ないし１であり、ｒは０〜２の整数を表し、ｑとｒの
合計値は０、１または２であり、ｒとｑが同時に０の時
にはＸはメチレンである。｝Ｒ₃ は低級アルキル基、低
級アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン置換低級アル
キル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、シアノ基、
ニトロ基、フェニル基、基−Ｓ（Ｏ）_tＲ₉、基−０Ｓ０
₂Ｒ₉、基−ＺＣ（＝Ｏ）Ｒ₉、基−ＺＲ₁₀、基−ＺＣＨ
（Ｒ₁₂）Ｃ（＝Ｏ）Ｒ₁₁、基−ＺＰ（＝Ｚ）（Ｚ
Ｒ₉）₂、基−Ｎ（Ｒ₁₂）Ｒ₁₃、基−Ｎ（Ｒ₁₂）Ｃ（＝
Ｚ）Ｒ₁₄、基−Ｎ（Ｒ₁₂）ＳＯ₂Ｒ₉、基−Ｃ（Ｒ ₁₂）₂
ＯＲ₁₃、基−ＣＨ（Ｒ₁₂）Ｓ（Ｏ）_tＲ₉、基−ＣＨ（Ｒ
₁₂）ＺＣ（＝０）Ｒ₁₄、基−ＣＨ（Ｒ₁₂）Ｎ（Ｒ₁₂）Ｒ
₁₃、基−ＣＨ（Ｒ₁₂）Ｎ（Ｒ₁₂）Ｃ（＝Ｚ）Ｒ₁₄、基−
ＣＨ（Ｒ₁₂）ＺＰ（＝Ｚ）（ＺＲ₉）₂、基−Ｃ（＝Ｚ）
Ｒ₁₁、基−ＣＨ（ＺＲ₁₅）ＺＲ₁₆、基−Ｃ（＝Ｚ）Ｎ
（Ｒ₁₇）Ｒ₁₈、基−ＣＨ＝ＮＲ₁₁、基−ＣＨ＝ＣＲ₁₉Ｒ
₂₀または基−ＯＣ（Ｒ₁₃）₂−Ｏ−（ベンゼン環上の隣
合った炭素原子を結んで５員環を形成する）を表し、
｛式中Ｒ₉は低級アルキル基または（低級アルキル基、
低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されてもよい）
フェニル基を表し、Ｒ₁₀はハロゲン置換低級アルキル基
またはアルコキシアルキル基を表し、Ｒ₁₁は水素原子、
ヒドロキシ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低
級アルキルチオ基またはフェノキシ基を表し、Ｒ₁₂は水
素原子または低級アルキル基を表し、Ｒ₁₃は水素原子、
低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基またはア
ラルキル基を表し、Ｒ₁₄は低級アルキル基、ハロゲン置
換低級アルキル基、（低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子で置換されてもよい）フェニル基、低
級アルコキシ基、フェノキシ基、低級アルキルアミノ基
またはアニリノ基を表し、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆はそれぞれ水素原
子または低級アルキル基またはＲ₁₅とＲ₁₆が一緒になっ
て環化し−（ＣＨ₂）₂−または−（ＣＨ₂）₃−を表し、
Ｒ₁₇は水素原子または低級アルキル基を表し、Ｒ₁₈は水
素原子、低級アルキル基、（低級アルキル基、低級アル
コキシ基、ハロゲン原子で置換されてもよい）フェニル
基またはＲ₁₇とＲ₁₈が一緒になって環化し、（酸素原
子、硫黄原子または窒素原子を含む場合もある）５から
６員環を表し、Ｒ₁₉は水素原子、シアノ基または低級ア
ルコキシカルボニル基を表し、Ｒ₂₀は水素原子、低級ア
ルキル基、ニトロ基、シアノ基または低級アルコキシカ
ルボニル基を表し、Ｚは酸素原子または硫黄原子を表
し、ｔは０〜２の整数を表す。｝Ｒ₄ は水素原子または
低級アルキル基を表し、ｍは０〜４の整数を表し、ｍが
２以上の時、Ｒ₃ はそれぞれ同じでも異なっていても良
い。］で表されるフロベンゾピラン誘導体、その製造法
およびそれらを有効成分として含有することを特徴とす
る除草剤である。

【００２０】本発明化合物において、低級アルキル基、
低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アルコキシ
基あるいは低級アシル基はそれぞれ炭素数１〜４のアル
キル基、炭素数１〜４のアルケニル基、炭素数１〜４の
アルキニル基、炭素数１〜４のアルコキシ基あるいは炭
素数１〜４のアシル基をいい、ハロゲン原子は、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子をいう。

【００２１】本発明化合物（Ｉ）は新規化合物であり、
これらは下記製造ルート（１）（化１１）

【００２２】

【化１１】

【００２３】（式中Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₉及びｍは
前記の意味を表し、Ｒ₉は低級アルキル基または低級ア
シル基を表す。）により一般式（ＸＩＩＩ）で表される
新規なテトラヒドロフラン誘導体を分子内環化反応させ
ることにより製造できる。また、こうして得られた一般
式（Ｉ）の化合物に対して、通常用いられる置換基変換
を行う事により一般式（Ｉ）の別の化合物へと導く事も
できる。その１例として、置換基Ｒ₃の導入あるいは変
換例を下記製造ルート（２）（化１２）及び製造ルート
（３）（化１３）に示した。

【００２４】

【化１２】 （式中Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₁₂、Ｒ₁₄、Ｚ及びｍは前
記の意味を表す。）

【００２５】

【化１３】 （式中Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₁₁、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈、Ｚ及び
ｍは前記の意味を表す。）以下に、本発明化合物（Ｉ）
の製造法について、詳細に説明する。一般式（ＸＩＩ）
で表される化合物は公知化合物であり、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃ
ｈｅｍ．，５０，４７８６（１９８５）、および米国特
許ＵＳＰ ４，５３４，７８５に記載の方法により容易
に合成できる。通常これらはα−体とβ−体の混合物と
して得られるが、シリカゲルクロマトグラフィー等にて
異性体を分離し次の反応に用いることも可能である。

【００２６】一般式（ＸＩＩＩ）の化合物は製造ルート
（１）の工程Ａにより、一般式（ＸＩＩ）の化合物をｎ
−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチル
エ−テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、クロルベンゼ
ン、塩化メチレン、クロロホルム、メチルエチルケト
ン、アセトン、アセトニトリル等の不活性溶媒中、炭酸
カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水素化ナトリウム、ナトリウムアミド等の無
機塩基を用い、等量かやや過剰の一般式（ＸＩＶ）の置
換ベンジル誘導体（式中Ｒ₃ 、Ｒ₄ およびｍは前記の意
味を、Ｘはハロゲン原子、エステル残基等の反応性残基
を表す。）と反応させることにより得られる。また別法
としてベンゼン、トルエン等の有機溶媒と水との２層系
で、四級アンモニウム塩、リン酸塩等の相関移動触媒存
在下反応させることも可能である。反応温度は−３０℃
から溶媒の沸点まで可能だが、好ましくは室温から６０
℃の範囲で反応させる方が有利である。反応終了後は常
法どおり後処理を行い、再結晶あるいはカラムクロマト
グラフィーにより目的化合物を精製することができる。
なお一般式（ＸＩＩＩ）の化合物のうちＲ₉ がアシル基
の化合物は、一般式（ＸＩＩＩ）の化合物のＲ₉がアル
キル基の化合物から周知の一般的な方法（例えば、Ｃｈ
ｅｍ．Ｉｎｄ．，２７，５４７（１９６８））により容
易に合成できる。

