JP2000009808A - Semiconductor device and liquid crystal driving device - Google Patents

Semiconductor device and liquid crystal driving device

Info

Publication number
JP2000009808A
JP2000009808A JP10179277A JP17927798A JP2000009808A JP 2000009808 A JP2000009808 A JP 2000009808A JP 10179277 A JP10179277 A JP 10179277A JP 17927798 A JP17927798 A JP 17927798A JP 2000009808 A JP2000009808 A JP 2000009808A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
test
level
output
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP10179277A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hidehiko Yajima
秀彦 矢島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP10179277A priority Critical patent/JP2000009808A/en
Publication of JP2000009808A publication Critical patent/JP2000009808A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To perform a test on multi-pin output ICs without increasing the size of a semiconductor chip or probing an output terminal by performing the test on the output terminal through the use of the off-transistor of a circuit for preventing an electrostatic breakdown in a semiconductor device and a testing circuit. SOLUTION: An output terminal 11 is connected to the output of an output- stage transistor part 6 formed of a Pch transistor 4 to connect an IC power source VCC17 to a source and a control signal 10 to a gate and of a Nch transistor 5 to connect an IC power source VGND18 to the source and the control signal 10 to the gate and is connected to a circuit 3 for preventing electrostatic breakdown. The device 3 for preventing electrostatic breakdown is constituted of a Pch transistor 1 to connect the IC power source VCC17 to the source and a test signal 12 to the gate and of a Nch transistor 2 to connect the IC power source VGND18 to the source and a test signal 13 to the gate. The IC power sources VCC17 and VGND18 are supplied from an external power source 16 via ammeters 14 and 15 for test.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置およびテ
スト回路に関する。
The present invention relates to a semiconductor device and a test circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体装置のテスト回路は、全て
の出力端子をプローブしてテストを行うか、特開平4−
207050号公報や特開平7−99452号公報にあ
るように、少なくとも1つのプローブを行うための専用
テスト端子を設け、選択回路で複数の出力を切り替えて
プローブする専用テスト端子を共有する構造であった。
2. Description of the Related Art A conventional test circuit for a semiconductor device performs a test by probing all output terminals,
As disclosed in JP-A-207050 and JP-A-7-99452, a dedicated test terminal for performing at least one probe is provided, and a dedicated test terminal for switching a plurality of outputs by a selection circuit and probing is shared. Was.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体装置およ
びテスト回路において、とくに液晶駆動装置において
は、出力端子のテストを行う場合、テストを行う出力端
子に対してプローブを行う必要があり、プローブ針の接
触性による不良により歩留まりを落とすといった現象が
起きていた。また、多ピン出力の半導体装置をテストし
ようとすると、プローブカードも複雑、高価になり、多
ピン出力に対応するテスターを用意しなくてはならない
という課題を有していた。
In a conventional semiconductor device and test circuit, particularly in a liquid crystal driving device, when testing an output terminal, it is necessary to probe the output terminal to be tested. There was a phenomenon that the yield was lowered due to the failure due to the contact property of the wafer. Also, when testing a semiconductor device with multiple pins output, the probe card becomes complicated and expensive, and there is a problem that a tester corresponding to multiple pins output must be prepared.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】記述項1に記載する半導
体装置は、半導体装置内に出力用のオフトランジスタを
用いた静電気破壊防止回路を有し、テスト回路に前記静
電気破壊防止回路のオフトランジスタを使用する手段を
備えることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device having an electrostatic discharge prevention circuit using an output off transistor in a semiconductor device, and a test circuit including an off transistor of the electrostatic discharge prevention circuit. It is characterized by comprising means for using

【0005】記述項2に記載する半導体装置は、静電気
破壊防止回路のトランジスタを制御するためのデコーダ
を備えることを特徴とする。
The semiconductor device described in Item 2 is characterized in that the semiconductor device includes a decoder for controlling a transistor of the electrostatic discharge protection circuit.

【0006】請求項3に記載する半導体装置は、液晶表
示装置を駆動する手段を備えることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device including means for driving a liquid crystal display device.

【0007】[0007]

【作用】従来の半導体装置のテストにおいては、従来例
に示すように全ての出力端子をプローブするか専用テス
ト端子を設けてそれをプローブしモニタしていたが、本
発明の半導体装置およびテスト回路では、出力端子をプ
ローブせずに静電気保護トランジスタをテスト回路とし
てテストが行える半導体装置およびテスト回路とした。
In a conventional semiconductor device test, all output terminals are probed or a dedicated test terminal is provided and probed and monitored as shown in the conventional example. Thus, a semiconductor device and a test circuit capable of performing a test using an electrostatic protection transistor as a test circuit without probing the output terminal are provided.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下に本発明の一実施例を詳細に
説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below in detail.

