JP3201955B2 - 新規エーテル系化合物及びそれらを有効成分とする除草剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は新規なエーテル系化
合物と、それを有効成分とする除草剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】本発明の一般式（Ｉ）においてＲ₃ とＲ
₄ が一緒になりベンゼン環を形成する化合物について
は、特開平６−３１６５７９号公報及び特開平７−１３
８２６０号公報に記載され、除草活性が示されている。

【０００３】すなわち、特開平６−３１６５７９号公報
には、一般式（ＸＩＩ）（化３）で表されるフロベンゾ
ピラン誘導体が除草活性を示すことが記載されている。

【０００４】

【化３】 ［式中Ｒ₁ は低級アルキル基を表し、Ｒ₂ は低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子またはハロゲン
置換低級アルキル基を表し、Ｒ₃ は低級アルキル基、低
級アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン置換低級アル
キル基、フェノキシ基またはベンジルオキシ基を表し、
Ｒ₄ は水素原子または低級アルキル基を表し、ｍ及びｎ
は０〜４の整数を表し、ｍおよびｎが２〜４の時、Ｒ₂
およびＲ₃は同じでも異なっていても良い。］ また、特開平７−１３８２６０号公報には、一般式（Ｘ
ＩＩＩ）（化４）で表されるフロベンゾピラン誘導体が
除草活性を示すことが記載されている。

【０００５】

【化４】 ［式中Ｒ₁ は低級アルキル基を表し、Ｒ₂ は低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基、炭素数３〜７のシクロアル
キル基で置換されたメチル基、または下記の一般式（Ｉ
Ｉ）〜（ＸＩ）（化５）で表される基を表し、

【０００６】

【化５】 ｛式中Ｒ₅ はヒドロキシ基、シアノ基、ハロゲン置換低
級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルケニル
基、低級アルキニル基を表し、Ｒ₆ は水素原子または低
級アルキル基を表し、Ｒ₇ は低級アルキル基を表し、Ｒ
₈ は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
子、ハロゲン置換低級アルキル基を表し、Ｘはメチレン
基、酸素原子、硫黄原子または（低級アルキル基もしく
は低級アシル基で置換されていてもよい）窒素原子を表
し、また隣接炭素原子と二重結合を形成してもよく、Ｙ
は酸素原子または硫黄原子を表し、ｎは１〜４の整数
を、ｐは０〜３の整数を表し、ｎおよびｐが２以上の
時、Ｒ₅ およびＲ₈ はそれぞれ同じでも異なっていても
良く、ｑは０ないし１であり、ｒは０〜２の整数を表
し、ｑとｒの合計値は０、１または２であり、ｒとｑが
同時に０の時にはＸはメチレン基である。｝Ｒ₃ は低級
アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲ
ン置換低級アルキル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ
基、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、基−Ｓ（Ｏ）_t
Ｒ₉、基−０Ｓ０₂Ｒ₉、基−ＺＣ（＝Ｏ）Ｒ₉、基−ＺＲ
₁₀、基−ＺＣＨ（Ｒ₁₂）Ｃ（＝Ｏ）Ｒ₁₁、基−ＺＰ（＝
Ｚ）（ＺＲ₉）₂、基−Ｎ（Ｒ₁₂）Ｒ₁₃、基−Ｎ（Ｒ₁₂）
Ｃ（＝Ｚ）Ｒ₁₄、基−Ｎ（Ｒ₁₂）ＳＯ₂Ｒ₉、基−Ｃ（Ｒ
₁₂）₂ＯＲ₁₃、基−ＣＨ（Ｒ₁₂）Ｓ（Ｏ）_tＲ₉、基−Ｃ
Ｈ（Ｒ₁₂）ＺＣ（＝０）Ｒ₁₄、基−ＣＨ（Ｒ₁₂）Ｎ（Ｒ
₁₂）Ｒ₁₃、基−ＣＨ（Ｒ₁₂）Ｎ（Ｒ₁₂）Ｃ（＝Ｚ）
Ｒ₁₄、基−ＣＨ（Ｒ₁₂）ＺＰ（＝Ｚ）（ＺＲ₉）₂、基−
Ｃ（＝Ｚ）Ｒ₁₁、基−ＣＨ（ＺＲ₁₅）ＺＲ₁₆、基−Ｃ
（＝Ｚ）Ｎ（Ｒ₁₇）Ｒ₁₈、基−ＣＨ＝ＮＲ₁₁、基−ＣＨ
＝ＣＲ₁₉Ｒ₂₀または基−ＯＣ（Ｒ₁₃）₂−Ｏ−（ベンゼ
ン環上の隣合った炭素原子を結んで５員環を構築する）
を表し、｛式中Ｒ₉ は低級アルキル基または（低級アル
キル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されて
もよい）フェニル基を表し、Ｒ₁₀はハロゲン置換低級ア
ルキル基またはアルコキシアルキル基を表し、Ｒ₁₁は水
素原子、ヒドロキシ基、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、低級アルキルチオ基またはフェノキシ基を表し、
Ｒ₁₂は水素原子または低級アルキル基を表し、Ｒ₁₃は水
素原子、低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基
またはアラルキル基を表し、Ｒ₁₄は低級アルキル基、ハ
ロゲン置換低級アルキル基、（低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、ハロゲン原子で置換されてもよい）フェニ
ル基、低級アルコキシ基、フェノキシ基、低級アルキル
アミノ基またはアニリノ基を表し、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆はそれぞ
れ水素原子または低級アルキル基またはＲ₁₅とＲ₁₆が一
緒になって環化し−（ＣＨ₂）₂−または−（ＣＨ₂）₃−
を表し、Ｒ₁₇は水素原子または低級アルキル基を表し、
Ｒ₁₈は水素原子、低級アルキル基、（低級アルキル基、
低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されてもよい）
フェニル基またはＲ₁₇とＲ₁₈が一緒になって環化し、
（酸素原子、硫黄原子または窒素原子を含む場合もあ
る）５から６員環を表し、Ｒ₁₉は水素原子、シアノ基ま
たは低級アルコキシカルボニル基を表し、Ｒ₂₀は水素原
子、低級アルキル基、ニトロ基、シアノ基または低級ア
ルコキシカルボニル基を表し、Ｚは酸素原子または硫黄
原子を表し、ｔは０〜２の整数を表す。｝Ｒ₄ は水素原
子または低級アルキル基を表し、ｍは０〜４の整数を表
し、ｍが２以上の時、Ｒ₃ はそれぞれ同じでも異なって
いても良い。］

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】現在までに多くの畑あ
るいは水田用除草剤が開発されているが、除草活性や作
物に対する選択性において十分なものはない。特開平６
−３１６５７９号公報及び特開平７−１３８２６０号公
報に記載されたフロベンゾピラン誘導体も、激しい漏水
条件下では作物への選択性が不十分な場合があった。従
って畑及び水田において用いた場合、有用作物にいかな
る条件下でも薬害を与えず、しかも除草活性の優れた化
合物を見出すことを本発明の課題とする。

【０００８】すなわち、本発明は水稲に対して十分に安
全である一方、ノビエ、タマガヤツリ、コナギ、キカシ
グサ等の一年生雑草並びにホタルイ、ミズガヤツリ、ク
ログワイ、マツバイ等の多年生雑草に対して強い除草活
性を示し、水稲用除草剤として優れた性能を有する化合
物を見出すことを課題とする。また、畑において土壌処
理または茎葉処理により、メヒシバ、ハコベ、タデ、イ
ヌビユ、コゴメカヤツリ、スベリヒユ、ノボロギク、シ
ロザ、ハマスゲ、ヒルガオ、ツメクサ、ヤエムグラ、ス
ズメノテッポウ、スズメノカタビラ、ナズナ、エノコロ
グサ等にも有効であり、水稲用除草剤としてのみなら
ず、畑作用除草剤その他の非農耕地用除草剤としても有
効である化合物を見出すことを課題とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく新規のエーテル系化合物を多数合成し、そ
れらの除草活性について種々検討した。その結果、水稲
用除草剤として有効であるのみならず、畑作用除草剤そ
の他の非農耕地用除草剤としても有効である化合物を見
出し本発明を完成した。

