JPH07130957A - Integrated circuit device - Google Patents

Integrated circuit device

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JPH07130957A
JPH07130957A JP5273423A JP27342393A JPH07130957A JP H07130957 A JPH07130957 A JP H07130957A JP 5273423 A JP5273423 A JP 5273423A JP 27342393 A JP27342393 A JP 27342393A JP H07130957 A JPH07130957 A JP H07130957A
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JP
Japan
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integrated circuit
power supply
unit
output
circuit forming
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Application number
JP5273423A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideo Sako
秀雄 佐古
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Mazda Motor Corp
Original Assignee
Mazda Motor Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To accurately perform a self-diagnosis for detecting failure in an integrated circuit forming part under a real using condition without requiring a dedicated test circuit, etc., that itself constitutes an integrated circuit and that is included in the integrated circuit forming part. CONSTITUTION:An integrated circuit forming part 13 is connected to an input buffer part 18, and a voltage level at an input end of the part 13 is kept at a low level, and an output buffer part 19 is under high impedance condition. Further, a MOS.FET 24 controls a condition that a power source voltage supply terminal 20 is connected to a power source line 12 in an integrated circuit forming part 13. This embodiment comprises a control voltage supply terminal 22 to which a control voltage is supplied so that the MOS.FET 24 is kept under a break condition; and a diagnosing circuit part 25 for supplying a power source voltage to a power source line 12 in an integrated circuit forming part 13 under supply of the control voltage and diagnosing failure in the integrated circuit forming part 13.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体基体等の基体上
に設けられた集積回路形成部を備えるともに、その集積
回路形成部における短絡,断線等の故障を検知する自己
診断を行うことができるものとされる集積回路装置に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention includes an integrated circuit forming portion provided on a substrate such as a semiconductor substrate and is capable of performing self-diagnosis for detecting a failure such as a short circuit or disconnection in the integrated circuit forming portion. The present invention relates to a possible integrated circuit device.

【0002】[0002]

【従来の技術】1個の半導体基体上に多数の半導体回路
素子を伴って構成され、複数の入出力端が設けられる集
積回路形成部を備えた集積回路装置にあっては、実際の
使用に供されるべく電子機器を構成する回路基板に組み
込まれた後において、その集積回路形成部における短
絡,断線等の故障を検知するための自己診断を行うこと
ができるものとされることが望まれる。それゆえ、従
来、集積回路装置を、それが備える半導体基体上に構成
された集積回路形成部が自己診断用の専用テスト回路を
内蔵するものとされるようになすことが提案されてい
る。
2. Description of the Related Art An integrated circuit device having an integrated circuit forming section having a plurality of semiconductor circuit elements on one semiconductor substrate and having a plurality of input / output terminals is not suitable for practical use. It is desired that after being incorporated into a circuit board that constitutes an electronic device to be provided, a self-diagnosis for detecting a failure such as a short circuit or a disconnection in the integrated circuit formation portion can be performed. . Therefore, conventionally, it has been proposed that the integrated circuit device is configured such that the integrated circuit forming portion formed on the semiconductor substrate provided therein has a built-in dedicated test circuit for self-diagnosis.

【0003】このような集積回路装置が備える集積回路
形成部にその自己診断のため内蔵される専用テスト回路
は、当該集積回路装置が実際の使用状態におかれ、従っ
て、他の回路装置あるいは回路素子,電源部,接地部等
との接続がなされた状態とされたもとで、集積回路形成
部の機能を検証する際にのみ動作せしめられ、集積回路
形成部が本来の動作を行うときには、その動作に関わる
ことなく、非動作状態におかれる。
The dedicated test circuit built in the integrated circuit forming portion of such an integrated circuit device for its self-diagnosis is such that the integrated circuit device is actually in use, and accordingly, another circuit device or circuit is used. It is operated only when verifying the function of the integrated circuit forming part under the condition that the elements, power supply part, grounding part, etc. are connected, and when the integrated circuit forming part performs the original operation, the operation is performed. Be in a non-operational state regardless of

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上述の如くの自己診断
のための専用テスト回路を内蔵した集積回路形成部を備
える集積回路装置にあっては、専用テスト回路が、実際
の使用状態におかれた集積回路形成部の機能を検証する
ことができるようにすべく、集積回路形成部に幾つかの
予め設定された動作状態をとらせるための動作に加え
て、集積回路形成部の機能の検証が、その集積回路形成
部に接続された他の回路装置あるいは回路素子等による
影響を受けないようにするための動作を行うものとされ
る。従って、専用テスト回路自体が、比較的大なる規模
を有する集積回路を構成することになり、それに伴っ
て、専用テスト回路を含む集積回路形成部の全体が、集
積規模が一段と増大されて極めて複雑化されることにな
ってしまい、その結果、その集積回路形成部を備える集
積回路装置が、製造歩留りの低下がまねかれる虞があ
り、また、製造コストが嵩むことなるものとされるとい
う問題がある。
In the integrated circuit device provided with the integrated circuit forming section containing the dedicated test circuit for self-diagnosis as described above, the dedicated test circuit is placed in an actual use state. In order to be able to verify the function of the integrated circuit forming unit, it is possible to verify the function of the integrated circuit forming unit in addition to the operation for causing the integrated circuit forming unit to take some preset operating states. However, the operation is performed so as not to be affected by other circuit devices or circuit elements connected to the integrated circuit forming portion. Therefore, the dedicated test circuit itself constitutes an integrated circuit having a relatively large scale, and accordingly, the entire integrated circuit forming section including the dedicated test circuit is extremely complicated because the integrated scale is further increased. As a result, there is a concern that an integrated circuit device including the integrated circuit forming part may reduce the manufacturing yield and the manufacturing cost may increase. is there.