【0009】(1)第1の実施例 図1に本発明による半導体装置の一例を示す。図1は、
出力段トランジスタ、出力端子と、静電気破壊防止回路
を示した図である。
(1) First Embodiment FIG. 1 shows an example of a semiconductor device according to the present invention. FIG.
FIG. 2 is a diagram illustrating an output stage transistor, an output terminal, and an electrostatic breakdown prevention circuit.

【0010】出力端子11は、IC電源VCC17をソ
ース、制御信号10をゲートに接続するPchトランジ
スタ4と、IC電源VGND18をソース、制御信号1
0をゲートに接続するNchトランジスタ5から成る出
力段トランジスタ部6の出力と、静電気破壊防止回路3
に接続されている。静電気破壊防止回路3は、IC電源
VCC17をソース、テスト信号12をゲートに接続す
るPchトランジスタ1と、IC電源VGND18をソ
ース、テスト信号13をゲートに接続するNchトラン
ジスタ2から構成されている。IC電源VCC17,V
GND18は、テスト用電流計14,15を介して外部
電源16より供給される。
An output terminal 11 has a source connected to the IC power supply VCC17 and a Pch transistor 4 connecting the control signal 10 to the gate, a source connected to the IC power supply VGND18, and a control signal 1
The output of an output stage transistor section 6 comprising an Nch transistor 5 for connecting 0 to the gate and an electrostatic breakdown prevention circuit 3
It is connected to the. The electrostatic breakdown prevention circuit 3 includes a Pch transistor 1 that connects the IC power supply VCC17 to the source and the test signal 12 to the gate, and an Nch transistor 2 that connects the IC power supply VGND18 to the source and the test signal 13 to the gate. IC power supply VCC17, V
The GND 18 is supplied from an external power supply 16 via test ammeters 14 and 15.

【0011】次に図1の動作説明をする。以降の説明に
出てくる“H”レベルはVCC17、“L”レベルはV
GND18を表す。通常使用時は、静電気破壊防止回路
3のPchトランジスタ1、Nchトランジスタ2がオ
フして、静電気破壊防止回路として動作するように、テ
スト信号12、テスト信号13をそれぞれVCC17、
VGND18レベルに固定しそれぞれをオフトランジス
タとする。このとき、出力段トランジスタの制御信号1
0が“H”レベルのとき、Nchトランジスタ5はオ
ン、Pchトランジスタ4はオフし、出力端子11はV
GND18レベルが出力される。同様に前記出力段トラ
ンジスタの制御信号10が“L”レベルのとき、Nch
トランジスタ5はオフ、Pchトランジスタ4はオンし
て、出力端子11はVCC17レベルが出力される。
Next, the operation of FIG. 1 will be described. In the following description, the “H” level is VCC17, and the “L” level is V
Represents GND18. During normal use, the Pch transistor 1 and the Nch transistor 2 of the electrostatic discharge protection circuit 3 are turned off, and the test signal 12 and the test signal 13 are respectively supplied to the VCC 17 and the VCC 17 so as to operate as the electrostatic discharge protection circuit.
VGND is fixed to the level 18 and each is an off transistor. At this time, the control signal 1 of the output stage transistor
When 0 is at “H” level, the Nch transistor 5 is turned on, the Pch transistor 4 is turned off, and the output terminal 11
GND18 level is output. Similarly, when the control signal 10 of the output stage transistor is at “L” level, Nch
The transistor 5 is turned off, the Pch transistor 4 is turned on, and the output terminal 11 outputs the VCC17 level.

