JPH07136925A - Grinding method and grinding device - Google Patents

Grinding method and grinding device

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JPH07136925A
JPH07136925A JP31606493A JP31606493A JPH07136925A JP H07136925 A JPH07136925 A JP H07136925A JP 31606493 A JP31606493 A JP 31606493A JP 31606493 A JP31606493 A JP 31606493A JP H07136925 A JPH07136925 A JP H07136925A
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JP
Japan
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polished
abrasive
polishing
capillary
thin tube
Prior art date
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Application number
JP31606493A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Michiyuki Harada
宙幸 原田
Kazu Mikasa
和 三笠
Kiyoshi Mukoya
清 向谷
Tomoyuki Takahashi
智之 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TOKYO DAIYAMONDO KOGU SEISAKUSHO KK
Mitsubishi Corp
MA Aluminum Corp
Original Assignee
TOKYO DAIYAMONDO KOGU SEISAKUSHO KK
Mitsubishi Corp
Mitsubishi Aluminum Co Ltd
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Filing date
Publication date
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  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To facilitate grinding of the inside face of a capillary by carrying out grinding in such ways as pressing abrasives onto the surface to be ground by means of magnetic force from the opposite face of the surface to be ground in a material to be ground and vibrating the abrasives in the plane parallel to the surface to be ground. CONSTITUTION:A proper amount of abrasives 37 containing magnetic materials are inserted into a capillary 1, and rotary connectors 3A, 3B rotating and supporting the capillary 1 by means of a rotary roller 27 are connected to both end parts of the capillary 1. Under this condition, the upper end face of a permanent magnet 11 is brought into contact with the lower outside face of the capillary 1, and by means of its magnetic force, the abrasives 37 are gathered to be pressed onto the inside face of the capillary 1. Then, alcohol is supplied from one end part, of the capillary 1 to the other end part. At the same time, an ultrasonic vibration generating device 13 is driven so that the permanent magnet 11 is vibrated in the direction parallel to the axial line of the capillary 1. In this way, the abrasives 37 are vibrated along the inside face of the capillary 1 while brought into pressure contact with the inside face of the capillary 1, and as a result, the inside face of the capillary 1 can be easily ground.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体製造装置にお
ける高純度ガスの供給用配管の内面の如く、通常の研磨
方法では研磨しにくい部分を研磨するための方法および
装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for polishing a portion which is difficult to polish by a normal polishing method such as an inner surface of a high purity gas supply pipe in a semiconductor manufacturing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】周知のように半導体製造装置において
は、各種の処理のための反応ガス、雰囲気ガス、あるい
はキャリヤガス等として、種々の高純度ガスを用いてお
り、またその高純度ガスを導くための多数の配管を必要
としている。
2. Description of the Related Art As is well known, in semiconductor manufacturing equipment, various high-purity gases are used as a reaction gas, an atmosphere gas, a carrier gas, etc. for various processes, and the high-purity gas is introduced. Need a lot of plumbing for.

【0003】一方集積回路等の半導体装置においては、
各構成部分の純度や不純物濃度が特性に大きな影響を与
えるから、半導体装置製造過程では外部からの汚染が大
敵とされている。そこで半導体製造に使用するガス供給
用の配管としては、従来は、ステンレス鋼管の内面を電
解研磨により鏡面に加工して、微細パーティクルの発生
や水分の吸脱着を少なくした電解研磨ステンレス鋼管が
広く用いられている。
On the other hand, in semiconductor devices such as integrated circuits,
Since the purity and the impurity concentration of each component have a great influence on the characteristics, external contamination is considered a major enemy in the semiconductor device manufacturing process. Therefore, as a gas supply pipe used for semiconductor manufacturing, conventionally, an electrolytically polished stainless steel pipe is widely used in which the inner surface of a stainless steel pipe is processed into a mirror surface by electrolytic polishing to reduce the generation of fine particles and moisture adsorption / desorption. Has been.

【0004】ところでステンレス鋼は、重金属である
鉄、クロム、ニツケルを主成分としているから、ステン
レス鋼を半導体製造装置に用いれば、そのステンレス鋼
が半導体製造で最も問題とされている重金属汚染源とな
るおそれがある。そのため最近の半導体製造装置では、
ステンレス鋼に代えて重金属汚染の問題のないアルミニ
ウム材料を使用する傾向が強まっている。実際、プラズ
マ装置や真空装置の処理室の内面の材料としては、従来
のステンレス鋼に代えてアルミニウム材料が主流になっ
ており、これにより重金属汚染低減等が図られるように
なっている。
By the way, since stainless steel contains iron, chromium, and nickel as heavy metals as main components, if stainless steel is used in a semiconductor manufacturing apparatus, the stainless steel becomes a source of heavy metal pollution which is the most problematic in semiconductor manufacturing. There is a risk. Therefore, in recent semiconductor manufacturing equipment,
There is a growing tendency to use aluminum materials instead of stainless steel, which are free of heavy metal contamination problems. In fact, as a material for the inner surface of the processing chamber of the plasma device or the vacuum device, an aluminum material has been mainly used instead of the conventional stainless steel, and thereby, heavy metal contamination can be reduced.

【0005】上述のような処理室内面のアルミニウム材
料は、一般に最終仕上げ切削時に、乾燥酸素またはアル
コールを切削面に吹付けながらダイヤモンドバイトを用
いて切削することにより、平滑な面に仕上げると同時に
切削による新生面を酸化させて緻密なAl2 3 皮膜を
生成させる仕上げ加工が行なわれるようになっている。
このような仕上げ加工のうち、酸素を吹付けながらダイ
ヤモンドバイトで切削する加工は一般にEX加工と称さ
れ、またアルコールを吹付けながらダイヤモンドバイト
で切削する加工は一般にEL加工と称されている。
The aluminum material on the surface of the processing chamber as described above is generally cut at the same time as a smooth surface by cutting with a diamond bite while spraying dry oxygen or alcohol on the cutting surface at the time of final finish cutting. Finishing is performed so as to oxidize the newly-formed surface due to the formation of a dense Al 2 O 3 film.
Of these finishing processes, the process of cutting with a diamond bite while blowing oxygen is generally called EX process, and the process of cutting with a diamond bite while blowing alcohol is generally called EL process.