【0005】斯かる点に鑑み、本発明は、半導体基体等
の基体上に設けられた集積回路形成部を備え、実際の使
用状態におかれたもとでの集積回路形成部における短
絡,断線等の故障を検知する自己診断を、それ自体が比
較的大なる規模を有する集積回路を構成して集積回路形
成部に含まれるものとされる専用テスト回路等を要する
ことなく、的確に行うことができるようにされた集積回
路装置を提供することを目的とする。
In view of such a point, the present invention comprises an integrated circuit forming portion provided on a substrate such as a semiconductor substrate, and is free from short circuit, disconnection, etc. in the integrated circuit forming portion under actual use conditions. It is possible to accurately perform self-diagnosis for detecting a failure without requiring a dedicated test circuit or the like which constitutes an integrated circuit having a relatively large scale and is included in the integrated circuit forming section. It is an object of the present invention to provide an integrated circuit device having such a structure.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成すべ
く、本発明に係る集積回路装置は、基体上に設けられた
集積回路形成部と、集積回路形成部の入力端及び出力端
を基体上に設けられた入力接続端子及び出力接続端子に
夫々連結する入力バッファ部及び出力バッファ部と、基
体上に設けられた電源電圧供給端子を集積回路形成部に
おける電源ラインに連結する導通状態と電源電圧供給端
子を集積回路形成部における電源ラインから切り離す遮
断状態とを選択的にとるスイッチング部と、電源電圧供
給端子と集積回路形成部における電源ラインとの間に設
けられた診断用回路部と、基体上に設けられて入力バッ
ファ部,出力バッファ部及びスイッチング部に接続され
た制御電圧供給端子とを備えて構成され、制御電圧供給
端子に、入力バッファ部にそれが接続された集積回路形
成部の入力端の電圧レベルを所定の低レベルもしくは高
レベルに維持させ、出力バッファ部に高インピーダンス
状態をとらせ、さらに、スイッチング部に遮断状態をと
らせる制御電圧が供給されるもとで、診断用回路部を通
じて集積回路形成部における電源ラインに対する電源電
圧供給がなされて集積回路形成部についての診断が行わ
れ、診断用回路部から診断結果出力が得られるものとさ
れる。
In order to achieve the above object, an integrated circuit device according to the present invention has an integrated circuit forming portion provided on a base body, and an input end and an output end of the integrated circuit forming portion. An input buffer section and an output buffer section which are respectively connected to the input connection terminal and the output connection terminal provided above, and a conduction state and a power supply which connect the power supply voltage supply terminal provided on the substrate to the power supply line in the integrated circuit forming section. A switching unit that selectively takes a cutoff state in which the voltage supply terminal is separated from the power supply line in the integrated circuit formation unit, and a diagnostic circuit unit provided between the power supply voltage supply terminal and the power supply line in the integrated circuit formation unit, An input buffer unit, an output buffer unit, and a control voltage supply terminal connected to the switching unit are provided on the base body, and the input voltage buffer terminal is connected to the input buffer unit. The voltage level at the input terminal of the integrated circuit forming part connected to the output part is maintained at a predetermined low level or high level, the output buffer part is set to the high impedance state, and the switching part is set to the cutoff state. When the control voltage is supplied, the power supply voltage is supplied to the power supply line in the integrated circuit forming unit through the diagnostic circuit unit, the integrated circuit forming unit is diagnosed, and the diagnostic result output is obtained from the diagnostic circuit unit. It is supposed to be.

【0007】[0007]

【作用】上述の如くに構成される本発明に係る集積回路
装置にあっては、集積回路形成部における短絡,断線等
の故障を検知する自己診断が、診断用回路部を通じて集
積回路形成部における電源ラインに対する電源電圧供給
がなされることにより、集積回路形成部における故障に
応じた診断結果出力が診断用回路部から得られるものと
されて行われる。そして、集積回路形成部についての自
己診断が行われる際には、制御電圧供給端子に所定の制
御電圧が供給される状態がとられ、それにより、入力バ
ッファ部がそれが接続された集積回路形成部の入力端の
電圧レベルを所定の低レベルもしくは高レベルに維持す
るものとされ、出力バッファ部が高インピーダンス状態
をとるものとされ、さらに、スイッチング部が遮断状態
をとるものとされて、集積回路形成部の入力端及び出力
端が実質的な信号の入出が行われない状態におかれると
ともに、集積回路形成部の電源ラインが電源電圧供給端
子から切り離され、それにより、集積回路形成部につい
ての自己診断が、集積回路形成部に接続された他の回路
装置あるいは回路素子等による影響を受けないものとさ
れる。
In the integrated circuit device according to the present invention configured as described above, the self-diagnosis for detecting a failure such as a short circuit or a disconnection in the integrated circuit forming section is performed in the integrated circuit forming section through the diagnostic circuit section. By supplying the power supply voltage to the power supply line, it is assumed that the diagnostic result output corresponding to the failure in the integrated circuit forming unit is obtained from the diagnostic circuit unit. When a self-diagnosis is performed on the integrated circuit forming unit, a state in which a predetermined control voltage is supplied to the control voltage supply terminal is set, whereby the input buffer unit is connected to the integrated circuit forming unit. The voltage level at the input terminal of the unit is maintained at a predetermined low level or high level, the output buffer unit is set to the high impedance state, and the switching unit is set to the cutoff state. The input terminal and the output terminal of the circuit forming unit are placed in a state in which substantially no input / output of signals is performed, and the power supply line of the integrated circuit forming unit is disconnected from the power supply voltage supply terminal. The self-diagnosis is not affected by other circuit devices or circuit elements connected to the integrated circuit forming unit.

【0008】斯かるもとでの集積回路形成部についての
自己診断は、集積回路形成部が、その入力端及び出力端
が実質的な信号の入出が行われない状態とされるととも
に電源ラインが電源電圧供給端子から切り離されたもと
において故障が生じたものとされると、その影響が、集
積回路形成部の電源ラインに電源電圧を供給することに
なる診断用回路部を通じて集積回路形成部の電源ライン
を流れる電流に及び、その電流値が増大あるいは低減せ
しめられることに鑑みてなされる。即ち、診断用回路部
においては、例えば、このような集積回路形成部の電源
ラインを流れる電流の検出が行われ、検出された電流の
レベルに応じて診断結果出力が形成される。
The self-diagnosis of the integrated circuit forming unit under such a condition is such that the input terminal and the output terminal of the integrated circuit forming unit are in a state in which substantially no signal is input and output, and the power line is If a failure occurs after being disconnected from the power supply voltage supply terminal, the effect is that the power supply voltage is supplied to the power supply line of the integrated circuit formation unit. This is done in view of the fact that the current flowing through the line is increased or decreased. That is, in the diagnostic circuit unit, for example, the current flowing through the power supply line of such an integrated circuit forming unit is detected, and the diagnostic result output is formed according to the level of the detected current.

【0009】このようにされることにより、集積回路形
成部についての、実際の使用状態におかれたもとでの故
障を検知する自己診断が、それ自体が比較的大なる規模
を有する集積回路を構成して集積回路形成部に含まれる
ものとされる専用テスト回路等を必要とすることなく、
集積回路形成部に接続された他の回路装置あるいは回路
素子等による影響を受けないものとされるもとで、的確
に行われることになる。従って、本発明に係る集積回路
装置は、その構成についての複雑化が小なる範囲に制限
されたもとで、集積回路形成部についてのそれが実際の
使用状態におかれたもとでの故障を検知する自己診断
を、適正に行うことができるものとされることになる。
By doing so, the self-diagnosis for detecting the failure of the integrated circuit forming portion under the actual use condition constitutes an integrated circuit having a relatively large scale. Without the need for a dedicated test circuit or the like included in the integrated circuit forming unit,
It is performed accurately while being unaffected by other circuit devices or circuit elements connected to the integrated circuit forming unit. Therefore, the integrated circuit device according to the present invention is a self-detecting device for detecting a failure of the integrated circuit forming part under the actual usage condition, while the complexity of the structure is limited to a small range. Diagnosis will be made appropriately.

【0010】[0010]

【実施例】図1は、本発明に係る集積回路装置の一例を
示す。図1に示される例においては、半導体基体11上
に、電源ライン12を有するものとされた集積回路形成
部13が設けられている。この集積回路形成部13は、
半導体基体11上に形成された多数の半導体回路素子を
伴って構成され、電源ライン12は、これら多数の半導
体回路素子に対する動作電源電圧の供給等に用いられ
る。集積回路形成部13には、複数の信号入力端14
a,14b,14c及び14dが設けられるとともに、
複数の信号出力端15a,15b,15c,・・・,1
5d ,15e ,15f,・・・,及び15g が設けられ
ている。
FIG. 1 shows an example of an integrated circuit device according to the present invention. In the example shown in FIG. 1, an integrated circuit forming portion 13 having a power supply line 12 is provided on a semiconductor substrate 11. This integrated circuit forming unit 13
The power supply line 12 is configured to include a large number of semiconductor circuit elements formed on the semiconductor substrate 11, and the power supply line 12 is used for supplying an operating power supply voltage to the large number of semiconductor circuit elements. The integrated circuit forming unit 13 includes a plurality of signal input terminals 14
a, 14b, 14c and 14d are provided,
A plurality of signal output terminals 15a, 15b, 15c, ..., 1
5d, 15e, 15f, ..., And 15g are provided.