【００２７】ここで得られる一般式（ＸＩＩＩ）の化合
物はＲ₄ が水素原子の場合、原料である一般式（ＸＩ
Ｉ）の化合物とほぼ同じ比率のα及びβアノマーの２異
性体混合物になる。これらはシリカゲルクロマトグラフ
ィー等にて異性体分離が可能であり、分離後次の反応に
用いることも可能である。Ｒ₄ が低級アルキル基の場合
は、下記化学構造式（化１４）

【００２８】

【化１４】

【００２９】（式中Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄及びＲ₉は前記
の意味を表す。）に示したように４種類のジアステレオ
マーになる。このうち、αとβアノマーに関してはシリ
カゲルクロマトグラフィー等にて分離が可能であり、分
離後次の反応に用いることも可能である。

【００３０】本発明一般式（Ｉ）の化合物は製造ルート
（１）の工程Ｂにより、一般式（ＸＩＩＩ）の化合物を
ｎ−ヘキサン、ニトロベンゼン、クロルベンゼン、塩化
メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロ
ロエタン、二硫化炭素、アセトニトリル等の不活性溶媒
中、四塩化スズ、四塩化チタン、塩化アルミニウム、塩
化第二鉄、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体等のル
イス酸あるいは硫酸、硝酸、塩酸、クロロスルホン酸、
りん酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸等の鉱酸あるいは有機酸存在下に分子内環化反応
させることにより得られる。反応温度は−７０℃から溶
媒の沸点まで可能であるが、好ましくは、比較的低温域
で反応させる方が有利であり、好適な温度は、−７０か
ら３０℃である。反応終了後は常法どおり後処理を行
い、再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにより精
製して目的化合物を得ることができる。ここで得られる
一般式（Ｉ）の化合物はＲ₄ が水素原子の場合単一の光
学活性体であるが、低級アルキル基の場合下記化学構造
式（化１５）

【００３１】

【化１５】

【００３２】（式中Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄及びｍは前記の
意味を表す。）に示した２つのジアステレオマーとして
得られる。

【００３３】このジアステレオマー混合物はシリカゲル
クロマトグラフィー等にて分離が可能であり、試験例で
明らかなように両化合物とも高い除草活性を有してい
る。従って本発明には上記化学構造式に示した２つのジ
アステレオマーを共に含む。

【００３４】一般式（ＸＩＩＩ）及び一般式（Ｉ）の化
合物の絶対立体配置を考慮して本発明製造ルートを整理
すると、下記Ｒ₄ が水素原子である場合の反応式（化１
６）

【００３５】

【化１６】 と、下記Ｒ₄ が低級アルキル基の場合の反応式（化１
７）

【００３６】

【化１７】 のようになる。

【００３７】Ｒ₄ が低級アルキル基の場合前述のように
通常２種類のジアステレオマーを得ることができるが、
光学活性な一般式（ＸＩＩＩ）の化合物を用いることに
より望む単一の光学活性体を得ることも可能である。光
学活性な一般式（ＸＩＩＩ）の化合物を得るには、例え
ば工程（Ａ）において光学活性な一般式（ＸＩＶ）の化
合物を反応させることによる。

【００３８】本発明の実施例では、Ｒ₄ が低級アルキル
基の場合、一般式（ＸＩＩＩ）の化合物の４種の異性体
混合物か、それらをα、βアノマーに分離した化合物を
反応に用いる。そこで得られる２種のジアステレオマー
をシリカゲルクロマトグラフィーで分離する。この際、
シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル）で先に溶出したジアステレオマーを化
合物（一般式（Ｉ）−Ａ）、後に溶出したジアステレオ
マーを化合物（一般式（Ｉ）−Ｂ）として記載した。表
２に本発明化合物の ¹Ｈ−ＮＭＲを表示したが、ジアス
テレオマー（一般式（Ｉ）−Ａ）と（一般式（Ｉ）−
Ｂ）はその５−位のプロトンの帰属からも分類が可能で
ある。例えばＲ₄ がメチル基の場合、５−位のプロトン
はジアステレオマー（一般式（Ｉ）−Ａ）では４．６ｐ
ｐｍ付近に、（一般式（Ｉ）−Ｂ）では５．０ｐｐｍ付
近に観測される。ジアステレオマー（一般式（Ｉ）−
Ａ）と（一般式（Ｉ）−Ｂ）は前述のように、いずれも
除草活性を有している。

【００３９】本発明化合物の別途合成法として、分子内
環化反応により得られたフロベンゾピラン誘導体に対
し、新たな置換基の導入あるいは変換を行うことが挙げ
られる。ここで用いる置換基の導入あるいは変換は、通
常よく知られている有機合成手法で実施できる。その１
例である製造ルート（２）及び製造ルート（３）を以下
で説明する。

【００４０】製造ルート（２）は、置換基Ｒ₃ がアミノ
誘導体である場合の導入例である。例えば一般式（ＸＶ
Ｉ）の化合物は、分子内環化反応により得られる一般式
（ＸＶ）の化合物を製造ルート（２）の工程（Ｃ）によ
り硝酸と硫酸の混酸等を用いる通常のニトロ化反応によ
り得られる。ついで置換基Ｒ₃ がアミノ基である一般式
（ＸＶＩＩ）の化合物は、製造ルート（２）の工程
（Ｄ）により一般式（ＸＶＩ）の化合物を常圧水添反応
等の還元反応を行う事により得られる。一般式（ＸＶＩ
ＩＩ）の化合物は、製造ルート（２）の工程（Ｅ）によ
り一般式（ＸＶＩＩ）の化合物を不活性溶媒中、有機あ
るいは無機塩基存在下低級アルキルハライドあるいは酸
クロライド類と反応させる事により容易に得られる。

【００４１】製造ルート（３）には、置換基Ｒ₅ がカル
ボン酸誘導体である場合のの置換基導入例を示した。例
えば一般式（ＸＸ）の化合物は、分子内環化反応により
得られる置換基Ｒ₃ の１つがブロモメチル基である一般
式（ＸＩＸ）の化合物を、製造ルート（３）の工程
（Ｆ）により不活性溶媒中、ソジウムメトキシド等の塩
基存在下２−ニトロプロパンと反応させる事により得ら
れる。一般式（ＸＸＩ）の化合物は、製造ルートの工程
（Ｇ）により一般式（ＸＸ）の化合物をクロム酸、過酸
化水素等を用いる酸化反応を行う事により得られる。一
般式（ＸＸＩＩ）の化合物は、製造ルート（３）の工程
（Ｈ）により一般式（ＸＸ）の化合物を不活性溶媒中、
アミン誘導体と脱水反応を行う事により得られる。一般
式（ＸＸＩＩＩ）の化合物は、製造ルート（３）の工程
（Ｊ）により一般式（ＸＸＩ）の化合物をチオニルクロ
ライド等を用いて酸クロライドにするか、カルボニルジ
イミダゾール等を用いてカルボニル基を活性化した中間
体と、不活性溶媒中で無機あるいは有機塩基存在下にア
ミン誘導体と反応させる事により得られる。なお、一般
式（ＸＸＩＩＩ）の化合物でＸが硫黄原子の場合は、Ｘ
が酸素原子の化合物をローソン試薬等を用いて反応させ
る事により容易に得られる。