【００１０】すなわち本発明は、一般式（Ｉ）（化６）

【００１１】

【化６】 ［式中Ｒ₁ は低級アルキル基を表し、Ｒ₂ は下記の一般
式（ＩＩ）〜（ＸＩ）（化７）で表される基を表し、

【００１２】

【化７】 ｛式中Ｒ₅ は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級
アシルオキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン置換低級アル
キル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基または低級アル
キルチオ基を表し、Ｒ₆ は水素原子または低級アルキル
基を表し、Ｒ₇ は低級アルキル基を表し、Ｒ₈ は低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基、低級アシルオキシ基、低
級アルキルチオ基、ハロゲン原子、ハロゲン置換低級ア
ルキル基またはハロゲン置換低級アルコキシ基を表し、
Ｘはメチレン基、酸素原子、硫黄原子または（低級アル
キル基もしくは低級アシル基で置換されていてもよい）
窒素原子を表し、また隣接炭素原子と二重結合を形成し
てもよく、Ｙは酸素原子、硫黄原子または（低級アルキ
ル基もしくは低級アシル基で置換されていてもよい）窒
素原子を表し、ｎは０〜５の整数を、ｐは０〜３の整数
を表し、ｎおよびｐが２以上の時、Ｒ₅ およびＲ₈ はそ
れぞれ同じでも異なっていても良く、ｑは０ないし１で
あり、ｒは０〜２の整数を表し、ｑとｒの合計値は０、
１または２であり、ｒとｑが同時に０の時にはＸはメチ
レン基である。｝Ｒ₃ およびＲ₄ は一緒になって環内に
１または２個のヘテロ原子を含む不飽和の５または６員
環（低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アシルオ
キシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲン原子、ハロゲン
置換低級アルキル基またはハロゲン置換低級アルコキシ
基で置換されていてもよい）を形成する。］で表される
エーテル系化合物、及びそれらを有効成分として含有す
ることを特徴とする除草剤である。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明化合物において、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、低級アシル基、低級アシル
オキシ基あるいは低級アルキルチオ基はそれぞれ炭素数
１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭
素数１〜４のアシル基、炭素数１〜４のアシルオキシ基
あるいは炭素数１〜４のアルキルチオ基をいい、ハロゲ
ン原子はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子を
いい、ヘテロ原子は酸素原子、硫黄原子、（低級アルキ
ル基または低級アシルオキシ基で置換されていてもよ
い）窒素原子を表す。本発明化合物（Ｉ）は、以下の構
造式（化８）

【００１４】

【化８】 （式中、Ｒ₉ 及びＲ₁₀は水素原子、炭素数１〜４のアル
キル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原
子を表し、Ｙは酸素原子、硫黄原子、＝ＮＣＨ_３を表
す。）の化合物を包含する。

【００１５】本発明化合物（Ｉ）は新規化合物であり、
これらは下記反応式（１）（化９）により、一般式（Ｘ
ＩＶ）で表されるテトラヒドロフラン誘導体を分子内環
化反応させることにより製造できる。

【００１６】

【化９】 （式中Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 及びＲ₄ は前記の意味を表し、
Ｒ₁₁は低級アルキル基または低級アシルを表す。） 以下に、本発明化合物（Ｉ）の製造法を詳細に説明す
る。一般式（ＸＶ）で表される化合物のうち公知化合物
は、J.Org.Chem.,50,4786(1985)、および米国特許USP
4,534,785に記載の方法により容易に製造できる。また
一般式（ＸＶ）には新規化合物も含まれるが、上記の方
法と同様にして製造できる。通常これらはα−体とβ−
体の混合物として得られるが、シリカゲルクロマトグラ
フィー等にて異性体を分離し次の反応に用いることも可
能である。反応式（１）において、一般式（ＸＩＶ）の
化合物は工程Ａにより、一般式（ＸＶ）の化合物をｎ−
ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエ
−テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、クロルベンゼン、
塩化メチレン、クロロホルム、メチルエチルケトン、ア
セトン、アセトニトリル等の不活性溶媒中、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水素化ナトリウム、ナトリウムアミド等の無機塩
基、あるいは酸化銀（Ｉ）等の存在下、等量かやや過剰
の一般式（ＸＶＩ）の化合物と反応させることにより得
られる。また別法としてベンゼン、トルエン等の有機溶
媒と水との２層系で、四級アンモニウム塩、リン酸塩等
の相関移動触媒存在下反応させることも可能である。反
応温度は−３０℃から溶媒の沸点まで可能だが、好まし
くは室温から６０℃の範囲で反応させる方が有利であ
る。反応終了後は常法どおり後処理を行い、再結晶ある
いはカラムクロマトグラフィーにより目的化合物を精製
することができる。なお一般式（ＸＩＶ）の化合物のう
ちＲ₁₁がアシル基の化合物は、一般式（ＸＩＶ）の化合
物のＲ₁₁がアルキル基の化合物から周知の一般的な方法
（例えば、Chem.Ind.,27,547(1968)）により容易に製造
できる。

【００１７】本発明化合物（Ｉ）は工程Ｂにより、一般
式（ＸＩＶ）の化合物をｎ−ヘキサン、ニトロベンゼ
ン、クロルベンゼン、塩化メチレン、クロロホルム、四
塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、二硫化炭素、アセ
トニトリル等の不活性溶媒中、四塩化スズ、四塩化チタ
ン、塩化アルミニウム、塩化第二鉄、三フッ化ホウ素ジ
エチルエーテル錯体等のルイス酸あるいは硫酸、硝酸、
塩酸、クロロスルホン酸、りん酸、ベンゼンスルホン
酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸
等の鉱酸あるいは有機酸存在下に分子内環化反応させる
ことにより得られる。反応温度は−７０℃から溶媒の沸
点まで可能であるが、好ましくは、比較的低温域で反応
させる方が有利であり、好適な温度は、−７０から３０
℃である。反応終了後は常法どおり後処理を行い、再結
晶あるいはカラムクロマトグラフィーにより精製して目
的化合物を得ることができる。

【００１８】本発明化合物は薬害の発生しやすい漏水条
件下で、比較化合物に比べて著しく作物に対する安全性
が高い。すなわち、本発明の一般式（Ｉ）の化合物は、
水稲に対する安全性に極めて優れる上に、ノビエ、タマ
ガヤツリ、コナギ、キカシグサ等の一年生雑草並びにホ
タルイ、ミズガヤツリ、クログワイ、マツバイ等の多年
生雑草に対して強い除草活性を示し、水稲用の除草剤と
して優れた性能を有する。また、土壌処理または茎葉処
理のいずれにおいても大豆、綿、テンサイ、トウモロコ
シ、サトウキビ、ムギ類等の有用作物に高い選択性を有
し、かつメヒシバ、ハコベ、タデ、イヌビユ、コゴメカ
ヤツリ、スベリヒユ、ノボロギク、シロザ、ハマスゲ、
ヒルガオ、ツメクサ、ヤエムグラ、スズメノテッポウ、
スズメノカタビラ、ナズナ、エノコログサ等に除草活性
を示し、水稲用除草剤としてのみならず、畑作用除草剤
としても有効である。