【0012】出力段であるPchトランジスタ4のテス
ト時は、制御信号10を“L”レベル、テスト信号1
2、13をそれぞれ“H”レベルにする。このとき制御
信号10で制御されるPchトランジスタ4はオン、N
chトランジスタ5はオフ、テスト信号12、13でそ
れぞれ制御されるPchトランジスタ1とNchトラン
ジスタ2はそれぞれオフ、オンとなるので、VCC17
レベルが選択され、VCC17からの電流はPchトラ
ンジスタ4,Nchトランジスタ2を介して、テスト用
電流計15、外部電源16へと流れる。このときのテス
ト用電流計15をモニタすることにより、Pchトラン
ジスタ4のテストを行う。このとき電流計15に流れる
電流は、通常動作時に電流計15に流れる電流に、電源
16とPchトランジスタ4およびNchトランジスタ
2の抵抗から決まる電流を加えたものとなる。同様に、
出力段であるNchトランジスタ5のテスト時は、制御
信号10を“H”レベル、テスト信号12、13を
“L”レベルにする。このとき制御信号10で制御され
るPchトランジスタ4はオフ、Nchトランジスタ5
はオン、テスト信号12、13で制御されるPchトラ
ンジスタ1とNchトランジスタ2はそれぞれオフ、オ
ンとなるので、VGND18レベルが選択され、VGN
D18への電流は外部電源16から、テスト用電流計1
4,Pchトランジスタ1、Nchトランジスタ5を介
して、VGND18へ流れる。このとき電流計14に流
れる電流は、通常動作時に電流計14に流れる電流に、
電源16とNchトランジスタ5およびPchトランジ
スタ1の抵抗から決まる電流を加えたものとなる。この
ときのテスト用電流計14をモニタすることにより、N
chトランジスタ5のテストを行う。
At the time of testing the Pch transistor 4 as an output stage, the control signal 10 is set at "L" level and the test signal 1
2 and 13 are set to “H” level, respectively. At this time, the Pch transistor 4 controlled by the control signal 10 is on, N
The channel transistor 5 is turned off, and the Pch transistor 1 and the Nch transistor 2 controlled by the test signals 12 and 13 are turned off and on, respectively.
The level is selected, and the current from the VCC 17 flows to the test ammeter 15 and the external power supply 16 via the Pch transistor 4 and the Nch transistor 2. The Pch transistor 4 is tested by monitoring the test ammeter 15 at this time. At this time, the current flowing through the ammeter 15 is the sum of the current flowing through the ammeter 15 during normal operation and the current determined by the resistance of the power supply 16 and the Pch transistor 4 and the Nch transistor 2. Similarly,
At the time of testing the Nch transistor 5 as an output stage, the control signal 10 is set at "H" level, and the test signals 12 and 13 are set at "L" level. At this time, the Pch transistor 4 controlled by the control signal 10 is turned off, and the Nch transistor 5
Is turned on, and the Pch transistor 1 and the Nch transistor 2 controlled by the test signals 12 and 13 are turned off and on, respectively, so that the VGND 18 level is selected, and VGN 18 is selected.
The current to D18 is supplied from the external power supply 16 to the test ammeter 1
4, flows through the Pch transistor 1 and the Nch transistor 5 to the VGND 18. At this time, the current flowing through the ammeter 14 is the current flowing through the ammeter 14 during normal operation,
This is obtained by adding a current determined by the power supply 16 and the resistances of the Nch transistor 5 and the Pch transistor 1. By monitoring the test ammeter 14 at this time, N
A test of the channel transistor 5 is performed.

【0013】Pchトランジスタ4の故障の検出は、P
chトランジスタ4が故障していてオンしない場合、制
御信号10が“L”レベル、テスト信号12が“H”レ
ベル、テスト信号13が“L”レベルのとき、電流計1
5には、前記電源16とPchトランジスタ4およびN
chトランジスタ2の抵抗から決まる電流増加がないこ
とで故障検出可能であり、Pchトランジスタ4が故障
していてオフしない場合、通常動作時で、制御信号10
が“H”レベルのときに、Pchトランジスタ4からN
chトランジスタ5へ貫通電流が流れる電流計15の電
流増加をモニタすることで故障検出が行える。Nchト
ランジスタ5の故障検出も同様に、Nchトランジスタ
5が故障してオンしない場合、制御信号10が“H”レ
ベル、テスト信号12が“L”レベル、テスト信号13
が“L”レベルのとき、電流計14には、前記電源16
とNchトランジスタ5およびPchトランジスタ1の
抵抗から決まる電流増加がないことで故障検出可能であ
り、Nchトランジスタ5が故障していてオフしない場
合、通常動作で、制御信号10が“L”レベルのとき
に、Pchトランジスタ4からNchトランジスタ5へ
貫通電流が流れる電流計14の電流増加をモニタするこ
とで故障検出が行える。
The detection of the failure of the Pch transistor 4 is based on the P
When the channel transistor 4 has failed and does not turn on, when the control signal 10 is at the “L” level, the test signal 12 is at the “H” level, and the test signal 13 is at the “L” level, the ammeter 1
5, the power supply 16, the Pch transistor 4 and the N
The failure can be detected because there is no increase in current determined by the resistance of the channel transistor 2. If the Pch transistor 4 does not turn off due to a failure, the control signal 10
Is at "H" level, the Pch transistor 4 outputs N
A failure can be detected by monitoring an increase in the current of the ammeter 15 in which a through current flows to the channel transistor 5. Similarly, when the Nch transistor 5 is not turned on due to a failure, the control signal 10 is at the “H” level, the test signal 12 is at the “L” level, and the test signal 13 is not detected.
Is at the “L” level, the ammeter 14 displays the power supply 16
And the Nch transistor 5 and the Pch transistor 1 have no current increase, and the failure can be detected. When the Nch transistor 5 has failed and is not turned off, the normal operation is performed and the control signal 10 is at "L" level. In addition, a failure can be detected by monitoring an increase in the current of the ammeter 14 in which a through current flows from the Pch transistor 4 to the Nch transistor 5.