【００４２】本発明の一般式（Ｉ）の化合物は、水稲に
対して極めて安全である一方、ノビエ、タマガヤツリ、
コナギ、キカシグサ等の一年生雑草並びにホタルイ、ミ
ズガヤツリ、クログワイ、マツバイ等の多年生雑草に対
して強い除草活性を示し、水稲用の除草剤として優れた
性能を有する。また、土壌処理または茎葉処理のいずれ
においても大豆、綿、テンサイ、トウモロコシ、サトウ
キビ、ムギ類等の有用作物に高い選択性を有し、かつメ
ヒシバ、ハコベ、タデ、イヌビユ、コゴメカヤツリ、ス
ベリヒユ、ノボロギク、シロザ、ハマスゲ、ヒルガオ、
ツメクサ、ヤエムグラ、スズメノテッポウ、スズメノカ
タビラ、ナズナ、エノコログサ等に除草活性を示し、水
稲用除草剤としてのみならず、畑作用除草剤その他の非
農耕地用除草剤としても有効である。

【００４３】本発明化合物（Ｉ）は、処理する植物に対
して原体をそのまま使用しても良いが、一般には不活性
な液体または固体と混合し、通常用いられる製剤形態、
たとえば粉剤、粒剤、水和剤、乳剤、フロアブル製剤等
に調整して使用される。さらに製剤上必要ならば補助剤
を添加することもできる。

【００４４】担体としては、通常農園芸用薬剤に使用さ
れるものであるならば固体または液体のいずれでも使用
でき、特定の物に限定されるものではない。例えば固体
担体としては、クレー、タルク、ベントナイト、炭酸カ
ルシウム、ケイソウ土、ホワイトカーボン等の如き鉱物
質粉末、大豆粉、デンプンの如き植物性粉末、石油樹
脂、ポリビニルアルコール、ポリアルキレングリコール
等の如き高分子化合物、尿素、ワックス類等があげられ
る。また液体担体としては各種オイル類、各種有機溶媒
類、水等があげられる。

【００４５】補助剤としては、通常農園芸用薬剤に使用
される界面活性剤、結合剤、安定剤等を必要に応じて単
独または組合せて使用できる。さらに場合によっては防
菌防黴のために工業用殺菌剤、防菌防黴剤を添加するこ
ともできる。

【００４６】界面活性剤としては、非イオン性、陰イオ
ン性、陽イオン性及び両イオン性のものを適宜使用でき
る。好ましい例としては、アルキルフェノール、高級ア
ルコール、アルキルナフトール、高級脂肪酸、脂肪酸エ
ステル、ジアルキルリン酸アミン等にエチレンオキシド
とプロピレンオキシドを重合させたもの、アルキル硫酸
エステル塩（ラウリル硫酸ナトリウム等）、アルキルス
ルホン酸塩（２−エチルヘキセンスルフォン酸ナトリウ
ム等）、アリールスルホン酸塩（リグニンスルホン酸ナ
トリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等）
が挙げられる。本発明に係わる除草剤における一般式
（Ｉ）の化合物の含有量は、製剤形態によって異なる
が、通常粉剤では１〜２０重量％、水和剤では２０〜６
０重量％、粒剤では１〜３０重量％、乳剤では１〜５０
重量％、フロアブル製剤では１０〜５０重量％、ドライ
フロアブル製剤では２０〜９０重量％である。補助剤の
含有量は０〜８０重量％であり、担体の含有量は、１０
０重量％から有効成分化合物及び補助剤の含有量を差し
引いた量である。

【００４７】本発明に係わる除草剤は、湛水土壌処理、
土壌処理、土壌混層処理、茎葉散布処理等あらゆる処理
法に於いて有効であり、施用量としては有効成分量とし
て、０．０１ｋｇ〜１０ｋｇ／ｈａの広い範囲で使用可
能であるが、標準的には０．０５ｋｇ〜５ｋｇ／ｈａの
範囲での使用が好ましい。

【００４８】本発明の除草剤は、他の除草剤の一種また
は二種以上、殺虫剤、植物生長調節剤等の如き農薬、土
壌改良剤または肥効性物質と混合使用可能であるのはも
ちろんのこと、これらとの混合製剤とすることも可能で
あり、場合によっては相乗効果も期待できる。この場
合、他の除草剤との混合物として用いることが特に有利
である。

【００４９】他の除草剤としては、例えばフェノキシ酢
酸系除草剤、安息香酸系除草剤、塩素化カルボン酸系除
草剤、カーバメート系除草剤、尿素系除草剤、スルホニ
ルウレア系除草剤、酸アミド系除草剤、複素環系除草剤
（トリアジン系除草剤、ダイアジン系除草剤等）、フェ
ノール系除草剤、ジフェニルエーテル系除草剤、ジピリ
ジニウム系除草剤、ジニトロアニリン系除草剤、有機リ
ン酸エステル系除草剤、含リンアミノ酸系除草剤、イミ
ダゾリジノン系除草剤、ピリジン系除草剤、キノリン系
除草剤、スルホンアミド系除草剤、シクロヘキサノン系
除草剤、その他の有機除草剤、および無機除草剤があげ
られる。

【００５０】

【実施例】次に本発明を実施例によって更に詳細に説明
する。まず、参考例として一般式（ＸＩＩ）及び（ＸＩ
ＩＩ）で表される化合物の製造例を記載する。 参考例１ メチル ５−デオキシ−５−Ｃ−メチル−３−Ｏ−（チ
オフェン−３−イル−メチル）−Ｄ−キシロフラノシド
の製造 ５−デオキシ−１，２−Ｏ−イソプロピリデン−５−Ｃ
−メチル−３−Ｏ−（チオフェン−３−イル−メチル）
−α−Ｄ−キシロフラノ−ス３８．７０ｇをメタノール
（２００ｍｌ）に溶解した後に、ｐ−トルエンスルホン
酸０．４ｇを加え１０時間加熱還流した。放冷後、炭酸
水素ナトリウム水溶液で反応液を中和し、減圧下溶媒を
留去した。これを水に加え、エーテルと酢酸エチル
（１：１）混合溶媒で抽出した後、有機層を水洗した。
これを無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧下に溶媒を
留去し油状の粗製物を得た。これをシリカゲルクロマト
グラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
３：１）にて精製し、目的化合物３４．８７ｇをα体と
β体のアノメリック混合物として得た（収率９８．７
％）。ここで得られたα体とβ体のアノメリック混合物
を、シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘ
キサン：酢酸エチル＝５：１）にて精密に精製を行い、
α体及びβ体に分離した。