【0011】半導体基体11には、集積回路形成部13
に加えて、集積回路形成部13より外側となる端縁部分
に、入力接続端子16a,16b,16c及び16dが
配列形成されているともに、複数の出力接続端子17
a,17b,17c,・・・,17d ,17e ,17
f,・・・,17g 及び17tが配列形成されている。
そして、半導体基体11上における、入力接続端子16
a及び16bと集積回路形成部13における複数の信号
入力端14a及び14bとの間には、入力接続端子16
aを信号入力端14aに、及び、入力接続端子16bを
信号入力端14bに夫々連結する入力バッファ部18が
設けられており、また、入力接続端子16c及び16d
と集積回路形成部13における複数の信号入力端14c
及び14dとの間には、入力接続端子16cを信号入力
端14cに、及び、入力接続端子16dを信号入力端1
4dに夫々連結する入力バッファ部18が設けられてい
る。さらに、半導体基体11における、集積回路形成部
13における複数の信号出力端15a,15b,15
c,・・・及び15dと出力接続端子17a,17b,
17c,・・・及び17dとの間には、信号出力端15
aを出力接続端子17aに,信号出力端15bを出力接
続端子17bに,信号出力端15cを出力接続端子17
cに,・・・、及び、信号出力端15dを出力接続端子
17dに夫々連結する出力バッファ部19が設けられて
おり、また、集積回路形成部13における複数の信号出
力端15e,15f,・・・及び15gと出力接続端子
17e,17f,・・・及び17gとの間には、信号出
力端15eを出力接続端子17eに,信号出力端15f
を出力接続端子17fに,・・・、及び、信号出力端1
5gを出力接続端子17gに夫々連結する出力バッファ
部19が設けられている。
The semiconductor substrate 11 has an integrated circuit forming portion 13
In addition, input connection terminals 16a, 16b, 16c and 16d are formed in an array at the edge portion outside the integrated circuit formation portion 13, and a plurality of output connection terminals 17 are provided.
a, 17b, 17c, ..., 17d, 17e, 17
f, ..., 17g and 17t are arrayed.
Then, the input connection terminal 16 on the semiconductor substrate 11
a and 16b and the plurality of signal input terminals 14a and 14b in the integrated circuit formation part 13 between the input connection terminal 16
An input buffer section 18 is provided for connecting a to the signal input terminal 14a and to the input connection terminal 16b to the signal input terminal 14b, and the input connection terminals 16c and 16d.
And a plurality of signal input terminals 14c in the integrated circuit forming unit 13
And 14d, the input connection terminal 16c is connected to the signal input end 14c, and the input connection terminal 16d is connected to the signal input end 1.
An input buffer unit 18 connected to each of 4d is provided. Further, in the semiconductor substrate 11, the plurality of signal output terminals 15a, 15b, 15 in the integrated circuit forming portion 13 are provided.
and 15d and output connection terminals 17a, 17b,
The signal output terminal 15 is provided between the terminals 17c, ... And 17d.
a to the output connection terminal 17a, the signal output end 15b to the output connection terminal 17b, and the signal output end 15c to the output connection terminal 17
., and an output buffer unit 19 that connects the signal output end 15d to the output connection terminal 17d, respectively, and a plurality of signal output ends 15e, 15f, ... In the integrated circuit forming unit 13. .. and 15g and the output connection terminals 17e, 17f, ..., and 17g between the signal output terminal 15e and the output connection terminal 17e.
To the output connection terminal 17f, ... And the signal output terminal 1
An output buffer unit 19 is provided to connect 5g to the output connection terminals 17g, respectively.

【0012】また、半導体基体11の端縁部分には、電
源電圧供給端子20,診断用電源電圧供給端子21及び
制御電圧供給端子22も形成されている。さらに、半導
体基体11には、電源電圧供給端子20を集積回路形成
部13における電源ライン12に連結する導通状態と電
源電圧供給端子20を集積回路形成部13における電源
ライン12から切り離す遮断状態とを選択的にとるスイ
ッチング部を形成するMOS電界効果トランジスタ(M
OS・FET)24、及び、電源電圧供給端子20,診
断用電源電圧供給端子21及び出力接続端子17tの夫
々と集積回路形成部13における電源ライン12との間
に配された診断用回路部25が設けられている。MOS
・FET24は、そのドレイン及びソースが電源電圧供
給端子20及び集積回路形成部13における電源ライン
12に夫々接続されている。さらに、半導体基体11上
において、制御電圧供給端子22が、接続ライン26を
通じて、複数の入力バッファ部18の夫々の制御端,複
数の出力バッファ部19の夫々の制御端、及び、MOS
・FET24のゲートに接続されている。
A power supply voltage supply terminal 20, a diagnostic power supply voltage supply terminal 21, and a control voltage supply terminal 22 are also formed on the edge portion of the semiconductor substrate 11. Further, the semiconductor substrate 11 has a conductive state in which the power supply voltage supply terminal 20 is connected to the power supply line 12 in the integrated circuit forming unit 13 and a disconnected state in which the power supply voltage supply terminal 20 is disconnected from the power supply line 12 in the integrated circuit forming unit 13. A MOS field effect transistor (M
OS • FET) 24, the power supply voltage supply terminal 20, the diagnosis power supply voltage supply terminal 21, and the output connection terminal 17t, and the diagnostic circuit section 25 arranged between the power supply line 12 in the integrated circuit forming section 13. Is provided. MOS
The drain and source of the FET 24 are connected to the power supply voltage supply terminal 20 and the power supply line 12 in the integrated circuit formation unit 13, respectively. Further, on the semiconductor substrate 11, the control voltage supply terminal 22 is connected through the connection line 26 to the respective control ends of the plurality of input buffer units 18, the respective control ends of the plurality of output buffer units 19, and the MOS.
-It is connected to the gate of FET24.

