JPH07134822A - 磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 保磁力Ｈｃが内外周で略均一乃至内周から外
周に向って小さくした磁気ディスクを提供することを目
的としている。 【構成】 円盤状基板に、Ｃｒ又はＣｒ合金下地層を設
け、該下地層の上にＣｏ合金磁性層を設けてなる磁気デ
ィスクにおいて、Ｃｏ合金磁性層の円盤状基板上の膜厚
分布によって増加する保磁力Ｈｃ特性が、Ｃｒ又はＣｒ
合金下地層の膜厚分布による保磁力Ｈｃ特性で相殺さ
れ、磁気ディスクとしての保磁力Ｈｃが内外周で略均一
乃至内周から外周に向って小さく調製されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、円盤状基板にＣｒ又
はＣｒ合金下地層を設け、この下地層の上にＣｏ合金磁
性層を設けてなる磁気ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスク用記録媒体は当初γ酸化鉄
粒子をＡ１基板上に塗布したものが実用化され、現在に
おいても相当数が実用に供されているが、近年はメッキ
法およびスパッタ法により成膜された合金強磁性体によ
る連続媒体が進出している。特に口径５．２５インチφ
以下の小口径磁気ディスクの分野においては、上記連続
媒体が全使用量の半数以上を占めるに至っている。この
傾向はますます助長されると共に、小口径磁気ディスク
を使用する小型ドライブ装置の設計方針が軽薄短小化に
向うと共に、高記録容量を必要とするようになり、磁気
ディスク媒体の線記録密度向上が要求されている。従来
量産されている磁気ディスク媒体の保磁力Ｈｃはメッキ
およびスパッタ媒体で１２００〜１４００ Oe が主流で
あり、開発段階のもので１６００〜１８００ Oe のもの
は、今後の磁気ヘッドの高出力化が進展すると共に実用
領域に達し得るレベルの媒体であり、実用化されつつあ
る。

【０００３】高保磁力磁気記録媒体として提案されてい
るＣｏ合金／Ｃｒ又はＣｒ合金スパッタ媒体は、ＮｉＰ
／Ａｌ基板の表面を研磨テープで円周方向に研磨して円
周方向のテクスチャー（溝構造）を形成し、その上に先
ずＣｒ又はＣｒ合金層を形成する。基板とＣｏ合金層の
間にＣｒ層が介在することによって、Ｃｏ合金層の保磁
力が向上しかつ角型比が大きくなるからである。

【０００４】このＣｒ又はＣｒ合金下地層のスパッタで
は、スパッタ粒子を、円周方向のテクスチャーを利用し
て、溝の方向即ち円周方向に沿った形状にＣｒ層（下地
層）薄膜を成長させる。そして、その上層に同じく斜入
射効果を与える方法でＣｏ系合金強磁性薄膜の粒子又は
粒子群を円周方向に沿って長手方向に配向するように沈
着させて、円周方向に形状異方性に基づく強い一軸磁気
異方性を有する磁気ディスクが実用に供せられている。
円周方向のテクスチャーは、ヘッドスライダーとディス
ク表面の記録媒体との接触による媒体表面の磨耗や損傷
を極小化するために形成されるが、このテクスチャーを
利用して上記の如く磁性層に形状異方性を与えて円周方
向に高い磁気異方性を得るようにされているのである。

【０００５】また、最近の高密度化に対応して、ガラス
基板を利用した磁気ディスクも実用化されつつある。

【０００６】これらの磁気ディスクでは、記録媒体の全
面に均一で高い保磁力Ｈｃ（１５００ Oe 以上）が求め
られると同時に、電磁変換特性、特に高Ｓ／Ｎ比および
高オーバーライト（ｏ／ｗ）特性が求められている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】前記の如くの磁気ディ
スクの製造では、ターゲットとディスクが同心円上に対
向配置された静止対向形スパッタ装置で成膜が行なわ
れ、Ｃｒ又はＣｒ合金下地層およびＣｏ合金磁性層共
に、円盤状基板の表面において内外周で均一な膜厚分布
として、保磁力Ｈｃが内外周で均一になるように試みら
れていたが、実際の膜厚分布は、各層共に、内周の膜厚
に対し外周の膜厚が８０〜９０％となる分布が避けられ
ず、この結果保磁力Ｈｃは内周に対し外周が高くなり
（約１００〜２００ Oe 程度）、オーバーライト特性に
ついても外周の特性が悪化する問題点があった。