【００５１】参考例２ メチル ２−Ｏ−（２−ブロモメチルベンジル）−５−
デオキシ−５−Ｃ−メチル−３−Ｏ−（チオフェン−３
−イル−メチル）−Ｄ−キシロフラノシドの製造 参考例１で得たメチル ５−デオキシ−５−Ｃ−メチル
−３−Ｏ−（チオフェン−３−イル−メチル）−Ｄ−キ
シロフラノシド１５．２０ｇをテトラヒドロフラン２０
０ｍｌに溶解し、攪拌下に油性水素化ナトリウム４．６
９ｇ（流動パラフィン４０％含有品）を徐々に加えた。
これにヨウ化テトラブチルアンモニウム０．８０ｇと
α、α’−ジブロモ−ｏ−キシレン３０．９２ｇを加
え、室温で４時間攪拌した。氷冷下少量の水を加えた後
に減圧下に溶媒を留去し、得られた粗製物を水に加えエ
ーテルで抽出した。有機層を充分に水洗した後無水硫酸
ナトリウムにて乾燥し、減圧下に溶媒を留去して油状の
粗製物を得た。粗製物はシリカゲルクロマトグラフィー
（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）に
て精製を行い、目的化合物２４．７５ｇをα体とβ体の
アノメリック混合物として得た（収率９５．８％）。

【００５２】参考例３ １−Ｏ−アセチル−２−Ｏ−（２−ブロモメチルベンジ
ル）−５−デオキシ−５−Ｃ−メチル−３−Ｏ−（チオ
フェン−３−イル−メチル）−Ｄ−キシロフラノースの
製造 参考例２によって得られたメチル ２−Ｏ−（２−ブロ
モメチルベンジル）−５−デオキシ−５−Ｃ−メチル−
３−Ｏ−（チオフェン−３−イル−メチル）−Ｄ−キシ
ロフラノシド５．００ｇを、酢酸１５ｍｌと無水酢酸
３．５ｍｌに溶解し、氷冷下で濃硫酸０．７５ｍｌを加
えた。室温で１２時間した後、氷水に注ぎクロロホルム
で抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液及び飽和食塩水で洗浄した後に無水硫酸ナトリウムに
て乾燥し、減圧下に溶媒を留去して油状の粗製物を得
た。粗製物はシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶
媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）にて精製を行
い、目的化合物４．７４ｇをα体とβ体のアノメリック
混合物として得た（収率８９．２％）。

【００５３】参考例４ メチル ５−デオキシ−５−Ｃ−メチル−２−Ｏ−（１
−フェニルエチル）−３−Ｏ−（チオフェン−３−イル
−メチル）−Ｄ−キシロフラノシドの製造 参考例１で得たメチル ５−デオキシ−５−Ｃ−メチル
−３−Ｏ−（チオフェン−３−イル−メチル）−Ｄ−キ
シロフラノシド９．８０ｇをジメチルホルムアミド１０
０ｍｌに溶解し、攪拌下に油性水素化ナトリウム１．８
１ｇ（流動パラフィン４０％含有品）を徐々に加えた。
更に（１−ブロモエチル）ベンゼン８．３９ｇを加え、
５０℃で４時間攪拌した。氷冷下少量の水を加えた後、
ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（９：１）の混合溶媒で抽出
した。有機層を充分に水洗した後無水硫酸ナトリウムに
て乾燥し、減圧下に溶媒を留去して油状の粗製物を得
た。粗製物はシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶
媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）にて精製を
行い、目的化合物１２．２６ｇをα体とβ体のアノメリ
ック混合物として得た（収率８９．６％）。

【００５４】次に一般式（Ｉ）で表される本発明化合物
の製造例を実施例として記載する。 実施例１ （２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，９ｂＲ）−２−エチル−５−メ
チル−３−（チオフェン−３−イル−メチルオキシ）−
３，３ａ，５，９ｂ−テトラヒドロ−２Ｈ−フロ［３，
２−ｃ］［２］ベンゾピラン（一般式（Ｉ）の化合物番
号１１１Ａ及び１１１Ｂ）の製造 参考例４によって得られたメチル ５−デオキシ−５−
Ｃ−メチル−２−Ｏ−（１−フェニルエチル）−３−Ｏ
−（チオフェン−３−イル−メチル）−Ｄ−キシロフラ
ノシド（α，β体混合物）０．９６ｇをアセトニトリル
１０ｍｌに溶解し氷冷下四塩化スズ（１．０Ｍのジクロ
ロメタン溶液）７．９５ｍｌを加えた。これを室温で３
時間攪拌した後に、氷を入れた飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液に注いだ。有機層を充分に水洗した後無水硫酸ナ
トリウムにて乾燥し、減圧下に溶媒を留去して油状の粗
製物を得た。粗製物はシリカゲルクロマトグラフィー
（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）にて
精製を行い、目的化合物０．８５ｇを得た（収率９７．
５％）。更に、シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶
媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１５：１）にて精密な
分離精製を行い、化合物１１１Ａ及び１１１Ｂを得た。

【００５５】実施例２ （２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，９ｂＲ）−６−ブロモメチル−
２−エチル−３−（チオフェン−３−イル−メチルオキ
シ）−３，３ａ，５，９ｂ−テトラヒドロ−２Ｈ−フロ
［３，２−ｃ］［２］ベンゾピラン（一般式（Ｉ）の化
合物番号１１３）の製造 参考例２によって得られたメチル ２−Ｏ−（２−ブロ
モメチルベンジル）−５−デオキシ−５−Ｃ−メチル−
３−Ｏ−（チオフェン−３−イル−メチル）−Ｄ−キシ
ロフラノシド（α，β体混合物）１．０６ｇをジクロロ
メタン１０ｍｌに溶解し氷冷下三フッ化ホウ素ジエチル
エーテルコンプレックスを加えた。これを室温で３時間
攪拌した後に、氷を入れた飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液に注いだ。有機層を充分に水洗した後無水硫酸ナトリ
ウムにて乾燥し、減圧下に溶媒を留去して油状の粗製物
を得た。粗製物はシリカゲルクロマトグラフィー（展開
溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）にて精製を
行い、目的化合物０．９８ｇを得た（収率９９．３
％）。

【００５６】実施例３ （２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，９ｂＲ）−６−ブロモメチル−
２−エチル−３−（チオフェン−３−イル−メチルオキ
シ）−３，３ａ，５，９ｂ−テトラヒドロ−２Ｈ−フロ
［３，２−ｃ］［２］ベンゾピラン（一般式（Ｉ）の化
合物番号１１３）の製造 参考例３によって得られた１−Ｏ−アセチル−２−Ｏ−
（２−ブロモメチルベンジル）−５−デオキシ−５−Ｃ
−メチル−３−Ｏ−（チオフェン−３−イル−メチル）
−Ｄ−キシロフラノース０．９８ｇを１，２−ジクロロ
エタン１０ｍｌに溶解し、氷冷下塩化アルミニウム０．
５６ｇを加えた。これを室温で３時間攪拌した後に、氷
を入れた飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注いだ。有機
層を充分に水洗した後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、
減圧下に溶媒を留去して油状の粗製物を得た。粗製物は
シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝５：１）にて精製を行い、目的化合物
０．７８ｇを得た（収率９１．４％）。