【0013】斯かるもとで、集積回路形成部13が、実
際の使用に供されるものとされるときには、入力接続端
子16a〜16d及び出力接続端子17a〜17gの夫
々が外部回路装置あるいは回路素子等に接続される。そ
して、斯かるもとで、集積回路形成部13が、本来の機
能を果たすべく動作せしめられるにあたっては、電源電
圧供給端子20に電源電圧VOが供給され、さらに、制
御電圧供給端子22に、例えば、高レベルをとる制御電
圧VCHが供給される。それにより、複数の入力バッフ
ァ部18及び複数の出力バッファ部19の夫々が、その
制御端に供給される制御電圧供給端子22からの高レベ
ルをとる制御電圧VCHによって、正常な動作状態にお
かれ、また、MOS・FET24が、制御電圧供給端子
22からの高レベルをとる制御電圧VCHがゲートに供
給されることによって、導通状態をとるものとされる。
そして、集積回路形成部13が、その電源ライン12に
電源電圧供給端子20からの電源電圧VOがMOS・F
ET24を通じて供給される状態におかれて、本来の機
能を果たすべく動作するものとされる。
Under the above circumstances, when the integrated circuit forming section 13 is to be used for actual use, the input connection terminals 16a to 16d and the output connection terminals 17a to 17g are external circuit devices or circuits, respectively. It is connected to an element or the like. Then, under such a condition, when the integrated circuit forming unit 13 is operated to perform the original function, the power supply voltage VO is supplied to the power supply voltage supply terminal 20, and further, to the control voltage supply terminal 22, for example, , A control voltage VCH having a high level is supplied. As a result, each of the plurality of input buffer units 18 and the plurality of output buffer units 19 is placed in a normal operating state by the high-level control voltage VCH from the control voltage supply terminal 22 supplied to its control terminal. Further, the MOS • FET 24 is rendered conductive by supplying the control voltage VCH having a high level from the control voltage supply terminal 22 to the gate.
Then, the integrated circuit forming unit 13 supplies the power supply line 12 with the power supply voltage VO from the power supply voltage supply terminal 20 through the MOS.F.
When it is supplied through the ET 24, it operates to perform its original function.

【0014】一方、集積回路形成部13が実際の使用に
供されるものとされたもとで、集積回路形成部13につ
いての短絡等の故障を検知する自己診断が行われる場合
には、電源電圧供給端子20に電源電圧VOが供給され
るもとで、制御電圧供給端子22に、例えば、低レベル
をとる制御電圧VCLが供給されるとともに、診断用電
源電圧供給端子21に診断用電源電圧VTが供給され
る。斯かるもとでは、複数の入力バッファ部18の夫々
が、その制御端に供給される制御電圧供給端子22から
の低レベルをとる制御電圧VCLによって、その出力端
が接続された、集積回路形成部13の信号入力端14a
〜14dのうちの対応するもの電圧レベルを所定の低レ
ベルもしくは高レベルに維持するものとされ、また、複
数の出力バッファ部19の夫々が、その制御端に供給さ
れる制御電圧供給端子22からの低レベルをとる制御電
圧VCLによって、その出力端から見たインピーダンス
が極めて高いものとされる高インピーダンス状態を維持
するものとされ、さらに、MOS・FET24が、制御
電圧供給端子22からの低レベルをとる制御電圧VCL
がゲートに供給されることによって、遮断状態をとるも
のとされる。
On the other hand, when the integrated circuit forming unit 13 is supposed to be used for actual use and self-diagnosis for detecting a failure such as a short circuit in the integrated circuit forming unit 13 is performed, the power supply voltage is supplied. When the power supply voltage VO is supplied to the terminal 20, the control voltage supply terminal 22 is supplied with the control voltage VCL having a low level, and the diagnosis power supply voltage VT is supplied with the diagnosis power supply voltage VT. Supplied. Under such circumstances, each of the plurality of input buffer units 18 has its output end connected by the control voltage VCL having a low level from the control voltage supply terminal 22 supplied to the control end thereof, forming an integrated circuit. Signal input end 14a of the section 13
Corresponding ones of the output buffer units 19 to 14d are maintained at a predetermined low level or high level, and each of the plurality of output buffer units 19 is connected to the control voltage supply terminal 22 supplied to its control end. The control voltage VCL that takes a low level keeps the high impedance state in which the impedance seen from the output end is extremely high. Further, the MOS • FET 24 makes the low level from the control voltage supply terminal 22. Control voltage VCL
Is supplied to the gate so that the gate is cut off.

【0015】このように、制御電圧供給端子22に低レ
ベルをとる制御電圧VCLが供給されるもとにあって
は、集積回路形成部13の信号入力端14a〜14dの
夫々及び出力接続端子17a〜17gの夫々が、実質的
な信号の入出が行われない状態に維持されることになる
とともに、集積回路形成部13の電源ライン12がMO
S・FET24によって電源電圧供給端子22から切り
離されることになる。それによって、集積回路形成部1
3についての自己診断が、入力接続端子16a〜16d
及び出力接続端子17a〜17gの夫々が接続された外
部回路装置あるいは回路素子等による影響を受けないも
とで行われるものとされる。
As described above, when the control voltage VCL having a low level is supplied to the control voltage supply terminal 22, each of the signal input terminals 14a to 14d of the integrated circuit forming section 13 and the output connection terminal 17a. Each of 17 to 17 g is maintained in a state in which substantial signal input / output is not performed, and the power supply line 12 of the integrated circuit forming unit 13 is MO.
It is disconnected from the power supply voltage supply terminal 22 by the S-FET 24. Thereby, the integrated circuit forming unit 1
The self-diagnosis about 3 is the input connection terminals 16a to 16d.
And the output connection terminals 17a to 17g are not affected by an external circuit device or a circuit element to which the output connection terminals 17a to 17g are connected.

【0016】電源電圧供給端子20及び診断用電源電圧
供給端子21の夫々に接続され、従って、電源電圧供給
端子20からの電源電圧VO及び診断用電源電圧供給端
子21からの診断用電源電圧VTが供給される診断用回
路部25においては、カレントミラー回路30を形成す
る2個のMOS・FET31及び32が設けられてい
る。MOS・FET31は、そのドレインとゲートとが
共通に電源電圧供給端子20に接続され、また、そのソ
ースが集積回路形成部13の電源ライン12に接続され
たものとなされている。また、MOS・FET32は、
ドレインが抵抗33を介して診断用電源電圧供給端子2
1接続され,ソースが集積回路形成部13の電源ライン
12に接続され、さらに、ゲートがMOS・FET31
のゲートに接続されている。
The power source voltage supply terminal 20 and the diagnostic power source voltage supply terminal 21 are connected to each other. Therefore, the power source voltage VO from the power source voltage supply terminal 20 and the diagnostic power source voltage VT from the diagnostic power source voltage supply terminal 21 are connected. The supplied diagnostic circuit section 25 is provided with two MOS • FETs 31 and 32 forming the current mirror circuit 30. The MOS-FET 31 is configured such that its drain and gate are commonly connected to the power supply voltage supply terminal 20, and its source is connected to the power supply line 12 of the integrated circuit forming portion 13. Moreover, the MOS • FET 32 is
The drain is connected to the diagnostic power supply voltage supply terminal 2 via the resistor 33.
1 is connected, the source is connected to the power supply line 12 of the integrated circuit forming portion 13, and the gate is a MOS • FET 31.
Is connected to the gate.