【0006】前述のようなEX加工もしくはEL加工に
よって得られたアルミニウム材料表面は、緻密なAl2
3 膜で覆われているため水分等の吸脱着ガス量が少な
く、しかも微細パーティクルの発生も少なく、クリーン
で真空特性に優れており、さらに一般にアルミニウム材
料は前述のように重金属汚染源となるおそれが少ないた
め、半導体製造装置における高純度ガス用の配管に要求
される特性を満たしている。
The surface of the aluminum material obtained by the above-mentioned EX processing or EL processing is dense Al 2
Since it is covered with an O 3 film, the amount of adsorbed and desorbed gas such as water is small, the generation of fine particles is small, and it is clean and has excellent vacuum characteristics. Further, as mentioned above, aluminum materials are generally a source of heavy metal contamination. Therefore, the characteristics required for piping for high-purity gas in semiconductor manufacturing equipment are satisfied.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】前述のようにEX加工
もしくはEL加工によって仕上げられたアルミニウム材
料は、半導体製造装置のガス配管に要求される特性を満
たすことができるが、従来のダイヤモンドバイトを用い
て切削するEX加工やEL加工を半導体製造装置のガス
配管に適用することは実際上は困難であった。すなわち
半導体製造装置のアルミニウム製ガス配管については、
その内面にEX加工もしくはEL加工を施すことが必要
になるが、この種の配管は、その内径が4mm程度、ある
いはそれ以下と細く、しかも長さが2mあるいはそれ以
上にわたるため、ダイヤモンドバイトを管の内側に挿入
して内面を切削することは困難であり、そのため従来は
半導体製造装置のガス配管として、EX加工もしくはE
L加工を施したアルミニウム管を実現することは困難と
されていた。
The aluminum material finished by EX processing or EL processing as described above can satisfy the characteristics required for the gas pipe of the semiconductor manufacturing apparatus, but the conventional diamond tool is used. It has been practically difficult to apply EX processing or EL processing for cutting by means of cutting to a gas pipe of a semiconductor manufacturing apparatus. That is, regarding the aluminum gas pipe of the semiconductor manufacturing equipment,
It is necessary to perform EX processing or EL processing on the inner surface, but this type of piping has a thin inner diameter of about 4 mm or less and a length of 2 m or more, so a diamond bite can be piped. It is difficult to insert into the inside of the machine and cut the inner surface, and therefore, conventionally, as a gas pipe of a semiconductor manufacturing apparatus, EX processing or E
It has been difficult to realize an L-processed aluminum tube.

【0008】この発明は以上の事情を背景としてなされ
たもので、細くて長い管の内面の如く従来のダイヤモン
ドバイトでは切削が困難であったような部材、箇所につ
いても充分に研磨を行ない得るようにし、これによって
細くて長いアルミニウム管についても従来のEX加工も
しくはEL加工と同様に緻密なAl2 3 膜で覆われた
仕上面を得ることを可能として、半導体製造装置のガス
配管に対するアルミニウム管の適用を実際に可能とする
ことを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to sufficiently grind members and places which are difficult to cut with a conventional diamond cutting tool such as the inner surface of a thin and long pipe. As a result, it is possible to obtain a finished surface covered with a dense Al 2 O 3 film even in the case of thin and long aluminum pipes as in the conventional EX processing or EL processing. The purpose is to actually enable the application of.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】前述のような課題を解決
するため、この発明の研磨方法は、基本的には、請求項
1に記載したように、非磁性材料からなる被研磨材にお
ける研磨すべき面に、少なくとも一部に磁性材料を含む
研磨材を配置し、前記被研磨材における研磨すべき面に
対し反対側の面の側から前記研磨材に磁気を印加して、
磁力によりその研磨材を研磨すべき面に圧接させつつ、
研磨すべき面と実質的に平行な面内で研磨材を振動させ
て研磨することを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, the polishing method of the present invention is basically a polishing method for polishing a material to be polished made of a non-magnetic material as described in claim 1. An abrasive containing at least a part of a magnetic material is disposed on the surface to be polished, and magnetism is applied to the abrasive from the surface opposite to the surface to be polished of the material to be polished,
While pressing the abrasive against the surface to be polished by magnetic force,
It is characterized in that the abrasive is vibrated and polished in a plane substantially parallel to the surface to be polished.

【0010】また請求項2の発明の研磨方法は、請求項
1に記載の研磨方法において、研磨材に磁気を印加する
ための磁気印加手段を振動させ、これによって研磨材を
振動させるものである。
A polishing method according to a second aspect of the present invention is the polishing method according to the first aspect, in which a magnetism applying means for applying magnetism to the abrasive is vibrated, thereby vibrating the abrasive. .

【0011】さらに請求項3の発明の研磨方法は、請求
項1に記載の研磨方法において、前記研磨材に印加する
磁気の分布状態を周期的に変化させ、これによって研磨
材を振動させるものである。
Further, the polishing method of the invention of claim 3 is the polishing method of claim 1, wherein the distribution state of the magnetism applied to the abrasive is periodically changed, thereby vibrating the abrasive. is there.

【0012】そしてまた請求項4の発明の研磨方法は、
請求項1に記載の研磨方法において、前記研磨材とし
て、磁性材料からなる粒の表面に研磨用硬質材料を固着
してなる研磨粒を用いるものである。
And, the polishing method of the invention of claim 4 is
The polishing method according to claim 1, wherein as the polishing material, polishing particles formed by fixing a hard material for polishing to the surface of particles made of a magnetic material are used.

【0013】また請求項5の発明の研磨方法は、請求項
4に記載の研磨方法において、前記研磨材における磁性
材料として鋼を用い、前記硬質研磨材料としてダイヤモ
ンドを用いるものである。
A polishing method according to a fifth aspect of the present invention is the polishing method according to the fourth aspect, wherein steel is used as the magnetic material of the polishing material and diamond is used as the hard polishing material.

【0014】そして請求項6の発明の研磨方法は、請求
項1に記載の研磨方法において、前記被研磨材がアルミ
ニウム管であり、そのアルミニウム管の内面が研磨すべ
き面とされ、アルミニウム管内にアルコールもしくは乾
燥酸素を流入させつつ、管内面を研磨するものである。
A polishing method according to a sixth aspect of the present invention is the polishing method according to the first aspect, wherein the material to be polished is an aluminum tube, and the inner surface of the aluminum tube is the surface to be polished. The inner surface of the tube is polished while injecting alcohol or dry oxygen.

【0015】一方請求項7の発明の研磨装置は、少なく
とも一部に磁性材料を含む研磨材と、被研磨材の研磨す
べき面に配置された研磨材に、被研磨材の研磨すべき面
に対し反対側の面から磁気を印加させて研磨すべき面に
研磨材を磁力により圧接させるための磁気印加手段と、
前記研磨材を、研磨すべき面と実質的に平行な面内で振
動させるための振動手段とを有してなるものである。
On the other hand, according to the polishing apparatus of the invention of claim 7, the polishing material containing at least a part of the magnetic material, the polishing material arranged on the surface of the material to be polished, and the surface of the material to be polished to be polished. A magnetic applying means for applying a magnetism from the opposite surface to press the abrasive with a magnetic force to the surface to be polished,
And a vibrating means for vibrating the abrasive in a plane substantially parallel to the surface to be polished.

【0016】また請求項8の発明の研磨装置では、請求
項7に記載の研磨装置において、前記振動手段が、磁気
印加手段を振動させるためのものとされている。
Further, in the polishing apparatus of the invention of claim 8, in the polishing apparatus of claim 7, the vibrating means is for vibrating the magnetism applying means.

【0017】そしてまた請求項9の発明の研磨装置で
は、請求項7に記載の研磨装置において、前記振動手段
が、磁気印加手段の発生する磁気の分布状態を周期的に
変化させる手段とされている。
According to a ninth aspect of the polishing apparatus of the present invention, in the polishing apparatus according to the seventh aspect, the vibrating means is means for periodically changing the distribution state of the magnetism generated by the magnetism applying means. There is.