【００５７】実施例４ （２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，９ｂＲ）−２−エチル−６−ホ
ルミル−３−（チオフェン−３−イル−メチルオキシ）
−３，３ａ，５，９ｂ−テトラヒドロ−２Ｈ−フロ
［３，２−ｃ］［２］ベンゾピラン（一般式（Ｉ）の化
合物番号１１４）の製造 ２−ニトロプロパン０．３６ｇのメタノール溶液（１５
ｍｌ）に氷冷下ソジウムメトキシド０．２１ｇを加え、
室温で３０分攪拌した後に、参考例４で得られた（２
Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，９ｂＲ）−６−ブロモメチル−２−
エチル−３−（チオフェン−３−イル−メチルオキシ）
−３，３ａ，５，９ｂ−テトラヒドロ−２Ｈ−フロ
［３，２−ｃ］［２］ベンゾピラン１．５０ｇのメタノ
ール溶液（１５ｍｌ）を加え室温で３時間攪拌した。反
応液を減圧下で濃縮し、得られた残査に水を加えジクロ
ロメタンで抽出した。有機層を充分に水洗した後無水硫
酸ナトリウムにて乾燥し、減圧下に溶媒を留去して油状
の粗製物を得た。粗製物はシリカゲルクロマトグラフィ
ー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）
にて精製を行い、目的化合物を１．０９ｇ（収率８６．
５％）得た。

【００５８】実施例５ （２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，９ｂＲ）−２−エチル−６−
（１−ヒドロキシエチル）−３−（チオフェン−３−イ
ル−メチルオキシ）−３，３ａ，５，９ｂ−テトラヒド
ロ−２Ｈ−フロ［３，２−ｃ］［２］ベンゾピラン（化
合物番号１１６）の製造 実施例４によって得られた（２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，９ｂ
Ｒ）−２−エチル−６−ホルミル−３−（チオフェン−
３−イル−メチルオキシ）−３，３ａ，５，９ｂ−テト
ラヒドロ−２Ｈ−フロ［３，２−ｃ］［２］ベンゾピラ
ン０．７５ｇをテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に溶解
し、氷冷下メチルマグネシウムブロミド（１．０Ｍのテ
トラヒドロフラン溶液）３．２７ｍｌを滴下した。室温
で１時間攪拌した後に、氷冷した希塩酸に注ぎ酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を水、ついで飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥
した。これを減圧下に溶媒留去し、油状の粗製物を得
た。粗製物はシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶
媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）にて精製を行
い、目的化合物を０．６１ｇ（収率７７．４％）得た。

【００５９】実施例６ （２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，９ｂＲ）−６−カルボキシ−２
−エチル−３−（チオフェン−３−イル−メチルオキ
シ）−３，３ａ，５，９ｂ−テトラヒドロ−２Ｈ−フロ
［３，２−ｃ］［２］ベンゾピラン（一般式（Ｉ）の化
合物番号１１５）の製造 実施例４によって得られた（２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，９ｂ
Ｒ）−２−エチル−６−ホルミル−３−（チオフェン−
３−イル−メチルオキシ）−３，３ａ，５，９ｂ−テト
ラヒドロ−２Ｈ−フロ［３，２−ｃ］［２］ベンゾピラ
ン１．５２ｇのアセトン溶液に、氷冷下ジョーンズ試薬
３．２ｍｌを加え、室温で２時間攪拌した。反応液を減
圧下で濃縮し、得られた残査を２規定の水酸化ナトリウ
ム溶液に溶解させ、酢酸エチルで洗浄した。水層を塩酸
を用いて酸性とし、ヘキサン：酢酸エチル＝４：１で抽
出した。有機層を充分に水洗した後無水硫酸ナトリウム
にて乾燥し、減圧下に溶媒を留去して油状の粗製物を得
た。粗製物はフラッシュクロマトグラフィー（ＦＣ−４
０，展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）に
て精製を行い、目的化合物を１．３５ｇ（収率８５％）
得た。

【００６０】実施例１〜６と同様にして製造した、一般
式（Ｉ）の化合物を第１表（表１〜１１）に示した。ま
たそれらの物性値を、第２表（表１２〜１８）に示し
た。

【００６１】

【表１】

【００６２】

【表２】

【００６３】

【表３】

【００６４】

【表４】

【００６５】

【表５】

【００６６】

【表６】 １）化合物６１〜８７については２つのジアステレオマ
ーの混合物 ２）化合物６３、６９及び７７については４つのジアス
テレオマーの混合物

【００６７】

【表７】

【００６８】

【表８】

【００６９】

【表９】

【００７０】

【表１０】

【００７１】

【表１１】

【００７２】

【表１２】

【００７３】

【表１３】

【００７４】

【表１４】

【００７５】

【表１５】

【００７６】

【表１６】

【００７７】

【表１７】

【００７８】

【表１８】

【００７９】製剤例および試験例 次に本発明に係わる除草剤の製剤例及び除草活性試験例
を示す。

【００８０】製剤例１ （水和剤） 本発明化合物（３２）：２０重量部、ネオペレックス
（商品名、花王製；ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム）：２重量部、ノイゲンＥＡ８０（商品名、第一工
業製薬製；ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル）：１重量部、ホワイトカーボン：１０重量部及び珪
藻土６７重量部をよく粉砕混合して水和剤を得た。

【００８１】製剤例２ （水和剤） 本発明化合物（６８）：２０重量部、アルキルベンゼン
スルホン酸ナトリウム：２重量部、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル：１重量部、ホワイトカーボ
ン：１０重量部及びジークライト：６７重量部をよく粉
砕混合して水和剤を得た。

【００８２】製剤例３ （水和剤） 本発明化合物（７６）：５０重量部、ホワイトカーボ
ン：３０重量部、ポリオキシエチレンアルキルフェニル
エーテル硫酸アンモニウム塩：６重量部、リグニンスル
ホン酸ナトリウム：２重量部及び珪藻土：１２重量部を
よく粉砕混合して水和剤を得た。

【００８３】製剤例４ （フロアブル剤） 本発明化合物（８８）：５重量部、リグニンスルホン酸
ナトリウム：２重量部、及びポリオキシエチレンアルキ
ルアリールエーテル：１重量部に、水：９１．７重量部
を加えて混合しサンドグラインダーを用いて微粉砕した
後に、キサンタンガム：０．３重量部を加えフロアブル
剤を得た。

【００８４】製剤例５ （フロアブル剤） 本発明化合物（１０２）：３０重量部と水５０重量部に
溶解したサンエキスＰ２５２（商品名、前記と同様）：
１０重量部を湿式粉砕混合し、その後水９．６重量部に
溶解したケルザンＳ（商品名、ケルコ製；キサンタンガ
ム）：０．２重量部とデルトップ（商品名、武田薬品工
業製：有機ヨウ素系防黴剤）：０．２重量部を加えて混
合し、フロアブル剤を得た。

【００８５】製剤例６ （粉剤） 本発明化合物（１１０）：１重量部、エマルゲン９１０
（商品名、花王製；ポリオキシエチレンノニルフェニル
エーテル）：０．５重量部およびカオリンクレー：９
８．５重量部をよく粉砕混合して粉剤を得た。

【００８６】製剤例７ （粉剤） 本発明化合物（１１２）：３重量部、リグニンスルホン
酸ナトリウム：３重量部、ポリオキシエチレンアルキル
アリールエーテル：２重量部及びクレー：９２重量部を
混合粉砕して粉剤を得た。