【0017】それにより、電源電圧供給端子20に供給
される電源電圧VO及び診断用電源電圧供給端子21に
供給される診断用電源電圧VTが、カレントミラー回路
30を通じて集積回路形成部13の電源ライン12に供
給される状態がとられ、電源電圧供給端子20に供給さ
れる電源電圧VOに基づく電流ITが、MOS・FET
31を通じて集積回路形成部13の電源ライン12に流
れ込み、また、診断用電源電圧供給端子21に供給され
る診断用電源電圧VTに基づく電流IT’が、MOS・
FET31を通じる電流ITのレベルに対して一定の比
率関係を有するレベルを有するものとされて、抵抗33
及びMOS・FET32を通じて集積回路形成部13の
電源ライン12に流れ込む。そして、このようにして、
電流IT’が抵抗33及びMOS・FET32を通じて
流れることにより、抵抗33とMOS・FET32との
間の接続点Pに得られる、電流IT’のレベルに応じた
電圧VPがレベル比較部34における比較端子に供給さ
れる。
As a result, the power supply voltage VO supplied to the power supply voltage supply terminal 20 and the diagnostic power supply voltage VT supplied to the diagnostic power supply voltage supply terminal 21 pass through the current mirror circuit 30 and the power supply line of the integrated circuit forming unit 13. 12, the current IT based on the power supply voltage VO supplied to the power supply voltage supply terminal 20 is supplied to the MOS.FET.
A current IT ′ based on the diagnostic power supply voltage VT supplied to the diagnostic power supply voltage supply terminal 21 flows into the power supply line 12 of the integrated circuit forming portion 13 through the MOS.
It is assumed that the resistor 33 has a level having a fixed ratio relationship with the level of the current IT passing through the FET 31.
And the MOS • FET 32 to flow into the power supply line 12 of the integrated circuit formation portion 13. And in this way,
The voltage VP corresponding to the level of the current IT ′ obtained at the connection point P between the resistor 33 and the MOS • FET 32 by flowing the current IT ′ through the resistance 33 and the MOS • FET 32 is a comparison terminal in the level comparison unit 34. Is supplied to.

【0018】レベル比較部34における基準端子には、
基準電圧源35からの予め設定された基準レベルを有し
た基準電圧VRが供給される。そして、レベル比較部3
4においては、電圧VPと基準電圧VRとの間のレベル
比較が行われ、レベル比較部34から、電圧VPのレベ
ルが基準電圧VRのレベル未満であるとき、低レベルを
とり、電圧VPのレベルが基準電圧VRのレベル以上で
あるとき、高レベルをとる比較出力電圧VXが得られ
る。斯かる際、基準電圧VRのレベルは、集積回路形成
部13が、短絡等の故障を生じていず、正常な状態にあ
るもとで接続点Pに得られる電圧VPのレベルの最小値
に相当するものとなるように設定される。従って、集積
回路形成部13が、短絡等の故障を生じていず、正常な
状態にある場合には、電圧VPのレベルが基準電圧VR
以上となって、レベル比較部34から高レベルをとる比
較出力電圧VXが得られ、また、集積回路形成部13
が、短絡等の故障を生じていて、正常な状態になく、そ
れにより電流IT’のレベルが増大せしめられる場合に
は、電圧VPのレベルが基準電圧VR未満となって、レ
ベル比較部34から低レベルをとる比較出力電圧VXが
得られ、比較出力電圧VXは診断結果出力とされること
になる。
The reference terminal of the level comparing section 34 is
A reference voltage VR having a preset reference level is supplied from the reference voltage source 35. And the level comparison unit 3
4, the level comparison between the voltage VP and the reference voltage VR is performed, and when the level of the voltage VP is less than the level of the reference voltage VR, the level comparison unit 34 takes the low level and the level of the voltage VP. Is higher than the level of the reference voltage VR, the comparative output voltage VX having a high level is obtained. In this case, the level of the reference voltage VR corresponds to the minimum value of the level of the voltage VP obtained at the connection point P under the normal condition that the integrated circuit forming unit 13 does not cause a failure such as a short circuit. It is set to be what you do. Therefore, when the integrated circuit forming unit 13 is in a normal state without causing a failure such as a short circuit, the level of the voltage VP is equal to the reference voltage VR.
As described above, the comparative output voltage VX having a high level is obtained from the level comparing section 34, and the integrated circuit forming section 13 is also provided.
However, if a failure such as a short circuit has occurred and it is not in a normal state, and the level of the current IT 'is increased due to this, the level of the voltage VP becomes less than the reference voltage VR, and the level comparison unit 34 The comparative output voltage VX having a low level is obtained, and the comparative output voltage VX is output as a diagnostic result.

【0019】従って、カレントミラー回路30及び抵抗
33を含む部分によって、診断用電源電圧供給端子21
から集積回路形成部13の電源ライン12に流入する電
流IT’を検出する電流検出部が形成されており、ま
た、レベル比較部34及び基準電圧源35を含む部分に
よって、電流検出部により検出された電流IT’のレベ
ルに応じた比較出力電圧VXを診断結果出力として送出
する出力形成部が形成されていることになる。
Therefore, the diagnostic power supply voltage supply terminal 21 is provided by the portion including the current mirror circuit 30 and the resistor 33.
A current detection unit for detecting a current IT ′ flowing into the power supply line 12 of the integrated circuit formation unit 13 is formed. Further, a portion including the level comparison unit 34 and the reference voltage source 35 detects the current IT ′ by the current detection unit. That is, an output forming section is formed to send out the comparative output voltage VX corresponding to the level of the current IT ′ as the diagnosis result output.

【0020】レベル比較部34から得られる比較出力電
圧VXは、レベル保持部36によって保持される。レベ
ル保持部36の出力端は、出力バッファ部19を介して
出力接続端子17tに接続されているが、このとき、出
力バッファ部19は、その制御端に制御電圧供給端子2
2からの低レベルをとる制御電圧VCLが供給されてい
て、出力接続端子17tへの信号送出が行われない状態
とされており、レベル比較部34から得られる比較出力
電圧VXは、レベル保持部36によって保持される状態
におかれて、出力接続端子17tへの送出はなされな
い。
The comparison output voltage VX obtained from the level comparing section 34 is held by the level holding section 36. The output terminal of the level holding section 36 is connected to the output connection terminal 17t via the output buffer section 19. At this time, the output buffer section 19 has its control terminal connected to the control voltage supply terminal 2t.
The control voltage VCL having a low level from 2 is supplied, and the signal is not sent to the output connection terminal 17t. The comparison output voltage VX obtained from the level comparison unit 34 is the level holding unit. In the state held by 36, no output is made to the output connection terminal 17t.

【0021】このようにして、実際の使用に供されるも
のとされた集積回路形成部13についての短絡等の故障
を検知する自己診断が行われ、それにより得られる診断
結果出力(比較出力電圧VX)がレベル保持部36によ
り保持されることになる。
In this way, self-diagnosis is performed to detect a failure such as a short circuit in the integrated circuit forming portion 13 which is supposed to be actually used, and the diagnostic result output (comparative output voltage) obtained thereby is obtained. VX) is held by the level holding unit 36.

【0022】そして、集積回路形成部13についての自
己診断が行われた後、集積回路形成部13が本来の機能
を果たすべく動作せしめられる状態とされると、制御電
圧供給端子22に、低レベルをとる制御電圧VCLに代
えて高レベルをとる制御電圧VCHが供給され、それに
より、レベル保持部36の出力端に接続された出力バッ
ファ部19が、他の出力バッファ部19と共に、その制
御端に制御電圧供給端子22からの高レベルをとる制御
電圧VCHが供給されて、正常な動作状態をとるものと
される。それにより、レベル保持部36によって保持さ
れていた診断結果出力である比較出力電圧VXが、出力
バッファ部19を通じて出力接続端子17tに導出され
る。
After the self-diagnosis of the integrated circuit forming unit 13 is performed, when the integrated circuit forming unit 13 is brought into a state where it is operated to perform its original function, the control voltage supply terminal 22 is set to a low level. The control voltage VCH having a high level is supplied in place of the control voltage VCL having the control voltage VCL, which causes the output buffer unit 19 connected to the output terminal of the level holding unit 36, together with other output buffer units 19, to control the control terminal VCH. The control voltage VCH having a high level is supplied from the control voltage supply terminal 22 to a normal operating state. As a result, the comparison output voltage VX, which is the diagnostic result output held by the level holding unit 36, is led to the output connection terminal 17t through the output buffer unit 19.