【００１９】本発明化合物（Ｉ）は、処理する植物に対
して原体をそのまま使用しても良いが、一般には不活性
な液体担体または固体担体と混合し、通常用いられる製
剤形態、たとえば粉剤、粒剤、水和剤、乳剤、フロアブ
ル製剤等に調整して使用される。さらに製剤上必要なら
ば補助剤を添加することもできる。

【００２０】担体としては、通常農園芸用薬剤に使用さ
れるものであるならば固体または液体のいずれでも使用
でき、特定の物に限定されるものではない。例えば固体
担体としては、クレー、タルク、ベントナイト、炭酸カ
ルシウム、ケイソウ土、ホワイトカーボン等の如き鉱物
質粉末、大豆粉、デンプンの如き植物性粉末、石油樹
脂、ポリビニルアルコール、ポリアルキレングリコール
等の如き高分子化合物、尿素、ワックス類等があげられ
る。また液体担体としては各種オイル類、各種有機溶媒
類、水等があげられる。補助剤としては、通常農園芸用
薬剤に使用される界面活性剤、結合剤、安定剤等を必要
に応じて単独または組合せて使用できる。さらに場合に
よっては防菌防黴のために工業用殺菌剤、防菌防黴剤を
添加することもできる。

【００２１】界面活性剤としては、非イオン性、陰イオ
ン性、陽イオン性及び両イオン性のものを適宜使用でき
る。好ましい例としては、アルキルフェノール、高級ア
ルコール、アルキルナフトール、高級脂肪酸、脂肪酸エ
ステル、ジアルキルリン酸アミン等にエチレンオキシド
とプロピレンオキシドを重合させたもの、アルキル硫酸
エステル塩（ラウリル硫酸ナトリウム等）、アルキルス
ルホン酸塩（２−エチルヘキセンスルフォン酸ナトリウ
ム等）、アリールスルホン酸塩（リグニンスルホン酸ナ
トリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等）
が挙げられる。本発明に係わる除草剤における一般式
（Ｉ）の化合物の含有量は、製剤形態によって異なる
が、通常粉剤では１〜２０重量％、水和剤では２０〜６
０重量％、粒剤では１〜３０重量％、乳剤では１〜５０
重量％、フロアブル製剤では１０〜５０重量％、ドライ
フロアブル製剤では２０〜９０重量％である。補助剤の
含有量は０〜８０重量％であり、担体の含有量は、１０
０重量％から有効成分化合物及び補助剤の含有量を差し
引いた量である。

【００２２】本発明に係わる除草剤は、湛水土壌処理、
土壌処理、土壌混層処理、茎葉散布処理等あらゆる処理
法に於いて有効であり、施用量としては有効成分量とし
て、０．０１ｋｇ〜１０ｋｇ／ｈａの広い範囲で使用可
能であるが、標準的には０．０５ｋｇ〜５ｋｇ／ｈａの
範囲での使用が好ましい。

【００２３】本発明の除草剤は、他の除草剤の一種また
は二種以上、殺虫剤、植物生長調節剤等の如き農薬、土
壌改良剤または肥効性物質と混合使用可能であるのはも
ちろんのこと、これらとの混合製剤とすることも可能で
あり、場合によっては相乗効果も期待できる。この場
合、他の除草剤との混合物として用いることが特に有利
である。

【００２４】他の除草剤としては、例えばフェノキシ酢
酸系除草剤、安息香酸系除草剤、塩素化カルボン酸系除
草剤、カーバメート系除草剤、尿素系除草剤、スルホニ
ルウレア系除草剤、酸アミド系除草剤、複素環系除草剤
（トリアジン系除草剤、ダイアジン系除草剤等）、フェ
ノール系除草剤、ジフェニルエーテル系除草剤、ジピリ
ジニウム系除草剤、ジニトロアニリン系除草剤、有機リ
ン酸エステル系除草剤、含リンアミノ酸系除草剤、イミ
ダゾリジノン系除草剤、ピリジン系除草剤、キノリン系
除草剤、スルホンアミド系除草剤、シクロヘキサノン系
除草剤、その他の有機除草剤、および無機除草剤があげ
られる。

【００２５】

【実施例】次に本発明を実施例によって更に詳細に説明
する。

【００２６】まず、参考例として一般式（ＸＩＶ）及び
（ＸＶ）で表される化合物の製造例を記載する。 参考例１ メチル ５−デオキシ−５−Ｃ−メチル−３−Ｏ−（２
−メチルベンジル）−Ｄ−キシロフラノシドの製造 ５−デオキシ−１，２−Ｏ−イソプロピリデン−５−Ｃ
−メチル−３−Ｏ−（２−メチルベンジル）−α−Ｄ−
キシロフラノ−ス６７．９７ｇをメタノール（３００ｍ
ｌ）に溶解した後に、ｐ−トルエンスルホン酸０．５ｇ
を加え１０時間加熱還流した。放冷後、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で反応液を中和し、減圧下溶媒を留去した。
これを水に加え、エーテルと酢酸エチル（１：１）混合
溶媒で抽出した後、有機層を水洗した。これを無水硫酸
ナトリウムにて乾燥し、減圧下に溶媒を留去し油状の粗
製物を得た。これをシリカゲルクロマトグラフィー（展
開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）にて精製
し、目的化合物６０．８ｇをα体とβ体のアノメリック
混合物として得た。（収率９８．２％）

【００２７】参考例２ メチル ５−デオキシ−３−Ｏ−（２−フルオロベンジ
ル）−５−Ｃ−メチル−Ｄ−キシロフラノシドの製造 ５−デオキシ−３−Ｏ−（２−フルオロベンジル）−
１，２−Ｏ−イソプロピリデン−５−Ｃ−メチル−α−
Ｄ−キシロフラノ−ス１０．６８ｇをメタノール（１０
０ｍｌ）に溶解した後に、ｐ−トルエンスルホン酸０．
５ｇを加え１０時間加熱還流した。放冷後、参考例１と
同様の後処理を行い、目的化合物９．３１ｇをα体とβ
体のアノメリック混合物として得た。（収率９５．６
％）

【００２８】参考例３ メチル ５−デオキシ−５−Ｃ−メチル−３−Ｏ−（チ
オフェン−３−イル−メチル）−Ｄ−キシロフラノシド
の製造 ５−デオキシ−１，２−Ｏ−イソプロピリデン−５−Ｃ
−メチル−３−Ｏ−（チオフェン−３−イル−メチル）
−α−Ｄ−キシロフラノ−ス３８．７０ｇをメタノール
（２００ｍｌ）に溶解した後に、ｐ−トルエンスルホン
酸０．４ｇを加え１０時間加熱還流した。放冷後、参考
例１と同様の後処理を行い、目的化合物３４．７ｇをα
体とβ体のアノメリック混合物として得た。（収率９
８．７％）