【００８７】製剤例８ （顆粒水和剤） 本発明化合物（１０２）：５５重量部、トキサノン６０
ＰＮ：５重量部、ポリオキシエチレンアルキルアリール
エーテル：５重量部及びホワイトカーボン：３５重量部
をよく混合した後、適当量の水を加えて湿潤させ、次に
横押し出し造粒機で押し出し造粒した。これを３０〜６
０℃で乾燥し解砕した後、整粒機で０．３〜０．５ｍｍ
に清粒して顆粒水和剤を得た。

【００８８】製剤例９ （粒剤） 本発明化合物（１２７）：３．０重量部、ネオペレック
ス（商品名、前記と同様）：２重量部、サンエキスＰ２
５２（商品名、山陽国策パルプ製；リグニンスルホン酸
ナトリウム）：２重量部、ベントナイト：７０．０重量
部およびタルク：２３重量部をよく混合した後、適当量
の水を加えて湿潤させ、次に横押し出し造粒機で押し出
し造粒した。これを３０〜６０℃で風乾し解砕した後、
整粒機で０．３〜１ｍｍに整粒して粒剤を得た。

【００８９】製剤例１０（粒剤） 本発明化合物（６１）０．５重量部、ゴーセノール（Ｇ
ｏｓｅｎｏｌ）ＧＬ−０５ｓ（日本合成化学製ＰＶ
Ａ）：２重量部、サンエキスＰ２５２（山陽国策パルプ
製リグニンスルホン酸ソーダ）：２重量部及びクレー：
９５．５重量部を良く混合した後、適当量の水を加えて
湿潤させ、次に横押し出し造粒機で押し出し造粒した。
これを６０〜９０℃で風乾し解砕した後、整粒機で０．
３〜１ｍｍに整粒して粒剤を得た。

【００９０】製剤例１１（乳剤） 本発明化合物（８３）：１０重量部、ソルポール８００
Ａ（商品名、東邦化学製；非イオン性界面活性剤と陰イ
オン性界面活性剤の混合物）：１０重量部およびｏ−キ
シレン：８０重量部を混合溶解して乳剤を得た。

【００９１】製剤例１２（水和剤） 本発明化合物（１１１−Ａ）：２０重量部、アルキルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウム：２重量部、ポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル：１重量部、ホワイト
カーボン：１５重量部及びジークライト：６２重量部を
よく粉砕混合して水和剤を得た。

【００９２】製剤例１３（水和剤） 本発明化合物（６６）：５０重量部、ホワイトカーボ
ン：３０重量部、ポリオキシエチレンアルキルフェニル
エーテル硫酸アンモニウム塩：６重量部、リグニンスル
ホン酸ナトリウム：２重量部及び珪藻土：１２重量部を
よく粉砕混合して水和剤を得た。

【００９３】製剤例１４（ｏｉｌ ｉｎ ｗａｔｅｒ型
エマルジョンＥＷ） 本発明化合物（５９）：５重量部、トキサノンＦＷ−１
０（商品名、三洋化成工業製；高分子系アニオン）：４
重量部、キサンタンガム：０．３重量部、デルトップ：
０．２重量部及びポリオキシエチレンアルキルアリール
エーテル：２重量部に、水：８８．５重量部を加えホモ
ミキサーにて乳化後、ｏｉｌ ｉｎ ｗａｔｅｒ型エマ
ルジョンＥＷを得た。

【００９４】製剤例１５（ｏｉｌ ｉｎ ｗａｔｅｒ型
エマルジョンＥＷ） 本発明化合物（１２４）：３０重量部、ゴーセノールＫ
Ｈ−２０（商品名、日本合成化学製；保護コロイド形
成）：４重量部、キサンタンガム：０．３重量部、デル
トップ（商品名、武田薬品工業製：有機ヨウ素系防黴
剤）：０．２重量部及びポリオキシエチレンアルキルア
リールエーテル：４重量部に、水：６１．５重量部を加
え、湿式粉砕混合しｏｉｌ ｉｎ ｗａｔｅｒ型エマル
ジョンＥＷを得た。

【００９５】製剤例１６（顆粒水和剤剤） 本発明化合物（１１３）：５０重量部、トキサノン６０
ＰＮ：５重量部、ポリオキシエチレンアルキルアリール
エーテル：５重量部及びホワイトカーボン：４０重量部
をよく混合した後、適当量の水を加えて湿潤させ、次に
横押し出し造粒機で押し出し造粒した。これを３０〜６
０℃で乾燥し解砕した後、整粒機で０．３〜０．５ｍｍ
に清粒して顆粒水和剤を得た。

【００９６】製剤例１７（粒剤） 本発明化合物（１１９）：３．０重量部、ネオペレック
ス（商品名、前記と同様）：２重量部、サンエキスＰ２
５２（商品名、山陽国策パルプ製；リグニンスルホン酸
ナトリウム）：２重量部、ベントナイト：７０．０重量
部およびタルク：２３重量部をよく混合した後、適当量
の水を加えて湿潤させ、次に横押し出し造粒機で押し出
し造粒した。これを３０〜６０℃で風乾し解砕した後、
整粒機で０．３〜１ｍｍに整粒して粒剤を得た。

【００９７】製剤例１８（粒剤） 本発明化合物（１２２）：１．０重量部、ゴーセノール
（Ｇｏｓｅｎｏｌ）ＧＬ−０５ｓ（日本合成化学製ＰＶ
Ａ）：２重量部、サンエキスＰ２５２（山陽国策パルプ
製リグニンスルホン酸ソーダ）：２重量部及びクレー：
９５．０重量部を良く混合した後、適当量の水を加えて
湿潤させ、次に横押し出し造粒機で押し出し造粒した。
これを６０〜９０℃で風乾し解砕した後、整粒機で０．
３〜１ｍｍに整粒して粒剤を得た。

【００９８】試験例１ 湛水土壌処理試験（発生前処
理） １／５０００アールワグネルポットに土壌を詰め、タイ
ヌビエ、コナギ、ホタルイ、アゼナの種子を播種して湛
水状態とした。これに予め育苗しておいた水稲苗（２〜
３葉期）２本を１株とし、その２株を移植して温室内で
生育させた。１日後（雑草発生前に）、供試化合物が３
Ｋｇ／ｈａの薬量になるように所定量の粒剤（前記製剤
例９に記載した方法に準じて調製）を用いて処理し、３
０日後に雑草の発生状況及び水稲に対する薬害状況を観
察調査した。その結果を第３表（表１９〜２０）に示し
た。

【００９９】表中、被検植物の被害程度及び作物に対す
る薬害程度は、植物の生育状態を無処理の場合と比較し
て以下の基準で表示した。

【０１００】

【表１９】

【０１０１】

【表２０】

【０１０２】試験例２ 湛水土壌処理試験（生育期処
理） １／５０００アールワグネルポットに土壌を詰め、タイ
ヌビエ、コナギ、ホタルイ、アゼナの種子を播種して湛
水状態とした。これに予め育苗しておいた水稲苗（２〜
３葉期）２本を１株とし、その２株を移植して温室内で
生育させた。ヒエが２葉になった時に、供試化合物が３
Ｋｇ／ｈａの薬量になるよう所定量の粒剤（前記製剤例
９に記載した方法に準じて調製）を処理し、３０日後に
雑草の発生状況及び水稲に対する薬害状況を観察調査し
た。その結果を第４表（表２１〜２３）に示した。