【0014】(2)第2の実施例 次に図2に本発明による半導体装置の第2の例を示す。
図2の例における基本的な構成の中で、図1の実施例と
共通する部分についての説明は省略する。図2は、出力
段トランジスタ、出力端子、静電気破壊防止回路、デコ
ーダを示した図である。
(2) Second Embodiment FIG. 2 shows a second embodiment of the semiconductor device according to the present invention.
In the basic configuration in the example of FIG. 2, the description of the parts common to the embodiment of FIG. 1 is omitted. FIG. 2 is a diagram illustrating an output stage transistor, an output terminal, an electrostatic discharge protection circuit, and a decoder.

【0015】デコーダ32は、出力段トランジスタの制
御信号10と外部からのテスト信号31を入力として、
テスト信号12、13を出力するものであり、例えば図
3のような構造をしている。
The decoder 32 receives the control signal 10 of the output stage transistor and an external test signal 31 as inputs.
It outputs test signals 12 and 13, and has a structure as shown in FIG. 3, for example.

【0016】図3の説明をする。デコーダ32の出力で
あるテスト信号12は、デコーダ32の入力信号である
出力段トランジスタの制御信号10、テスト信号31を
入力とするクロックドインバータ37の出力と、IC電
源VCC17をソース、テスト信号31をゲートに接続
するPchトランジスタ34の出力である。もう一方の
デコーダの出力であるテスト信号13は、デコーダ32
の入力信号である出力段トランジスタの制御信号10,
テスト信号31を入力とするクロックドインバータ38
の出力と、IC電源VGND18をソース、テスト信号
31をインバータ36で反転させた信号をゲートに接続
するNchトランジスタ35の出力である。クロックド
インバータ37、38は、テスト信号31が“H”レベ
ルのときにインバータ、テスト信号31が“L”レベル
のときにオフになる。図3に示すデコーダ32は、前記
テスト信号31が“H”レベルのときにテストモード、
“L”レベルのときに通常動作モードになる。テスト信
号31が“L”レベルのとき、すなわち通常動作モード
のとき、制御信号10の状態にかかわらずクロックドイ
ンバータ37、38はいずれもオフし、テスト信号31
をゲートに受けるPchトランジスタ34、テスト信号
31をインバータ36で反転した信号をゲートに受ける
Nchトランジスタ35はいずれもオンして、テスト信
号12,13はそれぞれ“H”レベル、“L”レベルに
なる。
Referring to FIG. The test signal 12, which is the output of the decoder 32, includes the output of the clocked inverter 37 to which the control signal 10 and the test signal 31 of the output stage transistor, which are the input signals of the decoder 32, and the source of the IC power VCC17. Is the output of the Pch transistor 34 connecting the gate to the gate. The test signal 13, which is the output of the other decoder,
The control signal 10, which is the input signal of the output stage transistor,
Clocked inverter 38 receiving test signal 31 as input
And the output of an Nch transistor 35 that connects the IC power supply VGND 18 as a source and a signal obtained by inverting the test signal 31 by an inverter 36 to a gate. Clocked inverters 37 and 38 are turned off when test signal 31 is at "H" level and turned off when test signal 31 is at "L" level. The decoder 32 shown in FIG. 3 operates in the test mode when the test signal 31 is at "H" level.
When in the "L" level, the normal operation mode is set. When the test signal 31 is at the “L” level, that is, in the normal operation mode, the clocked inverters 37 and 38 are both turned off regardless of the state of the control signal 10 and the test signal 31
, And an Nch transistor 35 receiving a signal obtained by inverting the test signal 31 by an inverter 36 are turned on, and the test signals 12 and 13 become “H” level and “L” level, respectively. .