【0023】このように、集積回路形成部13について
の自己診断が行われているときには、レベル保持部36
の出力端に接続された出力バッファ部19が出力接続端
子17tへの信号送出が行われない状態におかれて、レ
ベル比較部34から診断結果出力として得られる比較出
力電圧VXが、レベル保持部36によって保持される状
態におかれて、集積回路形成部13についての自己診断
が行われた後に、レベル保持部36によって保持されて
いた診断結果出力である比較出力電圧VXが、出力バッ
ファ部19を通じて出力接続端子17tに導出されるも
のとなされることにより、集積回路形成部13について
の自己診断が、入力接続端子16a〜16d及び出力接
続端子17a〜17gの夫々が接続された外部回路装置
あるいは回路素子等による影響を受けないもとで行われ
る状態が確実に維持される。
As described above, when the self-diagnosis of the integrated circuit forming unit 13 is being performed, the level holding unit 36 is provided.
When the output buffer unit 19 connected to the output terminal of the above is in a state in which the signal is not sent to the output connection terminal 17t, the comparison output voltage VX obtained as the diagnostic result output from the level comparison unit 34 becomes the level holding unit. After the self-diagnosis of the integrated circuit forming unit 13 is performed in the state of being held by the 36, the comparison output voltage VX, which is the diagnostic result output held by the level holding unit 36, is output to the output buffer unit 19. The self-diagnosis of the integrated circuit forming unit 13 is performed through the output connection terminal 17t through the external circuit device to which the input connection terminals 16a to 16d and the output connection terminals 17a to 17g are connected, respectively. The state that is performed without being affected by the circuit element or the like is reliably maintained.

【0024】図2は、上述の入力バッファ部18の具体
構成の一例を示す。この図2に示される例は、入力接続
端子16a〜16dのいずれかが、インバータ40を介
してアンドゲート41の一方の入力端に接続され、アン
ドゲート41の他方の入力端が制御電圧供給端子22に
接続されるとともに、アンドゲート41の出力端が集積
回路形成部13における信号入力端14a〜14dのい
ずれかに接続されて構成されている。斯かるもとで、ア
ンドゲート41の他方の入力端に、制御電圧供給端子2
2からの高レベルをとる制御電圧VCHが供給されると
きには、入力接続端子16a〜16dのいずれかに供給
される入力信号が、インバータ40及びアンドゲート4
1を通じて、集積回路形成部13における信号入力端1
4a〜14dのいずれかに供給される。また、アンドゲ
ート41の他方の入力端に、制御電圧供給端子22から
の低レベルをとる制御電圧VCLが供給されるときに
は、アンドゲート41がオフ状態に維持されて、アンド
ゲート41の出力端が接続された集積回路形成部13に
おける信号入力端14a〜14dのいずれかの電圧が、
所定の低レベルもしくは高レベルに維持される。
FIG. 2 shows an example of a specific configuration of the input buffer section 18 described above. In the example shown in FIG. 2, one of the input connection terminals 16a to 16d is connected to one input terminal of the AND gate 41 via the inverter 40, and the other input terminal of the AND gate 41 is connected to the control voltage supply terminal. The output end of the AND gate 41 is connected to any one of the signal input ends 14a to 14d in the integrated circuit formation portion 13 while being connected to the signal line 22. Under the circumstances, the control voltage supply terminal 2 is connected to the other input terminal of the AND gate 41.
When the control voltage VCH having a high level from 2 is supplied, the input signal supplied to any of the input connection terminals 16a to 16d is the inverter 40 and the AND gate 4.
1, the signal input terminal 1 in the integrated circuit forming unit 13
It is supplied to any of 4a to 14d. Further, when the control voltage VCL having a low level is supplied from the control voltage supply terminal 22 to the other input terminal of the AND gate 41, the AND gate 41 is maintained in the off state, and the output terminal of the AND gate 41 is The voltage of any of the signal input terminals 14a to 14d in the connected integrated circuit forming unit 13 is
It is maintained at a predetermined low level or high level.

【0025】図3は、上述の出力バッファ部19の具体
構成の一例を示す。この図3に示される例は、一対の相
補性のMOS・FET42及び43が、各々のドレイン
−ソース通路が直列接続された状態で、電源電圧VOが
供給される電源ラインと接地電位点との間に接続され、
MOS・FET42のソースにノア・ゲート44の出力
端が接続されるとともに、MOS・FET43のソース
にナンド・ゲート45の出力端が接続されて構成されて
いる。そして、集積回路形成部13における信号出力端
15a〜15gのいずれかがノア・ゲート44及びナン
ド・ゲート45の夫々の一方の入力端に接続され、ノア
・ゲート44の他方の入力端がインバータ46を介し
て、また、ナンド・ゲート45の他方の入力端が直接
に、夫々、制御電圧供給端子22に接続され、さらに、
MOS・FET42とMOS・FET43との間の接続
点が出力接続端子17a〜17gのいずれかに接続され
る。
FIG. 3 shows an example of a specific configuration of the output buffer section 19 described above. In the example shown in FIG. 3, a pair of complementary MOS • FETs 42 and 43 are connected between the power supply line to which the power supply voltage VO is supplied and the ground potential point in a state where the drain-source paths of each are connected in series. Connected in between,
The output terminal of the NOR gate 44 is connected to the source of the MOS FET 42, and the output terminal of the NAND gate 45 is connected to the source of the MOS FET 43. Then, one of the signal output terminals 15a to 15g in the integrated circuit forming unit 13 is connected to one input terminal of each of the NOR gate 44 and the NAND gate 45, and the other input terminal of the NOR gate 44 is connected to the inverter 46. And the other input of the NAND gate 45 is directly connected to the control voltage supply terminal 22, respectively, and
A connection point between the MOS • FET 42 and the MOS • FET 43 is connected to any of the output connection terminals 17a to 17g.

【0026】斯かるもとで、ノア・ゲート44の他方の
入力端にインバータ46を介して、また、ナンド・ゲー
ト45の他方の入力端に直接に制御電圧供給端子22か
らの高レベルをとる制御電圧VCHが供給されるときに
は、MOS・FET42及びMOS・FET43が導通
状態におかれて、ノア・ゲート44及びナンド・ゲート
45の夫々の一方の入力端が接続された集積回路形成部
13における信号出力端15a〜15gのいずれかに得
られる出力信号が、MOS・FET42とMOS・FE
T43との間の接続点が接続された出力接続端子17a
〜17gのいずれかに導出される。また、ノア・ゲート
44の他方の入力端にインバータ46を介して、また、
ナンド・ゲート45の他方の入力端に直接に制御電圧供
給端子22からの低レベルをとる制御電圧VCLが供給
されるときには、MOS・FET42及びMOS・FE
T43が遮断状態におかれて、高インピーダンス状態が
とられる。
Under this condition, the high level from the control voltage supply terminal 22 is applied to the other input terminal of the NOR gate 44 through the inverter 46 and directly to the other input terminal of the NAND gate 45. When the control voltage VCH is supplied, the MOS • FET 42 and the MOS • FET 43 are placed in a conductive state, and one input terminal of each of the NOR gate 44 and the NAND gate 45 is connected to the integrated circuit formation unit 13. The output signal obtained at any of the signal output terminals 15a to 15g is the MOS • FET 42 and the MOS • FE.
Output connection terminal 17a to which the connection point with T43 is connected
~ 17g. Also, via the inverter 46 to the other input terminal of the NOR gate 44,
When the control voltage VCL having a low level is directly supplied from the control voltage supply terminal 22 to the other input terminal of the NAND gate 45, the MOS.FET 42 and the MOS.FE.
T43 is placed in the cutoff state and the high impedance state is taken.