【０１０３】表中、被検植物の被害程度及び作物に対す
る薬害程度は、試験例１と同様に表示した。

【０１０４】

【表２１】

【０１０５】

【表２２】

【０１０６】

【表２３】

【０１０７】試験例３ 畑作土壌処理試験（発生前処
理） １／２５００アールの樹脂性ポットに土壌を詰め、これ
にヒエ、メヒシバ、エノコログサ、ハコベ、アオビユ、
大豆、綿の種子を混合した土壌で１〜２ｃｍの覆土を行
い、温室内で生育させた。１日後（雑草発生前に）供試
化合物が３Ｋｇ／ｈａの薬量になるように所定量の水和
剤（前記製剤例１に記載した方法に準じて調製）を水で
希釈調整し、１アール当たり１０Ｌ相当の散布液量で土
壌表面に加圧微量噴霧器を用いて均一に散布した。薬剤
散布後３０日経過後に、雑草の生育状況および作物に対
する薬害状況を観察調査した。その結果を第５表（表２
４〜２６）に示した。表中、被験植物の被害程度および
作物に対する薬害程度は試験例１と同様に表示した。

【０１０８】

【表２４】

【０１０９】

【表２５】

【０１１０】

【表２６】

【０１１１】試験例４ 畑作茎葉処理（生育期処理） １／１００００アール樹脂性ポットに土壌を詰め、これ
にヒエ、メヒシバ、エノコログサ、ハコベ、アオビユ、
大豆、綿を一種類づつ播種し、温室内で生育させた。各
植物が２〜３葉になった時、供試化合物が３Ｋｇ／ｈａ
の薬量になるように所定量の水和剤（前記製剤例２に記
載した方法に準じて調製）を水を用いて希釈調整し、１
アール当たり１０Ｌ相当の散布液量で加圧微量噴霧器を
用いて均一に散布した。薬剤散布後３０日経過後に、雑
草の生育状況および作物に対する薬害状況を観察調査し
た。その結果を第６表（表２７〜２８）に示した。表
中、被験植物の被害程度および作物に対する薬害程度は
試験例１と同様に表示した。