【0017】テスト信号12、13は、それぞれ静電気
破壊防止回路のPchトランジスタ1とNchトランジ
スタ2のゲート信号で、前記Pchトランジスタ1、N
chトランジスタ2をそれぞれオフし、オフトランジス
タを静電気破壊防止回路にする。制御信号10が“H”
レベルのとき、出力段トランジスタ4、5がそれぞれオ
フ、オンし、出力端子11にはVGND18レベルが出
力され、制御信号10が“L”レベルのとき、出力段ト
ランジスタ4、5がそれぞれオン、オフし、出力端子1
1にはVCC17レベルが出力される。これに対して、
テスト信号31が“H”レベルのとき、すなわちテスト
モードのとき、Pchトランジスタ34、Nchトラン
ジスタ35はいずれもオフし、クロックドインバータ3
7、38はインバータの動作をするため、制御信号10
が“H”レベルのとき、テスト信号12、13はいずれ
も“L”レベル、出力段Pchトランジスタ4、Nch
トランジスタ5はそれぞれオフ、オンとなるので、VG
ND18レベルが選択され、実施例1と同様に電流計1
4をモニタすることにより、Nchトランジスタ5のテ
ストを行う。同様に制御信号10が“L”レベルのと
き、テスト信号12、13はいずれも“H”レベル、出
力段トランジスタ4、5はそれぞれオン、オフとなるの
で、VCC17レベルが選択され、実施例1と同様に電
流計15をモニタすることにより、Pchトランジスタ
4のテストを行う。
The test signals 12 and 13 are gate signals of the Pch transistor 1 and the Nch transistor 2 of the ESD protection circuit, respectively.
The channel transistors 2 are turned off, and the off transistors are used as an electrostatic breakdown prevention circuit. Control signal 10 is "H"
When the level is at the level, the output stage transistors 4 and 5 are turned off and on, respectively, and the VGND 18 level is output to the output terminal 11. When the control signal 10 is at the “L” level, the output stage transistors 4 and 5 are turned on and off, respectively. And output terminal 1
1 is the VCC17 level. On the contrary,
When the test signal 31 is at “H” level, that is, in the test mode, the Pch transistor 34 and the Nch transistor 35 are both turned off, and the clocked inverter 3
7 and 38 are control signals 10 to operate the inverter.
Is at the “H” level, the test signals 12 and 13 are both at the “L” level, and the output stage Pch transistors 4 and Nch
Since the transistor 5 is turned off and on, respectively, VG
The ND18 level was selected, and the ammeter 1 was used as in the first embodiment.
4 is monitored to test the Nch transistor 5. Similarly, when the control signal 10 is at the "L" level, the test signals 12 and 13 are both at the "H" level, and the output stage transistors 4 and 5 are on and off, respectively, so that the VCC17 level is selected. The P-channel transistor 4 is tested by monitoring the ammeter 15 in the same manner as described above.

【0018】これにより、出力レベルに合わせたテスト
モードの選択が容易になるだけではなく、外部からのテ
スト信号の入力端子や配線を少なくすることができ、よ
りチップサイズが小さくなる。
As a result, not only is it easy to select a test mode in accordance with the output level, but also the number of external test signal input terminals and wiring can be reduced, and the chip size can be further reduced.

【0019】(3)第3の実施例 次に図4に本発明による半導体装置の第3の例を示す。
図4の例における基本的な構成の中で、図1の実施例と
共通する部分についての説明は省略する。
(3) Third Embodiment FIG. 4 shows a third embodiment of the semiconductor device according to the present invention.
In the basic configuration in the example of FIG. 4, the description of the parts common to the embodiment of FIG. 1 is omitted.

【0020】図4は、n個の液晶駆動出力を持つ半導体
装置の任意の1組の、液晶駆動出力トランジスタ、液晶
駆動出力端子と、静電気破壊防止回路を示した図であ
る。出力端子61は、液晶駆動電源VON69をソー
ス、制御信号60をゲートに接続するPchトランジス
タ54と、液晶駆動電源VOFF70をソース、制御信
号60をゲートに接続するNchトランジスタ55から
成る液晶駆動出力トランジスタ部56の出力と静電気破
壊防止回路53に接続されている。静電気破壊防止回路
53は、IC電源VHIGH67をソース、テスト信号
62をゲートに接続するPchトランジスタ51と、I
C電源VGND68をソース、テスト信号63をゲート
に接続するNchトランジスタ52から構成されてい
る。IC電源VHIGH67、VGND68は、テスト
用電流計64、65を介して外部電源66より供給され
る。
FIG. 4 is a diagram showing an arbitrary set of a liquid crystal drive output transistor, a liquid crystal drive output terminal, and an electrostatic breakdown prevention circuit of an arbitrary set of a semiconductor device having n liquid crystal drive outputs. The output terminal 61 is a liquid crystal drive output transistor section comprising a Pch transistor 54 for connecting the liquid crystal drive power supply VON69 to the source and the control signal 60 to the gate, and an Nch transistor 55 for connecting the liquid crystal drive power supply VOFF70 to the source and the control signal 60 to the gate. The output 56 is connected to the electrostatic breakdown prevention circuit 53. The electrostatic breakdown prevention circuit 53 includes a Pch transistor 51 that connects the IC power supply VHIGH67 as a source and a test signal 62 to a gate,
The Nch transistor 52 connects the C power supply VGND 68 to the source and connects the test signal 63 to the gate. The IC power supplies VHIGH67 and VGND68 are supplied from an external power supply 66 via test ammeters 64 and 65.