【0018】[0018]

【作用】この発明の研磨方法において対象となる被研磨
材は、アルミニウムもしくはアルミニウム合金などの非
磁性材料である。このような非磁性材料からなる被研磨
材における研磨すべき面に、磁性材料を含む研磨材を配
置して、被研磨材における研磨すべき面に対して反対側
の面から磁気を印加すれば、磁性材料を含む研磨材は磁
力によって被研磨材の研磨すべき面に圧接されることに
なる。そこでその研磨材を、研磨すべき面と実質的に平
行な面内で振動させれば、研磨すべき面の研磨が進行す
ることになる。
The object to be polished in the polishing method of the present invention is a non-magnetic material such as aluminum or aluminum alloy. If a polishing material containing a magnetic material is arranged on the surface to be polished of the material to be polished made of such a non-magnetic material and magnetism is applied from the surface opposite to the surface to be polished of the material to be polished. The magnetic material-containing abrasive material is pressed against the surface of the material to be polished by the magnetic force. Therefore, if the abrasive is vibrated in a plane substantially parallel to the surface to be polished, the polishing of the surface to be polished will proceed.

【0019】ここで、研磨材を磁力により被研磨材の研
磨すべき面に圧接させつつ研磨材を振動させるための具
体的手法としては、研磨材に磁気を印加するための磁気
印加手段、例えば永久磁石あるいは電磁石を物理的に振
動させる方法がある。また、研磨材に印加する磁気の分
布状態を周期的に変化させることによって、研磨材を研
磨すべき面に圧接させつつ振動させることもできる。い
ずれにしても、研磨材に対して直接機械的な力を作用さ
せることなく、磁気印加手段の側からの作用によって研
磨材を振動させることができる。
Here, as a specific method for vibrating the abrasive while pressing the abrasive against the surface of the object to be polished by magnetic force, a magnetic applying means for applying magnetism to the abrasive, for example, There is a method of physically vibrating a permanent magnet or an electromagnet. Further, by periodically changing the distribution state of the magnetism applied to the abrasive, the abrasive can be vibrated while being pressed against the surface to be polished. In any case, the abrasive can be vibrated by the action from the side of the magnetic applying means without directly applying a mechanical force to the abrasive.

【0020】以上のように研磨材を被研磨材の研磨すべ
き面に圧接させるための力は、被研磨材の研磨すべき面
に対し反対側の面から磁力として与えられ、また研磨材
を振動させる力も、同じく研磨すべき面に対し反対側の
面の磁気印加手段の側からの作用によって与えることが
できる。このことは、研磨材の研磨すべき側の面におい
て研磨材に直接機械的な力を与えなくて済むことを意味
し、したがって被研磨材が細い管であってかつその細管
の内面を研磨すべき場合でも、その細管内には研磨材を
配置しておくだけで足りることになる。そのため半導体
製造装置における高純度ガス供給用のアルミニウム製細
管の内面の研磨加工も容易に行なうことができる。また
この場合、アルミニウム製細管内にアルコールもしくは
乾燥酸素を流すことによって、従来のEL加工、EX加
工と同様な仕上げ面を得ることができる。
As described above, the force for bringing the abrasive material into pressure contact with the surface to be polished of the material to be polished is given as a magnetic force from the surface opposite to the surface to be polished of the material to be polished. The vibrating force can also be applied by the action from the side of the magnetic applying means on the surface opposite to the surface to be polished. This means that it is not necessary to directly apply a mechanical force to the abrasive on the surface of the abrasive to be polished, and therefore the material to be polished is a thin tube and the inner surface of the thin tube is polished. Even if it should, it is sufficient to place an abrasive in the narrow tube. Therefore, the inner surface of the aluminum thin tube for supplying high-purity gas in the semiconductor manufacturing apparatus can be easily polished. Further, in this case, a finished surface similar to that of the conventional EL processing and EX processing can be obtained by flowing alcohol or dry oxygen in the aluminum thin tube.

【0021】[0021]

【実施例】図1、図2にこの発明の研磨方法を実施する
ための装置の一例を示す。
1 and 2 show an example of an apparatus for carrying out the polishing method of the present invention.

【0022】図1に示される実施例では、研磨すべき被
研磨材としては、アルミニウム製(アルミニウム合金製
を含む)の細管1が用いられており、またこの被研磨材
細管1の内面1Aが研磨すべき面とされている。被研磨
材細管1は水平な軸線を中心として回転可能となるよう
にその両端が回転コネクタ3A,3Bによって水平に支
持されている。これらの回転コネクタ3A,3Bは、被
研磨材細管1を回転可能に支持するばかりでなく、後述
するようにアルコール32を細管1内に供給しかつ細管
1内から排出させる役割を果たすものであって、一方の
回転コネクタ3Aにはアルコール供給管5が接続され、
他方の回転コネクタ3Bにはアルコール排出管7が接続
されている。なお各回転コネクタ3A,3Bの内周面と
被研磨材細管1の両端部外周面との間は、Oリング9
A,9Bによってシールされている。
In the embodiment shown in FIG. 1, a thin tube 1 made of aluminum (including aluminum alloy) is used as the material to be polished, and the inner surface 1A of the thin tube 1 to be polished is It is the surface to be polished. Both ends of the thin pipe 1 to be polished are horizontally supported by rotary connectors 3A and 3B so as to be rotatable about a horizontal axis. These rotary connectors 3A and 3B not only rotatably support the thin tube 1 to be polished, but also serve to supply alcohol 32 into the thin tube 1 and discharge it from the thin tube 1 as described later. The alcohol supply pipe 5 is connected to one of the rotary connectors 3A,
An alcohol discharge pipe 7 is connected to the other rotary connector 3B. An O-ring 9 is provided between the inner peripheral surface of each of the rotary connectors 3A and 3B and the outer peripheral surface of both ends of the work material thin tube 1.
It is sealed by A and 9B.

【0023】さらに前記被研磨材細管1の下面側には、
その細管1に上面が接するように永久磁石11が配設さ
れている。この永久磁石11は、超音波振動発生器13
を介して可動基台15に取付けられている。この可動基
台15には、被研磨材細管と平行なスクリュー軸17が
貫通して螺合されるとともに、そのスクリュー軸17と
平行なガイドロッド19が貫通され、これらのスクリュ
ー軸17およびガイドロッド19は両端が軸受台21
A,21Bに支持されており、かつスクリュー軸17に
はモータ、ギヤ機構等からなる回転駆動装置23が連結
されている。さらに前記永久磁石11の上端部の両側に
は、冷却水を噴出するためのノズル25A,25Bが配
設されており、これらのノズル25A,25Bは支持腕
26A,26Bを介して前記可動基台15に取付けられ
ている。
Further, on the lower surface side of the material thin tube 1 to be polished,
A permanent magnet 11 is arranged so that the upper surface is in contact with the thin tube 1. This permanent magnet 11 has an ultrasonic vibration generator 13
It is attached to the movable base 15 via. A screw shaft 17 parallel to the thin tube to be polished penetrates and is screwed into the movable base 15, and a guide rod 19 parallel to the screw shaft 17 penetrates therethrough. Both ends of 19 are bearing stands 21
The screw shaft 17 is supported by A and 21B, and the screw shaft 17 is connected to a rotary drive device 23 including a motor and a gear mechanism. Further, nozzles 25A and 25B for ejecting cooling water are arranged on both sides of the upper end of the permanent magnet 11, and these nozzles 25A and 25B are connected to the movable base via support arms 26A and 26B. It is attached to 15.