【０１１２】

【表２７】

【０１１３】

【表２８】

【０１１４】

【発明の効果】一般式（Ｉ）で表わされる本発明化合物
は、フロベンゾピラン環を有する新規な化合物であり、
前述の試験例から明かなように優れた除草活性と選択性
を示す。すなわち、本発明化合物を水田で使用した場合
には水稲に対する選択性に優れ、かつタイヌビエ、コナ
ギ、ホタルイ、アゼナ等の重要雑草に対し高い殺草効果
を示す。また、本発明化合物は、畑作においても大豆、
綿等の作物に高い選択性を有し、かつヒエ、メヒシバ、
エノコログサ、ハコベ、アオビユ等の重要雑草に高い殺
草効果を示す。従って本発明化合物は、水田及び畑作用
除草剤として適用することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 垣元 剛 千葉県茂原市東郷1144番地 三井東圧化学 株式会社内 (72)発明者 江田 貞文 千葉県茂原市東郷1144番地 三井東圧化学 株式会社内 (72)発明者 岩崎 泰永 千葉県茂原市東郷1144番地 三井東圧化学 株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ）（化１） 【化１】 ［式中Ｒ₁ は低級アルキル基を表し、Ｒ₂ は低級アルケ
   ニル基、低級アルキニル基、炭素数３〜７のシクロアル
   キル基で置換されたメチル基、または下記の一般式（Ｉ
   Ｉ〜ＸＩ）（化２）で表される基を表し、 【化２】 ｛式中Ｒ₅ はヒドロキシ基、シアノ基、ハロゲン置換低
   級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルケニル
   基、低級アルキニル基を表し、Ｒ₆ は水素原子または低
   級アルキル基を表し、Ｒ₇は低級アルキル基を表し、Ｒ₈
   は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、
   ハロゲン置換低級アルキル基を表し、Ｘはメチレン、酸
   素原子、硫黄原子または（低級アルキル基もしくは低級
   アシル基で置換されていてもよい）窒素原子を表し、ま
   た隣接炭素原子と二重結合を形成してもよく、Ｙは酸素
   原子または硫黄原子を表し、ｎは１〜４の整数を、ｐは
   ０〜３の整数を表し、ｎおよびｐが２以上の時、Ｒ₅お
   よびＲ₈はそれぞれ同じでも異なっていても良く、ｑは
   ０ないし１であり、ｒは０〜２の整数を表し、ｑとｒの
   合計値は０、１または２であり、ｒとｑが同時に０の時
   にはＸはメチレンである。｝Ｒ₃ は低級アルキル基、低
   級アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン置換低級アル
   キル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、シアノ基、
   ニトロ基、フェニル基、基−Ｓ（Ｏ）_tＲ₉、基−０Ｓ０
   ₂Ｒ₉、基−ＺＣ（＝Ｏ）Ｒ₉、基−ＺＲ₁₀、基−ＺＣＨ
   （Ｒ₁₂）Ｃ（＝Ｏ）Ｒ₁₁、基−ＺＰ（＝Ｚ）（Ｚ
   Ｒ₉）₂、基−Ｎ（Ｒ₁₂）Ｒ₁₃、基−Ｎ（Ｒ₁₂）Ｃ（＝
   Ｚ）Ｒ₁₄、基−Ｎ（Ｒ₁₂）ＳＯ₂Ｒ₉、基−Ｃ（Ｒ ₁₂）₂
   ＯＲ₁₃、基−ＣＨ（Ｒ₁₂）Ｓ（Ｏ）_tＲ₉、基−ＣＨ（Ｒ
   ₁₂）ＺＣ（＝０）Ｒ₁₄、基−ＣＨ（Ｒ₁₂）Ｎ（Ｒ₁₂）Ｒ
   ₁₃、基−ＣＨ（Ｒ₁₂）Ｎ（Ｒ₁₂）Ｃ（＝Ｚ）Ｒ₁₄、基−
   ＣＨ（Ｒ₁₂）ＺＰ（＝Ｚ）（ＺＲ₉）₂、基−Ｃ（＝Ｚ）
   Ｒ₁₁、基−ＣＨ（ＺＲ₁₅）ＺＲ₁₆、基−Ｃ（＝Ｚ）Ｎ
   （Ｒ₁₇）Ｒ₁₈、基−ＣＨ＝ＮＲ₁₁、基−ＣＨ＝ＣＲ₁₉Ｒ
   ₂₀または基−ＯＣ（Ｒ₁₃）₂−Ｏ−（ベンゼン環上の隣
   合った炭素原子を結んで５員環を形成する）を表し、
   ｛式中Ｒ₉は低級アルキル基または（低級アルキル基、
   低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されてもよい）
   フェニル基を表し、Ｒ₁₀はハロゲン置換低級アルキル基
   またはアルコキシアルキル基を表し、Ｒ₁₁は水素原子、
   ヒドロキシ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低
   級アルキルチオ基またはフェノキシ基を表し、Ｒ₁₂は水
   素原子または低級アルキル基を表し、Ｒ₁₃は水素原子、
   低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基またはア
   ラルキル基を表し、Ｒ₁₄は低級アルキル基、ハロゲン置
   換低級アルキル基、（低級アルキル基、低級アルコキシ
   基、ハロゲン原子で置換されてもよい）フェニル基、低
   級アルコキシ基、フェノキシ基、低級アルキルアミノ基
   またはアニリノ基を表し、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆はそれぞれ水素原
   子または低級アルキル基またはＲ₁₅とＲ₁₆が一緒になっ
   て環化し−（ＣＨ₂）₂−または−（ＣＨ₂）₃−を表し、
   Ｒ₁₇は水素原子または低級アルキル基を表し、Ｒ₁₈は水
   素原子、低級アルキル基、（低級アルキル基、低級アル
   コキシ基、ハロゲン原子で置換されてもよい）フェニル
   基またはＲ₁₇とＲ₁₈が一緒になって環化し、（酸素原
   子、硫黄原子または窒素原子を含む場合もある）５から
   ６員環を表し、Ｒ₁₉は水素原子、シアノ基または低級ア
   ルコキシカルボニル基を表し、Ｒ₂₀は水素原子、低級ア
   ルキル基、ニトロ基、シアノ基または低級アルコキシカ
   ルボニル基を表し、Ｚは酸素原子または硫黄原子を表
   し、ｔは０〜２の整数を表す。｝Ｒ₄ は水素原子または
   低級アルキル基を表し、ｍは０〜４の整数を表し、ｍが
   ２以上の時、Ｒ₃ はそれぞれ同じでも異なっていても良
   い。］で表されるフロベンゾピラン誘導体。
2. 【請求項２】 一般式（Ｉ）（化３） 【化３】 ［式中Ｒ₁ は低級アルキル基を表し、Ｒ₂ は低級アルケ
   ニル基、低級アルキニル基、炭素数３〜７のシクロアル
   キル基で置換されたメチル基、または下記の一般式（Ｉ
   Ｉ〜ＸＩ）（化４）で表される基を表し、 【化４】 ｛式中Ｒ₅ はヒドロキシ基、シアノ基、ハロゲン置換低
   級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルケニル
   基、低級アルキニル基を表し、Ｒ₆ は水素原子または低
   級アルキル基を表し、Ｒ₇は低級アルキル基を表し、Ｒ₈
   は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、
   ハロゲン置換低級アルキル基を表し、Ｘはメチレン、酸
   素原子、硫黄原子または（低級アルキル基もしくは低級
   アシル基で置換されていてもよい）窒素原子を表し、ま
   た隣接炭素原子と二重結合を形成してもよく、Ｙは酸素
   原子または硫黄原子を表し、ｎは１〜４の整数を、ｐは
   ０〜３の整数を表し、ｎおよびｐが２以上の時、Ｒ₅お
   よびＲ₈はそれぞれ同じでも異なっていても良く、ｑは
   ０ないし１であり、ｒは０〜２の整数を表し、ｑとｒの
   合計値は０、１または２であり、ｒとｑが同時に０の時
   にはＸはメチレンである。｝Ｒ₃ は低級アルキル基、低
   級アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン置換低級アル
   キル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、シアノ基、
   ニトロ基、フェニル基、基−Ｓ（Ｏ）_tＲ₉、基−０Ｓ０
   ₂Ｒ₉、基−ＺＣ（＝Ｏ）Ｒ₉、基−ＺＲ₁₀、基−ＺＣＨ
   （Ｒ₁₂）Ｃ（＝Ｏ）Ｒ₁₁、基−ＺＰ（＝Ｚ）（Ｚ
   Ｒ₉）₂、基−Ｎ（Ｒ₁₂）Ｒ₁₃、基−Ｎ（Ｒ₁₂）Ｃ（＝
   Ｚ）Ｒ₁₄、基−Ｎ（Ｒ₁₂）ＳＯ₂Ｒ₉、基−Ｃ（Ｒ ₁₂）₂
   ＯＲ₁₃、基−ＣＨ（Ｒ₁₂）Ｓ（Ｏ）_tＲ₉、基−ＣＨ（Ｒ
   ₁₂）ＺＣ（＝０）Ｒ₁₄、基−ＣＨ（Ｒ₁₂）Ｎ（Ｒ₁₂）Ｒ
   ₁₃、基−ＣＨ（Ｒ₁₂）Ｎ（Ｒ₁₂）Ｃ（＝Ｚ）Ｒ₁₄、基−
   ＣＨ（Ｒ₁₂）ＺＰ（＝Ｚ）（ＺＲ₉）₂、基−Ｃ（＝Ｚ）
   Ｒ₁₁、基−ＣＨ（ＺＲ₁₅）ＺＲ₁₆、基−Ｃ（＝Ｚ）Ｎ
   （Ｒ₁₇）Ｒ₁₈、基−ＣＨ＝ＮＲ₁₁、基−ＣＨ＝ＣＲ₁₉Ｒ
   ₂₀または基−ＯＣ（Ｒ₁₃）₂−Ｏ−（ベンゼン環上の隣
   合った炭素原子を結んで５員環を形成する）を表し、
   ｛式中Ｒ₉は低級アルキル基または（低級アルキル基、
   低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されてもよい）
   フェニル基を表し、Ｒ₁₀はハロゲン置換低級アルキル基
   またはアルコキシアルキル基を表し、Ｒ₁₁は水素原子、
   ヒドロキシ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低
   級アルキルチオ基またはフェノキシ基を表し、Ｒ₁₂は水
   素原子または低級アルキル基を表し、Ｒ₁₃は水素原子、
   低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基またはア
   ラルキル基を表し、Ｒ₁₄は低級アルキル基、ハロゲン置
   換低級アルキル基、（低級アルキル基、低級アルコキシ
   基、ハロゲン原子で置換されてもよい）フェニル基、低
   級アルコキシ基、フェノキシ基、低級アルキルアミノ基
   またはアニリノ基を表し、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆はそれぞれ水素原
   子または低級アルキル基またはＲ₁₅とＲ₁₆が一緒になっ
   て環化し−（ＣＨ₂）₂−または−（ＣＨ₂）₃−を表し、
   Ｒ₁₇は水素原子または低級アルキル基を表し、Ｒ₁₈は水
   素原子、低級アルキル基、（低級アルキル基、低級アル
   コキシ基、ハロゲン原子で置換されてもよい）フェニル
   基またはＲ₁₇とＲ₁₈が一緒になって環化し、（酸素原
   子、硫黄原子または窒素原子を含む場合もある）５から
   ６員環を表し、Ｒ₁₉は水素原子、シアノ基または低級ア
   ルコキシカルボニル基を表し、Ｒ₂₀は水素原子、低級ア
   ルキル基、ニトロ基、シアノ基または低級アルコキシカ
   ルボニル基を表し、Ｚは酸素原子または硫黄原子を表
   し、ｔは０〜２の整数を表す。｝Ｒ₄ は水素原子または
   低級アルキル基を表し、ｍは０〜４の整数を表し、ｍが
   ２以上の時、Ｒ₃ はそれぞれ同じでも異なっていても良
   い。］で表されるフロベンゾピラン誘導体を有効成分と
   して含有することを特徴とする除草剤。