【００２９】参考例４ メチル ５−デオキシ−５−Ｃ−メチル−３−Ｏ−（２
−メチルベンジル）−２−Ｏ−（チオフェン−３−イル
−メチル）−Ｄ−キシロフラノシドの製造 参考例１で得たメチル ５−デオキシ−５−Ｃ−メチル
−３−Ｏ−（２−メチルベンジル）−Ｄ−キシロフラノ
シド１０．０ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解
し、攪拌下に油性水素化ナトリウム２．１ｇ（流動パラ
フィン４０％含有品）を徐々に加えた。これにヨウ化テ
トラブチルアンモニウム０．４ｇと３−ブロモメチルチ
オフェン８．６ｇを加え、５時間加熱還流した。氷冷下
少量の水を加えた後に減圧下に溶媒を留去し、得られた
粗製物を水に加えエーテルで抽出した。有機層を充分に
水洗した後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧下に溶
媒を留去して油状の粗製物を得た。粗製物はシリカゲル
クロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル＝１０：１）にて精製を行い、目的化合物１１．７
７ｇをα体とβ体のアノメリック混合物として得た。
（収率８６．５％） ここで得られたα体とβ体のアノメリック混合物を、シ
リカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１２：１）にて精密に精製を行い、α
体及びβ体に分離した。¹ H-NMR(CDCl₃,270MHz)δppm; α-anomer 0.94(3H,t,J=7.3Hz),1.61(2H,dq,J=7.3,7.3Hz),2.29(3
H,s),3.40(3H,s),3.95-4.14(3H,m),4.45(1H,d,J=11.7H
z),4.57(1H,d,J=12.5Hz),4.61(1H,d,J=11.7Hz),4.67(1
H,d,J=12.5Hz),4.79(1H,d,J=4.4Hz),7.10-7.32(7H,m) β-anomer 0.94(3H,t,J=7.3Hz),1.68(2H,dq,J=7.3,7.3Hz),2.31(3
H,s),3.41(3H,s),3.91-4.09(3H,m),4.44(1H,d,J=11.7H
z),4.53(1H,d,J=11.7Hz),4.59(1H,d,J=11.7Hz),4.61(1
H,d,J=11.7Hz),4.84(1H,d,J=2.2Hz),7.05-7.33(7H,m)

【００３０】参考例５ メチル ５−デオキシ−３−Ｏ−（２−フルオロベンジ
ル）−５−Ｃ−メチル−２−Ｏ−（チオフェン−２−イ
ル−メチル）−Ｄ−キシロフラノシドの製造 参考例２で得たメチル ５−デオキシ−３−Ｏ−（２−
フルオロベンジル）−５−Ｃ−メチル−Ｄ−キシロフラ
ノシド１４．７ｇをテトラヒドロフラン１５０ｍｌに溶
解し、攪拌下に油性水素化ナトリウム３．１ｇ（流動パ
ラフィン４０％含有品）を徐々に加えた。これにヨウ化
テトラブチルアンモニウム０．６ｇと２−クロロメチル
チオフェン９．４ｇを加え、４時間加熱還流した。放冷
後参考例４と同様の後処理を行い、目的化合物１６．４
２ｇをα体とβ体のアノメリック混合物として得た。
（収率８２．４％）¹ H-NMR(CDCl₃,270MHz)δppm;0.94(3H,t,J=7.3Hz),1.68
(2H,dq,J=7.3,7.3Hz),3.41(3H,s),3.92-3.95 (1H,m),4.
02-4.06(2H,m),4.41-4.48(1H,m),4.58-4.73(3H,m),4.82
-4.86 (1H,m),6.91-7.01(2H,m),7.14-7.32(5H,m)

【００３１】参考例６ メチル ５−デオキシ−５−Ｃ−メチル−２−Ｏ−（チ
オフェン−３−イル−メチル）−３−Ｏ−（チオフェン
−３−イル−メチル）−Ｄ−キシロフラノシドの製造 参考例３で得たメチル ５−デオキシ−５−Ｃ−メチル
−３−Ｏ−（チオフェン−３−イル−メチル）−Ｄ−キ
シロフラノシド１５．２０ｇをテトラヒドロフラン２０
０ｍｌに溶解し、攪拌下に油性水素化ナトリウム４．６
９ｇ（流動パラフィン４０％含有品）を徐々に加えた。
これにヨウ化テトラブチルアンモニウム０．８０ｇと３
−クロロメチルチオフェン１０．１４ｇを加え、４時間
加熱還流した。放冷後参考例４と同様の後処理を行い、
目的化合物１８．６７ｇをα体とβ体のアノメリック混
合物として得た。（収率８９．５％）¹ H-NMR(CDCl₃,270MHz)δppm;0.92(3H,t,J=7.3Hz),1.67
(2H,dq,J=7.3,7.3Hz),3.40(3H,s),3.90-4.10(3H,m),4.5
3-4.62(4H,m),4.78-4.80(1H,m),6.75-6.80(2H,m),6.92-
7.00 (2H,m),7.05-7.20(2H,m)

【００３２】参考例７ メチル ５−デオキシ−２−Ｏ−（フラン−２−イル−
メチル）−５−Ｃ−メチル−３−Ｏ−（２−メチルベン
ジル）−Ｄ−キシロフラノシドの製造 参考例１で得たメチル ５−デオキシ−５−Ｃ−メチル
−３−Ｏ−（２−メチルベンジル）−Ｄ−キシロフラノ
シド１８．８ｇをテトラヒドロフラン２００ｍｌに溶解
し、攪拌下に油性水素化ナトリウム３．９５ｇ（流動パ
ラフィン４０％含有品）を徐々に加えた。これにヨウ化
テトラブチルアンモニウム０．７８ｇと２−クロロメチ
ルフラン１０．７ｇを加え、５時間加熱還流した。放冷
後参考例４と同様の後処理を行い、目的化合物１９．６
８ｇをα体とβ体のアノメリック混合物として得た。
（収率８０．５％）¹ H-NMR(CDCl₃,270MHz)δppm;0.94(3H,t,J=7.3Hz),1.68
(2H,dq,J=7.3,7.3Hz),2.29(3H,s),3.40(3H,s),3.90-4.0
8(3H,m),4.52-4.67(4H,m),4.79-4.82(1H,m),6.35(2H,d,
J=1.5Hz),6.99-7.15(2H,m),7.23-7.29(1H,m),7.38-7.44
(2H,m)

【００３３】参考例８ メチル ５−デオキシ−２−Ｏ−（フラン−３−イル−
メチル）−５−Ｃ−メチル−３−Ｏ−（２−メチルベン
ジル）−Ｄ−キシロフラノシドの製造 参考例１で得たメチル ５−デオキシ−５−Ｃ−メチル
−３−Ｏ−（２−メチルベンジル）−Ｄ−キシロフラノ
シド２．１ｇをテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、
攪拌下に油性水素化ナトリウム０．４４ｇ（流動パラフ
ィン４０％含有品）を徐々に加えた。これにヨウ化テト
ラブチルアンモニウム０．０８ｇと３−クロロメチルフ
ラン２．８ｇを加え、４時間加熱還流した。放冷後参考
例４と同様の後処理を行い、目的化合物２．１４ｇをα
体とβ体のアノメリック混合物として得た。（収率７８
％） ここで得られたα体とβ体のアノメリック混合物を、シ
リカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１５：１）にて精密に精製を行い、α
体及びβ体に分離した。¹ H-NMR(CDCl₃,270MHz)δppm; α-anomer 0.94(3H,t,J=7.3Hz),1.56-1.69(2H,m),2.29(3H,s),3.41
(3H,s),3.95-3.99 (1H,m),4.07-4.13(2H,m),4.44(1H,d,
J=11.7Hz),4.46(1H,d,J=11.7Hz),4.54(1H,d,J=11.7Hz),
4.62(1H,d,J=11.7Hz),4.83(1H,d,J=4.4Hz),7.13-7.41(6
H,m) β-anomer 0.94(3H,t,J=7.3Hz),1.68(2H,dq,J=7.3,7.3Hz),2.32(3
H,s),3.41(3H,s),3 .90-4.08(3H,m),4.37-4.47(3H,m),
4.60(1H,d,J=12.5Hz),4.83(1H,d,J=2.2Hz),6.41(1H,s),
7.14-7.40(6H,m)