【0024】一方、被研磨材細管1の上面側には、被研
磨材細管1の上面に接する回転ローラ27が被研磨材細
管1と平行な軸線を中心として回転するように設けられ
ており、この回転ローラ27にはモータ、ギヤ機構等か
らなる回転駆動装置29が連結されている。なおこの回
転駆動装置29は、図では特に示していないが、前記可
動基台15に支持されるか、または可動基台15と同期
してその可動基台15の移動方向に平行に移動するよう
に構成されている。
On the other hand, on the upper surface side of the thin tube 1 to be polished, a rotating roller 27 which is in contact with the upper surface of the thin tube 1 to be polished is provided so as to rotate about an axis parallel to the thin tube 1 to be polished. A rotation drive device 29 including a motor and a gear mechanism is connected to the rotation roller 27. Although not particularly shown in the drawing, the rotary drive device 29 is supported by the movable base 15 or moves in parallel with the moving direction of the movable base 15 in synchronization with the movable base 15. Is configured.

【0025】さらに前記回転コネクタ3Bに接続された
アルコール排出管7は、アルコールタンク31のアルコ
ール戻り口31Aに導かれている。このアルコールタン
ク31はアルコール32を収容するように作られるとと
もに、一端側に前記アルコール戻り口31Aが形成さ
れ、かつ他端側にアルコール出口31Bが形成され、し
かもそのアルコール戻り口31Aとアルコール出口31
Bとの間に間隔を置いて垂直な仕切壁31C,31Dを
設けたものであって、第1の仕切壁31Cはその下端側
が開放され、第2の仕切壁31Dは上端側が開放されて
いる。そして前記アルコール出口31Bは、アルコール
送り出し用ポンプ33、アコール濾過器35、および前
記アルコール供給管5を介して前記回転コネクタ3Aに
導かれている。
Further, the alcohol discharge pipe 7 connected to the rotary connector 3B is led to the alcohol return port 31A of the alcohol tank 31. The alcohol tank 31 is made to contain the alcohol 32, the alcohol return port 31A is formed on one end side, and the alcohol outlet 31B is formed on the other end side, and the alcohol return port 31A and the alcohol outlet 31 are formed.
Vertical partition walls 31C and 31D are provided at a distance from B. The lower end side of the first partition wall 31C is open and the upper end side of the second partition wall 31D is open. . Then, the alcohol outlet 31B is guided to the rotary connector 3A via the alcohol delivery pump 33, the alcohol filter 35, and the alcohol supply pipe 5.

【0026】なお図1、図2において符号37は、研磨
時において被研磨材細管1内に配置される粒状(小球
状、小塊状あるいは小片状でも良い)の研磨材であり、
この研磨材37は各粒の少なくとも一部に磁性材料を有
する構成とされている。具体的には、例えば鋼球等の磁
性材料からなる小球もしくは粒の表面に無電解メッキ等
の手法によってダイヤモンド粉もしくは立方晶窒化ホウ
素(C−BN)、その他TiC,TiN等の硬質研磨材
料を固定あるいは被覆してなるものを用いることができ
る。
In FIGS. 1 and 2, reference numeral 37 is a granular abrasive (which may be in the shape of a small sphere, a small lump, or a small piece) which is placed in the thin tube 1 to be polished during polishing.
The abrasive 37 is configured to have a magnetic material in at least a part of each grain. Specifically, for example, diamond powder or cubic boron nitride (C-BN), other hard polishing materials such as TiC, TiN, etc. on the surface of small spheres or grains made of a magnetic material such as steel balls by a method such as electroless plating. It is possible to use a product obtained by fixing or coating.

【0027】以上のような装置を用いてアルミニウム製
細管等の被研磨材細管1の内面を研磨するにあたって
は、細管1内に前述のような研磨材37を適量だけ挿入
し、その細管1の両端部を回転コネクタ3A,3Bに連
結する。この状態では、被研磨材細管1の下側の外面に
永久磁石11の上端面が接し、また細管1の上側の外面
に回転ローラ27の外周面が接することになる。そして
細管1内の研磨材37は、磁性材料を含んでいるため、
永久磁石11の磁力によってその永久磁石11の先端面
に近い位置に集合しかつ細管1の内面に押し付けられ
る。そしてアルコールタンク31からアルコール供給管
5および回転コネクタ3Aを介して、細管1の一方の端
部から細管1内にアルコール32を供給するとともに、
その細管1の他方の端部から回転コネクタ3Bを介して
アルコール排出管7の側へアルコールを排出させなが
ら、超音波振動発生装置13を駆動させて、永久磁石1
1を細管1の軸線と平行な方向へ振動させる。これによ
って磁性材を含む研磨材37は、細管1の内面に圧接さ
れたまま細管1の内面に沿って振動し、細管1の内面が
研磨されることになる。そして研磨によって生じた活性
な新生面は、細管1内を流れるアルコール32によって
直ちに酸化されて、緻密かつ均一な酸化皮膜(Al2
3 皮膜)が生成される。すなわち従来のアルコール雰囲
気でダイヤモンドバイトを用いた切削加工するいわゆる
EL加工を行なった場合と同様な仕上げ面が得られる。
なお研磨によって生じた切屑、研磨粉は、アルコール3
2によって押し流されて、回転コネクタ3Bの側から排
出管7を経てアルコールタンク32へ戻される。
To polish the inner surface of the thin tube 1 to be polished, such as an aluminum thin tube, by using the above-described apparatus, an appropriate amount of the above-mentioned abrasive 37 is inserted into the thin tube 1 and the thin tube 1 is polished. Both ends are connected to the rotary connectors 3A and 3B. In this state, the upper surface of the permanent magnet 11 is in contact with the lower outer surface of the thin tube 1 to be polished, and the outer surface of the rotary roller 27 is in contact with the upper outer surface of the thin tube 1. Since the abrasive 37 in the thin tube 1 contains a magnetic material,
Due to the magnetic force of the permanent magnet 11, the permanent magnets 11 gather at a position close to the tip end surface of the permanent magnet 11 and are pressed against the inner surface of the capillary 1. Then, while supplying alcohol 32 from the alcohol tank 31 into the thin tube 1 from one end of the thin tube 1 through the alcohol supply pipe 5 and the rotary connector 3A,
While discharging alcohol from the other end of the thin tube 1 to the alcohol discharge tube 7 side through the rotary connector 3B, the ultrasonic vibration generator 13 is driven to drive the permanent magnet 1
1 is vibrated in a direction parallel to the axis of the thin tube 1. As a result, the abrasive 37 containing the magnetic material vibrates along the inner surface of the thin tube 1 while being pressed against the inner surface of the thin tube 1, and the inner surface of the thin tube 1 is polished. The active new surface generated by polishing is immediately oxidized by the alcohol 32 flowing in the thin tube 1 to form a dense and uniform oxide film (Al 2 O).
3 film) is generated. That is, a finished surface similar to that obtained when performing so-called EL processing in which a diamond cutting tool is used for cutting in a conventional alcohol atmosphere is obtained.
Note that the chips and polishing powder generated by polishing are alcohol 3
It is washed away by 2 and returned to the alcohol tank 32 from the rotary connector 3B side through the discharge pipe 7.