【0021】次に図4の動作説明をする。各電源レベル
は、VHIGH67がVON69以上で、VON69が
VOFF70より高く、VOFF70がVGND68以
上である。以降の説明に出てくる“H”レベルはVHI
GH67、“L”レベルはVGND68を表す。通常使
用時は、実施例1と同様に、静電気破壊防止回路53の
Pchトランジスタ51、Nchトランジスタ52がオ
フして、静電気破壊防止回路として動作するように、テ
スト信号51、52をそれぞれVHIGH67、VGN
D68のレベルに固定してそれぞれをオフトランジスタ
とする。このとき、液晶駆動出力用トランジスタの制御
信号60が“H”レベルのとき、Nchトランジスタ5
5はオン、Pchトランジスタ54はオフし、液晶駆動
出力61はVOFF70のレベルが出力される。同様に
前記液晶駆動出力用トランジスタの制御信号60が
“L”レベルのとき、Nchトランジスタ55はオフ、
Pchトランジスタ54はオンして、液晶駆動出力61
はVON69のレベルが出力される。
Next, the operation of FIG. 4 will be described. As for the power supply levels, VHIGH67 is VON69 or higher, VON69 is higher than VOFF70, and VOFF70 is VGND68 or higher. The “H” level in the following description is VHI
GH67, “L” level indicates VGND68. During normal use, similarly to the first embodiment, the test signals 51 and 52 are VHIGH67 and VGN respectively so that the Pch transistor 51 and the Nch transistor 52 of the electrostatic discharge prevention circuit 53 are turned off and operate as the electrostatic discharge prevention circuit.
Each transistor is fixed to the level of D68 and each transistor is an off transistor. At this time, when the control signal 60 of the liquid crystal drive output transistor is at “H” level, the Nch transistor 5
5 turns on, the Pch transistor 54 turns off, and the liquid crystal drive output 61 outputs the level of VOFF 70. Similarly, when the control signal 60 of the liquid crystal drive output transistor is at “L” level, the Nch transistor 55 is turned off,
The Pch transistor 54 is turned on, and the liquid crystal drive output 61
Outputs the level of VON69.

【0022】次にテスト時の動作説明をする。n個の液
晶駆動出力のうち任意の液晶駆動出力61のテストを行
うとき、VON69出力のテストは、前記液晶駆動出力
61にVON69レベルを出力、それ以外の(n−1)
個の液晶駆動出力端子はVOFF70レベルを出力して
行い、同様にVOFF70出力のテストは、前記液晶駆
動出力61にVOFF70レベルを出力、それ以外の
(n−1)個の液晶駆動出力端子はVON69レベルを
出力して行う。VON69レベル出力のテスト時は、制
御信号60を“L”レベル、テスト信号62を“H”レ
ベル、テスト信号63を“H”レベルにする。このとき
制御信号60で制御されるPchトランジスタ54はオ
ン、Nchトランジスタ55はオフ、テスト信号62、
63で制御されるPchトランジスタ51とNchトラ
ンジスタ52はそれぞれオフ、オンとなるので、VON
69レベルが選択され、VON69からの電流はPch
トランジスタ54,Nchトランジスタ52を介して、
テスト用電流計65、外部電源66へと流れる。このと
きのテスト用電流計65をモニタすることにより、Pc
hトランジスタ54のテストを行う。同様に、VOFF
70レベル出力のテスト時は、制御信号60を“H”レ
ベル、テスト信号62を“L”レベル、テスト信号63
を“L”レベルにする。このとき制御信号60で制御さ
れるPchトランジスタ54はオフ、Nchトランジス
タ55はオン、テスト信号62,63で制御されるPc
hトランジスタ51とNchトランジスタ52はそれぞ
れオン、オフとなるので、VOFF70レベルが選択さ
れ、VOFF70への電流は外部電源66から、テスト
用電流計64,Pchトランジスタ51、Nchトラン
ジスタ55を介して、VOFF70へ流れる。このとき
のテスト用電流計64をモニタすることにより、Nch
トランジスタ55のテストを行う。
Next, the operation at the time of the test will be described. When a test of an arbitrary liquid crystal drive output 61 among the n liquid crystal drive outputs is performed, the VON69 output test is performed by outputting a VON69 level to the liquid crystal drive output 61, and otherwise (n-1).
The liquid crystal drive output terminals output the VOFF70 level, and the VOFF70 output test is similarly performed by outputting the VOFF70 level to the liquid crystal drive output 61, and the other (n-1) liquid crystal drive output terminals are VON69. Outputs the level. At the time of the VON 69 level output test, the control signal 60 is set to the “L” level, the test signal 62 is set to the “H” level, and the test signal 63 is set to the “H” level. At this time, the Pch transistor 54 controlled by the control signal 60 is on, the Nch transistor 55 is off, the test signal 62,
Since the Pch transistor 51 and the Nch transistor 52 controlled by 63 are turned off and on, respectively, VON
69 level is selected and the current from VON69 is Pch
Through the transistor 54 and the Nch transistor 52,
The current flows to the test ammeter 65 and the external power supply 66. By monitoring the test ammeter 65 at this time, Pc
The h transistor 54 is tested. Similarly, VOFF
At the time of the 70-level output test, the control signal 60 is at the “H” level, the test signal 62 is at the “L” level,
To the “L” level. At this time, the Pch transistor 54 controlled by the control signal 60 is off, the Nch transistor 55 is on, and Pc controlled by the test signals 62 and 63.
Since the h transistor 51 and the Nch transistor 52 are turned on and off, respectively, the VOFF 70 level is selected, and the current to the VOFF 70 is supplied from the external power supply 66 to the VOFF 70 via the test ammeter 64, the Pch transistor 51, and the Nch transistor 55. Flows to By monitoring the test ammeter 64 at this time, Nch
A test of the transistor 55 is performed.