【０００８】

【課題を解決する為の手段】この発明は前記の問題点に
鑑みてなされたもので、保磁力Ｈｃが内外周で略均一乃
至円周から外周に向って小さくした磁気ディスクを提供
することを目的としている。

【０００９】斯る目的を達成するこの発明の磁気ディス
クは、円盤状基板に、Ｃｒ又はＣｒ合金下地層を設け、
該下地層の上にＣｏ合金磁性層を設けてなる磁気ディス
クにおいて、前記Ｃｏ合金磁性層の円盤状基板上の膜厚
分布によって基板の外周で増加する保磁力Ｈｃの特性
が、Ｃｒ又はＣｒ合金下地層の膜厚分布による保磁力Ｈ
ｃの特性で相殺され、磁気ディスクとしての保磁力Ｈｃ
が内外周で略均一乃至内周から外周に向って小さく調製
されていることを特徴としている。

【００１０】前記Ｃｏ合金磁性層は、ＣｏＣｒ、ＣｏＮ
ｉ、ＣｏＣｒＴａまたはＣｏＣｒＰｔ等の何れかのＣｏ
合金とすることができる。

【００１１】

【作用】この発明の磁気ディスクによれば保磁力Ｈｃを
内外周で略均一乃至内周から外周に向って小さくしたの
で、外周のオーバーライト特性の悪化を避けることがで
きる。

【００１２】

【実施例】以下、この発明を実施例に基づいて説明す
る。

【００１３】図１は、マグネトロンスパッタリング装置
を用いて３．５インチの円盤状基板にＣｒ合金薄膜又は
ＣｏＣｒＴａ合金磁性薄膜を形成した場合の膜厚分布を
示したものである。円盤状基板は外径約９５mmのドーナ
ツ状の基板で、半径約２０mm乃至４５mmの範囲が磁気記
録面となるものである。

【００１４】マグネトロンスパッタリング装置で、膜厚
分布を最も均一性良くできるとされる条件においても、
内周側に比べて外周側は夫々約１０数％薄くなってい
る。

【００１５】夫々の層の厚さを均一に形成して、磁気デ
ィスクの保磁力Ｈｃを内外周に亘って均一にすることを
試みても、現実にはこのような膜厚分布が避けられず、
この結果図２に示したように、保磁力Ｈｃが外周側で高
くなる磁気ディスクとなっていたものである。

【００１６】図３はＣｒ合金薄膜の膜厚を一定とした時
の、ＣｏＣｒＴａ磁性薄膜の膜厚と保磁力Ｈｃの関係を
示したもので、ＣｏＣｒＴａ薄膜の膜厚が薄くなると保
磁力Ｈｃが増加する傾向を示している。前記図１、２で
説明した外周における保磁力Ｈｃの増加はこの特性に影
響されているものである。

【００１７】即ちＣｏＣｒＴａ薄膜をディスク径３０mm
の位置で４５０オングストロームとした場合、図１によ
れば内周（２０mm）では約４７０オングストローム、外
周（４５mm）では約３９０オングストロームとなり、膜
厚差８０オングストロームが保磁力Ｈｃとしては内外周
で約１００ Oe の差で表われることになるものである
（図３参照）。

【００１８】そこでこの差約１００ Oe をＣｒ薄膜の膜
厚分布で相殺することにした。図４はＣｏＣｒＴａ薄膜
の膜厚を一定とした時のＣｒ薄膜の膜厚と保磁力Ｈｃの
関係を示したものである。中心膜厚（３０mm）を１００
０オングストロームとして、内外周の膜厚差を４００オ
ングストロームとすれば保磁力Ｈｃを前記差約１００Oe
減少できることが判る。即ち内周の膜厚を１とした場
合、外周の膜厚を０．６０とすることで外周の保磁力Ｈ
ｃを約１００ Oe 、内周より小さくできることになる。