【００３４】参考例９ メチル ５−デオキシ−３−Ｏ−（２−フルオロベンジ
ル）−５−Ｃ−メチル−２−Ｏ−（チオフェン−３−イ
ル−メチル）−Ｄ−キシロフラノシドの製造 参考例２で得たメチル ５−デオキシ−３−Ｏ−（２−
フルオロベンジル）−５−Ｃ−メチル−Ｄ−キシロフラ
ノシド３．２７ｇをテトラヒドロフラン２７ｍｌに溶解
し、攪拌下に油性水素化ナトリウム０．５８ｇ（流動パ
ラフィン４０％含有品）を徐々に加えた。これにヨウ化
テトラブチルアンモニウム０．０９ｇと３−クロロメチ
ルチオフェン１．６８ｇを加え、７時間加熱還流した。
放冷後参考例４と同様の後処理を行い、目的化合物３．
６１ｇをα体とβ体のアノメリック混合物として得た。
（収率８１．４％） ここで得られたα体とβ体のアノメリック混合物を、シ
リカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１５：１）にて精密に精製を行い、α
体及びβ体に分離した。¹ H-NMR(CDCl₃,270MHz)δppm; α-anomer 0.95(3H,t,J=7.3Hz),1.56-1.69(2H,m),3.40(3H,s),3.96
(1H,t,J=4.4Hz),V4,08-4.15(2H,m),4.55(1H,d,J=11.7H
z),4.60(1H,d,J=11.7Hz),4.68(2H,d,J=11.7Hz),4.78(1
H,d,J=4.4Hz),6.99-7.14(3H,m),7.23-7.32(3H,m),7.36-
7.41(1H,m) β-anomer 0.95(3H,t,J=7.3Hz),1.69(2H,dq,J=7.3,7.3Hz),3.40(3
H,s),3.92-4.09(3H,m),4.53-4.67(4H,m),4.84(1H,d,J=
2.2Hz),6.99-7.15(3H,m),7.22-7.32(3H,m),7.38-7.44(1
H,m)

【００３５】実施例１ （２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，８ｂＳ）−２−エチル−３−
（２−メチルベンジルオキシ）−３，３ａ，５，８ｂ−
テトラヒドロ−２Ｈ−チエノ−［２，３−ｄ］フロ
［３，２−ｂ］ピラン（一般式（Ｉ）の化合物番号７）
の製造 参考例４によって得られたメチル ５−デオキシ−５−
Ｃ−メチル−３−Ｏ−（２−メチルベンジル）−２−Ｏ
−（チオフェン−３−イル−メチル）−Ｄ−キシロフラ
ノシド（α，β体混合物）１．０ｇをジクロロメタン１
０ｍｌに溶解し氷冷下トリフルオロ酢酸１．０ｇを加え
た。これを室温で３時間攪拌した後に、氷を入れた飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液に注いだ。有機層を充分に水
洗した後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧下に溶媒
を留去して油状の粗製物を得た。粗製物はシリカゲルク
ロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチ
ル＝１０：１）にて精製を行い、目的化合物０．７６ｇ
を油状物として得た。（収率８３％）¹ H-NMR(CDCl₃,270MHz)δppm;0.87(3H,t,J=7.3Hz),1.75
(2H,dq,J=7.3,7.3Hz),2.36(3H,s),4.02(1H,d,J=2.9Hz),
4.16-4.23(1H,m),4.27(1H,d,J=2.9Hz),4.55(1H,d,J=11.
7Hz),4.59(1H,d,J=13.9Hz),4.75(1H,d,J=11.7Hz),4.83
(1H,d,J=13.9Hz),5.00(1H,d,J=2.9Hz),6.78(1H,d,J=5.1
Hz),7.15-7.30(4H,m),7.34-7.37(1H,m)

【００３６】実施例２ （２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，８ｂＲ）−２−エチル−３−
（２−フルオロベンジルオキシ）−３，３ａ，５，８ｂ
−テトラヒドロ−２Ｈ−チエノ−［３，２−ｄ］フロ
［３，２−ｂ］ピラン（一般式（Ｉ）の化合物番号７
６）の製造 参考例５によって得られたメチル ５−デオキシ−３−
Ｏ−（２−フルオロベンジル）−５−Ｃ−メチル−２−
Ｏ−（チオフェン−２−イル−メチル）−Ｄ−キシロフ
ラノシド（α，β体混合物）４．０ｇをジクロロメタン
２０ｍｌに溶解し氷冷下トリフルオロ酢酸３．７ｇを加
えた。これを室温で３時間攪拌した後に、氷を入れた飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液に注いだ。有機層を充分に
水洗した後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧下に溶
媒を留去して油状の粗製物を得た。粗製物はシリカゲル
クロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル＝１０：１）にて精製を行い、目的化合物２．７８
ｇを油状物として得た。（収率７６％）¹ H-NMR(CDCl₃,270MHz)δppm;0.89(3H,t,J=7.3Hz),1.75
(2H,dq,J=7.3,7.3Hz),4.02(1H,d,J=3.7Hz),4.12-4.18(1
H,m),4.28(1H,d,J=2.9Hz),4.65(1H,d,J=11.7Hz),4.71(1
H,d,J=14.7Hz),4.81(1H,d,J=11.7Hz),4.91(1H,d,J=14.7
Hz),4.90(1H,d,J=2.9Hz),7.42-7.48(1H,m),7.02-7.31(5
H,m),7.42-7.48(1H,m)

【００３７】実施例３ （２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，８ｂＳ）−２−エチル−３−
（チオフェン−３−イル−メチルオキシ）−３，３ａ，
５，８ｂ−テトラヒドロ−２Ｈ−チエノ−［２，３−
ｄ］フロ［３，２−ｂ］ピラン（一般式（Ｉ）の化合物
番号３０）の製造 参考例６によって得られたメチル ５−デオキシ−５−
Ｃ−メチル−２−Ｏ−（チオフェン−３−イル−メチ
ル）−３−Ｏ−（チオフェン−３−イル−メチル）−Ｄ
−キシロフラノシド（α，β体混合物）２．０ｇを１，
２−ジクロロエタン１０ｍｌに溶解し、氷冷下硫酸１．
１ｇを加えた。これを室温で３時間攪拌した後に、氷を
入れた飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注いだ。有機層
を充分に水洗した後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減
圧下に溶媒を留去して油状の粗製物を得た。粗製物はシ
リカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝８：１）にて精製を行い、目的化合物
１．５３ｇを油状物として得た。（収率８４％）¹ H-NMR(CDCl₃,270MHz)δppm;0.87(3H,t,J=7.3Hz),1.75
(2H,dq,J=7.3,7.3Hz),4.03(1H,d,J=2.9Hz),4.15-4.23(1
H,m),4.27(1H,d,J=2.9Hz),4.57(1H,d,J=11.7Hz),4.60(1
H,d,J=14.6Hz),4.77(1H,d,J=11.7Hz),4.84(1H,d,J=14.6
Hz),5.00(1H,d,J=2.9Hz),6.78(1H,d,J=5.1Hz),7.05(1H,
d,J=5.4Hz),7.14-7.37(3H,m)