【0028】ここで、ノズル25A,25Bから永久磁
石11の先端部へ向けて冷却水を噴出させながら永久磁
石11を振動させることによって、永久磁石11と被研
磨材細管1との間の摩擦発熱による温度上昇を防止し
て、細管1の温度上昇による材質劣化を防止することが
できる。
Here, by vibrating the permanent magnet 11 while ejecting the cooling water from the nozzles 25A and 25B toward the tip of the permanent magnet 11, frictional heat generation between the permanent magnet 11 and the material thin tube 1 is generated. It is possible to prevent the temperature rise due to the temperature rise, and to prevent the material deterioration due to the temperature rise of the thin tube 1.

【0029】また回転駆動装置29を駆動させることに
より回転ローラ27を回転させれば、それに接している
被研磨材細管1が軸中心に回転せしめられるから、細管
1の円周方向に研磨位置を変えることができ、一方回転
駆動装置23を駆動させてスクリュー軸17を回転させ
れば、そのスクリュー軸17に螺合している可動基台1
5がガイドロッド19にガイドされつつ水平方向へ移動
し、これに伴なって超音波振動発生器13および永久磁
石11が被研磨材細管1の中心軸線と平行に水平方向へ
移動し、そのため研磨位置を細管1の長さ方向に変化さ
せることができる。結局、回転駆動装置29、回転駆動
装置23を連続的もしくは間欠的に駆動させることによ
って、被研磨材細管1の内面の全周にわたり、しかも細
管のほぼ全長にわたって研磨することができる。
When the rotary roller 27 is rotated by driving the rotary drive device 29, the thin tube 1 to be polished, which is in contact with the rotary roller 27, is rotated about its axis, and therefore the polishing position is set in the circumferential direction of the thin tube 1. If the rotary drive device 23 is driven to rotate the screw shaft 17, the movable base 1 screwed onto the screw shaft 17 can be changed.
5 moves in the horizontal direction while being guided by the guide rod 19, and accordingly, the ultrasonic vibration generator 13 and the permanent magnet 11 move in the horizontal direction in parallel with the central axis of the material thin tube 1 to be polished. The position can be changed in the length direction of the thin tube 1. Eventually, by continuously or intermittently driving the rotary drive device 29 and the rotary drive device 23, it is possible to perform polishing over the entire circumference of the inner surface of the thin tube 1 to be polished, and over almost the entire length of the thin tube.

【0030】なお一方の回転コネクタ3Aを介して被研
磨材細管1内に流入されたアルコールは、他方の回転コ
ネクタ3Bから排出管7を経てアルコールタンク31の
戻り口31Aへ戻される。この戻りのアルコールには、
前述のように研磨によって生じた切屑、研磨粉等の挾雑
物が混入しているが、アルコールタンク31には、戻り
口31Aの側から出口31Bへ向ってその順に下端を開
放した仕切壁31C、上端を開放した仕切壁31Dが設
けられているため、これらの仕切壁31C,31Dの作
用によって切屑、研磨粉等の挾雑物はアルコールタンク
31の底部に沈澱し、出口31Bからアルコールととも
に流出することが防止される。またこのような仕切壁3
1C,31Dの作用によっても除去し切れなかった微粉
は、濾過器35によって濾過除去される。したがって供
給管5を経て回転コネクタ3Aを介し被研磨材細管1に
流入するアルコールとしては、常に挾雑物を含まない清
浄なアルコールが供給されることになる。
The alcohol that has flown into the thin tube 1 to be polished via one rotary connector 3A is returned to the return port 31A of the alcohol tank 31 from the other rotary connector 3B via the discharge pipe 7. In this return alcohol,
As described above, foreign substances such as chips and abrasive powder produced by polishing are mixed, but the alcohol tank 31 has a partition wall 31C whose lower end is opened in that order from the return port 31A side toward the outlet port 31B. Since the partition wall 31D having an open upper end is provided, foreign substances such as chips and polishing powder settle at the bottom of the alcohol tank 31 by the action of these partition walls 31C and 31D, and flow out together with alcohol from the outlet 31B. Is prevented. Also such a partition wall 3
The fine powder not completely removed by the action of 1C and 31D is filtered and removed by the filter 35. Therefore, as the alcohol flowing into the thin pipe 1 to be polished via the supply pipe 5 and the rotary connector 3A, clean alcohol containing no contaminants is always supplied.

【0031】以上の図1、図2の実施例では磁性材を含
む研磨材37に対して磁気を印加するための磁気印加手
段として永久磁石11を用いているが、永久磁石の代り
に電磁石を用いることもできる。その場合の実施例の要
部を図3に示す。
Although the permanent magnet 11 is used as the magnetism applying means for applying magnetism to the abrasive material 37 containing a magnetic material in the embodiments shown in FIGS. 1 and 2, an electromagnet is used instead of the permanent magnet. It can also be used. The main part of the embodiment in that case is shown in FIG.

【0032】図3において、磁気印加手段としての電磁
石39は、鉄芯39Aにコイル39Bを巻付けた構成と
されており、その鉄芯39Aの先端面が被研磨材細管1
の下側の表面に接するように配置されている。なお符号
39Cはコイル39Bに励磁電流を供給するための端子
である。その他の部分の構成は、図1、図2に示される
実施例と同様であれば良い。
In FIG. 3, an electromagnet 39 as a magnetism applying means has a structure in which a coil 39B is wound around an iron core 39A, and the tip surface of the iron core 39A is the thin tube 1 to be polished.
It is arranged so as to contact the lower surface of the. Note that reference numeral 39C is a terminal for supplying an exciting current to the coil 39B. The configuration of the other parts may be the same as that of the embodiment shown in FIGS.

【0033】このように電磁石39を用いた場合には、
コイル39Bに流す励磁電流値を制御することによって
磁性材を含む研磨材37を研磨すべき面(被研磨材細管
1の内面1A)に押し付ける磁気吸引力を調整すること
ができる。すなわち、図1、図2の実施例のように永久
磁石を用いた場合には、磁性材を含む研磨材を研磨面に
押し付けるための磁気吸引力が磁石の磁気特性によって
一定に定まってしまい、そのため場合によっては最適な
研磨仕上げ面が得難くなることがあるが、電磁石を用い
た場合には、被研磨材の材質、厚み、あるいは研磨材の
大きさや材質等に応じて、磁気吸引力を適切に調整し、
最適な仕上げ面を得ることが可能となる。
When the electromagnet 39 is used in this way,
By controlling the value of the exciting current flowing through the coil 39B, it is possible to adjust the magnetic attraction force that presses the abrasive material 37 containing the magnetic material against the surface to be polished (the inner surface 1A of the thin tube 1 to be polished). That is, when the permanent magnet is used as in the embodiment of FIGS. 1 and 2, the magnetic attraction force for pressing the abrasive containing the magnetic material against the polishing surface is fixed by the magnetic characteristics of the magnet, Therefore, in some cases, it may be difficult to obtain the optimum polished surface, but when using an electromagnet, the magnetic attraction force may be changed depending on the material and thickness of the material to be polished, or the size and material of the polishing material. Adjust appropriately,
It is possible to obtain an optimum finished surface.