【００１９】図５はＣｒ合金薄膜を形成する場合のター
ゲットの径およびターゲットと基板の距離（Ｔ／Ｓ）を
変化させた時の膜厚分布を示したものである。この図か
ら、４インチのＣｒ合金ターゲットでＴ／Ｓを５４mmと
すると、内周の膜厚を１として、外周の膜厚が約０．６
０となり、従って内周の膜厚を１０００オングストロー
ムとすると外周で６００オングストロームとなる膜厚分
布とできることが判る。

【００２０】そこで、この４インチのＣｒ合金ターゲッ
トでＴ／Ｓを５４mmに設定して、Ｃｒ合金薄膜を種々の
膜厚（半径３０mmの位置で４００、６００、８００、１
０００オングストローム）で形成し、その上にＣｏＣｒ
Ｔａ薄膜を図１の膜厚分布となる条件で、半径３０mmの
位置で膜厚が４５０オングストロームとなるように形成
して磁気ディスクを製造した。

【００２１】図６は製造した磁気ディスクの保磁力Ｈｃ
の特性で、図２に示した特性を大きく改善し、保磁力を
略均一乃至外周側で保磁力が小さくなる磁気ディスクが
得られることを確認した。

【００２２】表１は、前記実施例に従って調製した磁気
ディスク（本発明１、２）と従来方法によって調製した
磁気ディスク（比較例）の電磁変換出力特性を示したも
のである。実施例に従って調製した磁気ディスクの保磁
力Ｈｃは内外周で均一としたのに対し、従来方法の磁気
ディスクの保磁力Ｈｃは外周が内周に比べて２０ Oe小
さくなっている。

【００２３】

【表１】

【００２４】表中、Ｂｒ・δは、残留磁束密度、ＩＲ
ＨＦは内周部（inner redius）の高周波（６．７５ＭＨ
ｚ）信号の平均出力、ＩＲ ＲＥＳは内周部の分解能、
ＩＲＰＷ５０は内周部の出力孤立波形の半値幅、ＯＲ
ＬＦは外周部（outer redius）の低周波（１．６９ＭＨ
ｚ）信号の平均出力、ＯＲ Ｏ／Ｗは外周部のオーバー
ライト（重ね書き）特性である。

【００２５】外周部においてオーバーライト特性を改善
できることが確認できた。

【００２６】以上実施例ではＣｏ合金磁性層としてＣｏ
ＣｒＴａ合金薄膜の場合を説明したが、ＣｏＣｒＰｔ、
ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ等、他のＣｏ合金薄膜の場合も同様
に実施することができる。

【００２７】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば保磁力Ｈｃをディスクの内外周で均一乃至内周から外
周に向って小さく調製したので、外周のオーバーライト
特性を向上した磁気ディスクを提供できる効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】均一に形成したＣｒ合金薄膜およびＣｏＣｒＴ
ａ合金磁性薄膜の膜厚分布のグラフである。

【図２】図１の膜厚分布で製造した磁気ディスクの保磁
力Ｈｃの分布のグラフである。

【図３】この発明の実施例におけるＣｏＣｒＴａ磁性薄
膜の膜厚と保磁力Ｈｃのグラフである。

【図４】同じくＣｒ合金薄膜と保磁力Ｈｃのグラフであ
る。

【図５】同じくターゲット径、Ｔ／Ｓを変化させた時の
膜厚分布のグラフである。

【図６】同じく磁気ディスクの保磁力ＨＣの分布を示す
グラフである。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 円盤状基板に、Ｃｒ又はＣｒ合金下地層
   を設け、該下地層の上にＣｏ合金磁性層を設けてなる磁
   気ディスクにおいて、前記Ｃｏ合金磁性層の円盤状基板
   上の膜厚分布によって、基板の外周で増加する保磁力Ｈ
   ｃの特性が、Ｃｒ又はＣｒ合金下地層の膜厚分布による
   保磁力Ｈｃの特性で相殺され、磁気ディスクとしての保
   磁力Ｈｃが内外周で略均一乃至内周から外周に向って小
   さく調製されていることを特徴とする磁気ディスク。
2. 【請求項２】 Ｃｏ合金磁性層は、ＣｏＣｒ、ＣｏＮ
   ｉ、ＣｏＣｒＴａまたはＣｏＣｒＰｔ等のＣｏ合金の何
   れかとした請求項１記載の磁気ディスク。