【0023】制御信号60により、被測定液晶駆動出力
端子を順次切り換えていくことにより、全ての液晶駆動
出力端子をテストすることができる。
By sequentially switching the liquid crystal drive output terminals to be measured by the control signal 60, all the liquid crystal drive output terminals can be tested.

【0024】本実施例では、液晶駆動電源はVON6
9、VOFF70の2レベルであるが、これに限らず、
多レベルの液晶駆動電源を用いても同様の結果が得られ
る。
In this embodiment, the liquid crystal driving power supply is VON6
9, two levels of VOFF70, but not limited to this,
Similar results can be obtained by using a multi-level liquid crystal drive power supply.

【0025】以上のように本実施例は、静電気破壊防止
回路のオフトランジスタをテスト回路として用いること
により、出力端子をプローブせずにテストが行える半導
体装置およびテスト回路を実現している。
As described above, the present embodiment realizes a semiconductor device and a test circuit that can perform a test without probing the output terminal by using the off transistor of the electrostatic discharge protection circuit as a test circuit.

【0026】[0026]

【発明の効果】本発明による半導体装置を使用すれば、
以下の効果が得られる。
According to the semiconductor device of the present invention,
The following effects can be obtained.

【0027】出力端子へのプローブを行わないことによ
り、プローブ針の接触性による不良がなくなり、歩留ま
りが向上しコストダウンがはかれる。
By not performing the probe to the output terminal, the failure due to the contact property of the probe needle is eliminated, the yield is improved, and the cost is reduced.

【0028】また、静電気破壊防止回路のオフトランジ
スタをテスト回路として使用するため、専用テスト端
子、専用テスト回路を設ける必要がないため、チップサ
イズを小さくできる優位性がある。
Further, since the off-transistor of the electrostatic discharge protection circuit is used as a test circuit, there is no need to provide a dedicated test terminal and a dedicated test circuit, so that there is an advantage that the chip size can be reduced.

【0029】本発明の半導体装置を用いることにより、
半導体チップサイズを大きくすることなく、出力端子を
プローブせずにテストを行うことができ、従来の半導体
装置に比べて安価で高性能な半導体装置を実現できる。
By using the semiconductor device of the present invention,
The test can be performed without increasing the size of the semiconductor chip and without probing the output terminal, and a semiconductor device that is inexpensive and has high performance as compared with a conventional semiconductor device can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体装置の第1の実施例を示す図で
ある。
FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of a semiconductor device of the present invention.

【図2】本発明の半導体装置の第2の実施例を示す図で
ある。
FIG. 2 is a diagram showing a second embodiment of the semiconductor device of the present invention.

【図3】本発明の半導体装置の、デコーダ回路の1例を
示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a decoder circuit of the semiconductor device of the present invention.

【図4】本発明の半導体装置の第3の実施例を示す図で
ある。
FIG. 4 is a diagram showing a third embodiment of the semiconductor device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、4、34、51、54 Pchトランジスタ 2、5、35、52、55 Nchトランジスタ 3、53 静電破壊防止護回路 11、61 出力端子 12、13、31、62、63 テスト信号 6、56 出力段トランジスタ部 16、66 IC電源 14、15、64、65 電流計 32 デコーダ 10、60 制御信号 36 インバータ 37、38 クロックドインバータ 17 VCC 18、68 VGND 67 VHIGH 69 VON 70 VOFF 1, 4, 34, 51, 54 Pch transistor 2, 5, 35, 52, 55 Nch transistor 3, 53 Electrostatic discharge protection circuit 11, 61 Output terminal 12, 13, 31, 62, 63 Test signal 6, 56 Output stage transistor section 16, 66 IC power supply 14, 15, 64, 65 Ammeter 32 Decoder 10, 60 Control signal 36 Inverter 37, 38 Clocked inverter 17 VCC 18, 68 VGND 67 VHIGH 69 VON 70 VOFF