【0034】図4には磁気印加手段として電磁石を用
い、かつ磁性材を含む研磨材を振動させる手段として、
研磨材に印加する磁気の分布状態を変化させる方法を適
用した場合の実施例の要部を示す。
In FIG. 4, an electromagnet is used as a magnetism applying means and a means for vibrating an abrasive containing a magnetic material is used.
A main part of an embodiment when a method of changing a distribution state of magnetism applied to an abrasive is applied will be shown.

【0035】図4において、それぞれコ字状をなす一対
の鉄芯41A,43Aのそれぞれにコイル41B,43
Bが巻回されて一対の電磁石41,43が形成されてい
る。そして一方の電磁石41の両磁極端41C,41D
と他方の電磁石43の両磁極端43C,43Dは、被研
磨材細管1の長さ方向に沿って41C,43C,41
D,43Dの順に交互に並ぶように配設されている。ま
た一方の電磁石41のコイル41Bと他方の電磁石43
のコイル43Bには、励磁電流入力端子47から切替手
段45を介して交互に電流が与えられるようになってい
る。なお既に述べた図3の実施例とは異なり、電磁石4
1,43は可動基台15に直接固定されている。すなわ
ち電磁石41,43には超音波振動が加えられないよう
になっている。その他の部分の構成は図1、図2の実施
例や図3の実施例と同様であれば良い。
In FIG. 4, a pair of iron cores 41A and 43A, each having a U-shape, have coils 41B and 43, respectively.
B is wound around to form a pair of electromagnets 41 and 43. And both magnetic pole ends 41C and 41D of one electromagnet 41
And both magnetic pole ends 43C and 43D of the other electromagnet 43 are 41C, 43C and 41 along the length direction of the material thin tube 1 to be polished.
D and 43D are arranged alternately. In addition, the coil 41B of one electromagnet 41 and the other electromagnet 43
A current is alternately applied to the coil 43B from the exciting current input terminal 47 via the switching means 45. Unlike the embodiment shown in FIG. 3, which has already been described, the electromagnet 4
1, 43 are directly fixed to the movable base 15. That is, ultrasonic vibration is not applied to the electromagnets 41 and 43. The configuration of the other parts may be the same as that of the embodiment of FIGS. 1 and 2 and the embodiment of FIG.

【0036】以上のような図4の実施例においては、切
替手段45によって電磁石41,43への電流を周期的
に交互に切替えることによって電磁石41,43が交互
に励磁され、それに伴なって一方の電磁石41の磁極端
41C,41Dの近傍の磁気分布が密な状態と、他方の
電磁石43の磁極端43C,43Dの近傍の磁気分布が
密な状態とに交互に変化する。すなわち被研磨材細管1
の研磨すべき面における磁気分布が周期的に変化するか
ら、それに伴なって磁性材を含む研磨材37が振動し、
被研磨材細管1の内面の研磨が進行することになる。こ
のような実施例によれば、電磁石や永久磁石等の磁気印
加手段に機械的な振動を与えなくて済むため、耐久性が
良好となる。
In the embodiment of FIG. 4 as described above, the electromagnets 41, 43 are alternately excited by the switching means 45 periodically and alternately switching the currents to the electromagnets 41, 43, and one of them is accordingly excited. The magnetic distribution in the vicinity of the magnetic pole ends 41C, 41D of the electromagnet 41 of No. 3 and the magnetic distribution in the vicinity of the magnetic pole ends 43C, 43D of the other electromagnet 43 alternately change. That is, the thin tube 1 to be polished
Since the magnetic distribution on the surface to be polished changes periodically, the polishing material 37 containing the magnetic material vibrates accordingly,
The polishing of the inner surface of the thin tube 1 to be polished progresses. According to such an embodiment, it is not necessary to give mechanical vibration to the magnetism applying means such as the electromagnet and the permanent magnet, and therefore the durability is improved.

【0037】図5には、さらにこの発明の別の実施例を
示す。この実施例は、突合せ溶接したアルミニウム製の
細管1を被研磨材とし、突合せ溶接に伴なって内周面側
にバリ状に突出した凸部1Bを研磨除去して、内周面を
平滑にするための例を示す。
FIG. 5 shows another embodiment of the present invention. In this embodiment, the butt-welded aluminum thin tube 1 is used as a material to be polished, and the convex portion 1B protruding in a burr shape on the inner peripheral surface side is polished and removed along with the butt welding to smooth the inner peripheral surface. Here is an example of how to do this.

【0038】図5において、磁気印加手段としての永久
磁石51は、その先端面51Aの幅(細管1の長さ方向
の幅)が突合せ溶接による前記凸部1Bの幅とほぼ等し
くなるように、先端側が細く作られており、この永久磁
石51は雄ネジ棒53の先端に超音波振動発生器55を
介して取付けられている。この雄ネジ棒53は、支持枠
57の一方の端部57Aに形成された雌ネジ孔57Bに
貫通螺合され、さらに雄ネジ棒53の基端側に摘子(つ
まみ)部53Aが形成されている。そして支持枠57の
他方の端部57Cには、被研磨材細管1の中心軸線と平
行な軸線を中心として回転自在となるように二つの支持
ローラ59A,59Bが取付けられている。これらの支
持ローラ59A,59Bは被研磨材細管1を挾んで前記
永久磁石51と反対側に位置している。
In FIG. 5, the permanent magnet 51 serving as the magnetism applying means has its tip surface 51A (width in the longitudinal direction of the thin tube 1) substantially equal to the width of the convex portion 1B formed by butt welding. The tip side is made thin, and this permanent magnet 51 is attached to the tip of a male screw rod 53 via an ultrasonic vibration generator 55. The male screw rod 53 is screwed through a female screw hole 57B formed at one end 57A of the support frame 57, and a knob portion 53A is formed on the proximal end side of the male screw rod 53. ing. Two supporting rollers 59A and 59B are attached to the other end 57C of the support frame 57 so as to be rotatable about an axis parallel to the central axis of the thin tube 1 to be polished. These supporting rollers 59A and 59B are located on the opposite side of the permanent magnet 51 across the thin tube 1 to be polished.