【0027】図4は、本発明に係る集積回路装置の他の
例を示す。図4に示される例は、診断用回路部25にお
ける具体構成、及び、半導体基体11上に診断用電源電
圧供給端子21が設けられない点において、図1に示さ
れる例と相違し、他の部分の構成は図1に示される例と
共通なものとされている。そして、図4においては、図
1に示される各部に対応する部分が図1と共通の符号が
付されて示されている。
FIG. 4 shows another example of the integrated circuit device according to the present invention. The example shown in FIG. 4 is different from the example shown in FIG. 1 in the specific configuration of the diagnostic circuit section 25 and in that the diagnostic power supply voltage supply terminal 21 is not provided on the semiconductor substrate 11, The structure of the part is common to the example shown in FIG. 4, parts corresponding to the parts shown in FIG. 1 are shown with the same reference numerals as in FIG.

【0028】図4に示される例においては、診断用回路
部25が、図1に示される例において用いられているカ
レントミラー回路に代えて、MOS・FET24のドレ
イン−ソース間に対して並列接続された抵抗37が用い
られている。また、カレントミラー回路が用いられない
ことに関連して、図1に示される例において用いられて
いる診断用電源電圧供給端子21は用いられていない。
斯かる構成のもとでは、制御電圧供給端子22に高レベ
ルをとる制御電圧VCHが供給されるときには、図1に
示される例の場合と同様な動作が行われる。また、制御
電圧供給端子22に低レベルをとる制御電圧VCLが供
給され、MOS・FET24が遮断状態とされるときに
は、電源電圧供給端子20に供給される電源電圧VOが
抵抗37を通じて集積回路形成部13の電源ライン12
に供給される状態がとられ、電源電圧VOに基づいて得
られる、電源電圧供給端子20から抵抗37を通じて集
積回路形成部13の電源ライン12に流入する電流が流
れて、集積回路形成部13についての自己診断が行われ
る。
In the example shown in FIG. 4, the diagnostic circuit section 25 is connected in parallel to the drain-source of the MOS.FET 24 instead of the current mirror circuit used in the example shown in FIG. The resistor 37 is used. Further, in connection with the fact that the current mirror circuit is not used, the diagnostic power supply voltage supply terminal 21 used in the example shown in FIG. 1 is not used.
Under such a configuration, when the control voltage VCH having a high level is supplied to the control voltage supply terminal 22, the same operation as in the case of the example shown in FIG. 1 is performed. Further, when the control voltage VCL having a low level is supplied to the control voltage supply terminal 22 and the MOS • FET 24 is turned off, the power supply voltage VO supplied to the power supply voltage supply terminal 20 is supplied through the resistor 37 to the integrated circuit forming unit. 13 power lines 12
Is supplied to the integrated circuit forming section 13 from the power supply voltage supply terminal 20 through the resistor 37 to the power supply line 12 of the integrated circuit forming section 13. Self-diagnosis is performed.

【0029】その際、抵抗37によって、電源電圧供給
端子20から集積回路形成部13の電源ライン12に流
入する電流を検出する電流検出部が形成され、また、レ
ベル比較部34及び基準電圧源35を含む部分によっ
て、電流検出部により検出された電流のレベルに応じた
比較出力電圧VXを診断結果出力として送出する出力形
成部が形成されることになり、図1の場合と同様な動作
が行われることになる。
At this time, the resistor 37 forms a current detecting section for detecting a current flowing from the power supply voltage supply terminal 20 to the power supply line 12 of the integrated circuit forming section 13, and also the level comparing section 34 and the reference voltage source 35. By the portion including, the output forming portion for sending out the comparison output voltage VX according to the level of the current detected by the current detecting portion as the diagnostic result output is formed, and the same operation as in the case of FIG. 1 is performed. Will be seen.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上の説明から明らかな如くに、本発明
に係る集積回路装置にあっては、集積回路形成部におけ
る短絡,断線等の故障を検知する自己診断が、制御電圧
供給端子に所定の制御電圧が供給される状態がとられ、
それにより、入力バッファ部がそれが接続された集積回
路形成部の入力端の電圧レベルを所定の低レベルもしく
は高レベルに維持するものとされ、出力バッファ部が高
インピーダンス状態をとるものとされ、さらに、スイッ
チング部が遮断状態をとるものとされて、集積回路形成
部の入力端及び出力端が実質的な信号の入出が行われな
い状態におかれたもとで、診断用回路部を通じて集積回
路形成部における電源ラインに対する電源電圧供給がな
されることにより、集積回路形成部が故障が生じたもの
とされると、その影響が、集積回路形成部の電源ライン
に電源電圧を供給する診断用回路部を通じて集積回路形
成部の電源ラインを流れる電流に及び、その結果、集積
回路形成部における故障に応じた診断結果出力が診断用
回路部から得られるものとされて行われる。そして、そ
の集積回路形成部についての自己診断は、集積回路形成
部に接続された他の回路装置あるいは回路素子等による
影響を受けないものとされる。
As is apparent from the above description, in the integrated circuit device according to the present invention, the self-diagnosis for detecting a failure such as a short circuit or a disconnection in the integrated circuit forming portion is predetermined at the control voltage supply terminal. The control voltage of
As a result, the input buffer section maintains the voltage level of the input terminal of the integrated circuit forming section to which it is connected at a predetermined low level or high level, and the output buffer section assumes a high impedance state. Further, the switching section is assumed to be in the cutoff state, and the input terminal and the output terminal of the integrated circuit forming section are placed in a state in which substantially no signal is input / output, and the integrated circuit forming section is formed through the diagnostic circuit section. When the integrated circuit forming unit has a failure due to the supply of the power supply voltage to the power supply line in the integrated circuit forming unit, the influence of the failure is to supply a power supply voltage to the power supply line of the integrated circuit forming unit. Through the current flowing through the power supply line of the integrated circuit forming unit, and as a result, a diagnostic result output corresponding to a failure in the integrated circuit forming unit is obtained from the diagnostic circuit unit Is carried out is the thing. The self-diagnosis of the integrated circuit forming unit is not affected by other circuit devices or circuit elements connected to the integrated circuit forming unit.