【００３８】実施例４ （２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，８ｂＲ）−２−エチル−３−
（２−メチルベンジルオキシ）−３，３ａ，５，８ｂ−
テトラヒドロ−２Ｈ−フロ−［２，３−ｅ］フロ［２，
３−ｃ］ピラン（一般式（Ｉ）の化合物番号７８）の製
造 参考例７によって得られたメチル ５−デオキシ−２−
Ｏ−（フラン−２−イル−メチル）−５−Ｃ−メチル−
３−Ｏ−（２−メチルベンジル）−Ｄ−キシロフラノシ
ド２．０ｇを１，２−ジクロロエタン１０ｍｌに溶解
し、氷冷下塩化アルミニウム１．５４ｇを加えた。これ
を室温で３時間攪拌した後に、氷を入れた飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液に注いだ。有機層を充分に水洗した後
無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧下に溶媒を留去し
て油状の粗製物を得た。粗製物はシリカゲルクロマトグ
ラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝８：
１）にて精製を行い、目的化合物１．１ｇを油状物とし
て得た。（収率６２％）¹ H-NMR(CDCl₃,270MHz)δppm;0.88(3H,t,J=7.3Hz),1.75
(2H,dq,J=7.3,7.3Hz),2.35(3H,s),4.01(1H,d,J=3.7Hz),
4.12-4.20(1H,m),4.26(1H,d,J=2.9Hz),4.57(1H,d,J=11.
7Hz),4.60(1H,d,J=15.4Hz),4.73(1H,d,J=11.7Hz),4.81
(1H,d,J=15.4Hz),4.90(1H,d,J=2.9Hz),6.37(1H,d,J=1.8
Hz),7.12-7.42(5H,m)

【００３９】実施例５ （２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，８ｂＳ）−２−エチル−３−
（２−メチルベンジルオキシ）−３，３ａ，５，８ｂ−
テトラヒドロ−２Ｈ−フロ−［２，３−ｅ］フロ［３，
２−ｃ］ピラン（一般式（Ｉ）の化合物番号８）の製造 参考例８によって得られたメチル ５−デオキシ−２−
Ｏ−（フラン−３−イル−メチル）−５−Ｃ−メチル−
３−Ｏ−（２−メチルベンジル）−Ｄ−キシロフラノシ
ド１．４６ｇを１，２−ジクロロエタン１０ｍｌに溶解
し、室温下トリフルオロ酢酸１．４５ｇを加えた。これ
を３時間加熱環流した後に、氷を入れた飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液に注いだ。有機層を充分に水洗した後無
水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧下に溶媒を留去して
油状の粗製物を得た。粗製物はシリカゲルクロマトグラ
フィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：
１）にて精製を行い、目的化合物１．１３ｇを油状物と
して得た。（収率８５％） ¹ H-NMR(CDCl₃,270MHz)δppm;0.87(3H,t,J=7.3Hz),1.74
(2H,dq,J=7.3,7.3Hz),2.35(3H,s),3.97(1H,d,J=2.9Hz),
4.16-4.23(1H,m),4.27(1H,d,J=2.9Hz),4.54(1H,d,J=11.
7Hz),4.56(1H,d,J=13.9Hz),4.70(1H,d,J=13.9Hz),4.73
(1H,d,J=11.7Hz),4.89(1H,d,J=2.9Hz),6.23(1H,d,J=2.2
Hz),7.15-7.26(3H,m),7.33-7.39(2H,m)

【００４０】実施例６ （２Ｒ，３Ｓ，３ａＳ，８ｂＳ）−２−エチル−３−
（２−フルオロベンジルオキシ）−３，３ａ，５，８ｂ
−テトラヒドロ−２Ｈ−チエノ−［２，３−ｄ］フロ
［３，２−ｂ］ピラン（一般式（Ｉ）の化合物番号３）
の製造 参考例９によって得られたメチル ５−デオキシ−３−
Ｏ−（２−フルオロベンジル）−５−Ｃ−メチル−２−
Ｏ−（チオフェン−３−イル−メチル）−Ｄ−キシロフ
ラノシド（α，β体混合物）１．６ｇをジクロロメタン
２０ｍｌに溶解し氷冷下トリフルオロ酢酸２．１ｇを加
えた。これを室温で１２時間攪拌した後に、氷を入れた
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注いだ。有機層を充分
に水洗した後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧下に
溶媒を留去して油状の粗製物を得た。粗製物はシリカゲ
ルクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸
エチル＝９：１）にて精製を行い、目的化合物１．３５
ｇを油状物として得た。（収率９２％）¹ H-NMR(CDCl₃,270MHz)δppm;0.90(3H,t,J=7.3Hz),1.75
(2H,dq,J=7.3,7.3Hz),4.04(1H,d,J=3.7Hz),4.20 (1H,d
t,J=3.7,7.3Hz),4.29(1H,d,J=3.7Hz),4.60(1H,d,J=14.7
Hz),4.64(1H,d,J=12.5Hz),4.81(1H,d,J=12.5Hz),4.83(1
H,d,J=14.7Hz),5.00(1H,d,J=3.7Hz),6.78(1H,d,J=5.1H
z),7.02-7.09(1H,m),7.12-7.18(1H,m),7.26- 7.34(2H,
m),7.42-7.47(1H,m)

【００４１】実施例１〜６と同様にして製造できる一般
式（Ｉ）の化合物を、以下の（Ａ−１）〜（Ａ−８）に
示した構造別にして第１表〜第８表（表１〜２２）に、
その物性値を第９表（表２３〜２６）に示した。

【００４２】

【表１】

【００４３】

【表２】

【００４４】

【表３】

【００４５】

【表４】

【００４６】

【表５】

【００４７】

【表６】

【００４８】

【表７】

【００４９】

【表８】

【００５０】

【表９】

【００５１】

【表１０】

【００５２】

【表１１】

【００５３】

【表１２】

【００５４】

【表１３】

【表１４ 】

【００５５】

【表１５】

【００５６】

【表１６】

【００５７】

【表１７】

【００５８】

【表１８】

【００５９】

【表１９】

【００６０】

【表２０】

【００６１】

【表２１】

【００６２】

【表２２】

【００６３】

【表２３】

【００６４】

【表２４】

【００６５】

【表２５】

【００６６】

【表２６】

【００６７】製剤例および試験例 次に本発明に係わる除草剤の製剤例及び除草活性試験例
を示す。

【００６８】製剤例１ （水和剤） 本発明化合物（２）：２０重量部、ネオペレックス（商
品名、花王製；ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム）：２重量部、ノイゲンＥＡ８０（商品名、第一工業
製薬製；ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル）：１重量部、ホワイトカーボン：１０重量部及び珪
藻土６７重量部をよく粉砕混合して水和剤を得た。

【００６９】製剤例２ （水和剤） 本発明化合物（３）：２０重量部、アルキルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム：２重量部、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテル：１重量部、ホワイトカーボ
ン：１０重量部及びジークライト：６７重量部をよく粉
砕混合して水和剤を得た。

【００７０】製剤例３ （水和剤） 本発明化合物（７）：５０重量部、ホワイトカーボン：
３０重量部、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエー
テル硫酸アンモニウム塩：６重量部、リグニンスルホン
酸ナトリウム：２重量部及び珪藻土：１２重量部をよく
粉砕混合して水和剤を得た。

【００７１】製剤例４ （フロアブル剤） 本発明化合物（８）：５重量部、リグニンスルホン酸ナ
トリウム：２重量部、及びポリオキシエチレンアルキル
アリールエーテル：１重量部に、水：９１．７重量部を
加えて混合しサンドグラインダーを用いて微粉砕した後
に、キサンタンガム：０．３重量部を加えフロアブル剤
を得た。

【００７２】製剤例５ （フロアブル剤） 本発明化合物（３０）：３０重量部と水５０重量部に溶
解したサンエキスＰ２５２（商品名、前記と同様）：１
０重量部を湿式粉砕混合し、その後水９．６重量部に溶
解したケルザンＳ（商品名、ケルコ製；キサンタンガ
ム）：０．２重量部とデルトップ（商品名、武田薬品工
業製：有機ヨウ素系防黴剤）：０．２重量部を加えて混
合し、フロアブル剤を得た。