【0039】図5に示される実施例においては、雄ネジ
棒53の摘子部53Aを手指等によって所定方向へ回転
させれば、雄ネジ棒53の回転に伴なって永久磁石51
の先端面51Aが被研磨材細管1の外周面に押し当てら
れる。このとき、永久磁石51の先端面51Aが被研磨
材細管1の研磨除去すべき凸部1Bに対応する箇所に位
置するように位置調整を行なう。このようにすれば、磁
性材を含む研磨材37は凸部1B付近に集中するから、
超音波振動発生器55を駆動させて永久磁石51を振動
させれば、磁性材を含む研磨材37が凸部1Bに押し付
けられた状態で振動し、凸部1Bが研磨除去される。そ
して上述のように永久磁石51を振動させながら、支持
枠57の全体を被研磨材細管1の円周方向に回動させれ
ば、細管1の内面の全周にわたって凸部1Bを研磨除去
することができる。なおこの際、前述の各実施例と同様
に細管1内にアルコールを流すことにより、従来のEL
加工と同様な仕上げ面を得ることができ、またノズルに
よって冷却水を永久磁石51の先端面51Aと細管1と
の接触部分に吹付けることにより、細管1の温度上昇を
防止することができる。
In the embodiment shown in FIG. 5, if the knob portion 53A of the male screw rod 53 is rotated in a predetermined direction by a finger or the like, the permanent magnet 51 is rotated along with the rotation of the male screw rod 53.
51A is pressed against the outer peripheral surface of the polishing target thin tube 1. At this time, the position adjustment is performed so that the tip end surface 51A of the permanent magnet 51 is located at a position corresponding to the convex portion 1B of the material thin tube 1 to be polished and removed. In this way, the abrasive material 37 containing the magnetic material is concentrated near the convex portion 1B,
When the ultrasonic vibration generator 55 is driven to vibrate the permanent magnet 51, the abrasive material 37 containing the magnetic material vibrates while being pressed against the convex portion 1B, and the convex portion 1B is polished and removed. Then, while vibrating the permanent magnet 51 as described above, if the entire supporting frame 57 is rotated in the circumferential direction of the thin tube 1 to be polished, the convex portion 1B is polished and removed over the entire inner surface of the thin tube 1. be able to. At this time, in the same manner as in the above-described respective embodiments, by flowing alcohol into the thin tube 1, the conventional EL
A finished surface similar to that obtained by processing can be obtained, and the nozzle can be prevented from rising in temperature by spraying cooling water onto the contact portion between the tip surface 51A of the permanent magnet 51 and the thin tube 1.

【0040】なお以上の各実施例では、被研磨材として
のアルミニウム製細管1の内側にアルコールを流しなが
ら研磨することによって、従来のEL加工と同様な仕上
げ面を得ることとしているが、アルコールの代りに乾燥
酸素を細管1内に流し、従来のEX加工と同様な仕上げ
面を得ることとしても良い。またそのほか、弱酸化性を
有する任意の流体を細管1内に流すことによって、EL
加工もしくはEX加工と同等の効果を得ることも可能で
ある。さらに細管1の用途によってはアルコールや乾燥
酸素、その他の弱酸化性流体を細管内に流さなくても良
いが、流体を流すことによって研磨箇所における切屑、
研磨粉の速やかな除去が可能となるから、一般にはアル
コールや乾燥酸素その他の弱酸化性流体に限らず、何ら
かの流体を細管1内に流すことが望ましい。
In each of the above-mentioned embodiments, polishing is performed while flowing alcohol inside the aluminum thin tube 1 as the material to be polished to obtain a finished surface similar to the conventional EL processing. Alternatively, dry oxygen may be flown into the thin tube 1 to obtain a finished surface similar to that of the conventional EX processing. In addition, by flowing an arbitrary fluid having a weak oxidizing property into the thin tube 1, EL
It is also possible to obtain the same effect as processing or EX processing. Further, depending on the use of the thin tube 1, alcohol, dry oxygen, or other weakly oxidizing fluid may not be flown into the thin tube, but by flowing the fluid, chips at the polishing portion,
Since it becomes possible to quickly remove the polishing powder, it is generally desirable to flow some fluid into the thin tube 1 without being limited to the weak oxidizing fluid such as alcohol and dry oxygen.

【0041】なおまた、以上の各実施例では、研磨すべ
き被研磨材をアルミニウム製の細管としているが、非磁
性材であればアルミニウム製以外の管、例えば非磁性の
ステンレス鋼管、あるいは合成樹脂管(PVC管、PV
DF管、PEEK管等)などにも適用できることはもち
ろんてある。また断面円形の管に限らず断面多角形状の
管や異形管の内面研磨、あるいは真空ベルジャなどの球
状面あるいは湾曲面、凸状面を有する部材の内面研磨に
も適用できることはもちろんであり、さらには平板にも
適用可能である。
In each of the above embodiments, the material to be polished is a thin tube made of aluminum, but if it is a non-magnetic material, a tube other than aluminum, for example, a non-magnetic stainless steel tube or a synthetic resin is used. Pipe (PVC pipe, PV
Of course, it can also be applied to DF pipes, PEEK pipes, etc.). Further, not only the tube having a circular cross section but also the inner surface of a tube having a polygonal cross section or a deformed tube, or a spherical surface such as a vacuum bell jar, a curved surface, or an inner surface of a member having a convex surface can be applied. Can also be applied to flat plates.

【0042】さらに、磁性材を含む研磨材を振動させる
手段として、図1、図2の実施例、図3の実施例および
図5の実施例では磁気印加手段としての永久磁石もしく
は電磁石を超音波振動発生器によって超音波振動させる
構成を適用しているが、超音波振動発生器に限らず、例
えばカム等を用い、回転運動を直線往復運動に変換して
振動を発生する機構や、電磁的に振動を発生する装置を
用いても良いことはもちろんである。そしてまた、磁気
印加手段として電磁石を用い、かつ磁気分布を周期的に
変化させることによって磁性材を含む研磨材を振動させ
る場合においても、電磁石の配列や励磁電流の切替えの
ための構成は、前述の図4の実施例に限られるものでは
なく、種々の変形が可能である。
Further, as means for vibrating the abrasive containing a magnetic material, in the embodiment of FIGS. 1 and 2, the embodiment of FIG. 3 and the embodiment of FIG. 5, a permanent magnet or an electromagnet as a magnetism applying means is an ultrasonic wave. Although a configuration in which ultrasonic vibration is generated by a vibration generator is applied, it is not limited to the ultrasonic vibration generator, and for example, a mechanism that uses a cam or the like to generate a vibration by converting rotary motion into linear reciprocating motion, and electromagnetic Needless to say, a device that generates vibration may be used. Further, even when the electromagnet is used as the magnetism applying means and the abrasive containing the magnetic material is vibrated by periodically changing the magnetic distribution, the arrangement for switching the electromagnets and the exciting current is the same as described above. The embodiment is not limited to the embodiment shown in FIG. 4 and various modifications can be made.