【0031】従って、本発明に係る集積回路装置は、集
積回路形成部についての、実際の使用状態におかれたも
とでの自己診断が、それ自体が比較的大なる規模を有す
る集積回路を構成して集積回路形成部に含まれるものと
される専用テスト回路等を必要とせず、複雑化が小なる
範囲に制限されることになる構成のもとに、集積回路形
成部に接続された他の回路装置あるいは回路素子等によ
る影響を受けないものとされて、的確に行われることに
なるものとされる。
Therefore, in the integrated circuit device according to the present invention, the self-diagnosis of the integrated circuit forming portion under actual usage conditions constitutes an integrated circuit having a relatively large scale. In this configuration, a dedicated test circuit included in the integrated circuit forming unit is not required and the complexity is limited to a small range. It is assumed that the operation is not affected by the circuit device, the circuit element, or the like, and is performed accurately.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る集積回路装置の一例を示す概略構
成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an example of an integrated circuit device according to the present invention.

【図2】本発明に係る集積回路装置における入力バッフ
ァ部の具体構成例を示す概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a specific configuration example of an input buffer unit in the integrated circuit device according to the present invention.

【図3】本発明に係る集積回路装置における出力バッフ
ァ部の具体構成例を示す概略構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a specific configuration example of an output buffer section in the integrated circuit device according to the present invention.

【図4】本発明に係る半導体集積回路装置の他の例を示
す概略構成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing another example of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 半導体基体 12 電源ライン 13 集積回路形成部 14a,14b,14c,14d 信号入力端 15a,15b,15c,15d,15e,15f,1
5g 信号出力端 16a,16b,16c,16d 入力接続端子 17a,17b,17c,17d,17e,17f,1
7g 出力接続端子 18 入力バッファ部 19 出力バッファ部 20 電源電圧供給端子 21 診断用電源電圧供給端子 22 制御電圧供給端子 24,31,32 MOS・FET 25 診断用回路部 26 接続ライン 30 カレントミラー回路 33,37 抵抗 34 レベル比較部 35 基準電圧源 36 レベル保持部
11 semiconductor substrate 12 power supply line 13 integrated circuit forming portion 14a, 14b, 14c, 14d signal input terminal 15a, 15b, 15c, 15d, 15e, 15f, 1
5g signal output terminal 16a, 16b, 16c, 16d input connection terminal 17a, 17b, 17c, 17d, 17e, 17f, 1
7g output connection terminal 18 input buffer section 19 output buffer section 20 power supply voltage supply terminal 21 diagnostic power supply voltage supply terminal 22 control voltage supply terminal 24, 31, 32 MOS • FET 25 diagnostic circuit section 26 connection line 30 current mirror circuit 33 , 37 resistance 34 level comparison unit 35 reference voltage source 36 level holding unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/66 F 7630−4M ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location H01L 21/66 F 7630-4M

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基体上に設けられた集積回路形成部と、該
集積回路形成部の入力端を上記基体上に設けられた入力
接続端子に連結する入力バッファ部と、上記集積回路形
成部の出力端を上記基体上に設けられた出力接続端子に
連結する出力バッファ部と、上記基体上に設けられた電
源電圧供給端子を上記集積回路形成部における電源ライ
ンに連結する導通状態と上記電源電圧供給端子を上記集
積回路形成部における電源ラインから切り離す遮断状態
とを選択的にとるスイッチング部と、上記電源電圧供給
端子と上記集積回路形成部における電源ラインとの間に
設けられた診断用回路部と、上記基体上に設けられて上
記入力バッファ部,上記出力バッファ部及び上記スイッ
チング部に接続された制御電圧供給端子とを備え、 上記制御電圧供給端子に、上記入力バッファ部に該入力
バッファ部が接続された上記集積回路形成部の入力端の
電圧レベルを所定の低レベルもしくは高レベルに維持さ
せ、上記出力バッファ部に高インピーダンス状態をとら
せ、さらに、上記スイッチング部に遮断状態をとらせる
制御電圧が供給されるもとで、上記診断用回路部を通じ
て上記集積回路形成部における電源ラインに対する電源
電圧供給がなされて上記集積回路形成部についての診断
が行われ、上記診断用回路部から診断結果出力が得られ
るものとされた集積回路装置。
1. An integrated circuit forming part provided on a base, an input buffer part for connecting an input end of the integrated circuit forming part to an input connection terminal provided on the base, and an integrated circuit forming part of the integrated circuit forming part. An output buffer section having an output terminal connected to an output connection terminal provided on the base body, a conduction state connecting the power supply voltage supply terminal provided on the base body to a power supply line in the integrated circuit forming section, and the power supply voltage. A switching unit that selectively switches between a power supply line in the integrated circuit formation unit and a power supply line in the integrated circuit formation unit; and a diagnostic circuit unit provided between the power supply voltage supply terminal and the power supply line in the integrated circuit formation unit. And a control voltage supply terminal provided on the base and connected to the input buffer section, the output buffer section, and the switching section, the control voltage supply terminal In the input buffer unit, the voltage level of the input terminal of the integrated circuit forming unit connected to the input buffer unit is maintained at a predetermined low level or high level, and the output buffer unit is set to a high impedance state, Further, a power supply voltage is supplied to the power supply line in the integrated circuit forming unit through the diagnostic circuit unit while a control voltage for turning off the switching unit is supplied, and the diagnosis of the integrated circuit forming unit is performed. The integrated circuit device according to which the diagnosis result output is obtained from the diagnosis circuit unit.
【請求項2】診断用回路部が、診断結果出力を保持する
出力保持部と、該出力保持部の出力端を基体上に設けら
れた診断結果出力接続端子に連結する診断結果出力用バ
ッファ部とを備え、該診断結果出力用バッファ部が、制
御電圧供給端子に制御電圧が供給されるとき、該制御電
圧によって高インピーダンス状態に維持され、上記制御
電圧供給端子に上記制御電圧が供給されなくなった後
に、上記出力保持部によって保持された診断結果出力を
上記診断結果出力接続端子に導出することを特徴とする
請求項1記載の集積回路装置。
2. A diagnostic circuit section for holding a diagnostic result output, and a diagnostic result output buffer section for coupling an output end of the output holding section to a diagnostic result output connection terminal provided on a substrate. The diagnostic result output buffer unit is maintained in a high impedance state by the control voltage when the control voltage is supplied to the control voltage supply terminal, and the control voltage is not supplied to the control voltage supply terminal. 2. The integrated circuit device according to claim 1, wherein the diagnostic result output held by the output holding unit is led out to the diagnostic result output connection terminal after the operation.
【請求項3】診断用回路部が、集積回路形成部における
電源ラインに流入する電流を検出する電流検出部と、該
電流検出部により検出された電流のレベルに応じて診断
結果出力を形成する出力形成部とを備えることを特徴と
する請求項1記載の集積回路装置。
3. A diagnostic circuit section forms a diagnostic result output according to a current detecting section for detecting a current flowing into a power supply line in the integrated circuit forming section and a level of the current detected by the current detecting section. The integrated circuit device according to claim 1, further comprising an output forming unit.
【請求項4】電流検出部が、電源電圧供給端子と集積回
路形成部における電源ラインとの間に配されたカレント
ミラー回路を含んで形成されることを特徴とする請求項
3記載の集積回路装置。
4. The integrated circuit according to claim 3, wherein the current detection unit is formed to include a current mirror circuit arranged between the power supply voltage supply terminal and the power supply line in the integrated circuit formation unit. apparatus.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5976926A (en) * 1996-11-12 1999-11-02 Micron Technology, Inc. Static memory cell and method of manufacturing a static memory cell
JP2012069728A (en) * 2010-09-24 2012-04-05 Fujitsu Semiconductor Ltd Integrated circuit with power supply state determination circuit

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