【００７３】製剤例６ （粉剤） 本発明化合物（７６）：１重量部、エマルゲン９１０
（商品名、花王製；ポリオキシエチレンノニルフェニル
エーテル）：０．５重量部およびカオリンクレー：９
８．５重量部をよく粉砕混合して粉剤を得た。

【００７４】製剤例７ （粉剤） 本発明化合物（７８）：３重量部、リグニンスルホン酸
ナトリウム：３重量部、ポリオキシエチレンアルキルア
リールエーテル：２重量部及びクレー：９２重量部を混
合粉砕して粉剤を得た。

【００７５】製剤例８ （顆粒水和剤） 本発明化合物（９７）：５５重量部、トキサノン６０Ｐ
Ｎ：５重量部、ポリオキシエチレンアルキルアリールエ
ーテル：５重量部及びホワイトカーボン：３５重量部を
よく混合した後、適当量の水を加えて湿潤させ、次に横
押し出し造粒機で押し出し造粒した。これを３０〜６０
℃で乾燥し解砕した後、整粒機で０．３〜０．５ｍｍに
整粒して顆粒水和剤を得た。

【００７６】製剤例９ （粒剤） 本発明化合物（９９）：３重量部、ネオペレックス（商
品名、前記と同様）：２重量部、サンエキスＰ２５２
（商品名、山陽国策パルプ製；リグニンスルホン酸ナト
リウム）：２重量部、ベントナイト：７０重量部および
タルク：２３重量部をよく混合した後、適当量の水を加
えて湿潤させ、次に横押し出し造粒機で押し出し造粒し
た。これを３０〜６０℃で風乾し解砕した後、整粒機で
０．３〜１ｍｍに整粒して粒剤を得た。

【００７７】製剤例１０（粒剤） 本発明化合物（１２０）０．５重量部、ゴーセノール
（Ｇｏｓｅｎｏｌ）ＧＬ−０５ｓ（日本合成化学製ＰＶ
Ａ）：２重量部、サンエキスＰ２５２（山陽国策パルプ
製リグニンスルホン酸ソーダ）：２重量部及びクレー：
９５．５重量部を良く混合した後、適当量の水を加えて
湿潤させ、次に横押し出し造粒機で押し出し造粒した。
これを６０〜９０℃で風乾し解砕した後、整粒機で０．
３〜１ｍｍに整粒して粒剤を得た。

【００７８】製剤例１１（乳剤） 本発明化合物（１３７）：１０重量部、ソルポール８０
０Ａ（商品名、東邦化学製；非イオン性界面活性剤と陰
イオン性界面活性剤の混合物）：１０重量部およびｏ−
キシレン：８０重量部を混合溶解して乳剤を得た。

【００７９】製剤例１２（水和剤） 本発明化合物（１４６）：２０重量部、アルキルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウム：２重量部、ポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテル：１重量部、ホワイトカー
ボン：１５重量部及びジークライト：６２重量部をよく
粉砕混合して水和剤を得た。

【００８０】製剤例１３（水和剤） 本発明化合物（１８５）：５０重量部、ホワイトカーボ
ン：３０重量部、ポリオキシエチレンアルキルフェニル
エーテル硫酸アンモニウム塩：６重量部、リグニンスル
ホン酸ナトリウム：２重量部及び珪藻土：１２重量部を
よく粉砕混合して水和剤を得た。

【００８１】製剤例１４（ｏｉｌ ｉｎ ｗａｔｅｒ型
エマルジョンＥＷ） 本発明化合物（３）：５重量部、トキサノンＦＷ−１０
（商品名、三洋化成工業製；高分子系アニオン）：４重
量部、キサンタンガム：０．３重量部、デルトップ：
０．２重量部及びポリオキシエチレンアルキルアリール
エーテル：２重量部に、水：８８．５重量部を加えホモ
ミキサーにて乳化後、ｏｉｌ ｉｎ ｗａｔｅｒ型エマ
ルジョンＥＷを得た。

【００８２】製剤例１５（ｏｉｌ ｉｎ ｗａｔｅｒ型
エマルジョンＥＷ） 本発明化合物（２）：３０重量部、ゴーセノールＫＨ−
２０（商品名、日本合成化学製；保護コロイド形成）：
４重量部、キサンタンガム：０．３重量部、デルトップ
（商品名、武田薬品工業製：有機ヨウ素系防黴剤）：
０．２重量部及びポリオキシエチレンアルキルアリール
エーテル：４重量部に、水：６１．５重量部を加え、湿
式粉砕混合しｏｉｌ ｉｎ ｗａｔｅｒ型エマルジョン
ＥＷを得た。

【００８３】製剤例１６（顆粒水和剤剤） 本発明化合物（７）：５０重量部、トキサノン６０Ｐ
Ｎ：５重量部、ポリオキシエチレンアルキルアリールエ
ーテル：５重量部及びホワイトカーボン：４０重量部を
よく混合した後、適当量の水を加えて湿潤させ、次に横
押し出し造粒機で押し出し造粒した。これを３０〜６０
℃で乾燥し解砕した後、整粒機で０．３〜０．５ｍｍに
整粒して顆粒水和剤を得た。

【００８４】製剤例１７（粒剤） 本発明化合物（８）：３重量部、ネオペレックス（商品
名、前記と同様）：２重量部、サンエキスＰ２５２（商
品名、山陽国策パルプ製；リグニンスルホン酸ナトリウ
ム）：２重量部、ベントナイト：７０重量部およびタル
ク：２３重量部をよく混合した後、適当量の水を加えて
湿潤させ、次に横押し出し造粒機で押し出し造粒した。
これを３０〜６０℃で風乾し解砕した後、整粒機で０．
３〜１ｍｍに整粒して粒剤を得た。

【００８５】製剤例１８（粒剤） 本発明化合物（３０）：１重量部、ゴーセノール（Ｇｏ
ｓｅｎｏｌ）ＧＬ−０５ｓ（日本合成化学製ＰＶＡ）：
２重量部、サンエキスＰ２５２（山陽国策パルプ製リグ
ニンスルホン酸ソーダ）：２重量部及びクレー：９５重
量部を良く混合した後、適当量の水を加えて湿潤させ、
次に横押し出し造粒機で押し出し造粒した。これを６０
〜９０℃で風乾し解砕した後、整粒機で０．３〜１ｍｍ
に整粒して粒剤を得た。

【００８６】試験例１ 湛水土壌処理試験（漏水条件、
発生前処理） １／５０００アールワグネルポットに土壌を詰め、タイ
ヌビエ、コナギ、ホタルイ、アゼナの種子を播種して湛
水状態とした。これに予め育苗しておいた水稲苗（２〜
３葉期）２本を１株とし、その２株を移植して温室内で
生育させた。１日後（雑草発生前に）、供試化合物が２
Ｋｇ／ｈａの薬量になるように所定量の粒剤（前記製剤
例９に記載した方法に準じて調製）を用いて処理した。
湛水深は３ｃｍに保ち、処理翌日よりポット下部よりガ
ラス管にてポット内の水を滴下流出させる方法で、１日
当たり１ｃｍの漏水を１０日間与えた。処理３０日後に
雑草の発生状況及び水稲に対する薬害状況を観察調査し
た。その結果を第１０表（表２７）に示した。表中、被
検植物の被害程度及び作物に対する薬害程度は、植物の
生育状態を無処理の場合と比較して以下の基準で表示し
た。 ─────────────────────── 表示 対無処理区風乾重比で示した生育率（％） ５ ０〜５ （枯死） ４ ６〜10 （甚害） ３ 11〜40 （中害） ２ 41〜70 （小害） １ 71〜90 （僅少害） ０ 91〜100 （無害） ──────────────────────