【0043】[0043]

【発明の効果】この発明の研磨方法によれば、ダイヤモ
ンドバイト等の工具を研磨すべき面の側で機械的に支持
することなく、その面を研磨することができ、そのため
被研磨材が例えば細くて長い管であってしかもその内周
面を研磨する必要があるような場合、すなわち工具を研
磨すべき面の側で機械的に支持することが困難な場合で
あっても、その面を容易に研磨することができる。した
がって例えばアルミニウム製細管の内面に、従来のEL
加工やEX加工と同等の加工を施して、半導体装置にお
ける高純度ガス配管として使用することが可能となるほ
か、従来は研磨が困難とされていた形状の面についても
研磨を可能として工業的な応用分野を拡大することがで
きる。
According to the polishing method of the present invention, it is possible to polish a tool such as a diamond bite without mechanically supporting it on the side to be polished. Even if the pipe is thin and long and its inner peripheral surface needs to be polished, that is, even if it is difficult to mechanically support the tool on the side of the surface to be polished, It can be easily polished. Therefore, for example, the conventional EL
By applying processing equivalent to processing or EX processing, it can be used as a high-purity gas pipe in a semiconductor device, and it is possible to polish a surface having a shape that has been difficult to polish in the past. The field of application can be expanded.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の研磨方法の第1の例を実施している
状況を示す研磨装置の部分縦断正面図である。
FIG. 1 is a partial vertical sectional front view of a polishing apparatus showing a state in which a first example of a polishing method of the present invention is being carried out.

【図2】図1のII−II線における縦断側面図であ
る。
FIG. 2 is a vertical sectional side view taken along the line II-II in FIG.

【図3】この発明の研磨方法の第2の例を実施している
状況を示す研磨装置の要部の部分縦断正面図である。
FIG. 3 is a partial vertical cross-sectional front view of the essential parts of the polishing apparatus showing a state in which the second example of the polishing method of the present invention is being carried out.

【図4】この発明の研磨方法の第3の例を実施している
状況を示す研磨装置の要部の部分縦断正面図である。
FIG. 4 is a partial vertical cross-sectional front view of the essential parts of the polishing apparatus showing a state in which the third example of the polishing method of the present invention is being carried out.

【図5】この発明の研磨方法の第4の例を実施している
状況を示す研磨装置の側面図である。
FIG. 5 is a side view of the polishing apparatus showing a state in which the fourth example of the polishing method of the present invention is being carried out.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 被研磨材としてのアルミニウ製細管 1A 研磨すべき面(内面) 11 永久磁石 13 超音波振動発生器 37 研磨材 39 電磁石 41,43 電磁石 45 切替手段 51 永久磁石 55 超音波振動発生器 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Aluminum thin tube as a material to be polished 1A Surface to be polished (inner surface) 11 Permanent magnet 13 Ultrasonic vibration generator 37 Abrasive material 39 Electromagnets 41, 43 Electromagnet 45 Switching means 51 Permanent magnet 55 Ultrasonic vibration generator

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三笠 和 静岡県三島市大場1086−166 (72)発明者 向谷 清 東京都目黒区中根2丁目3番5号 株式会 社東京ダイヤモンド工具製作所内 (72)発明者 高橋 智之 東京都目黒区中根2丁目3番5号 株式会 社東京ダイヤモンド工具製作所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Kazu Mikasa 1086-166 Ohba, Mishima City, Shizuoka Prefecture (72) Inventor Kiyoshi Mukai 2-3-5 Nakane, Meguro-ku, Tokyo Tokyo Diamond Tool Manufacturing Co., Ltd. (72 ) Inventor Tomoyuki Takahashi Tokyo Diamond Tool Manufacturing Co., Ltd. 2-3-5 Nakane, Meguro-ku, Tokyo

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性材料からなる被研磨材における研
磨すべき面に、少なくとも一部に磁性材料を含む研磨材
を配置し、前記被研磨材における研磨すべき面に対し反
対側の面の側から前記研磨材に磁気を印加して、磁力に
よりその研磨材を研磨すべき面に圧接させつつ、研磨す
べき面と実質的に平行な面内で研磨材を振動させて研磨
することを特徴とする研磨方法。
1. An abrasive containing at least a part of a magnetic material is arranged on a surface to be polished of a material to be polished made of a non-magnetic material, and a surface of the material to be polished opposite to a surface to be polished is provided. Magnetism is applied to the abrasive from the side, and the abrasive is vibrated in a plane substantially parallel to the surface to be polished while pressing the abrasive against the surface to be polished by magnetic force. Characteristic polishing method.
【請求項2】 請求項1に記載の研磨方法において、研
磨材に磁気を印加するための磁気印加手段を振動させ、
これによって研磨材を振動させる研磨方法。
2. The polishing method according to claim 1, wherein a magnetism applying means for applying magnetism to the abrasive is vibrated.
This is a polishing method in which the polishing material is vibrated.
【請求項3】 請求項1に記載の研磨方法において、前
記研磨材に印加する磁気の分布状態を周期的に変化さ
せ、これによって研磨材を振動させる研磨方法。
3. The polishing method according to claim 1, wherein the distribution state of magnetism applied to the abrasive is periodically changed, and the abrasive is vibrated.
【請求項4】 請求項1に記載の研磨方法において、前
記研磨材として、磁性材料からなる粒の表面に研磨用硬
質材料を固着してなる研磨粒を用いる研磨方法。
4. The polishing method according to claim 1, wherein, as the abrasive, abrasive grains formed by fixing a hard material for polishing to the surface of grains made of a magnetic material are used.
【請求項5】 請求項4に記載の研磨方法において、前
記研磨材における磁性材料として鋼を用い、前記硬質研
磨材料としてダイヤモンドを用いる研磨方法。
5. The polishing method according to claim 4, wherein steel is used as a magnetic material in the abrasive and diamond is used as the hard abrasive.
【請求項6】 請求項1に記載の研磨方法において、前
記被研磨材がアルミニウム管であり、そのアルミニウム
管の内面が研磨すべき面とされ、アルミニウム管内にア
ルコールもしくは乾燥酸素を流入させつつ、管内面を研
磨する研磨方法。
6. The polishing method according to claim 1, wherein the material to be polished is an aluminum tube, an inner surface of the aluminum tube is a surface to be polished, and alcohol or dry oxygen is introduced into the aluminum tube, A polishing method for polishing the inner surface of a pipe.
【請求項7】 少なくとも一部に磁性材料を含む研磨材
と、被研磨材の研磨すべき面に配置された研磨材に、被
研磨材の研磨すべき面に対し反対側の面から磁気を印加
させて研磨すべき面に研磨材を磁力により圧接させるた
めの磁気印加手段と、前記研磨材を、研磨すべき面と実
質的に平行な面内で振動させるための振動手段とを有し
てなることを特徴とする研磨装置。
7. An abrasive containing at least a part of a magnetic material, and an abrasive arranged on the surface of the material to be polished to be magnetized from the surface opposite to the surface of the material to be polished. A magnetic force applying means for applying pressure to bring the abrasive material into pressure contact with the surface to be polished, and a vibrating means for vibrating the abrasive material in a plane substantially parallel to the surface to be polished. A polishing device characterized by the following.
【請求項8】 前記振動手段が、磁気印加手段を振動さ
せるためのものである、請求項7に記載の研磨装置。
8. The polishing apparatus according to claim 7, wherein the vibrating means is for vibrating the magnetism applying means.
【請求項9】 前記振動手段が、磁気印加手段の発生す
る磁気の分布状態を周期的に変化させる手段である、請
求項7に記載の研磨装置。
9. The polishing apparatus according to claim 7, wherein the vibrating means is means for periodically changing a distribution state of magnetism generated by the magnetism applying means.
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