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体装置内に出力用のオフトランジスタ
を用いた静電気破壊防止回路を有し、テスト回路に前記
静電気破壊防止回路のオフトランジスタを使用する手段
を備えることを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device having an electrostatic discharge prevention circuit using an output off transistor in a semiconductor device, and a test circuit including means for using the off transistor of the electrostatic discharge prevention circuit.
【請求項2】請求項1記載の半導体装置において、静電
気破壊防止回路のオフトランジスタを制御するためのデ
コーダを備えることを特徴とする半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a decoder for controlling an off transistor of the electrostatic discharge protection circuit.
【請求項3】請求項1記載の半導体装置において、液晶
表示装置を駆動する手段を備えることを特徴とする液晶
駆動装置。
3. The liquid crystal driving device according to claim 1, further comprising means for driving a liquid crystal display device.
JP10179277A 1998-06-25 1998-06-25 Semiconductor device and liquid crystal driving device Withdrawn JP2000009808A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10179277A JP2000009808A (en) 1998-06-25 1998-06-25 Semiconductor device and liquid crystal driving device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10179277A JP2000009808A (en) 1998-06-25 1998-06-25 Semiconductor device and liquid crystal driving device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000009808A true JP2000009808A (en) 2000-01-14

Family

ID=16063036

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10179277A Withdrawn JP2000009808A (en) 1998-06-25 1998-06-25 Semiconductor device and liquid crystal driving device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000009808A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005283348A (en) * 2004-03-30 2005-10-13 Fujitsu Ltd Semiconductor device
JP2005291972A (en) * 2004-03-31 2005-10-20 Casio Comput Co Ltd Inspection circuit
JP2007192959A (en) * 2006-01-18 2007-08-02 Sony Corp Display apparatus
CN1331219C (en) * 2000-11-30 2007-08-08 精工爱普生株式会社 Semiconductor chip installed substrate, electro-optical evice, liquid crystal device, electroluminescent device and electronic machine
KR100798520B1 (en) * 2006-03-24 2008-01-28 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 Liquid crystal panel with function of cell test, liquid crystal display device having the same, and production method of the same
US8804362B2 (en) 2011-02-14 2014-08-12 Murata Manufacturing Co., Ltd. High-frequency module

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1331219C (en) * 2000-11-30 2007-08-08 精工爱普生株式会社 Semiconductor chip installed substrate, electro-optical evice, liquid crystal device, electroluminescent device and electronic machine
JP2005283348A (en) * 2004-03-30 2005-10-13 Fujitsu Ltd Semiconductor device
JP2005291972A (en) * 2004-03-31 2005-10-20 Casio Comput Co Ltd Inspection circuit
JP2007192959A (en) * 2006-01-18 2007-08-02 Sony Corp Display apparatus
KR100798520B1 (en) * 2006-03-24 2008-01-28 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 Liquid crystal panel with function of cell test, liquid crystal display device having the same, and production method of the same
US8804362B2 (en) 2011-02-14 2014-08-12 Murata Manufacturing Co., Ltd. High-frequency module

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960001300B1 (en) Semiconductor memory device
US7960983B2 (en) Circuit for detecting bonding defect in multi-bonding wire
JP4290370B2 (en) Driving device for driving display and display device including driving device
US6501692B1 (en) Circuit and method for stress testing a static random access memory (SRAM) device
US7443373B2 (en) Semiconductor device and the method of testing the same
JP2000009808A (en) Semiconductor device and liquid crystal driving device
US5672982A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH0862294A (en) Semiconductor device and testing method for the semiconductor device
US7701789B2 (en) Semiconductor device
WO2020217925A1 (en) Semiconductor integrated circuit device and inspection method for semiconductor integrated circuit device
JP3161357B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
JP3235132B2 (en) Semiconductor integrated circuit
JP2765508B2 (en) Semiconductor integrated circuit and test method thereof
US7940059B2 (en) Method for testing H-bridge
JP3395773B2 (en) Semiconductor device
JP2001296334A (en) Integrated circuit and failure detection method
JPS59200456A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2001053232A (en) Semiconductor integrated circuit and testing method therefor
JP3062117B2 (en) Semiconductor device
JP3132635B2 (en) Test method for semiconductor integrated circuit
JP2021141204A (en) Semiconductor integrated circuit device and inspection method for semiconductor integrated circuit device
JP5614354B2 (en) Semiconductor device and output circuit
JP2002040114A (en) Semiconductor device
KR20000045873A (en) Pad structure of semiconductor device for testing contact defect of power pin
JPH063407A (en) Semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040628

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040713

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20040823