【００８７】

【表２７】

【００８８】

【化１０】 対照薬剤：：特開平７−１３８２６０号記載の化合物 （ＸＶＩＩＩＩ）（化１１）

【００８９】

【化１１】

【００９０】試験例２ 湛水土壌処理試験（漏水条件、
生育期処理） １／５０００アールワグネルポットに土壌を詰め、タイ
ヌビエ、コナギ、ホタルイ、アゼナの種子を播種して湛
水状態とした。これに予め育苗しておいた水稲苗（２〜
３葉期）２本を１株とし、その２株を移植して温室内で
生育させた。タイヌビエが２葉になった時に、供試化合
物が２Ｋｇ／ｈａの薬量になるよう所定量の粒剤（前記
製剤例９に記載した方法に準じて調製）を処理した。湛
水深は３ｃｍに保ち、処理翌日よりポット下部よりガラ
ス管にてポット内の水を滴下流出させる方法で、１日当
たり１ｃｍの漏水を１０日間与えた。３０日後に雑草の
発生状況及び水稲に対する薬害状況を観察調査した。そ
の結果を第１１表（表２８〜２９）に示した。表中、被
検植物の被害程度及び作物に対する薬害程度は、試験例
１と同様に表示した。

【００９１】

【表２８】

【００９２】

【表２９】 対照薬剤は試験例１と同様。

【００９３】試験例３ 畑作土壌処理試験（発生前処
理） １／２５００アールの樹脂性ポットに土壌を詰め、これ
にヒエ、メヒシバ、エノコログサ、ハコベ、アオビユ、
大豆、綿の種子を混合した土壌で１〜２ｃｍの覆土を行
い、温室内で生育させた。１日後（雑草発生前に）供試
化合物が３Ｋｇ／ｈａの薬量になるように所定量の水和
剤（前記製剤例１に記載した方法に準じて調製）を水で
希釈調整し、１アール当たり１０Ｌ相当の散布液量で土
壌表面に加圧微量噴霧器を用いて均一に散布した。薬剤
散布後３０日経過後に、雑草の生育状況および作物に対
する薬害状況を観察調査した。その結果を第１２表（表
３０）に示した。表中、被験植物の被害程度および作物
に対する薬害程度は試験例１と同様に表示した。

【００９４】

【表３０】

【００９５】試験例４ 畑作茎葉処理（生育期処理） １／１００００アール樹脂性ポットに土壌を詰め、これ
にヒエ、メヒシバ、エノコログサ、ハコベ、アオビユ、
大豆、綿を一種類づつ播種し、温室内で生育させた。各
植物が２〜３葉になった時、供試化合物が３Ｋｇ／ｈａ
の薬量になるように所定量の水和剤（前記製剤例２に記
載した方法に準じて調製）を水を用いて希釈調整し、１
アール当たり１０Ｌ相当の散布液量で加圧微量噴霧器を
用いて均一に散布した。薬剤散布後３０日経過後に、雑
草の生育状況および作物に対する薬害状況を観察調査し
た。その結果を第１３表（表３１）に示した。表中、被
験植物の被害程度および作物に対する薬害程度は試験例
１と同様に表示した。

【００９６】

【表３１】

【００９７】

【発明の効果】一般式（Ｉ）で表わされる本発明化合物
は新規な化合物であり、優れた除草活性と選択性を示
す。すなわち、本発明化合物を水田で使用した場合には
水稲に対する選択性に優れ、かつタイヌビエ、コナギ、
ホタルイ、アゼナ等の重要雑草に対し高い殺草効果を示
す。また、本発明化合物は、畑作においても大豆、綿等
の作物に高い選択性を有し、かつヒエ、メヒシバ、エノ
コログサ、ハコベ、アオビユ等の重要雑草に高い殺草効
果を示す。従って本発明化合物は、水田及び畑作用除草
剤として適用することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 495/14 Ｃ０７Ｄ 495/14 Ａ 498/14 498/14 513/14 513/14 // Ｃ０７Ｍ 7:00 (72)発明者 江田 貞文 千葉県茂原市東郷1144番地 三井東圧化 学株式会社内 審査官 齋藤 恵 (56)参考文献 特開 平７−138260（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07D 491/00 - 498/22 C07D 513/00 - 513/02 A01N 43/00 - 43/92 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ）（化１） 【化１】 ［式中Ｒ₁ は低級アルキル基を表し、Ｒ₂ は下記の一般
   式（ＩＩ）〜（ＸＩ）（化２）で表される基を表し、 【化２】 ｛式中、Ｒ₅ は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低
   級アシルオキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン置換低級ア
   ルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基または低級ア
   ルキルチオ基を表し、Ｒ₆ は水素原子または低級アルキ
   ル基を表し、Ｒ₇は低級アルキル基を表し、Ｒ₈ は低級
   アルキル基、低級アルコキシ基、低級アシルオキシ基、
   低級アルキルチオ基、ハロゲン原子、ハロゲン置換低級
   アルキル基またはハロゲン置換低級アルコキシ基を表
   し、Ｘはメチレン基、酸素原子、硫黄原子または（低級
   アルキル基もしくは低級アシル基で置換されていてもよ
   い）窒素原子を表し、また隣接炭素原子と二重結合を形
   成してもよく、Ｙは酸素原子、硫黄原子または（低級ア
   ルキル基もしくは低級アシル基で置換されていてもよ
   い）窒素原子を表し、ｎは０〜５の整数を、ｐは０〜３
   の整数を表し、ｎおよびｐが２以上の時、Ｒ₅ およびＲ
   ₈ はそれぞれ同じでも異なっていても良く、ｑは０ない
   し１であり、ｒは０〜２の整数を表し、ｑとｒの合計値
   は０、１または２であり、ｒとｑが同時に０の時にはＸ
   はメチレン基である。｝Ｒ₃ およびＲ₄ は一緒になって
   環内に１または２個のヘテロ原子を含む不飽和の５また
   は６員環（低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級ア
   シルオキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲン原子、ハ
   ロゲン置換低級アルキル基またはハロゲン置換低級アル
   コキシ基で置換されていてもよい）を形成する。］で表
   されるエーテル系化合物。
2. 【請求項２】 Ｒ₂ が一般式（ＩＩ）または（ＶＩＩ
   Ｉ）〜（Ｘ）で表される基を表し、Ｒ₃ およびＲ₄ は一
   緒になって環内に１または２個のヘテロ原子を含む不飽
   和の５員環（低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級
   アシルオキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲン原子、
   ハロゲン置換低級アルキル基またはハロゲン置換低級ア
   ルコキシ基で置換されていてもよい）を形成する請求項
   １記載の化合物。
3. 【請求項３】 Ｒ₃ とＲ₄ が一緒になって環内に１個以
   上の酸素原子を含む不飽和の５員ヘテロ環（低級アルキ
   ル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子またはハロゲン
   置換低級アルキル基で置換されていてもよい）を形成す
   る請求項１記載の化合物。
4. 【請求項４】 Ｒ₃ とＲ₄ が一緒になって環内に１個以
   上の硫黄原子を含む不飽和の５員ヘテロ環（低級アルキ
   ル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子またはハロゲン
   置換低級アルキル基で置換されていてもよい）を形成す
   る請求項１記載の化合物。
5. 【請求項５】 請求項１記載の一般式（Ｉ）で表される
   エーテル系化合物を有効成分として含有することを特徴
   とする除草剤。